JPH0725684Y2 - 全反射蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
全反射蛍光ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPH0725684Y2 JPH0725684Y2 JP1988122131U JP12213188U JPH0725684Y2 JP H0725684 Y2 JPH0725684 Y2 JP H0725684Y2 JP 1988122131 U JP1988122131 U JP 1988122131U JP 12213188 U JP12213188 U JP 12213188U JP H0725684 Y2 JPH0725684 Y2 JP H0725684Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- base plate
- incident
- sample
- fluorescent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 本考案は平面状の基台板に試料を薄く付着させて、その
基台板に全反射を生ずるような小さい角度をもって励起
Ｘ線を入射させることにより試料から発生する蛍光Ｘ線
を検出し、その波長によって試料の成分を分析する装置
の構造に関する。
基台板に全反射を生ずるような小さい角度をもって励起
Ｘ線を入射させることにより試料から発生する蛍光Ｘ線
を検出し、その波長によって試料の成分を分析する装置
の構造に関する。
この装置は基台板の表面に0.01〜0.1度の極めて小さい
角度で細いＸ線を入射させ、表面に付着した試料から発
生する蛍光Ｘ線を、これに対設したＸ線検出器で検出す
るものである。しかしＸ線の入射角が極めて小さいため
に基台板の表面の位置あるいは励起Ｘ線ビームの位置が
この表面に対して直角な方向へ僅かでも変動すると、上
記表面におけるＸ線の入射位置が著しく変動して表面の
薄い試料層から発生する蛍光Ｘ線が検出器の中央部に正
確に入射しなくなる。すなわち検出器の感度が実効的に
変化したことになるため、定量分析に際しては大きな誤
差を生ずる。本考案は従来の装置におけるこのような欠
点を防止しようとするものである。
角度で細いＸ線を入射させ、表面に付着した試料から発
生する蛍光Ｘ線を、これに対設したＸ線検出器で検出す
るものである。しかしＸ線の入射角が極めて小さいため
に基台板の表面の位置あるいは励起Ｘ線ビームの位置が
この表面に対して直角な方向へ僅かでも変動すると、上
記表面におけるＸ線の入射位置が著しく変動して表面の
薄い試料層から発生する蛍光Ｘ線が検出器の中央部に正
確に入射しなくなる。すなわち検出器の感度が実効的に
変化したことになるため、定量分析に際しては大きな誤
差を生ずる。本考案は従来の装置におけるこのような欠
点を防止しようとするものである。
本考案は基台板の表面に任意の試料を薄く被着して、そ
の表面に微小の入射角で細い励起用Ｘ線を入射させると
共に上記基台板にＸ線検出器を対向させた全反射蛍光Ｘ
線分析装置において、前記検出器で基台板の蛍光Ｘ線を
検出すると同時に基台板自体をその表面に対して直角な
方向へ移動させるか、または細い励起用Ｘ線を形成する
スリットをこの励起用Ｘ線ビームに対して交差する方向
へ移動させるようにしたものである。第１図はその原理
を説明する線図で、基台板１の表面には図示してないが
分析しょうとする試料が薄く被着されている。この基台
板に0.1度以下の極めて小さい角度αをもって細いＸ線
２を入射させると、そのＸ線が基台板１の内部に侵入し
た軌跡上で、基台板の材質で定まる波長の蛍光Ｘ線が発
生する。その大部分は基台板に吸収されるが、一部は表
面から外部に放出されてＸ線検出器で検出される。この
検出器は紙面内において基台板１の表面と平行な方向に
例えば曲線Ｓ（ｘ）で示したような感度分布をもってい
る。ｘは紙面内において検出器３の中心から基台板１の
表面に平行な方向の距離である。試料からのＸ線強度は
その厚さが極めて小さいから試料の内部へ侵入した一次
Ｘ線による励起を考える必要はなく、このため一次Ｘ線
の入射点ｐが検出器の中心ｑにあるとき極大となる。ま
た検出器３で検出される基台板１からの蛍光Ｘ線強度は
前述のように一次Ｘ線がこの基台板１の内部に侵入して
その軌跡上で蛍光Ｘ線が発生し、このＸ線は基台板の材
質による吸収をうけるが、表面から放出されて検出器３
で検出される。従って基台板１の内部で発生し基台板の
