JPH068087A - ウエーハ研削用吸着盤 - Google Patents
ウエーハ研削用吸着盤Info
- Publication number
- JPH068087A JPH068087A JP16799792A JP16799792A JPH068087A JP H068087 A JPH068087 A JP H068087A JP 16799792 A JP16799792 A JP 16799792A JP 16799792 A JP16799792 A JP 16799792A JP H068087 A JPH068087 A JP H068087A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- housing
- plate
- suction plate
- suction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 大口径のウエーハを吸着しても微小変形を生
じず、ウエーハの高平担度な研削を可能ならしめるウエ
ーハ研削用吸着盤を提供する。 【構成】 中央部の円形凹部３に複数の環状溝５，６，
７と連通溝８を形成した非通気性の一体型ハウジング２
の円形凹部３内に、予めその外周部の一定幅にガラス浸
透固化部１０ａを形成した、通気性円板状吸着プレート
１０を嵌め込んで接着固定する。ハウジング２をこれと
同材質の非通気性ロータプレート１１上に着脱自在に結
着する。 【効果】 吸着盤１の合せ面としては、ハウジング２と
ロータプレート１１との合せ面Ａだけとなり、しかも同
材質なため、両者の熱膨張差による接着不良が発生せ
ず、ウエーハＷはその表面が均一に研削されてその平担
度が高く保たれる。
じず、ウエーハの高平担度な研削を可能ならしめるウエ
ーハ研削用吸着盤を提供する。 【構成】 中央部の円形凹部３に複数の環状溝５，６，
７と連通溝８を形成した非通気性の一体型ハウジング２
の円形凹部３内に、予めその外周部の一定幅にガラス浸
透固化部１０ａを形成した、通気性円板状吸着プレート
１０を嵌め込んで接着固定する。ハウジング２をこれと
同材質の非通気性ロータプレート１１上に着脱自在に結
着する。 【効果】 吸着盤１の合せ面としては、ハウジング２と
ロータプレート１１との合せ面Ａだけとなり、しかも同
材質なため、両者の熱膨張差による接着不良が発生せ
ず、ウエーハＷはその表面が均一に研削されてその平担
度が高く保たれる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエーハの表面を研削
する研削装置において、ウエーハを真空吸着してこれを
保持するウエーハ研削用吸着盤に関する。
する研削装置において、ウエーハを真空吸着してこれを
保持するウエーハ研削用吸着盤に関する。
【０００２】
【従来の技術】斯かる吸着盤の従来例を図３に示す。即
ち、図３は従来の吸着盤１０１の縦断面図であり、同図
において、１１０は通気性を有するポーラスセラミック
等から成る円板状の吸着プレートであって、これはその
外周面に無機ガラス接着剤を塗布された状態で保持リン
グ１０２に嵌め込まれて該保持リング１０２に接着固定
されている。尚、保持リング１０２は非通気性の緻密セ
ラミック等で構成されている。
ち、図３は従来の吸着盤１０１の縦断面図であり、同図
において、１１０は通気性を有するポーラスセラミック
等から成る円板状の吸着プレートであって、これはその
外周面に無機ガラス接着剤を塗布された状態で保持リン
グ１０２に嵌め込まれて該保持リング１０２に接着固定
されている。尚、保持リング１０２は非通気性の緻密セ
ラミック等で構成されている。
【０００３】又、１１１は不図示の回転テーブル上に固
定された円板状のロータプレートであって、該ロータプ
レート１１１上には、間に非通気性緻密セラミック等か
ら成る円板状プレート１０３を介在させて、前記保持リ
ング１０２がボルト或いはボルトと接着剤によって結着
されている。尚、円板状プレート１０３及びロータプレ
ート１１１の各中心部には真空孔１０４が穿設されてお
り、吸着プレート１１０は真空孔１０４を介して不図示
の真空源に連結されている。
定された円板状のロータプレートであって、該ロータプ
レート１１１上には、間に非通気性緻密セラミック等か
ら成る円板状プレート１０３を介在させて、前記保持リ
ング１０２がボルト或いはボルトと接着剤によって結着
されている。尚、円板状プレート１０３及びロータプレ
ート１１１の各中心部には真空孔１０４が穿設されてお
り、吸着プレート１１０は真空孔１０４を介して不図示
の真空源に連結されている。
【０００４】而して、上記構成を有する吸着盤１０１に
おいては、吸着プレート１１０が前記真空孔１０４を介
して不図示の真空源によって真空引きされると、該吸着
プレート１１０上にはウエーハＷが真空吸着されて保持
される。
おいては、吸着プレート１１０が前記真空孔１０４を介
して不図示の真空源によって真空引きされると、該吸着
プレート１１０上にはウエーハＷが真空吸着されて保持
される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
吸着盤１０１は、保持リング１０２、円板状プレート１
０３及びロータプレート１１１を結着して成る三層構造
を有しているため、保持リング１０２と円板状プレート
１０３の合せ面ａ及び円板状プレート１０３とロータプ
レート１１１の合せ面ｂに密着不良に起因する僅かな隙
間が発生する。
吸着盤１０１は、保持リング１０２、円板状プレート１
０３及びロータプレート１１１を結着して成る三層構造
