JP3060401B2 - Vertical CVD apparatus, boat therefor, and wafer processing method for vertical CVD apparatus - Google Patents
Vertical CVD apparatus, boat therefor, and wafer processing method for vertical CVD apparatusInfo
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- cover
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- cvd apparatus
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はＬＴＯ（低温酸化膜），
ＨＴＯ（高温酸化膜），Ｐ−Doped Poly Si膜 (リン・
ドープトポリシリコン膜) 等のＣＶＤ膜を生成する縦形
ＣＶＤ装置及びそのボートに関する。The present invention relates to an LTO (low temperature oxide film),
HTO (high temperature oxide film), P-Doped Poly Si film (phosphorus
The present invention relates to a vertical CVD apparatus for producing a CVD film such as a doped polysilicon film) and a boat thereof.
【０００２】[0002]
【従来技術とその課題】図２は横型ＣＶＤ装置において
用いられる従来の２分割型の石英製ボートの一例を示し
たものである。この従来ボートはボート本体部１とボー
トカバー部２に分かれているが、多数枚のウェーハ８を
ボート本体部１のウェーハ保持溝９に脱着する度毎にカ
バー部２を取付け，取外すことが必要である。このため
本体部１とカバー部２の接触によるパーティクルの発生
を抑えることができず、更に、カバー部２の取付け，取
外しの自動化が困難である等の課題があった。なお、こ
のようなカバー付きボートを用いる時は、カバーなしボ
ートを用いる場合に生じる生成膜の不均一を改善できる
ものである。2. Description of the Related Art FIG. 2 shows an example of a conventional two-piece quartz boat used in a horizontal CVD apparatus. This conventional boat is divided into a boat main body 1 and a boat cover 2, but it is necessary to attach and remove the cover 2 every time a large number of wafers 8 are detached from the wafer holding grooves 9 of the boat main body 1. It is. For this reason, generation of particles due to contact between the main body 1 and the cover 2 cannot be suppressed, and further, there is a problem that it is difficult to automatically attach and detach the cover 2. When such a boat with a cover is used, it is possible to improve the non-uniformity of the generated film when a boat without a cover is used.
【０００３】[0003]
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するためになされたもので、請求項１に係るＣＶＤ装
置は、筒状ボートを有する縦型ＣＶＤ装置において、 筒
状体を縦に二分割した一方の形状を有するボート本体と
他方の形状を有するボートカバー部とを非接触に配置し
て前記筒状ボートを構成するとともに、前記ボート本体
及び前記ボートカバー部に前記筒状ボートの内外を連通
する連通部を設けたものである。また、請求項２に係る
ＣＶＤ装置は、請求項１記載の縦型ＣＶＤ装置におい
て、前記ボートカバー部は、その上端にフランジが形成
され、該フランジにより反応室上端に支持されるように
したものである。さらに、請求項３に係るＣＶＤ装置
は、請求項１又は請求項２記載の縦型ＣＶＤ装置におい
て、前記ボートは略円筒状をなし、前記ボート本体と前
記ボートカバー部は、それぞれ半円筒状をなしているも
のである。また、請求項４に係る縦型ＣＶＤボートは、
筒状ボートを有する縦型ＣＶＤボートにおいて、 筒状体
を縦に二分割した一方の形状を有するボート本体と他方
の形状を有するボートカバー部とを非接触に配置して前
記筒状ボートを構成するとともに、前記ボート本体及び
前記ボートカバー部に前記筒状ボートの内外を連通する
連通部を設けたものである。また、請求項５に係るＣＶ
Ｄ装置のウェーハ処理方法は、筒状体を縦に二分割した
一方の形状を有するボート本体と他方の形状を有するボ
ートカバー部とを非接触に配置するとともに、前記ボー
ト本体及び前記ボートカバー部に前記筒状体の内外を連
通する連通部を設けてなる筒状ボートを有する縦型ＣＶ
Ｄ装置を用いてウェーハを処理するウェーハ処理方法に
おいて、 予め、前記ボートカバー部を反応室内に設けて
おき、次いで、ウェーハを保持した前記ボート本体を前
記ボートカバー部に接触することなく前記反応室に挿入
することで、前記反応室内においてウェーハを保持した
前記筒状ボートを構成し、 ウェーハにＣＶＤ膜を生成し
た後、前記ボート本体を前記ボートカバー部に接触する
ことなく前記反応室から取り出すようにしたものであ
る。 The present invention SUMMARY OF] has been made to solve the above problems, a CVD apparatus according to claim 1, in a vertical CVD apparatus having a tubular boat, cylinder
A boat body having one shape obtained by vertically dividing the body into two
The boat cover with the other shape is placed in non-contact
The cylindrical boat and the boat body
And communicate the inside and outside of the tubular boat with the boat cover
The communication part is provided. Further, in the CVD apparatus according to claim 2, in the vertical CVD apparatus according to claim 1, the boat cover portion has a flange formed at an upper end thereof, and is supported at an upper end of the reaction chamber by the flange. It is. Further, in the CVD apparatus according to claim 3, in the vertical CVD apparatus according to claim 1 or claim 2, the boat has a substantially cylindrical shape, and the boat body and the boat cover portion are Each has a semi-cylindrical shape. Further, the vertical CVD boat according to claim 4 is
In a vertical CVD boat having a tubular boat, a tubular body is provided.