表面から放射される蛍光Ｘ線の強度Ｉ（ｘ′）と前記検
出器の感度Ｓ（ｘ）との積を積分したものによって決ま
る。ｘ′は基台板の表面において一次Ｘ線が基台板表面
に入射した点ｐから基台板１の表面に平行な方向にとっ
た距離である。式で示すと検出器３で検出される基台板
１の材質からの蛍光Ｘ線の強度Ib（x0）は となる。Ib（x0）はx0の関数であり、これが極大となる
x0となるx0はＩ（ｘ−x0）の関数の形によっている。
の表面に微小の入射角で細い励起用Ｘ線を入射させると
共に上記基台板にＸ線検出器を対向させた全反射蛍光Ｘ
線分析装置において、前記検出器で基台板の蛍光Ｘ線を
検出すると同時に基台板自体をその表面に対して直角な
方向へ移動させるか、または細い励起用Ｘ線を形成する
スリットをこの励起用Ｘ線ビームに対して交差する方向
へ移動させるようにしたものである。第１図はその原理
を説明する線図で、基台板１の表面には図示してないが
分析しょうとする試料が薄く被着されている。この基台
板に0.1度以下の極めて小さい角度αをもって細いＸ線
２を入射させると、そのＸ線が基台板１の内部に侵入し
た軌跡上で、基台板の材質で定まる波長の蛍光Ｘ線が発
生する。その大部分は基台板に吸収されるが、一部は表
面から外部に放出されてＸ線検出器で検出される。この
検出器は紙面内において基台板１の表面と平行な方向に
例えば曲線Ｓ（ｘ）で示したような感度分布をもってい
る。ｘは紙面内において検出器３の中心から基台板１の
表面に平行な方向の距離である。試料からのＸ線強度は
その厚さが極めて小さいから試料の内部へ侵入した一次
Ｘ線による励起を考える必要はなく、このため一次Ｘ線
の入射点ｐが検出器の中心ｑにあるとき極大となる。ま
た検出器３で検出される基台板１からの蛍光Ｘ線強度は
前述のように一次Ｘ線がこの基台板１の内部に侵入して
その軌跡上で蛍光Ｘ線が発生し、このＸ線は基台板の材
質による吸収をうけるが、表面から放出されて検出器３
で検出される。従って基台板１の内部で発生し基台板の
表面から放射される蛍光Ｘ線の強度Ｉ（ｘ′）と前記検
出器の感度Ｓ（ｘ）との積を積分したものによって決ま
る。ｘ′は基台板の表面において一次Ｘ線が基台板表面
に入射した点ｐから基台板１の表面に平行な方向にとっ
た距離である。式で示すと検出器３で検出される基台板
１の材質からの蛍光Ｘ線の強度Ib（x0）は となる。Ib（x0）はx0の関数であり、これが極大となる
x0となるx0はＩ（ｘ−x0）の関数の形によっている。
すなわち一次Ｘ線の基台板による吸収係数と基台板の材
質からの蛍光Ｘ線吸収係数と基台板材質の密度とによっ
て定まる値となる。このような値を理論的に算出するこ
とは、一次Ｘ線のエネルギ毎に吸収係数が変化すること
から簡単てはないが、これを求めることは可能である。
質からの蛍光Ｘ線吸収係数と基台板材質の密度とによっ
て定まる値となる。このような値を理論的に算出するこ
とは、一次Ｘ線のエネルギ毎に吸収係数が変化すること
から簡単てはないが、これを求めることは可能である。
以上の観点から、実験によって基台板に試料を被着させ
ない場合におけるその蛍光Ｘ線強度が極大となる（x0）
ｂを求め、次に試験的に充分検出し得るだけの試料を被
着させた試料からの蛍光Ｘ線強度が極大となる（x0）Ｓ
を予め求めてそれらの差を得た後、この値を変化させる
には必要なｚ方向の値dz0を予め算出して、未知の試料
の測定時には基台板をｚ方向に移動させることにより、
基台板１の材質からの蛍光Ｘ線強度が極大となる位置を
求め、これより更にdZ0だけ変位させた位置に基台板の
表面を設定することにより、あるいはスリット５を移動
させることにより、基台１の材質からの蛍光Ｘ線強度が
極大となる点を求めて、更にdZ0に相当する値だけスリ
ット５を移動させることにより、その入射点ｐをx,zが
共に０となる原点ｑに一致させることができる。この状
態では、基台板１の表面に被着した試料の蛍光Ｘ線が最
大でしかも一定の感度をもって検出器３で検出される。
従って本考案の装置は常に正確で高感度の定量分析を行
い得る作用効果がある。
ない場合におけるその蛍光Ｘ線強度が極大となる（x0）
ｂを求め、次に試験的に充分検出し得るだけの試料を被
着させた試料からの蛍光Ｘ線強度が極大となる（x0）Ｓ
を予め求めてそれらの差を得た後、この値を変化させる
には必要なｚ方向の値dz0を予め算出して、未知の試料
の測定時には基台板をｚ方向に移動させることにより、
基台板１の材質からの蛍光Ｘ線強度が極大となる位置を
求め、これより更にdZ0だけ変位させた位置に基台板の