を有しているため、保持リング１０２と円板状プレート
１０３の合せ面ａ及び円板状プレート１０３とロータプ
レート１１１の合せ面ｂに密着不良に起因する僅かな隙
間が発生する。
【０００６】而して、ウエーハＷを真空吸着すると、該
ウエーハＷを介して吸着プレート１１０には約１Ｋｇ／
ｃｍ2 の大気圧が作用するため、該吸着プレート１１０
が前記合わせ面ａ，ｂに発生する隙間或いは自身の内部
変形によって０．１〜１μｍのオーダーで凹状に撓み変
形し、斯かる吸着プレート１１０に吸着保持されたウエ
ーハＷを高精度研削すると、吸着プレート１１０の凹状
に変形した部分でのウエーハＷの厚さは少なくとも吸着
プレート１１０の凹状変形量だけ厚くなり、ウエーハＷ
の平坦度（ＴＴＶ）を高く保つことができないという問
題が発生する。そして、この問題は特にウエーハＷの径
が大きいと顕著である。尚、従来はロータプレート１１
１はＳＵＳ等で構成され、これと円板状プレート１０３
との材質が異なっていたため、両者の熱膨張差に起因し
てこれらの合せ面ｂには密着不良が生じ易かった。
ウエーハＷを介して吸着プレート１１０には約１Ｋｇ／
ｃｍ2 の大気圧が作用するため、該吸着プレート１１０
が前記合わせ面ａ，ｂに発生する隙間或いは自身の内部
変形によって０．１〜１μｍのオーダーで凹状に撓み変
形し、斯かる吸着プレート１１０に吸着保持されたウエ
ーハＷを高精度研削すると、吸着プレート１１０の凹状
に変形した部分でのウエーハＷの厚さは少なくとも吸着
プレート１１０の凹状変形量だけ厚くなり、ウエーハＷ
の平坦度（ＴＴＶ）を高く保つことができないという問
題が発生する。そして、この問題は特にウエーハＷの径
が大きいと顕著である。尚、従来はロータプレート１１
１はＳＵＳ等で構成され、これと円板状プレート１０３
との材質が異なっていたため、両者の熱膨張差に起因し
てこれらの合せ面ｂには密着不良が生じ易かった。
【０００７】又、吸着プレート１１０は、無機ガラス接
着剤によってその外周部が保持リング１０２の内周部に
接着されるが、該吸着プレート１１０は前述のように通
気性を有するポーラスセラミック等で構成されるため、
吸着プレート１１０の外周部及び／又は保持リング１０
２の内周部に無機ガラス接着剤を塗布して該吸着プレー
ト１１０を接着せしめる際、同接着剤の一部は吸着プレ
ート１１０の外周部より径の中心方向に浸透するため、
塗布した無機ガラス接着剤の全てが吸着プレート１１０
の接着に寄与しない。このため、吸着プレート１１０と
保持リング１０２の間に接着不良による緩みが生じ、こ
の状態の吸着盤１０１を用いてウエーハＷを研削する
と、ウエーハＷが振れて高精度な研削ができなくなり、
ウエーハＷの平坦度が悪くなる。尚、研削中、ウエーハ
Ｗの周辺に印加される応力や発熱によって、吸着プレー
ト１１０の接着部が破壊される場合も上記と同様の問題
が発生することは言うまでもない。従って、例えば非耐
熱性の有機質接着剤を使用するのは問題がある。
着剤によってその外周部が保持リング１０２の内周部に
接着されるが、該吸着プレート１１０は前述のように通
気性を有するポーラスセラミック等で構成されるため、
吸着プレート１１０の外周部及び／又は保持リング１０
２の内周部に無機ガラス接着剤を塗布して該吸着プレー
ト１１０を接着せしめる際、同接着剤の一部は吸着プレ
ート１１０の外周部より径の中心方向に浸透するため、
塗布した無機ガラス接着剤の全てが吸着プレート１１０
の接着に寄与しない。このため、吸着プレート１１０と
保持リング１０２の間に接着不良による緩みが生じ、こ
の状態の吸着盤１０１を用いてウエーハＷを研削する
と、ウエーハＷが振れて高精度な研削ができなくなり、
ウエーハＷの平坦度が悪くなる。尚、研削中、ウエーハ
Ｗの周辺に印加される応力や発熱によって、吸着プレー
ト１１０の接着部が破壊される場合も上記と同様の問題
が発生することは言うまでもない。従って、例えば非耐
熱性の有機質接着剤を使用するのは問題がある。
【０００８】又、吸着プレート１１０の外周部より径の
中心方向に浸透した無機ガラス接着は固化することによ
って非通気部を形成する。従って、吸着プレート１１０
の非通気部を除く通気部の外径がウエーハＷの外径より
も小さい場合には、ウエーハＷの外周部が吸着プレート
１１０の通気部から外方へはみ出てこの部分が十分吸着
されず、はみ出た部分がより多く研削され、ウエーハＷ
の外周部がリング状に薄くなって該ウエーハＷの平坦度
を高く保つことができないという問題が発生する。
中心方向に浸透した無機ガラス接着は固化することによ
って非通気部を形成する。従って、吸着プレート１１０
の非通気部を除く通気部の外径がウエーハＷの外径より
も小さい場合には、ウエーハＷの外周部が吸着プレート
１１０の通気部から外方へはみ出てこの部分が十分吸着
されず、はみ出た部分がより多く研削され、ウエーハＷ
の外周部がリング状に薄くなって該ウエーハＷの平坦度
を高く保つことができないという問題が発生する。
【０００９】本発明は上記問題に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、大口径のウエーハを吸着して
も微小変形を生じず、ウエーハの高平坦度な研削を可能
ならしめるウエーハ研削用吸着盤を提供することにあ
る。
で、その目的とする処は、大口径のウエーハを吸着して
も微小変形を生じず、ウエーハの高平坦度な研削を可能
ならしめるウエーハ研削用吸着盤を提供することにあ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく本
発明は、中央部に円形凹部を有し、該円形凹部に複数の