The boat body having one shape divided into two vertically and the other
The boat cover part having the shape of
While constituting a cylindrical boat, the boat body and
Connect the inside and outside of the tubular boat to the boat cover
A communication section is provided. The CV according to claim 5
The wafer processing method of the D apparatus divided the cylindrical body vertically into two.
A boat body with one shape and a boat body with the other shape
The cover is placed in non-contact with the
The inside and outside of the tubular body are connected to the boat body and the boat cover.
Vertical type CV having a tubular boat provided with a communicating portion through which it passes
Wafer processing method for processing wafers using D equipment
In advance, the boat cover is provided in the reaction chamber in advance.
The boat body holding the wafers
Insert into the reaction chamber without touching the boat cover
By holding the wafer in the reaction chamber
Construct the cylindrical boat , generate a CVD film on the wafer
After that, the boat body contacts the boat cover part
Without being removed from the reaction chamber without
You.
【０００４】[0004]
【作用】このような構成とすることによりボート本体３
の多数のウェーハ保持溝９に多数枚のウェーハ８を保持
し（図１参照）、多数枚のウェーハ８にＣＶＤ膜を生成
する際にこのボート本体３を上昇させて反応管５内に挿
入し、従来と同様に多数枚のウェーハ８にＣＶＤ膜を生
成する。生成終了後、反応管５内よりボート本体３を下
降させて取り出し、ＣＶＤ膜の生成された多数枚のウェ
ーハ８が取り出されることになる。 ボート本体３の挿
入，取出しに際して、ボート本体３は反応管５に支持さ
れているボートカバー部４と別に接触することなく挿
入，取出されると共にボート本体３からウェーハ８を脱
着する際、ボートカバー部４の取付け，取外しを行うも
のと異なり、そのままウェーハを脱着できるので、パー
ティクルの発生が抑制される。又、ボートカバー部４
は、フランジにより反応室上端に支持されているので、
その取付け，取外しを自動化することができ、また、ボ
ートカバー部４とボート本体３の分離や結合作業も必要
としない。The operation of the boat body 3
Holds many wafers 8 in many wafer holding grooves 9
(See FIG. 1) to form a CVD film on many wafers 8
The boat body 3 is raised and inserted into the reaction tube 5
And a CVD film is formed on a large number of wafers 8 as in the past.
To achieve. After the production is completed, lower the boat body 3 from inside the reaction tube 5.
The wafer is taken down and taken out of the
The wafer 8 is taken out. Inserting the boat body 3
At the time of loading and unloading, the boat body 3 is supported by the reaction tube 5.
The wafer 8 is inserted and removed without coming into contact with the boat cover 4 and the wafer 8 is removed from the boat body 3.
Attach and remove the boat cover 4 when attaching
Unlike the above, since the wafer can be detached as it is, generation of particles is suppressed . Also, the boat cover 4
It is because it is supported on the reaction chamber upper end by a flange,
The installation and removal can be automated, and the work of separating and connecting the boat cover part 4 and the boat body 3 is also necessary.
And not .
【０００５】[0005]
【実施例】以下図面によって本発明の実施例を説明す
る。図１は本発明縦形ＣＶＤ装置の一実施例の構成を示
す説明用斜視図で、５は反応室内に下方より挿入されて
固定されるインナーチューブである。このインナーチュ
ーブ５の上端には複数個、例えば２個の位置決めピン６
がこの場合、対向する位置に受けられている。４はボー
トカバー部で、その上端には環状の上方フランジ部４ａ
が設けられ、その下端には弧状の下方フランジ部４ｂが
設けられている。ボートカバー部４の上方フランジ部４
ａにはインナーチューブ５の上端に設けられた２個の位
置決めピン６に対向して位置決めスリット７が設けられ
ている。このボートカバー部４はその位置決めスリット
７をインナーチューブ５の位置決めピン６に嵌装するよ
うにインナーチューブ５の上方より挿入され、位置決め
されて支持される。このボートカバー部４を支持したイ
ンナーチューブ５は反応室内に下方より挿入されて固定
される。３はボートカバー部４とで本発明縦形ＣＶＤボ
ートを構成するボート本体で、その内側には多数枚のウ
ェーハ８を保持するウェーハ保持溝９が設けられ、また
その下端には下板３ｂが設けられている。このボート本
体３はインナーチューブ５内に下方より挿入され、また
これより下方から取り出されるが、挿入時にボート本体
３の上端３ａ，下板３ｂ及び側方端３ｃがそれぞれボー
トカバー部４の上方フランジ４ａ，下方フランジ部４ｂ
及び側方端４ｃに接触しないような構成となっている。
ボート本体３は、図１に示されるように、筒状体を縦に
二分割した一方の形状である半円筒状となっており、ウ
ェーハ保持溝９が臨める部分が溝状穴となっている他は
壁部となっている。また、ボートカバー部４は、やは
り、図１に示されるように筒状体を縦に二分割した一方
の形状である半円筒状となっており、そのカバー部４の
一部が開口する溝状穴が設けられている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory perspective view showing the structure of one embodiment of the vertical CVD apparatus of the present invention. Reference numeral 5 denotes an inner tube which is inserted into a reaction chamber from below and fixed. At the upper end of the inner tube 5, a plurality of, for example, two positioning pins 6 are provided.
Are received in opposing positions in this case. Reference numeral 4 denotes a boat cover part, and an annular upper flange part 4a is provided at an upper end thereof.
And an arc-shaped lower flange portion 4b is provided at the lower end thereof. Upper flange 4 of boat cover 4
In a, a positioning slit 7 is provided so as to face two positioning pins 6 provided at the upper end of the inner tube 5. The boat cover 4 is inserted from above the inner tube 5 so as to fit the positioning slit 7 into the positioning pin 6 of the inner tube 5, and is positioned and supported. The inner tube 5 supporting the boat cover 4 is inserted into the reaction chamber from below and fixed. Reference numeral 3 denotes a boat body constituting a vertical CVD boat according to the present invention, together with a boat cover portion 4. Inside the boat body, a wafer holding groove 9 for holding a large number of wafers 8 is provided. Have been. The boat body 3 is inserted into the inner tube 5 from below and taken out from below. When the boat body 3 is inserted, the upper end 3a, the lower plate 3b, and the side end 3c of the boat body 3 are respectively connected to the upper flange of the boat cover portion 4. 4a, lower flange 4b
And does not contact the side end 4c.
The boat body 3, as shown in FIG.
It has a semi-cylindrical shape, which is one of the two divided shapes, and has a wall portion except that a portion where the wafer holding groove 9 can face is a grooved hole . In addition, the boat cover part 4 also has a cylindrical body vertically divided into two parts as shown in FIG.
, And a groove-like hole that opens a part of the cover portion 4 is provided.
【０００６】本実施例はこのように構成されているの
で、ボート本体３の多数のウェーハ保持溝９に多数枚の
ウェーハ８を保持し（図１参照）、多数枚のウェーハ８
にＣＶＤ膜を生成する際にこのボート本体３を上昇させ
てインナーチューブ５内に挿入し、従来と同様に多数枚
のウェーハ８にＣＶＤ膜を生成する。生成終了後、イン
ナーチューブ５内よりボート本体３を下降させて取出
し、ＣＶＤ膜の生成された多数枚のウェーハ８が取り出
されることになる。ボート本体３の挿入，取出しに際し
ては、ボート本体３はインナーチューブ５に支持されて
いるボートカバー部４と別に接触することなく挿入，取
出されると共に、ボート本体３からウェーハ８を脱着す
る際、ボートカバー部４の取付け，取外しを行うものと
異なり、そのまま、ウェーハを脱着できるので、パーテ
ィクルの発生が抑制されることになる。ボートカバー部
４はインナーチューブ５に位置決めスリット７と位置決
めピン６の嵌装により支持されているので、ボートカバ
ー部４を昇降させるだけでインナーチューブ５から取外
し，取付けができ、ボートカバー部４の取付け，取外し
の自動化が容易に実現でき、また、ボートカバー部４と
ボート本体３の分離や結合作業も必要としないことにな
る。In this embodiment, a large number of wafers 8 are held in the large number of wafer holding grooves 9 of the boat body 3 (see FIG. 1).
When a CVD film is formed, the boat body 3 is raised and inserted into the inner tube 5, and a CVD film is formed on a large number of wafers 8 as in the prior art. After the generation is completed, the boat main body 3 is lowered from the inner tube 5 and taken out, and a large number of wafers 8 on which the CVD film is generated are taken out. When inserting and removing the boat main body 3, the boat main body 3 is inserted and removed without coming into contact with the boat cover part 4 supported by the inner tube 5, and when the wafer 8 is detached from the boat main body 3. Unlike the case where the boat cover 4 is attached and detached, the wafer can be attached and detached as it is, so that generation of particles is suppressed. Since the boat cover part 4 is supported by the inner tube 5 by fitting the positioning slit 7 and the positioning pin 6, the boat cover part 4 can be removed from the inner tube 5 and mounted by simply raising and lowering the boat cover part 4. Automation of mounting and dismounting can be easily realized, and separation and connection of the boat cover 4 and the boat main body 3 are not required.
【０００７】[0007]
【発明の効果】上述のように本発明によれば、ボート本
体３とボートカバー部４が接触することがないので、パ
ーティクルの発生を抑制することができ、ボートカバー
部４の取り外しの自動化も可能となる。 As described above, according to the present invention, a boat book
Since the body 3 and the boat cover 4 do not come into contact with each other,
Boat cover
The removal of the part 4 can be automated.
【図１】本発明縦形ＣＶＤ装置の１実施例の構成を示す
説明用斜視図である。FIG. 1 is an explanatory perspective view showing a configuration of an embodiment of a vertical CVD apparatus of the present invention.
【図２】従来ボートの一例の構成を示す説明用斜視図で
ある。FIG. 2 is an explanatory perspective view showing a configuration of an example of a conventional boat.
３ ボート本体 ３ａ 上端 ３ｂ 下板 ３ｃ 側方端 ４ ボートカバー部 ４ａ 上方フランジ部 ４ｂ 下方フランジ部 ４ｃ 側方端 ５ インナーチューブ ６ 位置決めピン ７ 位置決めスリット ８ ウェーハ ９ ウェーハ保持溝 Reference Signs List 3 boat main body 3a upper end 3b lower plate 3c side end 4 boat cover 4a upper flange 4b lower flange 4c side end 5 inner tube 6 positioning pin 7 positioning slit 8 wafer 9 wafer holding groove
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−23525（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−169038（ＪＰ，Ｕ) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-64-23525 (JP, A) JP-A-59-169038 (JP, U)
Claims (5)
いて、 筒状体を縦に二分割した一方の形状を有するボート本体
と他方の形状を有するボートカバー部とを非接触に配置
して前記筒状ボートを構成するとともに、前記ボート本
体及び前記ボートカバー部に前記筒状ボートの内外を連
通する連通部を設けた ことを特徴とする縦型ＣＶＤ装
置。1. A vertical CVD apparatus having a tubular boat.
And a boat body having one shape obtained by vertically dividing a cylindrical body into two
And the boat cover part with the other shape are placed in non-contact
To constitute the tubular boat and
Connect the inside and outside of the tubular boat to the body and the boat cover
A vertical CVD apparatus provided with a communicating part through which the gas flows.
て、前記ボートカバー部は、その上端にフランジが形成
され、該フランジにより反応室上端に支持されることを
特徴とする縦型ＣＶＤ装置。2. The vertical CVD apparatus according to claim 1, wherein a flange is formed at an upper end of the boat cover, and the boat cover is supported at an upper end of the reaction chamber by the flange.
装置において、前記ボートは略円筒状をなし、前記ボー
ト本体と前記ボートカバー部は、それぞれ半円筒状をな
していることを特徴とする縦型ＣＶＤ装置。3. The vertical CVD according to claim 1 or 2.
In the apparatus, the boat is a substantially cylindrical shape, said baud
A vertical CVD apparatus , wherein each of the main body and the boat cover has a semi-cylindrical shape.
おいて、 筒状体を縦に二分割した一方の形状を有するボート本体
と他方の形状を有するボートカバー部とを非接触に配置
して前記筒状ボートを構成するとともに、前記ボート本
体及び前記ボートカバー部に前記筒状ボートの内外を連
通する連通部を設けてなる ことを特徴とする縦型ＣＶＤ
ボート。4. A vertical CVD boat having a tubular boat.
A boat body having one shape obtained by vertically dividing a cylindrical body into two
And the boat cover part with the other shape are placed in non-contact
To constitute the tubular boat and
Connect the inside and outside of the tubular boat to the body and the boat cover
Vertical CVD characterized by providing a communicating portion through which
boat.
するボート本体と他方の形状を有するボートカバー部と
を非接触に配置するとともに、前記ボート本体及び前記
ボートカバー部に前記筒状体の内外を連通する連通部を
設けてなる筒状ボートを有する縦型ＣＶＤ装置を用いて
ウェーハを処理するウェーハ処理方法において、 予め、前記ボートカバー部を反応室内に設けておき、 次いで、ウェーハを保持した前記ボート本体を前記ボー
トカバー部に接触することなく前記反応室に挿入するこ
とで、前記反応室内においてウェーハを保持した前記筒
状ボートを構成し、 ウェーハにＣＶＤ膜を生成した後、前記ボート本体を前
記ボートカバー部に接触することなく前記反応室から取
り出す ことを特徴とする縦型ＣＶＤ装置のウェーハ処理
方法。5. A cylindrical body having one of two vertically divided shapes.
Boat body and a boat cover having the other shape
And the boat body and the
A communication portion that communicates the inside and outside of the tubular body with the boat cover portion
Using a vertical CVD device having a tubular boat
In the wafer processing method for processing wafers , the boat cover is provided in advance in the reaction chamber, and then the boat body holding the wafer is mounted on the boat.
Inserted into the reaction chamber without touching the cover.
And the cylinder holding a wafer in the reaction chamber
After forming a CVD film on a wafer, the boat body is
Take out of the reaction chamber without touching the boat cover
Wafer processing method of a vertical CVD apparatus characterized by issuing Ri.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15033595A JP3060401B2 (en) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Vertical CVD apparatus, boat therefor, and wafer processing method for vertical CVD apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15033595A JP3060401B2 (en) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Vertical CVD apparatus, boat therefor, and wafer processing method for vertical CVD apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07326590A JPH07326590A (en) | 1995-12-12 |
| JP3060401B2 true JP3060401B2 (en) | 2000-07-10 |
Family
ID=15494762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15033595A Expired - Lifetime JP3060401B2 (en) | 1995-06-16 | 1995-06-16 | Vertical CVD apparatus, boat therefor, and wafer processing method for vertical CVD apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3060401B2 (en) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6423525A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-26 | Toyoko Kagaku Kk | Vertical-type low-pressure vapor growth equipment |
-
1995
- 1995-06-16 JP JP15033595A patent/JP3060401B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07326590A (en) | 1995-12-12 |
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