表面を設定することにより、あるいはスリット５を移動
させることにより、基台１の材質からの蛍光Ｘ線強度が
極大となる点を求めて、更にdZ0に相当する値だけスリ
ット５を移動させることにより、その入射点ｐをx,zが
共に０となる原点ｑに一致させることができる。この状
態では、基台板１の表面に被着した試料の蛍光Ｘ線が最
大でしかも一定の感度をもって検出器３で検出される。
従って本考案の装置は常に正確で高感度の定量分析を行
い得る作用効果がある。
第２図は本考案実施例の構成を示した図で、基台板１の
表面は未知の汚染物質または被着された試料４で覆われ
ているが、この試料にＸ線検出器３を対向させると共に
スリット５で励起Ｘ線２を細く絞って前述のように極め
て小さい角度αで試料面に入射させてある。従って試料
４をＸ線２で励起して、その蛍光Ｘ線６を検出器３で検
出することができる。このような装置の設定に際して前
述のように検出器３で基台板１の蛍光Ｘ線を検出すると
共にその基台板１を矢印ｅのようにこれと直角な方向駆
動して位置調整を行う駆動装置７に上記検出器３の出力
を加えて、この出力が前述のように極大または多少小さ
い一定割合の値となるように基台板１の位置の自動調整
を行う。
表面は未知の汚染物質または被着された試料４で覆われ
ているが、この試料にＸ線検出器３を対向させると共に
スリット５で励起Ｘ線２を細く絞って前述のように極め
て小さい角度αで試料面に入射させてある。従って試料
４をＸ線２で励起して、その蛍光Ｘ線６を検出器３で検
出することができる。このような装置の設定に際して前
述のように検出器３で基台板１の蛍光Ｘ線を検出すると
共にその基台板１を矢印ｅのようにこれと直角な方向駆
動して位置調整を行う駆動装置７に上記検出器３の出力
を加えて、この出力が前述のように極大または多少小さ
い一定割合の値となるように基台板１の位置の自動調整
を行う。
また第２図の駆動装置８は本考案の他の実施例で、上記
駆動装置７を設けることなく、検出器３の出力を鎖線の
ように上記駆動装置８に加えて、スリット５の位置を矢
印ｆのようにＸ線２と交差する方向へ移動させることに
より、この入射Ｘ線の位置調整を行うものである。すな
わちこのような構成によってもＸ線２の入射点が検出器
３の中心と対向するように自動調整を行うことができ
る。
駆動装置７を設けることなく、検出器３の出力を鎖線の
ように上記駆動装置８に加えて、スリット５の位置を矢
印ｆのようにＸ線２と交差する方向へ移動させることに
より、この入射Ｘ線の位置調整を行うものである。すな
わちこのような構成によってもＸ線２の入射点が検出器
３の中心と対向するように自動調整を行うことができ
る。
第１図は本考案の作用を説明する線図、第２図は本考案
実施例の構成を示した図である。 なお図において、１は基台板、２はＸ線、３はＸ線検出
器、４は試料、５はスリット、６は蛍光Ｘ線である。
実施例の構成を示した図である。 なお図において、１は基台板、２はＸ線、３はＸ線検出
器、４は試料、５はスリット、６は蛍光Ｘ線である。
Claims (2)
- 【請求項１】表面に試料を薄く被着した平面状の基台板
に微小の入射角をもって細いＸ線を入射させると共に、
その入射部に対設して前記試料の蛍光Ｘ線を検出するた
めのＸ線検出器に入射する前記基台板の蛍光Ｘ線が極大
値となる位置から、あらかじめ求めた前記Ｘ線検出器に
入射する前記試料の蛍光Ｘ線が極大値となる位置との差
だけ、前記基台板をその表面に対して直角な方向へ移動
させる機構を設けた全反射蛍光Ｘ線分析装置 - 【請求項２】表面に試料を薄く被着した平面状の基台板
に微小の入射角をもって細いＸ線を入射させると共に、
その入射部に対設して前記試料の蛍光Ｘ線を検出するた
めのＸ線検出器に入射する前記基台板の蛍光Ｘ線が極大
値となる位置から、あらかじめ求めた前記Ｘ線検出器に
入射する前記試料の蛍光Ｘ線が極大値となる位置との差
だけ、前記細いＸ線を形成するスリットの位置をこのス
リットを通るＸ線と交叉する方向へ移動させる機構を設
けた全反射蛍光Ｘ線分析装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988122131U JPH0725684Y2 (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 全反射蛍光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988122131U JPH0725684Y2 (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 全反射蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0245447U JPH0245447U (ja) | 1990-03-28 |
| JPH0725684Y2 true JPH0725684Y2 (ja) | 1995-06-07 |
Family
ID=31369771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988122131U Expired - Lifetime JPH0725684Y2 (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 全反射蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725684Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3542003A1 (de) * | 1985-11-28 | 1987-06-04 | Geesthacht Gkss Forschung | Verfahren zur zerstoerungsfreien analyse der oberflaechenschicht von proben |
-
1988
- 1988-09-20 JP JP1988122131U patent/JPH0725684Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0245447U (ja) | 1990-03-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08184572A (ja) | 全反射ｘ線分析装置 | |
| JPH07103919A (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置の校正方法 | |
| JPS61137066A (ja) | 自動化学分析装置の測光方式 | |
| JP3889851B2 (ja) | 膜厚測定方法 | |
| JPH0725684Y2 (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置 | |
| US5199058A (en) | X-ray monochromator and spectral measurement apparatus using the x-ray monochromator | |
| JPH0915392A (ja) | Ｘ線解析装置 | |
| JP2551728Y2 (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置における高さ調節用ダミー | |
| JP2977166B2 (ja) | 広範囲ｘ線検出器を備えたｘ線回折装置 | |
| JP2921597B2 (ja) | 全反射スペクトル測定装置 | |
| JP2002333409A (ja) | Ｘ線応力測定装置 | |
| JP3590681B2 (ja) | Ｘ線吸収微細構造分析方法およびその装置 | |
| JP2000275113A (ja) | Ｘ線応力測定方法および測定装置 | |
| JPH02266208A (ja) | 膜厚測定方法 | |
| JP3217871B2 (ja) | Ｘ線分析装置および全反射蛍光ｘ線分析装置 | |
| JPS6353457A (ja) | 二次元走査型状態分析装置 | |
| JP2002213935A (ja) | 膜厚測定方法 | |
| JPH0833358B2 (ja) | 全反射螢光ｘ線分析装置 | |
| JPH01167642A (ja) | 薄膜ｘ線回折装置 | |
| JP3740530B2 (ja) | 全反射局所蛍光ｘ線分析用アライナー | |
| JP2501819Y2 (ja) | 放射線応用測定装置 | |
| JPH02107952A (ja) | 粉末のｘ線回析測定方法 | |
| JPH084606Y2 (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置 | |
| SU741122A1 (ru) | Способ рентгеновского спектрального анализа | |
| JP2003028816A (ja) | 全反射蛍光ｘ線分析装置 |