環状溝と該環状溝を連通せしめる放射線状の溝を形成し
て成る非通気性の一体型ハウジングの前記円形凹部内
に、予めその外周部の一定幅に流動性の無機ガラス接着
剤を浸透せしめた後にこれを固化することによってガラ
ス浸透固化部を形成して成る、通気性を有する円板状吸
着プレートを、その外周部及び／又は前記一体型ハウジ
ングの内周部に無機ガラス接着剤を塗布した状態で嵌め
込んでこれを接着固定し、前記ハウジングをこれと同材
質の非通気性ロータプレート上に着脱自在に結着してウ
エーハ研削用吸着盤を構成したことを特徴とする。
発明は、中央部に円形凹部を有し、該円形凹部に複数の
環状溝と該環状溝を連通せしめる放射線状の溝を形成し
て成る非通気性の一体型ハウジングの前記円形凹部内
に、予めその外周部の一定幅に流動性の無機ガラス接着
剤を浸透せしめた後にこれを固化することによってガラ
ス浸透固化部を形成して成る、通気性を有する円板状吸
着プレートを、その外周部及び／又は前記一体型ハウジ
ングの内周部に無機ガラス接着剤を塗布した状態で嵌め
込んでこれを接着固定し、前記ハウジングをこれと同材
質の非通気性ロータプレート上に着脱自在に結着してウ
エーハ研削用吸着盤を構成したことを特徴とする。
【００１１】又、本発明は、前記吸着プレートのガラス
浸透固化部を除く通気性部の外径Ｄｐを、ウエーハ外径
Ｄｗよりも大きく（Ｄｐ＞Ｄｗ）設定したことをその特
徴とする。
浸透固化部を除く通気性部の外径Ｄｐを、ウエーハ外径
Ｄｗよりも大きく（Ｄｐ＞Ｄｗ）設定したことをその特
徴とする。
【００１２】
【作用】本発明に係る吸着盤は、一体型ハウジングとロ
ータプレートを結合して成る二層構造を構成し、従っ
て、合せ面としてはハウジングとロータプレートとの合
せ面の１つだけとなり、しかも、ハウジングとロータプ
レートとは同材質で構成されるため、両者の熱膨張差に
よる接着不良が発生せず、真空吸着時にウエーハを介し
て吸着プレートに約１Ｋｇ／ｃｍ2 の大気圧が作用して
も、吸着プレートの変形が防がれ、ウエーハはその表面
が均一に研削されてその平坦度が高く保たれる。
ータプレートを結合して成る二層構造を構成し、従っ
て、合せ面としてはハウジングとロータプレートとの合
せ面の１つだけとなり、しかも、ハウジングとロータプ
レートとは同材質で構成されるため、両者の熱膨張差に
よる接着不良が発生せず、真空吸着時にウエーハを介し
て吸着プレートに約１Ｋｇ／ｃｍ2 の大気圧が作用して
も、吸着プレートの変形が防がれ、ウエーハはその表面
が均一に研削されてその平坦度が高く保たれる。
【００１３】又、吸着プレートの外周部には予めガラス
浸透固化部が形成されているため、該吸着プレートのハ
ウジングへの嵌め込み時に塗布された無機ガラス接着剤
の吸着プレートへの浸透がガラス浸透固化部によって阻
止され、吸着プレートの外周面部及び／又はハウジング
の内周部に塗布された無機ガラス接着剤はその全てが接
着に供される。従って、吸着プレートは、その外周がハ
ウジングの凹部に均一、且つ強固に接着され、これの経
時的な接着不良が防がれ、これによってもウエーハの平
担度が高く保たれる。
浸透固化部が形成されているため、該吸着プレートのハ
ウジングへの嵌め込み時に塗布された無機ガラス接着剤
の吸着プレートへの浸透がガラス浸透固化部によって阻
止され、吸着プレートの外周面部及び／又はハウジング
の内周部に塗布された無機ガラス接着剤はその全てが接
着に供される。従って、吸着プレートは、その外周がハ
ウジングの凹部に均一、且つ強固に接着され、これの経
時的な接着不良が防がれ、これによってもウエーハの平
担度が高く保たれる。
【００１４】更に、吸着プレートの通気部の外径Ｄｐは
ウエーハ外径Ｄｗよりも大きく（Ｄｐ＞Ｄｗ）設定され
ているため、ウエーハはその全てが吸着プレートの通気
部に十分吸着され、該ウエーハは、たとえその直径が大
きくても、表面が均一に研削されて高い平坦度を保つこ
とができる。
ウエーハ外径Ｄｗよりも大きく（Ｄｐ＞Ｄｗ）設定され
ているため、ウエーハはその全てが吸着プレートの通気
部に十分吸着され、該ウエーハは、たとえその直径が大
きくても、表面が均一に研削されて高い平坦度を保つこ
とができる。
【００１５】
【実施例】以下に本発明の一実施例を添付図面に基づい
て説明する。
て説明する。
【００１６】図１は本発明に係るウエーハ研削用吸着盤
の縦断面図、図２は該吸着盤を構成するハウジングの平
面図である。
の縦断面図、図２は該吸着盤を構成するハウジングの平
面図である。
【００１７】図１に示す吸着盤１において、２はその中
央部に円形凹部３を形成して成る皿状の一体型ハウジン
グであって、該ハウジング２は例えばＡｌ2 Ｏ3 系緻密
セラミック等の非通気性材料で構成されている。そし
て、このハウジング２の中心部には真空孔４が穿設され
ており、凹部３の底面上には、図２に示すように、前記
真空孔４を中心とする同心円状の複数の環状溝５，６，
７と真空孔４から径方向外方に放射状に延びる複数の溝
８が形成されており、環状溝５，６，７は溝８によって
互いに連通せしめられている。又、ハウジング２の外周
部には、複数のボルト孔９が穿設されている。
央部に円形凹部３を形成して成る皿状の一体型ハウジン
グであって、該ハウジング２は例えばＡｌ2 Ｏ3 系緻密
セラミック等の非通気性材料で構成されている。そし
て、このハウジング２の中心部には真空孔４が穿設され
ており、凹部３の底面上には、図２に示すように、前記
真空孔４を中心とする同心円状の複数の環状溝５，６，
７と真空孔４から径方向外方に放射状に延びる複数の溝
８が形成されており、環状溝５，６，７は溝８によって
互いに連通せしめられている。又、ハウジング２の外周
部には、複数のボルト孔９が穿設されている。
【００１８】而して、上記ハウジング２の凹部３には、
例えばＡｌ2 Ｏ3 系ポーラスセラミック等の通気性材料
で構成された円板状の吸着プレート１０が嵌め込まれて
接着されているが、この吸着プレート１０の凹部３への
嵌め込み接着は次の要領でなされる。
例えばＡｌ2 Ｏ3 系ポーラスセラミック等の通気性材料
で構成された円板状の吸着プレート１０が嵌め込まれて
接着されているが、この吸着プレート１０の凹部３への
嵌め込み接着は次の要領でなされる。
【００１９】即ち、吸着プレート１０の外周部には予め
無機ガラス接着剤が浸透固化されて非通気性のガラス浸
透固化部（非通気部）１０ａが形成されており、該吸着
プレート１０は、その外周部及び／又はハウジング２の
接合される内周部に流動性の無機ガラス接着剤を塗布し
た状態でハウジング２の凹部３内に嵌め込まれ、その後
加熱による焼結によって両部材は強固に接着される。
尚、吸着プレート１０において、その外周部に形成され
た前記ガラス浸透固化部１０ａを除く通気部１０ｂの外
径Ｄｐは、ウエーハ外径Ｄｗよりも大きく（Ｄｐ＞Ｄ
ｗ）設定されている（図１参照）。
無機ガラス接着剤が浸透固化されて非通気性のガラス浸
透固化部（非通気部）１０ａが形成されており、該吸着
プレート１０は、その外周部及び／又はハウジング２の
接合される内周部に流動性の無機ガラス接着剤を塗布し
た状態でハウジング２の凹部３内に嵌め込まれ、その後
加熱による焼結によって両部材は強固に接着される。
尚、吸着プレート１０において、その外周部に形成され
た前記ガラス浸透固化部１０ａを除く通気部１０ｂの外
径Ｄｐは、ウエーハ外径Ｄｗよりも大きく（Ｄｐ＞Ｄ
ｗ）設定されている（図１参照）。
【００２０】ここで、吸着プレート１０をハウジング２
に接着するための上記無機ガラス接着剤としては、下記
のものを使用し得る。 常温乃至は３００℃以下の比較的低温での接着が可能
な無機ガラス接着剤であって、無機バインダーに、必要
に応じて硬化剤や充填剤を添加して使用される。水ガラ
スを代表とする珪酸アルカリ系の他、リン酸塩系、シリ
カゾル系等の各種接着剤がある。 融点が４００〜５００℃程度の低融点ガラスで、Ｐｂ
Ｏを添加した低融点ガラスが代表例である。セラミック
界面ではセラミック粒界のガラス成分、金属界面ではそ
の金属酸化物の層が、低融点ガラスとそれぞれ化学結合
して良好な接着が得られる。 融点８００℃以上の高融点ガラスを接着剤とするもの
で、高融点酸化物ソルダーとも呼ばれる。該接着剤によ
る接着は、酸化物ガラスとセラミック結晶とが共融物若
しくはガラス結合を形成することによって果たされる。
高融点酸化ガラスの素材としては、ＳｉＯ2 やＣａＯ、
Ａｌ2 Ｏ3 を主成分とするものが用いられる。
に接着するための上記無機ガラス接着剤としては、下記
のものを使用し得る。 常温乃至は３００℃以下の比較的低温での接着が可能
な無機ガラス接着剤であって、無機バインダーに、必要
に応じて硬化剤や充填剤を添加して使用される。水ガラ
スを代表とする珪酸アルカリ系の他、リン酸塩系、シリ
カゾル系等の各種接着剤がある。 融点が４００〜５００℃程度の低融点ガラスで、Ｐｂ
Ｏを添加した低融点ガラスが代表例である。セラミック
界面ではセラミック粒界のガラス成分、金属界面ではそ
の金属酸化物の層が、低融点ガラスとそれぞれ化学結合
して良好な接着が得られる。 融点８００℃以上の高融点ガラスを接着剤とするもの
で、高融点酸化物ソルダーとも呼ばれる。該接着剤によ
る接着は、酸化物ガラスとセラミック結晶とが共融物若
しくはガラス結合を形成することによって果たされる。
高融点酸化ガラスの素材としては、ＳｉＯ2 やＣａＯ、
Ａｌ2 Ｏ3 を主成分とするものが用いられる。
【００２１】本実施例では、無機ガラス接着剤として、
ＳｉＯ2 約５０％とＡｌ2 Ｏ3 約１０％、その他ＣａＯ
とＢａＯを添加した高融点酸化物ガラス剤を水で混練
し、これをポーラスセラミックから成る円板状の吸着プ
レート１０の外周部に塗布して乾燥後、１０００℃以上
の温度で熱処理することによりガラス浸透固化部１０ａ
を形成させる第１段階の前処理と、該前処理を行なった
吸着プレート１０の外周部及び／又はハウジング２の内
周部に、同接着剤を塗布した後、ハウジング２内に吸着
プレート１０を嵌め込んだものを乾燥後に熱処理し、両
部材を強固に接合せしめる第２段階の工程によって、吸
着プレート１０がハウジング２に接着される。
ＳｉＯ2 約５０％とＡｌ2 Ｏ3 約１０％、その他ＣａＯ
とＢａＯを添加した高融点酸化物ガラス剤を水で混練
し、これをポーラスセラミックから成る円板状の吸着プ
レート１０の外周部に塗布して乾燥後、１０００℃以上
の温度で熱処理することによりガラス浸透固化部１０ａ
を形成させる第１段階の前処理と、該前処理を行なった
吸着プレート１０の外周部及び／又はハウジング２の内
周部に、同接着剤を塗布した後、ハウジング２内に吸着
プレート１０を嵌め込んだものを乾燥後に熱処理し、両
部材を強固に接合せしめる第２段階の工程によって、吸
着プレート１０がハウジング２に接着される。
【００２２】一方、図１において、１１は回転テーブル
１２上に固定された円板状のロータプレートであって、
これは前記ハウジング２と同材質の非通気性材料（Ａｌ
2 Ｏ3 系緻密セラミック等）で構成されている。そし
て、このロータプレート１１の中心には、前記真空孔４
に連通する真空孔１３が穿設されており、又、該ロータ
プレート１１上の大小異径のピッチ円上には複数のネジ
孔１４，１５，１６が形成されている。
１２上に固定された円板状のロータプレートであって、
これは前記ハウジング２と同材質の非通気性材料（Ａｌ
2 Ｏ3 系緻密セラミック等）で構成されている。そし
て、このロータプレート１１の中心には、前記真空孔４
に連通する真空孔１３が穿設されており、又、該ロータ
プレート１１上の大小異径のピッチ円上には複数のネジ
孔１４，１５，１６が形成されている。
【００２３】而して、上記ロータプレート１１上には、
前記ハウジング２がこれのボルト挿通孔９に挿通する複
数のボルト１７によって着脱可能に結着されており、こ
れによって本発明に係る吸着盤１が構成されている。
前記ハウジング２がこれのボルト挿通孔９に挿通する複
数のボルト１７によって着脱可能に結着されており、こ
れによって本発明に係る吸着盤１が構成されている。
【００２４】ところで、一体化されたハウジング２と吸
着プレート１０のユニットは、吸着すべきウエーハＷの
サイズによって数種類のサイズのものが用意されてお
り、ウエーハＷのサイズが変われば、そのサイズに応じ
たハウジング２と吸着プレート１０のユニットが選択さ
れてこれがロータプレート１１上に取り付けられる。こ
のとき、ボルト１７はロータプレート１１に形成された
前記ネジ孔１４，１５，１６の中の適切なもの（図示例
では、ネジ孔１４）に螺合する。
着プレート１０のユニットは、吸着すべきウエーハＷの
サイズによって数種類のサイズのものが用意されてお
り、ウエーハＷのサイズが変われば、そのサイズに応じ
たハウジング２と吸着プレート１０のユニットが選択さ
れてこれがロータプレート１１上に取り付けられる。こ
のとき、ボルト１７はロータプレート１１に形成された
前記ネジ孔１４，１５，１６の中の適切なもの（図示例
では、ネジ孔１４）に螺合する。
【００２５】而して、本実施例に係る吸着盤１において
は、吸着プレート１０が真空孔４，１３を介して不図示
の真空源によって真空引きされると、該吸着プレート１
０上にはウエーハＷが真空吸着されて保持され、該ウエ
ーハＷはその上面が研削される。
は、吸着プレート１０が真空孔４，１３を介して不図示
の真空源によって真空引きされると、該吸着プレート１
０上にはウエーハＷが真空吸着されて保持され、該ウエ
ーハＷはその上面が研削される。
【００２６】以上において、本実施例に係る吸着盤１に
おいては、従来の保持リング１０２と円板状プレート１
０３（図３参照）を一体化してハウジング２を構成した
ため、該ハウジング２とロータプレート１１を結合して
成る二層構造を構成し、従って、合せ面としてはハウジ
ング２とロータプレート１１との合せ面Ａの１つだけと
なり、しかもハウジング２とロータプレート１１とは同
材質で構成されるため、両者の熱膨張差による接着不良
が発生せず、真空吸着時にウエーハＷを介して吸着プレ
ート１０に約１Ｋｇ／ｃｍ2 の大気圧が作用しても、吸
着プレート１０の変形が防がれ、ウエーハＷはその表面
が均一に研削されてその平坦度が高く保たれる。
おいては、従来の保持リング１０２と円板状プレート１
０３（図３参照）を一体化してハウジング２を構成した
ため、該ハウジング２とロータプレート１１を結合して
成る二層構造を構成し、従って、合せ面としてはハウジ
ング２とロータプレート１１との合せ面Ａの１つだけと
なり、しかもハウジング２とロータプレート１１とは同
材質で構成されるため、両者の熱膨張差による接着不良
が発生せず、真空吸着時にウエーハＷを介して吸着プレ
ート１０に約１Ｋｇ／ｃｍ2 の大気圧が作用しても、吸
着プレート１０の変形が防がれ、ウエーハＷはその表面
が均一に研削されてその平坦度が高く保たれる。
【００２７】又、吸着プレート１０の外周部には予めガ
ラス浸透固化部１０ａが形成されているため、該吸着プ
レート１０のハウジング２への嵌め込み時に塗布された
無機ガラス接着剤の吸着プレート１０への浸透がガラス
浸透固化部１０ａによって阻止され、接合面に塗布され
た無機ガラス接着剤はその全てが接着に供される。従っ
て、吸着プレート１０は、その外周部がハウジング２の
内周部に均一、且つ強固に接着され、これの経時的な接
着不良が防がれ、これによってもウエーハＷの平担度が
高く保たれる。
ラス浸透固化部１０ａが形成されているため、該吸着プ
レート１０のハウジング２への嵌め込み時に塗布された
無機ガラス接着剤の吸着プレート１０への浸透がガラス
浸透固化部１０ａによって阻止され、接合面に塗布され
た無機ガラス接着剤はその全てが接着に供される。従っ
て、吸着プレート１０は、その外周部がハウジング２の
内周部に均一、且つ強固に接着され、これの経時的な接
着不良が防がれ、これによってもウエーハＷの平担度が
高く保たれる。
【００２８】更に、前述のように、吸着プレート１０の
通気部１０ｂの外径Ｄｐはウエーハ外径Ｄｗよりも大き
く（Ｄｐ＞Ｄｗ）設定されているため、ウエーハＷはそ
の全てが吸着プレート１０の通気部１０ｂに十分吸着さ
れ、該ウエーハＷは、たとえその直径が大きくても、表
面が均一に研削されて高い平坦度を保つことができる。
通気部１０ｂの外径Ｄｐはウエーハ外径Ｄｗよりも大き
く（Ｄｐ＞Ｄｗ）設定されているため、ウエーハＷはそ
の全てが吸着プレート１０の通気部１０ｂに十分吸着さ
れ、該ウエーハＷは、たとえその直径が大きくても、表
面が均一に研削されて高い平坦度を保つことができる。
【００２９】
【発明の効果】以上の説明で明らかな如く、本発明によ
れば、中央部に円形凹部を有し、該円形凹部に複数の環
状溝と該環状溝を連通せしめる放射線状の溝を形成して
成る非通気性の一体型ハウジングの前記円形凹部内に、
予めその外周部の一定幅に流動性の無機ガラス接着剤を
浸透せしめた後にこれを固化することによってガラス浸
透固化部を形成して成る、通気性を有する円板状吸着プ
レートを、その外周部及び／又は前記一体型ハウジング
の内周部に無機ガラス接着剤を塗布した状態で嵌め込ん
でこれを接着固定し、前記ハウジングをこれと同材質の
非通気性ロータプレート上に着脱自在に結着してウエー
ハ研削用吸着盤を構成したため、大口径のウエーハを吸
着しても吸着盤に微小変形が生じず、ウエーハの高平坦
度な研削が可能になるという効果が得られる。
れば、中央部に円形凹部を有し、該円形凹部に複数の環
状溝と該環状溝を連通せしめる放射線状の溝を形成して
成る非通気性の一体型ハウジングの前記円形凹部内に、
予めその外周部の一定幅に流動性の無機ガラス接着剤を
浸透せしめた後にこれを固化することによってガラス浸
透固化部を形成して成る、通気性を有する円板状吸着プ
レートを、その外周部及び／又は前記一体型ハウジング
の内周部に無機ガラス接着剤を塗布した状態で嵌め込ん
でこれを接着固定し、前記ハウジングをこれと同材質の
非通気性ロータプレート上に着脱自在に結着してウエー
ハ研削用吸着盤を構成したため、大口径のウエーハを吸
着しても吸着盤に微小変形が生じず、ウエーハの高平坦
度な研削が可能になるという効果が得られる。
【図１】本発明に係るウエーハ研削用吸着盤の縦断面図
である。
である。
【図２】ハウジングの平面図である。
【図３】従来のウエーハ研削用吸着盤の縦断面図であ
る。
る。
１ ウエーハ研削用吸着盤 ２ ハウジング ３ 凹部 ５〜７ 環状溝 ８ 溝 １０ 吸着プレート １０ａ ガラス浸透固化部（非通気部） １０ｂ 通気部 １１ ロータプレート Ｗ ウエーハ
Claims (4)
- 【請求項１】 中央部に円形凹部を有し、該円形凹部に
複数の環状溝と該環状溝を連通せしめる放射線状の溝を
形成して成る非通気性の一体型ハウジングの前記円形凹
部内に、予めその外周部の一定幅に流動性の無機ガラス
接着剤を浸透せしめた後にこれを固化することによって
ガラス浸透固化部（非通気性部）を形成して成る、通気
性を有する円板状吸着プレートを、その外周部及び／又
は前記一体型ハウジングの内周部に無機ガラス接着剤を
塗布した状態で嵌め込んでこれを接着固定し、前記ハウ
ジングをこれと同材質の非通気性ロータプレート上に着
脱自在に結着して構成されることを特徴とするウエーハ
研削用吸着盤。 - 【請求項２】 前記吸着プレートは、Ａｌ2 Ｏ3 系ポー
ラスセラミックで構成されることを特徴とする請求項１
記載のウエーハ研削用吸着盤。 - 【請求項３】 前記ハウジング及びロータプレートは、
Ａｌ2 Ｏ3 系緻密セラミックで構成されることを特徴と
する請求項１記載のウエーハ研削用吸着盤。 - 【請求項４】 前記吸着プレートのガラス浸透固化部を
除く通気性部の外径Ｄｐは、ウエーハ外径Ｄｗよりも大
きく（Ｄｐ＞Ｄｗ）設定されていることを特徴とする請
求項１記載のウエーハ研削用吸着盤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16799792A JP2711424B2 (ja) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | ウエーハ研削用吸着盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16799792A JP2711424B2 (ja) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | ウエーハ研削用吸着盤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH068087A true JPH068087A (ja) | 1994-01-18 |
| JP2711424B2 JP2711424B2 (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=15859890
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16799792A Expired - Fee Related JP2711424B2 (ja) | 1992-06-25 | 1992-06-25 | ウエーハ研削用吸着盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2711424B2 (ja) |
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000058631A (ja) * | 1998-03-02 | 2000-02-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体製造用保持体およびその製造方法 |
| JP2001138228A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-05-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | 吸着板及びその吸着板を備えた研削装置 |
| JP2007253284A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Kyocera Corp | 真空チャック及びこれを用いた真空吸着装置 |
| JP2008132562A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Kyocera Corp | 真空チャックおよびこれを用いた真空吸着装置 |
| JP2008166312A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-17 | Kyocera Corp | 真空チャック及びこれを用いた真空吸着装置 |
| JP2009016584A (ja) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Tanken Seal Seiko Co Ltd | カーボン製吸着体及びその製造方法 |
| JP2010283286A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | ワーク保持装置 |
| US20130045883A1 (en) * | 2002-07-30 | 2013-02-21 | Life Technologies Corporation | Sample Block Apparatus and Method for Maintaining a Microcard on a Sample Block |
| KR101393029B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2014-05-14 | 쿠어스텍아시아 유한회사 | 진공 확산 통로의 단면적이 변하는 포러스 척 |
| JP2017019054A (ja) * | 2015-07-10 | 2017-01-26 | 株式会社ディスコ | チャックテーブルおよびチャックテーブルの製造方法 |
| JP2019181634A (ja) * | 2018-04-12 | 2019-10-24 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル及び研削装置 |
| JP2020120029A (ja) * | 2019-01-25 | 2020-08-06 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル |
| CN112045559A (zh) * | 2020-08-13 | 2020-12-08 | 东莞市闻誉实业有限公司 | 抛光治具及加工设备 |
| CN113910072A (zh) * | 2021-10-28 | 2022-01-11 | 华海清科股份有限公司 | 吸盘转台和晶圆加工*** |
-
1992
- 1992-06-25 JP JP16799792A patent/JP2711424B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000058631A (ja) * | 1998-03-02 | 2000-02-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体製造用保持体およびその製造方法 |
| JP2001138228A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-05-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | 吸着板及びその吸着板を備えた研削装置 |
| US10253361B2 (en) | 2002-07-30 | 2019-04-09 | Applied Biosystems, Llc | Sample block apparatus and method for maintaining a microcard on a sample block |
| US20130045883A1 (en) * | 2002-07-30 | 2013-02-21 | Life Technologies Corporation | Sample Block Apparatus and Method for Maintaining a Microcard on a Sample Block |
| JP2007253284A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Kyocera Corp | 真空チャック及びこれを用いた真空吸着装置 |
| JP4731368B2 (ja) * | 2006-03-23 | 2011-07-20 | 京セラ株式会社 | 真空チャック及びこれを用いた真空吸着装置 |
| JP2008132562A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Kyocera Corp | 真空チャックおよびこれを用いた真空吸着装置 |
| JP2008166312A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-17 | Kyocera Corp | 真空チャック及びこれを用いた真空吸着装置 |
| JP2009016584A (ja) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Tanken Seal Seiko Co Ltd | カーボン製吸着体及びその製造方法 |
| JP2010283286A (ja) * | 2009-06-08 | 2010-12-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | ワーク保持装置 |
| KR101393029B1 (ko) * | 2013-03-15 | 2014-05-14 | 쿠어스텍아시아 유한회사 | 진공 확산 통로의 단면적이 변하는 포러스 척 |
| JP2017019054A (ja) * | 2015-07-10 | 2017-01-26 | 株式会社ディスコ | チャックテーブルおよびチャックテーブルの製造方法 |
| JP2019181634A (ja) * | 2018-04-12 | 2019-10-24 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル及び研削装置 |
| CN110370166A (zh) * | 2018-04-12 | 2019-10-25 | 株式会社迪思科 | 卡盘工作台和磨削装置 |
| CN110370166B (zh) * | 2018-04-12 | 2023-02-17 | 株式会社迪思科 | 卡盘工作台和磨削装置 |
| TWI805732B (zh) * | 2018-04-12 | 2023-06-21 | 日商迪思科股份有限公司 | 磨削裝置 |
| JP2020120029A (ja) * | 2019-01-25 | 2020-08-06 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル |
| CN112045559A (zh) * | 2020-08-13 | 2020-12-08 | 东莞市闻誉实业有限公司 | 抛光治具及加工设备 |
| CN113910072A (zh) * | 2021-10-28 | 2022-01-11 | 华海清科股份有限公司 | 吸盘转台和晶圆加工*** |
| CN113910072B (zh) * | 2021-10-28 | 2022-11-22 | 华海清科股份有限公司 | 吸盘转台和晶圆加工*** |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2711424B2 (ja) | 1998-02-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2711424B2 (ja) | ウエーハ研削用吸着盤 | |
| KR100753302B1 (ko) | 진공 척, 흡착판, 연마 장치 및 반도체 웨이퍼의 제조 방법 | |
| KR100900015B1 (ko) | 기판 적재대 | |
| JP4008401B2 (ja) | 基板載置台の製造方法 | |
| JP4666656B2 (ja) | 真空吸着装置、その製造方法および被吸着物の吸着方法 | |
| TWI744535B (zh) | 半導體製造裝置用元件及其製法 | |
| JP5730071B2 (ja) | 吸着用部材 | |
| JP4908263B2 (ja) | 真空吸着装置およびその製造方法 | |
| JP2008132562A (ja) | 真空チャックおよびこれを用いた真空吸着装置 | |
| JP2004306254A (ja) | 真空チャック | |
| JP4703590B2 (ja) | 真空吸着装置及びそれを用いた吸着方法 | |
| JP2008028170A (ja) | 真空吸着装置及びその製造方法 | |
| JP2555938Y2 (ja) | 真空チャック | |
| JP4405887B2 (ja) | 真空吸着装置 | |
| JP2005279789A (ja) | 研削・研磨用真空チャック | |
| JP2005205507A (ja) | 真空吸着装置およびその製造方法 | |
| JP2009033001A (ja) | 真空チャックおよびこれを用いた真空吸着装置並びに加工装置 | |
| JP4956302B2 (ja) | カーボン製吸着体及びその製造方法 | |
| JP2005279788A (ja) | 研削・研磨用真空チャック | |
| JP2005118979A (ja) | 研削・研磨用真空チャックおよび吸着板 | |
| JP6224330B2 (ja) | 吸着部材、これを用いた真空吸着装置および冷却装置 | |
| JP4405886B2 (ja) | 真空吸着装置 | |
| JP4519457B2 (ja) | 加工用基板固定装置およびその製造方法 | |
| JP2000021959A (ja) | 真空吸着盤 | |
| CN221282080U (zh) | 一种晶圆载片 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071031 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081031 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081031 Year of fee payment: 11 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081031 Year of fee payment: 11 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091031 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101031 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031 Year of fee payment: 14 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |