JPH0653052A - ライントランス - Google Patents
ライントランスInfo
- Publication number
- JPH0653052A JPH0653052A JP4182514A JP18251492A JPH0653052A JP H0653052 A JPH0653052 A JP H0653052A JP 4182514 A JP4182514 A JP 4182514A JP 18251492 A JP18251492 A JP 18251492A JP H0653052 A JPH0653052 A JP H0653052A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coil
- conductors
- primary
- conductor
- line transformer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 19
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F17/00—Fixed inductances of the signal type
- H01F17/0006—Printed inductances
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
- H01F41/041—Printed circuit coils
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
- Coils Of Transformers For General Uses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 小型で、かつ、薄型のライントランスを得
る。 【構成】 絶縁性基板1の表裏面に第1の1次側コイル
用導体5〜7及び2次側コイル用導体25〜27をそれ
ぞれ形成する。このコイル用導体5〜7、25〜27を
被覆する絶縁膜10,30を基板1の表裏に形成する。
さらに、絶縁膜10,30を形成した基板1の表裏面
に、第2の1次側コイル用導体12〜14及び2次側コ
イル導体32〜34を、それぞれ積層方向に第1のコイ
ル用導体5〜7,25〜27に重ならないように形成す
る。そして、1次側コイル用導体は、絶縁膜10に設け
た穴を介して、5,12,6,13,7,14の順に直
列に接続され、1次側コイル41を形成する。同様に、
2次側コイル用導体は、絶縁膜30に設けた穴を介し
て、25,32,26,33,27,34の順に直列に
接続され、2次側コイル42を形成する。
る。 【構成】 絶縁性基板1の表裏面に第1の1次側コイル
用導体5〜7及び2次側コイル用導体25〜27をそれ
ぞれ形成する。このコイル用導体5〜7、25〜27を
被覆する絶縁膜10,30を基板1の表裏に形成する。
さらに、絶縁膜10,30を形成した基板1の表裏面
に、第2の1次側コイル用導体12〜14及び2次側コ
イル導体32〜34を、それぞれ積層方向に第1のコイ
ル用導体5〜7,25〜27に重ならないように形成す
る。そして、1次側コイル用導体は、絶縁膜10に設け
た穴を介して、5,12,6,13,7,14の順に直
列に接続され、1次側コイル41を形成する。同様に、
2次側コイル用導体は、絶縁膜30に設けた穴を介し
て、25,32,26,33,27,34の順に直列に
接続され、2次側コイル42を形成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、伝送信号を変調、復調
するモデム(変調用装置)等に組み込まれて使用される
ライントランスに関する。
するモデム(変調用装置)等に組み込まれて使用される
ライントランスに関する。
【0002】
【従来の技術と課題】一般に、電話や電話回線を利用し
て行われるデータ通信システムにおいては、デジタル信
号をアナログ信号に変調したり、復調したりするモデム
が必要不可欠である。モデムには回線を保護するために
ライントランスが内蔵されている。このライントランス
は、モデムや端末機に障害が生じた場合に回線を異常電
圧から保護する。従来、ライントランスとしては、コア
に1次巻線及び2次巻線を巻回し、これを絶縁性ケース
内に収納したものが知られている。
て行われるデータ通信システムにおいては、デジタル信
号をアナログ信号に変調したり、復調したりするモデム
が必要不可欠である。モデムには回線を保護するために
ライントランスが内蔵されている。このライントランス
は、モデムや端末機に障害が生じた場合に回線を異常電
圧から保護する。従来、ライントランスとしては、コア
に1次巻線及び2次巻線を巻回し、これを絶縁性ケース
内に収納したものが知られている。
【0003】しかしながら、従来のライントランスは、
太い1次巻線、2次巻線を巻回し、これをケースに収納
する構造であることから外径寸法が大きくなり、モデム
の小型化、薄型化の妨げとなっていた。そこで、本発明
の課題は、小型で薄いライントランスを提供することに
ある。
太い1次巻線、2次巻線を巻回し、これをケースに収納
する構造であることから外径寸法が大きくなり、モデム
の小型化、薄型化の妨げとなっていた。そこで、本発明
の課題は、小型で薄いライントランスを提供することに
ある。
【0004】
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
め、本発明に係るライントランスは、(a)絶縁性基板
と、(b)前記絶縁性基板の一方の面に配設された1次
側コイル部と、(c)前記絶縁性基板の他方の面に配設
された2次側コイル部とを少なくとも備え、(d)前記
1次側コイル部及び2次側コイル部が、それぞれ、複数
の導体からなる第1のコイルパターン層と、複数の導体
からなる第2のコイルパターン層と、前記第1及び第2
のコイルパターン層に挟まれた絶縁体層とから構成さ
れ、前記第1のコイルパターン層の導体と前記第2のコ
イルパターン層の導体が前記絶縁体層に設けた穴を介し
て交互に電気的に接続してコイルをなしていること、を
特徴とする。
め、本発明に係るライントランスは、(a)絶縁性基板
と、(b)前記絶縁性基板の一方の面に配設された1次
側コイル部と、(c)前記絶縁性基板の他方の面に配設
された2次側コイル部とを少なくとも備え、(d)前記
1次側コイル部及び2次側コイル部が、それぞれ、複数
の導体からなる第1のコイルパターン層と、複数の導体
からなる第2のコイルパターン層と、前記第1及び第2
のコイルパターン層に挟まれた絶縁体層とから構成さ
れ、前記第1のコイルパターン層の導体と前記第2のコ
イルパターン層の導体が前記絶縁体層に設けた穴を介し
て交互に電気的に接続してコイルをなしていること、を
特徴とする。
【0005】
【作用】以上の構成において、絶縁性基板の両面にそれ
ぞれ1次側コイル部、2次側コイル部を配設し、これら
1次側、2次側コイル部をコイルパターン層と絶縁層か
らなる積層構造としたため、従来の太い1次、2次巻線
を巻回した構造と比較して小型で薄くなる。
ぞれ1次側コイル部、2次側コイル部を配設し、これら
1次側、2次側コイル部をコイルパターン層と絶縁層か
らなる積層構造としたため、従来の太い1次、2次巻線
を巻回した構造と比較して小型で薄くなる。
【0006】また、1次側、2次側コイル部において
は、それぞれ、第1のコイルパターン層及び第2のコイ
ルパターン層の各導体が絶縁体層に設けた穴にて交互に
電気的に接続して1次側コイル及び2次側コイルを形成
するため、これらのコイルに電流が流れても、第1のコ
イルパターン層と第2のコイルパターン層間に生じる電
位差は抑えられ、小さな浮遊容量の発生ですむ。
は、それぞれ、第1のコイルパターン層及び第2のコイ
ルパターン層の各導体が絶縁体層に設けた穴にて交互に
電気的に接続して1次側コイル及び2次側コイルを形成
するため、これらのコイルに電流が流れても、第1のコ
イルパターン層と第2のコイルパターン層間に生じる電
位差は抑えられ、小さな浮遊容量の発生ですむ。
【0007】
【実施例】以下、本発明に係るライントランスの一実施
例について添付図面を参照して説明する。図1に示すよ
うに、絶縁性基板1の表裏面全面にスパッタリング、蒸
着等の薄膜技術を用いてCu又はAg、Ag−Pd等の
導体膜を形成した後、この導体膜の表面にフォトリソグ
ラフ法によって所望の部分にレジスト膜を形成する。次
に、エッチング処理をしてレジスト膜にて保護された部
分を残して導体膜を除去する。その後、レジスト膜を取
り除き、基板1の表面にそれぞれ相互に離れている第1
の1次側コイル用導体5,6,7、コイル用導体5に接
続している1次側入力電極8、1次側出力電極9を形成
し、かつ、基板1の裏面にそれぞれ相互に離れている第
1の2次側コイル用導体25,26,27(図5参
照)、コイル用導体25に接続している2次側入力電極
28、2次側出力電極29を形成する。ここに、2次側
コイル用導体25〜27の形状は、それぞれ1次側コイ
ル用導体5〜7と同様のものである。
例について添付図面を参照して説明する。図1に示すよ
うに、絶縁性基板1の表裏面全面にスパッタリング、蒸
着等の薄膜技術を用いてCu又はAg、Ag−Pd等の
導体膜を形成した後、この導体膜の表面にフォトリソグ
ラフ法によって所望の部分にレジスト膜を形成する。次
に、エッチング処理をしてレジスト膜にて保護された部
分を残して導体膜を除去する。その後、レジスト膜を取
り除き、基板1の表面にそれぞれ相互に離れている第1
の1次側コイル用導体5,6,7、コイル用導体5に接
続している1次側入力電極8、1次側出力電極9を形成
し、かつ、基板1の裏面にそれぞれ相互に離れている第
1の2次側コイル用導体25,26,27(図5参
照)、コイル用導体25に接続している2次側入力電極
28、2次側出力電極29を形成する。ここに、2次側
コイル用導体25〜27の形状は、それぞれ1次側コイ
ル用導体5〜7と同様のものである。
【0008】次に、図2に示すように、基板1の表面に
角穴部10a,10bを残してポリイミド又はポリアミ
ドからなる絶縁性樹脂材を印刷等の手段にて塗布した
後、乾燥硬化させて絶縁膜10を形成する。角穴部10
a,10bは第1の1次側コイル用導体5〜7と後述の
第2の1次側コイル用導体12〜14を電気的に接続す
るための接続手段である。1次側コイル用導体5〜7の
それぞれの端部5a,6a,6b,6c,6d,7a,
7b,7cは角穴部10a,10bから露出している。
角穴部10a,10bを残してポリイミド又はポリアミ
ドからなる絶縁性樹脂材を印刷等の手段にて塗布した
後、乾燥硬化させて絶縁膜10を形成する。角穴部10
a,10bは第1の1次側コイル用導体5〜7と後述の
第2の1次側コイル用導体12〜14を電気的に接続す
るための接続手段である。1次側コイル用導体5〜7の
それぞれの端部5a,6a,6b,6c,6d,7a,
7b,7cは角穴部10a,10bから露出している。
【0009】同様にして、基板1の裏面に角穴部を残し
てポリイミド又はポリアミドからなる絶縁性樹脂材を印
刷等の手段にて塗布した後、乾燥硬化させて絶縁膜30
を形成する。角穴部は第1の2次側コイル用導体25〜
27と後述の第2の2次側コイル用導体32〜34を電
気的に接続するための接続手段である。2次側コイル用
導体25〜27のそれぞれの端部は角穴部から露出して
いる。
てポリイミド又はポリアミドからなる絶縁性樹脂材を印
刷等の手段にて塗布した後、乾燥硬化させて絶縁膜30
を形成する。角穴部は第1の2次側コイル用導体25〜
27と後述の第2の2次側コイル用導体32〜34を電
気的に接続するための接続手段である。2次側コイル用
導体25〜27のそれぞれの端部は角穴部から露出して
いる。
【0010】次に、基板1の表裏全面にスパッタリン
グ、蒸着等の薄膜技術を用いてCu又はAg、Ag−P
d等の導体膜を形成した後、第1の1次、2次側コイル
用導体5〜7、25〜27等を形成した方法と同様の方
法により、図3に示すように、第2の1次側コイル用導
体12,13,14、2次側コイル用導体32,33,
34(図5参照)を形成する。ここに、第2のコイル用
導体12〜14,32〜34は、積層方向にそれぞれ第
1のコイル用導体5〜7,25〜27と重ならないよう
に配設されている。1次側コイル及び2次側コイルの浮
遊容量をより少なくするためである。2次側コイル用導
体32〜34の形状は、それぞれ1次側コイル用導体1
2〜14と同様のものである。なお、1次側コイル用導
体の端部6b,6c,7b及び1次側入力電極8、出力
電極9にもレジスト膜を形成しておき、エッチングの際
にエッチング液から端部6b,6c,7bを保護してお
く。同様に、2次側コイル用導体26,27の端部及び
2次側入力電極28、出力電極29にも同じ処理が施さ
れる。
グ、蒸着等の薄膜技術を用いてCu又はAg、Ag−P
d等の導体膜を形成した後、第1の1次、2次側コイル
用導体5〜7、25〜27等を形成した方法と同様の方
法により、図3に示すように、第2の1次側コイル用導
体12,13,14、2次側コイル用導体32,33,
34(図5参照)を形成する。ここに、第2のコイル用
導体12〜14,32〜34は、積層方向にそれぞれ第
1のコイル用導体5〜7,25〜27と重ならないよう
に配設されている。1次側コイル及び2次側コイルの浮
遊容量をより少なくするためである。2次側コイル用導
体32〜34の形状は、それぞれ1次側コイル用導体1
2〜14と同様のものである。なお、1次側コイル用導
体の端部6b,6c,7b及び1次側入力電極8、出力
電極9にもレジスト膜を形成しておき、エッチングの際
にエッチング液から端部6b,6c,7bを保護してお
く。同様に、2次側コイル用導体26,27の端部及び
2次側入力電極28、出力電極29にも同じ処理が施さ
れる。
【0011】コイル用導体5の端部5aは角穴部10b
にてコイル用導体12の端部12aに電気的に接続され
ている。コイル用導体6の端部6a,6dは、角穴部1
0a,10bにてそれぞれコイル用導体12の端部12
b、コイル用導体13の端部13aに電気的に接続され
ている。コイル用導体7の端部7a,7cは、角穴部1
0a,10bにてそれぞれコイル用導体13の端部13
b、コイル用導体14の端部14aに電気的に接続され
ている。即ち、1次側コイル41が、基板1の表面に電
極8−9間に1次側コイル用導体5,12,6,13,
7,14を順に直列に接続した状態で形成されている。
同様にして、2次側コイル42が基板1の裏面に、電極
28−29間に2次側コイル用導体25,32,26,
33,27,34を順に直列に接続した状態で形成され
ている。
にてコイル用導体12の端部12aに電気的に接続され
ている。コイル用導体6の端部6a,6dは、角穴部1
0a,10bにてそれぞれコイル用導体12の端部12
b、コイル用導体13の端部13aに電気的に接続され
ている。コイル用導体7の端部7a,7cは、角穴部1
0a,10bにてそれぞれコイル用導体13の端部13
b、コイル用導体14の端部14aに電気的に接続され
ている。即ち、1次側コイル41が、基板1の表面に電
極8−9間に1次側コイル用導体5,12,6,13,
7,14を順に直列に接続した状態で形成されている。
同様にして、2次側コイル42が基板1の裏面に、電極
28−29間に2次側コイル用導体25,32,26,
33,27,34を順に直列に接続した状態で形成され
ている。
【0012】次に、図4及び図5に示すように、電極
8,9,28,29に接続された取付け電極50,5
1,52,53を基板1の縁部に形成した後、保護膜5
4,55にて基板1の表裏面を被覆する。こうして得ら
れたライントランスは、基板1の表面にはコイル用導体
5〜7、12〜14と絶縁膜10と保護膜54からなる
1次側コイル部2を備え、基板1の裏面にはコイル用導
体25〜27、32〜34と絶縁膜30と保護膜55か
らなる2次側コイル部3を備えた積層構造をしているの
で、従来の太い1次、2次巻線をコアに巻回した構造の
ライントランスと比較して小型化、薄型化できる。
8,9,28,29に接続された取付け電極50,5
1,52,53を基板1の縁部に形成した後、保護膜5
4,55にて基板1の表裏面を被覆する。こうして得ら
れたライントランスは、基板1の表面にはコイル用導体
5〜7、12〜14と絶縁膜10と保護膜54からなる
1次側コイル部2を備え、基板1の裏面にはコイル用導
体25〜27、32〜34と絶縁膜30と保護膜55か
らなる2次側コイル部3を備えた積層構造をしているの
で、従来の太い1次、2次巻線をコアに巻回した構造の
ライントランスと比較して小型化、薄型化できる。
【0013】さらに、1次側コイル41及び2次側コイ
ル42に電流が流れても、絶縁膜10を挟んで隣接する
コイル用導体5〜7と12〜14の間と、絶縁膜30を
挟んで隣接するコイル用導体25〜27と32〜34の
間には電位差は殆どなく、小さな浮遊容量の発生です
む。従って、積層型ライントランスは、高周波域での浮
遊容量による周波数特性の劣化を抑えることができる。
具体的に説明すると、前記製造手順にて作製した巻線回
数が8回のライントランスのインダクタンス値は92.
38mHであり、浮遊容量は0.30pFであった(こ
のときのコイル用導体の線幅は53〜55μm)。これ
に対して、例えば、1次側、2次側コイルを、それぞ
れ、単一の導体からなる第1のコイルパターン層と単一
の導体からなる第2のコイルパターン層を直列に接続し
て構成した積層型ライントランスを作製して比較した。
この結果、本実施例の積層型ライントランスと略同じイ
ンダクタンス値を有するものは、0.70pFの浮遊容
量が発生した。すなわち、本実施例の積層型ライントラ
ンスは、その許容使用周波数を、比較した積層型トラン
スの略2倍にすることができる。
ル42に電流が流れても、絶縁膜10を挟んで隣接する
コイル用導体5〜7と12〜14の間と、絶縁膜30を
挟んで隣接するコイル用導体25〜27と32〜34の
間には電位差は殆どなく、小さな浮遊容量の発生です
む。従って、積層型ライントランスは、高周波域での浮
遊容量による周波数特性の劣化を抑えることができる。
具体的に説明すると、前記製造手順にて作製した巻線回
数が8回のライントランスのインダクタンス値は92.
38mHであり、浮遊容量は0.30pFであった(こ
のときのコイル用導体の線幅は53〜55μm)。これ
に対して、例えば、1次側、2次側コイルを、それぞ
れ、単一の導体からなる第1のコイルパターン層と単一
の導体からなる第2のコイルパターン層を直列に接続し
て構成した積層型ライントランスを作製して比較した。
この結果、本実施例の積層型ライントランスと略同じイ
ンダクタンス値を有するものは、0.70pFの浮遊容
量が発生した。すなわち、本実施例の積層型ライントラ
ンスは、その許容使用周波数を、比較した積層型トラン
スの略2倍にすることができる。
【0014】なお、本発明に係るライントランスは前記
実施例に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で
種々に変形することができる。特に、前記実施例では1
次側コイル及び2次側コイルをそれぞれ二つのコイルパ
ターン層にて構成した場合を説明したが、必ずしもこれ
に限定されるものではなく、三つ以上のコイルパターン
層にて1次側コイル及び2次側コイルを形成し、より高
インダクタンスのライントランスを作製してもよい。
実施例に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で
種々に変形することができる。特に、前記実施例では1
次側コイル及び2次側コイルをそれぞれ二つのコイルパ
ターン層にて構成した場合を説明したが、必ずしもこれ
に限定されるものではなく、三つ以上のコイルパターン
層にて1次側コイル及び2次側コイルを形成し、より高
インダクタンスのライントランスを作製してもよい。
【0015】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、絶縁性基板の表裏面にそれぞれ1次側コイル部
と2次側コイル部を配設し、これら1次側、2次側コイ
ル部がコイルパターン層と絶縁体層からなる積層構造で
あるので、従来の1次、2次巻線をコアに巻回した構造
のライントランスと比較して小型化、薄型化できる。
よれば、絶縁性基板の表裏面にそれぞれ1次側コイル部
と2次側コイル部を配設し、これら1次側、2次側コイ
ル部がコイルパターン層と絶縁体層からなる積層構造で
あるので、従来の1次、2次巻線をコアに巻回した構造
のライントランスと比較して小型化、薄型化できる。
【0016】また、1次側コイル及び2次側コイルにお
いては、それぞれ第1のコイルパターン層及び第2のコ
イルパターン層の導体が絶縁体層に設けた穴を介して交
互に電気的に接続している。従って、1次側、2次側コ
イルに電流が流れても、それぞれ第1のコイルパターン
層と第2のコイルパターン層の間の電位差が小さく、小
さな浮遊容量の発生ですみ、高周波域での浮遊容量によ
る周波数特性の劣化を抑えることができるライントラン
スが得られる。
いては、それぞれ第1のコイルパターン層及び第2のコ
イルパターン層の導体が絶縁体層に設けた穴を介して交
互に電気的に接続している。従って、1次側、2次側コ
イルに電流が流れても、それぞれ第1のコイルパターン
層と第2のコイルパターン層の間の電位差が小さく、小
さな浮遊容量の発生ですみ、高周波域での浮遊容量によ
る周波数特性の劣化を抑えることができるライントラン
スが得られる。
【図1】本発明に係るライントランスの一実施例の製造
手順を説明するための平面図。
手順を説明するための平面図。
【図2】図1に続く製造手順を説明するための平面図。
【図3】図2に続く製造手順を説明するための平面図。
【図4】図3に示されているライントランスの斜視図。
【図5】図4のX−X’の断面図。
1…絶縁性基板 2…1次側コイル部 3…2次側コイル部 5,6,7…1次側コイル用導体(第1の1次側コイル
パターン層の導体) 10…絶縁膜 10a,10b…角穴部 12,13,14…1次側コイル用導体(第2の1次側
コイルパターン層の導体) 25,26,27…2次側コイル用導体(第1の2次側
コイルパターン層の導体) 30…絶縁膜 32,33,34…2次側コイル用導体(第2の2次側
コイルパターン層の導体) 41…1次側コイル 42…2次側コイル
パターン層の導体) 10…絶縁膜 10a,10b…角穴部 12,13,14…1次側コイル用導体(第2の1次側
コイルパターン層の導体) 25,26,27…2次側コイル用導体(第1の2次側
コイルパターン層の導体) 30…絶縁膜 32,33,34…2次側コイル用導体(第2の2次側
コイルパターン層の導体) 41…1次側コイル 42…2次側コイル
Claims (1)
- 【請求項1】 絶縁性基板と、 前記絶縁性基板の一方の面に配設された1次側コイル部
と、 前記絶縁性基板の他方の面に配設された2次側コイル部
とを少なくとも備え、 前記1次側コイル部及び2次側コイル部が、それぞれ、
複数の導体からなる第1のコイルパターン層と、複数の
導体からなる第2のコイルパターン層と、前記第1及び
第2のコイルパターン層に挟まれた絶縁体層とから構成
され、前記第1のコイルパターン層の導体と前記第2の
コイルパターン層の導体が前記絶縁体層に設けた穴を介
して交互に電気的に接続してコイルをなしていること、 を特徴とするライントランス。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4182514A JP2897091B2 (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | ライントランス |
US08/087,287 US5363081A (en) | 1992-07-09 | 1993-07-08 | Line transformer and manufacturing process thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4182514A JP2897091B2 (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | ライントランス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0653052A true JPH0653052A (ja) | 1994-02-25 |
JP2897091B2 JP2897091B2 (ja) | 1999-05-31 |
Family
ID=16119634
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4182514A Expired - Fee Related JP2897091B2 (ja) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | ライントランス |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5363081A (ja) |
JP (1) | JP2897091B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005005595A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Murata Mfg Co Ltd | コイル部品 |
JP2005166791A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Taiyo Yuden Co Ltd | 積層チップコモンモードチョークコイル |
JP2008061236A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Private Ltd | 改善されたガルバニックアイソレータ |
JP2008218121A (ja) * | 2007-03-02 | 2008-09-18 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 信号伝送デバイス |
US7852186B2 (en) | 2006-08-28 | 2010-12-14 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Coil transducer with reduced arcing and improved high voltage breakdown performance characteristics |
JP2010283817A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte Ltd | ガルバニックアイソレータ |
JP2013084856A (ja) * | 2011-10-12 | 2013-05-09 | Tdk Corp | 積層コイル部品 |
JP2013149021A (ja) * | 2012-01-18 | 2013-08-01 | Yokogawa Electric Corp | 計測用アナログフロントエンド回路 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3141562B2 (ja) * | 1992-05-27 | 2001-03-05 | 富士電機株式会社 | 薄膜トランス装置 |
JP3725599B2 (ja) * | 1995-09-07 | 2005-12-14 | 株式会社東芝 | 平面型磁気素子 |
US5736846A (en) * | 1995-10-06 | 1998-04-07 | That Corporation | AC current sensor |
KR100452022B1 (ko) * | 1995-10-31 | 2004-12-14 | 더 휘태커 코포레이션 | 다중층금속중합체구조를이용한알에프변압기 |
US5942965A (en) * | 1996-09-13 | 1999-08-24 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer substrate |
US6342681B1 (en) | 1997-10-15 | 2002-01-29 | Avx Corporation | Surface mount coupler device |
US6588090B1 (en) * | 1999-06-03 | 2003-07-08 | Nikon Corporation | Fabrication method of high precision, thermally stable electromagnetic coil vanes |
JP2002026617A (ja) * | 2000-07-11 | 2002-01-25 | Murata Mfg Co Ltd | 伝送線路 |
US20060091534A1 (en) | 2002-12-13 | 2006-05-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Chip part manufacturing method and chip parts |
EP1816658A4 (en) * | 2004-11-25 | 2010-10-20 | Murata Manufacturing Co | COIL COMPONENT |
CN101253825A (zh) * | 2005-09-30 | 2008-08-27 | 松下电器产业株式会社 | 片状复合电子部件及其制造方法 |
US9105391B2 (en) * | 2006-08-28 | 2015-08-11 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | High voltage hold-off coil transducer |
US7948067B2 (en) * | 2009-06-30 | 2011-05-24 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Coil transducer isolator packages |
US8093983B2 (en) * | 2006-08-28 | 2012-01-10 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Narrowbody coil isolator |
US8427844B2 (en) | 2006-08-28 | 2013-04-23 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Widebody coil isolators |
US8061017B2 (en) * | 2006-08-28 | 2011-11-22 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Methods of making coil transducers |
US9019057B2 (en) * | 2006-08-28 | 2015-04-28 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Galvanic isolators and coil transducers |
US20080278275A1 (en) | 2007-05-10 | 2008-11-13 | Fouquet Julie E | Miniature Transformers Adapted for use in Galvanic Isolators and the Like |
TWI397930B (zh) * | 2007-11-06 | 2013-06-01 | Via Tech Inc | 螺旋電感元件 |
KR100951695B1 (ko) * | 2007-12-24 | 2010-04-07 | (주)페타리 | 아이솔레이터 및 그 제조 방법 |
US8258911B2 (en) | 2008-03-31 | 2012-09-04 | Avago Technologies ECBU IP (Singapor) Pte. Ltd. | Compact power transformer components, devices, systems and methods |
KR101339486B1 (ko) * | 2012-03-29 | 2013-12-10 | 삼성전기주식회사 | 박막 코일 및 이를 구비하는 전자 기기 |
TWI519060B (zh) * | 2013-08-06 | 2016-01-21 | 國立臺灣大學 | 功率混合器 |
CN106531410B (zh) * | 2015-09-15 | 2019-08-27 | 臻绚电子科技(上海)有限公司 | 线圈,电感元件及制备应用于电感元件的线圈的方法 |
KR101973439B1 (ko) * | 2017-09-05 | 2019-04-29 | 삼성전기주식회사 | 코일 부품 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5596605A (en) * | 1979-01-12 | 1980-07-23 | Philips Nv | Flat electric coil |
JPS55110009A (en) * | 1979-02-16 | 1980-08-25 | Tohoku Metal Ind Ltd | Inductance element |
JPH02126610A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-15 | Murata Mfg Co Ltd | チップコイルの製造方法 |
JPH02208909A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | インダクタンス素子およびトランス |
JPH03171705A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-25 | Toshiba Corp | 平面トランス |
JPH045806A (ja) * | 1990-04-23 | 1992-01-09 | Nec Corp | スパイラルインダクタ |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL7900245A (nl) * | 1979-01-12 | 1980-07-15 | Philips Nv | Tweelaags vlakke electrische spoel met aftakking. |
-
1992
- 1992-07-09 JP JP4182514A patent/JP2897091B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-07-08 US US08/087,287 patent/US5363081A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5596605A (en) * | 1979-01-12 | 1980-07-23 | Philips Nv | Flat electric coil |
JPS55110009A (en) * | 1979-02-16 | 1980-08-25 | Tohoku Metal Ind Ltd | Inductance element |
JPH02126610A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-15 | Murata Mfg Co Ltd | チップコイルの製造方法 |
JPH02208909A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | インダクタンス素子およびトランス |
JPH03171705A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-25 | Toshiba Corp | 平面トランス |
JPH045806A (ja) * | 1990-04-23 | 1992-01-09 | Nec Corp | スパイラルインダクタ |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005005595A (ja) * | 2003-06-13 | 2005-01-06 | Murata Mfg Co Ltd | コイル部品 |
JP2005166791A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Taiyo Yuden Co Ltd | 積層チップコモンモードチョークコイル |
JP2008061236A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-13 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Private Ltd | 改善されたガルバニックアイソレータ |
US7791900B2 (en) * | 2006-08-28 | 2010-09-07 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Galvanic isolator |
US7852186B2 (en) | 2006-08-28 | 2010-12-14 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Coil transducer with reduced arcing and improved high voltage breakdown performance characteristics |
JP4654228B2 (ja) * | 2006-08-28 | 2011-03-16 | アバゴ・テクノロジーズ・ジェネラル・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド | 改善されたガルバニックアイソレータ |
JP2008218121A (ja) * | 2007-03-02 | 2008-09-18 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 信号伝送デバイス |
JP2010283817A (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-16 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte Ltd | ガルバニックアイソレータ |
JP2013084856A (ja) * | 2011-10-12 | 2013-05-09 | Tdk Corp | 積層コイル部品 |
JP2013149021A (ja) * | 2012-01-18 | 2013-08-01 | Yokogawa Electric Corp | 計測用アナログフロントエンド回路 |
US9173107B2 (en) | 2012-01-18 | 2015-10-27 | Yokogawa Electric Corporation | Analog front-end circuit for measurement |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2897091B2 (ja) | 1999-05-31 |
US5363081A (en) | 1994-11-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0653052A (ja) | ライントランス | |
JP3601619B2 (ja) | コモンモードチョークコイル | |
KR100466884B1 (ko) | 적층형 코일 부품 및 그 제조방법 | |
GB2260222A (en) | Flat coils | |
WO2013108862A1 (ja) | コイル部品 | |
JP2008098625A (ja) | コモンモードチョークコイル | |
JP2004349562A (ja) | トランス及びトランス用コイル | |
JP2004235709A (ja) | 分布定数型フィルタ素子 | |
US20080061918A1 (en) | Inductive Component Fabrication Process | |
JPH10149929A (ja) | プリントコイル形トランス | |
JP3746188B2 (ja) | 磁気記録再生装置及びフレキシブル基板 | |
JP4197698B2 (ja) | コモンモードフィルタ | |
JP3135941B2 (ja) | 高周波用薄膜トランスおよび高周波用薄膜インダクタ | |
JPH05343245A (ja) | 平面トランス | |
WO2024004985A1 (ja) | 電子部品 | |
JP4287063B2 (ja) | コモンモードチョークコイルの製造方法 | |
JP2002271161A (ja) | 高周波信号分配器 | |
JP2003297633A (ja) | 積層部品 | |
JPH02288310A (ja) | フラットコイル | |
JP2002110423A (ja) | コモンモードチョークコイル | |
JPH0547571A (ja) | コンバータトランス | |
JP3223425B2 (ja) | トランス | |
JP4503756B2 (ja) | コイルボビン式巻鉄心変圧器 | |
JPH07263230A (ja) | 小型変成器 | |
JPH07211549A (ja) | 電磁装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090312 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090312 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100312 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110312 Year of fee payment: 12 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |