JPH0644619B2 - 光電変換装置 - Google Patents
光電変換装置Info
- Publication number
- JPH0644619B2 JPH0644619B2 JP61168286A JP16828686A JPH0644619B2 JP H0644619 B2 JPH0644619 B2 JP H0644619B2 JP 61168286 A JP61168286 A JP 61168286A JP 16828686 A JP16828686 A JP 16828686A JP H0644619 B2 JPH0644619 B2 JP H0644619B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- potential
- base
- electrode region
- region
- mos
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 abstract description 13
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 31
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 206010047571 Visual impairment Diseases 0.000 description 8
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N3/00—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages
- H04N3/10—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical
- H04N3/14—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices
- H04N3/15—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices for picture signal generation
- H04N3/1581—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices for picture signal generation using linear image-sensor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14681—Bipolar transistor imagers
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/60—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
- H04N25/67—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise applied to fixed-pattern noise, e.g. non-uniformity of response
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/701—Line sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/7795—Circuitry for generating timing or clock signals
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N3/00—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages
- H04N3/10—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical
- H04N3/14—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices
- H04N3/15—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices for picture signal generation
- H04N3/1506—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices for picture signal generation with addressing of the image-sensor elements
- H04N3/1512—Scanning details of television systems; Combination thereof with generation of supply voltages by means not exclusively optical-mechanical by means of electrically scanned solid-state devices for picture signal generation with addressing of the image-sensor elements for MOS image-sensors, e.g. MOS-CCD
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Optical Head (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Amplifiers (AREA)
- Facsimile Heads (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本発明はフォトトランジスタを用いた光電変換装置に関
し、特に光電変換特性および残像特性の改善と、固定パ
ターン。ノイズの低減を図った光電変換装置に関する。
し、特に光電変換特性および残像特性の改善と、固定パ
ターン。ノイズの低減を図った光電変換装置に関する。
従来光電変換装置として例えば特開昭60−12579
号公報〜特開昭60−12765号公報に記載されてい
るようなものがある。第13図(A)は、かかる公報に
開示されている光電変換装置の平面図、第13図(B)
は、そのI−I線断面図、第13図(C)は、その等価
回路図である。
号公報〜特開昭60−12765号公報に記載されてい
るようなものがある。第13図(A)は、かかる公報に
開示されている光電変換装置の平面図、第13図(B)
は、そのI−I線断面図、第13図(C)は、その等価
回路図である。
各図において、nシリコン基板101上に光電変換セル
が形成されており、各光電変換セルはSiO2,Si3
N4、又はポリシリコン等より成る素子分離領域102
によって隣接する光電変換セルから電気的に絶縁されて
いる。
が形成されており、各光電変換セルはSiO2,Si3
N4、又はポリシリコン等より成る素子分離領域102
によって隣接する光電変換セルから電気的に絶縁されて
いる。
各光電変換セルは次のような構成を有する。エピタキシ
ャル技術等で形成される不純物濃度の低いn−領域10
3上にはpタイプの不純物をドーピングすることでp領
域104が形成され、p領域104には不純物拡散技術
又はイオン注入技術等によってn+領域105は、各々
バイポーラトランジスタのベースおよびエミツタとして
機能する。
ャル技術等で形成される不純物濃度の低いn−領域10
3上にはpタイプの不純物をドーピングすることでp領
域104が形成され、p領域104には不純物拡散技術
又はイオン注入技術等によってn+領域105は、各々
バイポーラトランジスタのベースおよびエミツタとして
機能する。
このように各領域が形成されたn−領域103上には酸
化膜106が形成され、酸化膜106上に所定の面積を
有するキヤパシタ電極107が形成されている。キヤパ
シタ電極107は酸化膜106を挟んでp領域104と
対向しキヤパシタCoxを形成する。このキヤパシタ電
極107にパルス電圧が印加されることで、浮遊状態に
なされたp領域104の電位が制御される。
化膜106が形成され、酸化膜106上に所定の面積を
有するキヤパシタ電極107が形成されている。キヤパ
シタ電極107は酸化膜106を挟んでp領域104と
対向しキヤパシタCoxを形成する。このキヤパシタ電
極107にパルス電圧が印加されることで、浮遊状態に
なされたp領域104の電位が制御される。
その他に、n+領域105に接続されたエミツタ電極1
08、エミツタ電極108から信号を外部へ読出す配線
109、キヤパシタ電極107に接続された配線11
0、基板101の面に不純物濃度の高いn+領域11
1、およびバイポーラトランジスタのコレクタに電位を
与えるための電極112がそれぞれ形成されている。
08、エミツタ電極108から信号を外部へ読出す配線
109、キヤパシタ電極107に接続された配線11
0、基板101の面に不純物濃度の高いn+領域11
1、およびバイポーラトランジスタのコレクタに電位を
与えるための電極112がそれぞれ形成されている。
次に、基本的な動作を説明する。まず、バイポーラトラ
ンジスタのベースであるp領域104は負電位の初期状
態にあるとする。このp領域104に光113が入射
し、光量に対応したキヤリアがp領域104に蓄積され
る(蓄積動作)。蓄積された電荷によってベース電位は
変化し、その電位変化によってエミツタ・コレクタ間電
流が制御され、浮遊状状態にしたエミツタ電極108か
ら入射光量に対応した電気信号を読出す(読出し動
作)。また、p領域104に蓄積されたキヤリアを除去
するには、エミツタ電極108を接地し、キヤパシタ電
極107にリフレツシユ用正電圧パルスを印加する。こ
の正電圧を印加することでp領域104はn+領域10
5に対して順方向にバイアスされ、蓄積されたキヤリア
が除去される。そしてリフレツシユ用パルスが立下がる
と、p領域104は負電位の初期状態に復帰する(リフ
レツシユ動作)。以後上記の蓄積、読出し、リフレツシ
ユという各動作が繰り返される。
ンジスタのベースであるp領域104は負電位の初期状
態にあるとする。このp領域104に光113が入射
し、光量に対応したキヤリアがp領域104に蓄積され
る(蓄積動作)。蓄積された電荷によってベース電位は
変化し、その電位変化によってエミツタ・コレクタ間電
流が制御され、浮遊状状態にしたエミツタ電極108か
ら入射光量に対応した電気信号を読出す(読出し動
作)。また、p領域104に蓄積されたキヤリアを除去
するには、エミツタ電極108を接地し、キヤパシタ電
極107にリフレツシユ用正電圧パルスを印加する。こ
の正電圧を印加することでp領域104はn+領域10
5に対して順方向にバイアスされ、蓄積されたキヤリア
が除去される。そしてリフレツシユ用パルスが立下がる
と、p領域104は負電位の初期状態に復帰する(リフ
レツシユ動作)。以後上記の蓄積、読出し、リフレツシ
ユという各動作が繰り返される。
要するに、ここで提案されている方式は、光入射により
発生したキヤリアを、ベースであるp領域104に蓄積
し、その蓄積電荷量によってエミツタ電極108とコレ
クタ電極112との間に流れる電流をコントロールする
ものである。したがって、蓄積されたキヤリアを、各セ
ルの増幅機能により電荷増幅してから読出すわけであ
り、高出力、高感度、さらに低雑音を達成できる。
発生したキヤリアを、ベースであるp領域104に蓄積
し、その蓄積電荷量によってエミツタ電極108とコレ
クタ電極112との間に流れる電流をコントロールする
ものである。したがって、蓄積されたキヤリアを、各セ
ルの増幅機能により電荷増幅してから読出すわけであ
り、高出力、高感度、さらに低雑音を達成できる。
また、光励起によってベースに蓄積されたキヤリアによ
りベースに発生する電位Vpは、Q/Cで与えられる。
ここでQはベースに蓄積されたキヤリアの電荷量、Cは
ベースに接続されている容量である。この式により明白
な様に、高集積化された場合、セル・サイズの縮小と共
にQもCも小さくなることになり、光励起により発生す
る電位Vpは、ほぼ一定に保たれることがわかる。した
がって、ここで提案されている方式は、将来の高解像度
化に対しても有利なものであると言える。
りベースに発生する電位Vpは、Q/Cで与えられる。
ここでQはベースに蓄積されたキヤリアの電荷量、Cは
ベースに接続されている容量である。この式により明白
な様に、高集積化された場合、セル・サイズの縮小と共
にQもCも小さくなることになり、光励起により発生す
る電位Vpは、ほぼ一定に保たれることがわかる。した
がって、ここで提案されている方式は、将来の高解像度
化に対しても有利なものであると言える。
ところで、リフレツシユ動作におけるリフレツシユ用正
電圧がキヤパシタ電極107に印加されている間のベー
ス電位VBの変化は次式から求めることができる。
電圧がキヤパシタ電極107に印加されている間のベー
ス電位VBの変化は次式から求めることができる。
ここで、Cbeはベース・エミツタ間容量、Cbcはベ
ース・コレクタ間容量、IBはベース電流を各々表わ
す。
ース・コレクタ間容量、IBはベース電流を各々表わ
す。
第14図は、リフレツシユ用正電圧が印加されている間
のベース電位VBの時間変化を示すグラフである。
のベース電位VBの時間変化を示すグラフである。
同グラフにおいて、リフレツシユ用正電圧が印加された
時点の初期ベース電位は、蓄積電圧VPの大きさによっ
て異なる。すなわち、初期状態で負電位であったベース
電位が蓄積動作によって蓄積電圧Vpだけ正方向に変化
した状態において、リフレツシユ用正電圧がキヤパシタ
電極107に印加されると、初期ベース電位はその蓄積
電圧Vpだけ高くなるからである。
時点の初期ベース電位は、蓄積電圧VPの大きさによっ
て異なる。すなわち、初期状態で負電位であったベース
電位が蓄積動作によって蓄積電圧Vpだけ正方向に変化
した状態において、リフレツシユ用正電圧がキヤパシタ
電極107に印加されると、初期ベース電位はその蓄積
電圧Vpだけ高くなるからである。
また、同グラフに示すように、初期ベース電位の大きさ
によって初期ベース電位が維持される時間は異なるが、
その時間経過後は初期ベース電位に関係なくベース電位
VBは一律に低下する。したがってリフレツシユ時間t
が十分長ければ、蓄積電圧Vpの大小に関係なくベース
電位VBをほぼ0Vにすることができ、リフレツシユ用
パルスが立下がった時点でベース電位VBを初期状態の
所定の負電位に復帰させることができる。
によって初期ベース電位が維持される時間は異なるが、
その時間経過後は初期ベース電位に関係なくベース電位
VBは一律に低下する。したがってリフレツシユ時間t
が十分長ければ、蓄積電圧Vpの大小に関係なくベース
電位VBをほぼ0Vにすることができ、リフレツシユ用
パルスが立下がった時点でベース電位VBを初期状態の
所定の負電位に復帰させることができる。
しかしながら、実際は高速動作を達成するためには、リ
フレツシユ時間は限られるため、所定時間t=t0と
し、ベース電位VBがVKとなった時点でリフレツシユ
動作を終了している。このようにベース電位VBに残留
電位が存在しても、リフレツシユ時間t=t0でベース
電位VBが常に一定のVKであれば、リフレツシユ用パ
ルスが立下がった時点でベース電位VBを一定の負電位
に復帰させることができ、その負電位を初期状態とする
ことができる。
フレツシユ時間は限られるため、所定時間t=t0と
し、ベース電位VBがVKとなった時点でリフレツシユ
動作を終了している。このようにベース電位VBに残留
電位が存在しても、リフレツシユ時間t=t0でベース
電位VBが常に一定のVKであれば、リフレツシユ用パ
ルスが立下がった時点でベース電位VBを一定の負電位
に復帰させることができ、その負電位を初期状態とする
ことができる。
しかしながら、従来の光電変換装置の方法では、リフレ
ツシユ動作が繰り返されると、残留電位VKが徐々に低
下してしまい、光電変換特性非直線現象及び残留現象が
生起するという問題点を有していた。これを説明する。
ツシユ動作が繰り返されると、残留電位VKが徐々に低
下してしまい、光電変換特性非直線現象及び残留現象が
生起するという問題点を有していた。これを説明する。
第4図において、例えば、高照度セルの初期ベース電位
0.8V,低照度セルの初期ベース電位が0.4Vであ
ったとする。この場合高照度セルのリフレツシユ動作が
行なわれてからのベース電位VBは所定の残留電位VK
となるが、低照度セルのベース電位VBは残留電位V1
となり、VKより若干低下する。この状態でリフレツシ
ユパルスが立下がると、低照度セルのベース電位VBは
初期電位である負電位より低下し、この初期電圧よりも
更に低い電位から蓄積、読出し動作を行うことになる。
したがって、低照度状態でリフレツシユ動作が繰返され
ると、ベース電位の残留電位は徐々に低下し、この状態
で高照度状態となっても入射光量に対応した出力より低
い出力しか得ることができない。すなわち、光電変換特
性が非直線となる現象、及び残像現象が現われる。
0.8V,低照度セルの初期ベース電位が0.4Vであ
ったとする。この場合高照度セルのリフレツシユ動作が
行なわれてからのベース電位VBは所定の残留電位VK
となるが、低照度セルのベース電位VBは残留電位V1
となり、VKより若干低下する。この状態でリフレツシ
ユパルスが立下がると、低照度セルのベース電位VBは
初期電位である負電位より低下し、この初期電圧よりも
更に低い電位から蓄積、読出し動作を行うことになる。
したがって、低照度状態でリフレツシユ動作が繰返され
ると、ベース電位の残留電位は徐々に低下し、この状態
で高照度状態となっても入射光量に対応した出力より低
い出力しか得ることができない。すなわち、光電変換特
性が非直線となる現象、及び残像現象が現われる。
この原因としては、リフレツシユ動作を繰返すことで、
ベース領域中のキヤリア(正孔)が再結合し不足するこ
とが考えられる。したがって不足したキヤリア(正孔)
を補うことができない低照度状態が続くと光電変換特性
の非直線現象及び残像現象が顕著となるわけである。
ベース領域中のキヤリア(正孔)が再結合し不足するこ
とが考えられる。したがって不足したキヤリア(正孔)
を補うことができない低照度状態が続くと光電変換特性
の非直線現象及び残像現象が顕著となるわけである。
また、このような問題を解決する為にリフレツシユ動作
を行う際にベース領域に第13図(C)に点線で示した
MOSトランジスタ113を介して第4図に示した初期
ベース電位を発生する端子を接続し、該MOSトランジ
スタ113をON状態とすることによって、ベース領域
のキヤリアを消滅させる方法も本出願人により提案され
ている。
を行う際にベース領域に第13図(C)に点線で示した
MOSトランジスタ113を介して第4図に示した初期
ベース電位を発生する端子を接続し、該MOSトランジ
スタ113をON状態とすることによって、ベース領域
のキヤリアを消滅させる方法も本出願人により提案され
ている。
即ち2つの主電極部と該2つの主電極部間に設けられた
制御電極部とから成る半導体領域と、前記制御電極部の
電位を、浮遊状態として制御するためのキヤパシタを有
し、該キヤパシタを介して浮遊状態にした前記制御電極
部の電位を制御することによって該半導体領域に入射す
る電磁波によって発生したキヤリアを蓄積する光電変換
装置において、前記キヤパシタを介して前記制御電極部
の電位を制御することにより前記キヤリアを消滅させる
制御手段と、該制御手段のキヤリアを消滅させる制御手
段と、該制御手段のキヤリア消滅動作の直前に前記制御
電極部に接続されたスイツチにより前記制御電極部の電
位を一定期間定電位に保つ手段とを具備したことを特徴
とするものが提案されている。
制御電極部とから成る半導体領域と、前記制御電極部の
電位を、浮遊状態として制御するためのキヤパシタを有
し、該キヤパシタを介して浮遊状態にした前記制御電極
部の電位を制御することによって該半導体領域に入射す
る電磁波によって発生したキヤリアを蓄積する光電変換
装置において、前記キヤパシタを介して前記制御電極部
の電位を制御することにより前記キヤリアを消滅させる
制御手段と、該制御手段のキヤリアを消滅させる制御手
段と、該制御手段のキヤリア消滅動作の直前に前記制御
電極部に接続されたスイツチにより前記制御電極部の電
位を一定期間定電位に保つ手段とを具備したことを特徴
とするものが提案されている。
上記において制御電極部に、該制御電極部を一定電位に
導く手段を設け、上記キヤリアの消滅動作開始直前に制
御電極領域を一定の電位にしておくことによりキヤリア
の消滅動作終了時の制御電極部の電位を所望の値にする
ことができる。即ち、従来のような光電変換特性の非直
線性および残像現象が改善される。
導く手段を設け、上記キヤリアの消滅動作開始直前に制
御電極領域を一定の電位にしておくことによりキヤリア
の消滅動作終了時の制御電極部の電位を所望の値にする
ことができる。即ち、従来のような光電変換特性の非直
線性および残像現象が改善される。
しかしながら、前記光電変換装置は光電変換特性非直線
性および残像特性の改善に著しく効果があるが、制御電
極領域上に設けられたキヤパシタによる該制御電極領域
の電位制御のため該キヤパシタ自体に起因する問題点が
依然残ることになる。
性および残像特性の改善に著しく効果があるが、制御電
極領域上に設けられたキヤパシタによる該制御電極領域
の電位制御のため該キヤパシタ自体に起因する問題点が
依然残ることになる。
即ち、第一に制御電極領域に接続される容量Cがキヤパ
シタCoxの分だけ大きいので制御電極領域に発生する
電位Vpを低下させる。第二には、複数個のフオトトラ
ンジスタアレイを構成する場合、キヤパシタCox形成
時に導入される寸法的なバラツキが光発生電位Vpのバ
ラツキを招くことになる。
シタCoxの分だけ大きいので制御電極領域に発生する
電位Vpを低下させる。第二には、複数個のフオトトラ
ンジスタアレイを構成する場合、キヤパシタCox形成
時に導入される寸法的なバラツキが光発生電位Vpのバ
ラツキを招くことになる。
即ちリフレツシユ動作を行う場合リフレツシユ動作後の
ベース領域の電位はキヤパシタCox,バイポーラトラ
ンジスタのベースエミツタ間の容量Cbe,ベースコレ
クタ間の容量Cbc及びMOSトランジスタ113のゲ
ートドレイン間の容量Cdgによって決まる定数K に依存する。したがってかかるCox等の容量が素子に
よってバラツク場合にはリフレツシユ動作後のベース領
域の電位が大きくバラつくことになり、該光電変換セル
を複数並べて用いた場合には、かかるバラツキが固定パ
ターンノイズとして表われるという点で改善の余地があ
った。
ベース領域の電位はキヤパシタCox,バイポーラトラ
ンジスタのベースエミツタ間の容量Cbe,ベースコレ
クタ間の容量Cbc及びMOSトランジスタ113のゲ
ートドレイン間の容量Cdgによって決まる定数K に依存する。したがってかかるCox等の容量が素子に
よってバラツク場合にはリフレツシユ動作後のベース領
域の電位が大きくバラつくことになり、該光電変換セル
を複数並べて用いた場合には、かかるバラツキが固定パ
ターンノイズとして表われるという点で改善の余地があ
った。
更に、第三には、キヤパシタCoxの形成は通常MOS
構造となるが、一般的にSiO2とSiの界面の状態は
制御が難しく、また該界面の状態は電界により変化し、
この状態の変化はもう一つのバラツキの発生要因ともな
り得る。
構造となるが、一般的にSiO2とSiの界面の状態は
制御が難しく、また該界面の状態は電界により変化し、
この状態の変化はもう一つのバラツキの発生要因ともな
り得る。
本発明はこのような問題を解決し得る光電変換装置を提
供することを目的としている。
供することを目的としている。
前記従来の問題点を解決するために本発明の光電変換装
置は、第1導電型の第1主電極領域と、 前記第1導電型と同導電型の第2主電極領域と、 電磁波によって発生したキャリアの蓄積部となる第2導
電型の制御電極領域とで形成されるフォトトランジスタ
と、 前記制御電極領域を選択的に第1の電位と浮遊状態にす
る第1の手段と、 前記第1主電極領域を選択的に第2の電位と浮遊状態に
する第2の手段とを具備し、 前記制御電極領域のキャリアの消去を行うために、第1
の期間に制御電極領域を第1の電位に保った状態で前記
第1の主電極領域を第2の電位または浮遊状態に保ち、
続く第2の期間に前記制御電極領域を浮遊状態に保った
状態で前記第1の主電極領域を第2の電位に保っ制御手
段と、 を有することを特徴とする。
置は、第1導電型の第1主電極領域と、 前記第1導電型と同導電型の第2主電極領域と、 電磁波によって発生したキャリアの蓄積部となる第2導
電型の制御電極領域とで形成されるフォトトランジスタ
と、 前記制御電極領域を選択的に第1の電位と浮遊状態にす
る第1の手段と、 前記第1主電極領域を選択的に第2の電位と浮遊状態に
する第2の手段とを具備し、 前記制御電極領域のキャリアの消去を行うために、第1
の期間に制御電極領域を第1の電位に保った状態で前記
第1の主電極領域を第2の電位または浮遊状態に保ち、
続く第2の期間に前記制御電極領域を浮遊状態に保った
状態で前記第1の主電極領域を第2の電位に保っ制御手
段と、 を有することを特徴とする。
上記において、本発明の実施例のフオトトランジスタは
制御電極領域に接続されたスイッチと該スイツチを介し
て接続される電圧源と、第二主電極領域に接続されたス
イツチと該スイツチを介して接地線もしくは電圧源とを
含み、これらスイツチによりベースおよびエミツタが制
御される。即ち、ベース電位を制御するためのキヤパシ
タを含まず出力の向上、バラツキの低減等の効果が得ら
れる。
制御電極領域に接続されたスイッチと該スイツチを介し
て接続される電圧源と、第二主電極領域に接続されたス
イツチと該スイツチを介して接地線もしくは電圧源とを
含み、これらスイツチによりベースおよびエミツタが制
御される。即ち、ベース電位を制御するためのキヤパシ
タを含まず出力の向上、バラツキの低減等の効果が得ら
れる。
以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
第1図(A)は本発明よる光電変換装置の一実施例の等
価回路図である。
価回路図である。
第1図(A)において、NPN型バイポーラトランジス
タ1のPベース領域3がPチヤネルMOSトランジスタ
(以下MOS tr)5のドレインに接続されている。
タ1のPベース領域3がPチヤネルMOSトランジスタ
(以下MOS tr)5のドレインに接続されている。
次に、上記構成を有する本実施例の動作を説明する。
まず、蓄積動作において、Pベース領域3は正電位の初
期の浮遊状態にあり、エミツタ電極4はゼロ電位の浮遊
状態に、各々設定されている。なおクレクタ電極2は以
後正電位に保持される。また、PチヤンネルMOS t
r5のゲート電極6は正電位にあり、PチヤネルMOS
trは非導通状態になるように設定されている。この
状態で光が入射し、光量に対応したキヤリア(ここでは
正孔)がPベース領域3に蓄積される。
期の浮遊状態にあり、エミツタ電極4はゼロ電位の浮遊
状態に、各々設定されている。なおクレクタ電極2は以
後正電位に保持される。また、PチヤンネルMOS t
r5のゲート電極6は正電位にあり、PチヤネルMOS
trは非導通状態になるように設定されている。この
状態で光が入射し、光量に対応したキヤリア(ここでは
正孔)がPベース領域3に蓄積される。
本実施例では読出し動作は蓄積動作と同時に進行しPベ
ース領域3に蓄積されたキヤリアに応じた電気信号が浮
遊状態になされたエミツタ電極4へ読出される。
ース領域3に蓄積されたキヤリアに応じた電気信号が浮
遊状態になされたエミツタ電極4へ読出される。
次にキヤリアの消滅動作において、エミツタ電極4は浮
遊状態、またはエミツタ電極4に接続されたMOS t
r8を介して接地線を含む定電圧源10に接続された状
態になし、PチヤネルMOS tr5のソース電極7は
適当な一定電位例えば2Vに設定される。そしてPチヤ
ネルMOS tr5のゲート電極6に負のパルス(第2
図のφRES)が印加されると、暗状態または入射光量
が小さい状態でPベース領域3の電位がソース電極7の
電位よりも低い電位にあった場合には、Pベース領域3
中に正孔が注入されたPベース領域3の電位はソース電
極7に接続された電圧源の値、例えば2Vになる。第2
図のVBがPベース領域3の電位を示す。VBGは電圧
源の値を示す。また入射光量が大きい状態でPベース領
域3の電位がソース電極7の電位より高い電位にあった
場合には、Pベース領域3中に蓄積された正孔の一部が
消去され、Pベース領域3の電位はソース電極7の電
位、例えば2Vと等しくなる。このときに設定されるソ
ース電極7に接続された電圧源の電位は、次のキヤリア
消滅動作における該キヤリア消滅動作開始時のPベース
領域3の電位が暗状態においても該キヤリア消滅動作終
了時の残留電位VKよりも十分高くなるように設定され
る。この状態にある期間を第一の期間と呼ぶ。(第2図
のT1の時間)。
遊状態、またはエミツタ電極4に接続されたMOS t
r8を介して接地線を含む定電圧源10に接続された状
態になし、PチヤネルMOS tr5のソース電極7は
適当な一定電位例えば2Vに設定される。そしてPチヤ
ネルMOS tr5のゲート電極6に負のパルス(第2
図のφRES)が印加されると、暗状態または入射光量
が小さい状態でPベース領域3の電位がソース電極7の
電位よりも低い電位にあった場合には、Pベース領域3
中に正孔が注入されたPベース領域3の電位はソース電
極7に接続された電圧源の値、例えば2Vになる。第2
図のVBがPベース領域3の電位を示す。VBGは電圧
源の値を示す。また入射光量が大きい状態でPベース領
域3の電位がソース電極7の電位より高い電位にあった
場合には、Pベース領域3中に蓄積された正孔の一部が
消去され、Pベース領域3の電位はソース電極7の電
位、例えば2Vと等しくなる。このときに設定されるソ
ース電極7に接続された電圧源の電位は、次のキヤリア
消滅動作における該キヤリア消滅動作開始時のPベース
領域3の電位が暗状態においても該キヤリア消滅動作終
了時の残留電位VKよりも十分高くなるように設定され
る。この状態にある期間を第一の期間と呼ぶ。(第2図
のT1の時間)。
次に、キヤリア消滅動作において、エミツタ電極4は該
エミツタ電極に接続されたMOS tr8を介して、前
記ソース電極7に接続された電圧源の電位より十分低い
電位の電圧源か接地線に接続され、PチヤネルMOS
tr5のゲート電極6は正電位に設定されPチヤネルM
OS tr5非導通状態となるように設定される。エミ
ツタ電極に接続されたMOS tr8を導通状態にして
おく期間を第二の期間と呼ぶ。(第2図のT2またはT
2′の時間)。第二の期間において、Pベース領域3に
蓄積された正孔は、エミツタ電極4からPベース領域3
に注入される電子と再結合して除去される。但し、Pベ
ース領域3の電位は、暗状態においても、前記した第一
の期間において十分高く設定されており、第二の期間の
初期ベース電位は照度にかかわらず前記残留電位VKよ
り十分高くなっている。したがって第二の期間T2が経
過した時点でPベース領域3の電位は照度の高低に関係
なく一定電位VKとなる。この後で、エミツタ電極4に
接続されたMOS tr8は非導通に導かれ、エミツタ
電極4は浮遊状態となり、引続き前記蓄積動作、読出し
動作へ状態は移行する。(第2図参照) このようにPベース領域3の電位を一定電位とする第一
の期間を設けることによって、第二の期間終了後のPベ
ース領域3の電位を一定とすることができ、低照度状態
での光電変換特性の非直線性および残像現象を完全に防
止することができる。更に、従来例のようにキヤパシタ
による制御を全く行なわないため、キヤパシタに起因す
る出力電位の低下、バラツキの発生はあり得ない。
エミツタ電極に接続されたMOS tr8を介して、前
記ソース電極7に接続された電圧源の電位より十分低い
電位の電圧源か接地線に接続され、PチヤネルMOS
tr5のゲート電極6は正電位に設定されPチヤネルM
OS tr5非導通状態となるように設定される。エミ
ツタ電極に接続されたMOS tr8を導通状態にして
おく期間を第二の期間と呼ぶ。(第2図のT2またはT
2′の時間)。第二の期間において、Pベース領域3に
蓄積された正孔は、エミツタ電極4からPベース領域3
に注入される電子と再結合して除去される。但し、Pベ
ース領域3の電位は、暗状態においても、前記した第一
の期間において十分高く設定されており、第二の期間の
初期ベース電位は照度にかかわらず前記残留電位VKよ
り十分高くなっている。したがって第二の期間T2が経
過した時点でPベース領域3の電位は照度の高低に関係
なく一定電位VKとなる。この後で、エミツタ電極4に
接続されたMOS tr8は非導通に導かれ、エミツタ
電極4は浮遊状態となり、引続き前記蓄積動作、読出し
動作へ状態は移行する。(第2図参照) このようにPベース領域3の電位を一定電位とする第一
の期間を設けることによって、第二の期間終了後のPベ
ース領域3の電位を一定とすることができ、低照度状態
での光電変換特性の非直線性および残像現象を完全に防
止することができる。更に、従来例のようにキヤパシタ
による制御を全く行なわないため、キヤパシタに起因す
る出力電位の低下、バラツキの発生はあり得ない。
また本実施例ではバイポーラトランジスタをNPN型で
説明したがもちろんPNP型でも良い。PNP型とした
場合は前記正孔を電子とし、前記電子を正孔と置換えれ
ば良い。この時の端子電圧の符号は正負逆転する。また
本実施例においてはバイポーラトランジスタを用いたが
他の半導体例えばFET,SIT等を用いてもよいのは
勿論である。
説明したがもちろんPNP型でも良い。PNP型とした
場合は前記正孔を電子とし、前記電子を正孔と置換えれ
ば良い。この時の端子電圧の符号は正負逆転する。また
本実施例においてはバイポーラトランジスタを用いたが
他の半導体例えばFET,SIT等を用いてもよいのは
勿論である。
またベース領域に接続されるMOSスイツチはPチヤネ
ル型でもNチヤネル型でも良い。第1図(B)にベース
領域に接続されるMOS trをNチヤネル型とした第
2実施例を示す。更に、第1図(C)にSIT型のフオ
トトランジスタを用いた第3実施例を示す。
ル型でもNチヤネル型でも良い。第1図(B)にベース
領域に接続されるMOS trをNチヤネル型とした第
2実施例を示す。更に、第1図(C)にSIT型のフオ
トトランジスタを用いた第3実施例を示す。
次に第3図は本発明の第4実施例を示す図である。本実
施例は第1図(A)に示した光電変換セルを複数個ライ
ン状に配列したものであり各バイポーラ・トランジスタ
1のベースに接続されたMOS trのゲートは端子7
0に共通接続されておりパルスφRESが入力される。
又MOS trのソース端子72に共通接続され電位V
BGが与えられる。
施例は第1図(A)に示した光電変換セルを複数個ライ
ン状に配列したものであり各バイポーラ・トランジスタ
1のベースに接続されたMOS trのゲートは端子7
0に共通接続されておりパルスφRESが入力される。
又MOS trのソース端子72に共通接続され電位V
BGが与えられる。
又、各バイポーラ・トランジスタ1のエミツタに接続さ
れたMOS tr8のゲートは端子71に共通接続され
ており、この端子71にはパルスφVSRが入力され
る。
れたMOS tr8のゲートは端子71に共通接続され
ており、この端子71にはパルスφVSRが入力され
る。
又、上記トランジスタ1のエミツタはMOS tr11
を介して夫々遮光されたキヤパシタCTに接続されてお
り、各キヤパシタCTの電荷は夫々MOS tr12を
介して出力アンプ15に入される。アンプ15の出力信
号は端子76を介してVoutとして出力される。
を介して夫々遮光されたキヤパシタCTに接続されてお
り、各キヤパシタCTの電荷は夫々MOS tr12を
介して出力アンプ15に入される。アンプ15の出力信
号は端子76を介してVoutとして出力される。
又、MOS tr12はシフトレジスタ13により順次
ONされる。シフトレジスタ13は端子79より入力さ
れるシフトパルスφSHによりハイレベルの信号端の位
置が順次シフトしていくよう構成されている。
ONされる。シフトレジスタ13は端子79より入力さ
れるシフトパルスφSHによりハイレベルの信号端の位
置が順次シフトしていくよう構成されている。
MOS tr11のゲートは端子73に共通接続され、
この端子にはパルスφTが入力される。又アンプ15の
入力はMOS tr14を介して端子74に接続されて
おり、端子74には一定電位VBHが供給されている。
この端子にはパルスφTが入力される。又アンプ15の
入力はMOS tr14を介して端子74に接続されて
おり、端子74には一定電位VBHが供給されている。
又、MOS tr14のゲートには端子75からパルス
φHRSが供給される。
φHRSが供給される。
又、77はクロツクドライバーであり、発振器78のク
ロツク信号に応じて所定のタイミングでパルスφT,φ
RES,φVRS,φHRS,φSH及び定電位
VBG,VBHを端子73′,70′,71′,7
5′,79′,72′,74′に出力する。
ロツク信号に応じて所定のタイミングでパルスφT,φ
RES,φVRS,φHRS,φSH及び定電位
VBG,VBHを端子73′,70′,71′,7
5′,79′,72′,74′に出力する。
尚、端子70〜75,79と端子70′〜75′,7
9′とは互いに一対一で接続されている。
9′とは互いに一対一で接続されている。
第4図はクロツクドライバー77から出力される各パル
スのタイミング例を示すタイミングチヤートである。
スのタイミング例を示すタイミングチヤートである。
以下第4図示タイミングチヤートを参照しながら第3図
示構成の動作につき説明する。
示構成の動作につき説明する。
尚、第4図中φT(A),φT(B)は夫々本発明に係
る読み出し方法の異なる実施例のタイミングを示すもの
である。
る読み出し方法の異なる実施例のタイミングを示すもの
である。
先ずφT(A)の実施例につき説明する。時刻T1でφ
T及びφVRSをハイレベルとした後で時刻t2にφ
RESをハイレベルとすることによりすべてのMOSt
r5がONし、各トランジスタ1のベース電位VBGを
印加しベースの残留電位がVBSより小さければトラン
ジスタ1のベースにホールを注入し、VBGより大きけ
れば余分なキヤリアを再結合させてベース電位をVBG
とする。
T及びφVRSをハイレベルとした後で時刻t2にφ
RESをハイレベルとすることによりすべてのMOSt
r5がONし、各トランジスタ1のベース電位VBGを
印加しベースの残留電位がVBSより小さければトラン
ジスタ1のベースにホールを注入し、VBGより大きけ
れば余分なキヤリアを再結合させてベース電位をVBG
とする。
又、この間φTがハイレベルであるからキヤパシタCT
内の電荷もMOS tr8を介して除去される。次に時
刻t3でφRESが立下がると、φVRSが未だハイレ
ベルであるからベースに蓄積されたキヤリアは徐々に再
結合して消滅していく。このとき、前述の如くベース電
位がVBGに予め設定されているので、時刻t2以前に
ベースに残っていたキヤリアの多少に拘らず、時刻t4
においてベースに残るキヤリアは常にどのトランジスタ
についても等しくなる。
内の電荷もMOS tr8を介して除去される。次に時
刻t3でφRESが立下がると、φVRSが未だハイレ
ベルであるからベースに蓄積されたキヤリアは徐々に再
結合して消滅していく。このとき、前述の如くベース電
位がVBGに予め設定されているので、時刻t2以前に
ベースに残っていたキヤリアの多少に拘らず、時刻t4
においてベースに残るキヤリアは常にどのトランジスタ
についても等しくなる。
次に時刻t4にφVRSが立下がると、トランジスタ1
のエミツタはMOS tr11を介してキヤパシタCT
に接続されているので時刻t6でφTが立下がるまでベ
ースで光励起されたキヤリアはキャパシタCTに徐々に
蓄積されていく。
のエミツタはMOS tr11を介してキヤパシタCT
に接続されているので時刻t6でφTが立下がるまでベ
ースで光励起されたキヤリアはキャパシタCTに徐々に
蓄積されていく。
次に時刻t6でφTが立下がると各トランジスタで光電
変換された情報は夫々に接続されたキヤパシタCTに蓄
積された記憶されたことになり、以降の光電変換情報は
キヤパシタCTには入らなくなる。
変換された情報は夫々に接続されたキヤパシタCTに蓄
積された記憶されたことになり、以降の光電変換情報は
キヤパシタCTには入らなくなる。
この後時刻t7で先ずφHRSを1パルス与えることに
よりMOS tr14をONして出力ラインLOTの浮
遊容量に残っていた電荷をグランドに流し、次いで時刻
t8でφSHを1パルス与えることによりシフトレジス
タ13による各トランジスタ12の走査を開始する。
又、トランジスタ12がONするとキヤパシタCTに蓄
積された電荷はアンプ15を介して端子76にされる。
また、このようにして所定の1つのトランジスタ12が
ONしてそのトランジスタ12に接続されたキヤパシタ
CTの電荷が読み出されると、その直後にφHRSによ
りライン20がクリアされる、という動作が繰り返さ
れ、時刻t4〜t6の間に光電変換された信号を順次読
み出すことができる。
よりMOS tr14をONして出力ラインLOTの浮
遊容量に残っていた電荷をグランドに流し、次いで時刻
t8でφSHを1パルス与えることによりシフトレジス
タ13による各トランジスタ12の走査を開始する。
又、トランジスタ12がONするとキヤパシタCTに蓄
積された電荷はアンプ15を介して端子76にされる。
また、このようにして所定の1つのトランジスタ12が
ONしてそのトランジスタ12に接続されたキヤパシタ
CTの電荷が読み出されると、その直後にφHRSによ
りライン20がクリアされる、という動作が繰り返さ
れ、時刻t4〜t6の間に光電変換された信号を順次読
み出すことができる。
尚、全トランジスタ1の信号の読み出しが終了すると、
再びt1〜t6のリフレツシユ動作と蓄積動作を行な
い、その後t7以降の読み出し動作を行なう。このよう
にリフレツシユ動作、蓄積動作、読み出し動作をこの順
番に繰り返す。
再びt1〜t6のリフレツシユ動作と蓄積動作を行な
い、その後t7以降の読み出し動作を行なう。このよう
にリフレツシユ動作、蓄積動作、読み出し動作をこの順
番に繰り返す。
尚、φT(B)のタイミングは、以上説明したφ
T(A)のタイミングを更に改良したものであり、時刻
t4〜t5にかけてφTをローレベルとしたものであ
る。これによりトランジスタ1のベースで光励起により
発生したキヤリアはキヤパシタCTにおいて蓄積される
のではなく、トランジスタ1のベースにおいて蓄積され
る。又、時刻t5〜t6のφT(B)のパルスによりベ
ースに蓄積されたキヤリアに応じた信号がキヤパシCT
に移される。この場合実験によればφT(A)による駆
動方法に比べて出力が20〜30%向上し、感度のバラ
ツキも大巾に軽減することが確かめられた。
T(A)のタイミングを更に改良したものであり、時刻
t4〜t5にかけてφTをローレベルとしたものであ
る。これによりトランジスタ1のベースで光励起により
発生したキヤリアはキヤパシタCTにおいて蓄積される
のではなく、トランジスタ1のベースにおいて蓄積され
る。又、時刻t5〜t6のφT(B)のパルスによりベ
ースに蓄積されたキヤリアに応じた信号がキヤパシCT
に移される。この場合実験によればφT(A)による駆
動方法に比べて出力が20〜30%向上し、感度のバラ
ツキも大巾に軽減することが確かめられた。
又、φVRSは時刻t1〜t3の間ハイレベルとしてい
るが、このt1〜t3の間ローレベルであっても良く、
その方が時刻t1〜t3にかけてトランジスタ1のベー
スエミツタ間に流れる電流を遮断でき、電源のロスを防
ぐ効果を有する。
るが、このt1〜t3の間ローレベルであっても良く、
その方が時刻t1〜t3にかけてトランジスタ1のベー
スエミツタ間に流れる電流を遮断でき、電源のロスを防
ぐ効果を有する。
次に第5図は本発明の第5実施例を示す図でラインセン
サ型の光電変換装置の構成例を示す。
サ型の光電変換装置の構成例を示す。
本実施例と第3図示の実施例との違いは第3図示の実施
例はライン状の光電変換セル全体に一括してφRES,
φVRS,φTを供給してライン全体のリフレツシユ動
作、蓄積動作、読み出し動作をさせるように構成してい
たのに対し、第5図示の構成は各光電変換セル毎にリフ
レツシユ、蓄積、読み出しを行なわせるようにした点に
特徴を有し、又、各光電変換セルからの信号の読み出し
をキヤパシタCTを用いず直接行なうようにした点にも
特徴を有する。
例はライン状の光電変換セル全体に一括してφRES,
φVRS,φTを供給してライン全体のリフレツシユ動
作、蓄積動作、読み出し動作をさせるように構成してい
たのに対し、第5図示の構成は各光電変換セル毎にリフ
レツシユ、蓄積、読み出しを行なわせるようにした点に
特徴を有し、又、各光電変換セルからの信号の読み出し
をキヤパシタCTを用いず直接行なうようにした点にも
特徴を有する。
以下第5図について詳述すると、第5図中第1図〜第4
図と同じ符番のものは同じ機能を有する要素を示す。即
ち、12−1〜12−n(nは整数)は夫々MOS t
r12と同様のMOS trであり、1−1〜1−nは
夫々トランジスタ1と同様のMOS trであり、5−
1〜5−7は夫々MOS tr5と同様のMOSであ
る。又、8−1〜8−nは夫々MOS tr、8と同様
のMOS trである。
図と同じ符番のものは同じ機能を有する要素を示す。即
ち、12−1〜12−n(nは整数)は夫々MOS t
r12と同様のMOS trであり、1−1〜1−nは
夫々トランジスタ1と同様のMOS trであり、5−
1〜5−7は夫々MOS tr5と同様のMOSであ
る。又、8−1〜8−nは夫々MOS tr、8と同様
のMOS trである。
又、シフトパルスφSHを供給することによりシフトレ
ジスタのφ1〜φn+2には順次ハイレベルのパルスが
出力される。
ジスタのφ1〜φn+2には順次ハイレベルのパルスが
出力される。
又、図示の如MOS tr5−mと、12−(m+1)
と、8−(m−1)(但しmは(n+1)以下の整数)
とは共通のパルスφ(m+1)によりONされるよう構
成されているのでφmが供給されたときにはバイポーラ
トランジスタ1−(m−1)のベースが電位VBGとな
ると共に、トランジスタ1−mの読み出しが行なわれ、
又、トランジスタ1−(m−2)のリフレツシユが行な
われる。
と、8−(m−1)(但しmは(n+1)以下の整数)
とは共通のパルスφ(m+1)によりONされるよう構
成されているのでφmが供給されたときにはバイポーラ
トランジスタ1−(m−1)のベースが電位VBGとな
ると共に、トランジスタ1−mの読み出しが行なわれ、
又、トランジスタ1−(m−2)のリフレツシユが行な
われる。
従って各バイポーラトランジスタを順次読み出すことに
より、この読み出しパルスよりも2パルス分位相が遅れ
て各トランジスタのリフレツシユが順次行なわれること
になる。
より、この読み出しパルスよりも2パルス分位相が遅れ
て各トランジスタのリフレツシユが順次行なわれること
になる。
このように構成することによりライン状の光電変換セル
のどのセルも蓄積終了時点から読み出し時点までの期間
に差がなく暗電流ノイズによるムラ等が発生しない。
のどのセルも蓄積終了時点から読み出し時点までの期間
に差がなく暗電流ノイズによるムラ等が発生しない。
次に第6図は本発明をエリアイメージセンサに利用した
本発明の第6実施例図である。
本発明の第6実施例図である。
図中第1〜第5図と同じ符番のものは同じ要素を示す。
16は垂直走査回路、17,17′,18はMOS t
r、77′はドライバー回路で、パルスφSH,φ
HRS,φV1〜φV3,φVRS,φT等を出力する
と共に、パルスVR,φRCを出力する。
r、77′はドライバー回路で、パルスφSH,φ
HRS,φV1〜φV3,φVRS,φT等を出力する
と共に、パルスVR,φRCを出力する。
第7図は第6図示ドライバー回路77′の出力パルスの
タイミングチヤートである。
タイミングチヤートである。
以下上記タイミングチヤートを参照しながら第6図示構
成の動作を説明する。
成の動作を説明する。
先ずφV1がハイレベルφV2,φV3がローレベルの
状態であるので行及び列から成るマトリクス状に配置さ
れたトランジスタ1のうち第1行の信号が選択されてい
る。
状態であるので行及び列から成るマトリクス状に配置さ
れたトランジスタ1のうち第1行の信号が選択されてい
る。
時刻t10〜t17にかけての水平ブランキング期間中
に次のような動作が行なわれる。
に次のような動作が行なわれる。
即ち、時刻t11〜t12にかけて2VRCがハイレベ
ルとなり、これによりMOS tr5がONしてトラン
ジスタ1のベースがコレクタ電位(一定)となる。
ルとなり、これによりMOS tr5がONしてトラン
ジスタ1のベースがコレクタ電位(一定)となる。
その後時刻t13〜t14にかけてVR及びφVRSが
ハイレベルとなると共にφTが時刻t13〜t16にか
けてハイレベルとなるので、MOS tr8,18,1
1がONしトランジスタ1のベースのキヤリアがエミツ
タ及びMOS tr8を介し流れる電流により消滅され
る。
ハイレベルとなると共にφTが時刻t13〜t16にか
けてハイレベルとなるので、MOS tr8,18,1
1がONしトランジスタ1のベースのキヤリアがエミツ
タ及びMOS tr8を介し流れる電流により消滅され
る。
又、このときキヤパシタCTに残っていた電荷もグラン
ドに流れてクリアされる。
ドに流れてクリアされる。
時刻t14以降φVRS,VRはローレベルとなり第1
行のトランジスタにおける蓄積動作が始まる。その後φ
V1,φV3がローレベル、φV2がハイレベルとなっ
てからVRがt15〜t16の間ハイレベルとなる。
行のトランジスタにおける蓄積動作が始まる。その後φ
V1,φV3がローレベル、φV2がハイレベルとなっ
てからVRがt15〜t16の間ハイレベルとなる。
これにより、それまで第2行のトランジスタ1のベース
に蓄積されていたキヤリアに応じた電圧がエミツタ、M
OS tr18,11を介してキヤパシタCTに蓄積さ
れる。
に蓄積されていたキヤリアに応じた電圧がエミツタ、M
OS tr18,11を介してキヤパシタCTに蓄積さ
れる。
その後時刻t18でφHRSを1パルス、t19でφ
SHを1パルスというようにパルスを順次与えることに
より第4図で説明したのと同様にして各キヤパシタCT
の電荷が時刻t21までに順次アンプ15介して読み出
されていく、そして時刻t22において次の水平ブラン
キング期間が始まると今度は第2行のトランジスタに対
するリフレツシユ動作が時刻t23から始まる。
SHを1パルスというようにパルスを順次与えることに
より第4図で説明したのと同様にして各キヤパシタCT
の電荷が時刻t21までに順次アンプ15介して読み出
されていく、そして時刻t22において次の水平ブラン
キング期間が始まると今度は第2行のトランジスタに対
するリフレツシユ動作が時刻t23から始まる。
このようにして各水平ブランキング期間中にそれまでに
読み出された所定の1行分のリフレツシユが行なわれる
と共に、次の行の信号がキヤパシタCTに取り込まれ続
く水平走査期間にこのキヤパシタCTの順次読み出しが
行なわれる。
読み出された所定の1行分のリフレツシユが行なわれる
と共に、次の行の信号がキヤパシタCTに取り込まれ続
く水平走査期間にこのキヤパシタCTの順次読み出しが
行なわれる。
又、φV1〜φV3は1水平期間毎に順次垂直シフトレ
ジスタ16により切換えられていき1垂直期間毎に循環
するように為されている。
ジスタ16により切換えられていき1垂直期間毎に循環
するように為されている。
又、図では3行分のマトリクスしか示していないが実際
には1垂直期間に存在する水平走査線数に対応した数の
行のトランジスタがマトリクス配置されている。
には1垂直期間に存在する水平走査線数に対応した数の
行のトランジスタがマトリクス配置されている。
又、第8図,第9図は第6図における各光電変換セルの
結線の変形例を示す図であり、第8図のようにMOS
tr5のソースをMOS tr18のドレインには接続
した場合には第7図における時刻t11〜t13の期間
もVR及びφVRSをハイレベルとする。
結線の変形例を示す図であり、第8図のようにMOS
tr5のソースをMOS tr18のドレインには接続
した場合には第7図における時刻t11〜t13の期間
もVR及びφVRSをハイレベルとする。
即ち、時刻t11〜t13の間VR及びφVRSがハイ
レベルであるからt11〜t12の間VRCをハイレベ
ルとしたときトランジスタ1のベースはグランド電位に
接続され、ベースに残ったキヤリアは再結合して消滅す
る。
レベルであるからt11〜t12の間VRCをハイレベ
ルとしたときトランジスタ1のベースはグランド電位に
接続され、ベースに残ったキヤリアは再結合して消滅す
る。
又、第9図示実施例はMOS tr5のソースを垂直信
号線19に接続したもので、この場合には、第7図のタ
イミングチヤートにおいてφVRSを時刻t11〜t
13の間ハイレベルとする。これにより時刻t11〜t
12の間VRCをハイレベルとしたときトランジスタ1
のベースのキヤリアはグランドに流れ消滅する。
号線19に接続したもので、この場合には、第7図のタ
イミングチヤートにおいてφVRSを時刻t11〜t
13の間ハイレベルとする。これにより時刻t11〜t
12の間VRCをハイレベルとしたときトランジスタ1
のベースのキヤリアはグランドに流れ消滅する。
次に第10図は第6図示のエリア型イメージセンサの他
の例を示す図で本実施例は第6図示の構成における水平
信号線20を各行毎に設けると共に、この水平信号線を
グランドに選択的に接続する為のMOS tr14を夫
々の水平信号線に設けた点、更に各トランジスタのエミ
ツタをMOS tr12により垂直信号線を介さず直接
この水平信号線20に選択的に接続できるようにした
点、その為に各トランジスタ1のエミツタと各行の水平
信号線の間にMOS tr12を夫々設けた点、各行の
トランジスタ1のエミツタに接続されたMOS tr1
8のソースを垂直信号線の代わりに対応する水平信号線
20に接続した点、垂直信号線及び、これに接続された
キヤパシタCT,MOS tr11,8等を無くした
点、MOS tr17″が設けられた点、等が異なる。
の例を示す図で本実施例は第6図示の構成における水平
信号線20を各行毎に設けると共に、この水平信号線を
グランドに選択的に接続する為のMOS tr14を夫
々の水平信号線に設けた点、更に各トランジスタのエミ
ツタをMOS tr12により垂直信号線を介さず直接
この水平信号線20に選択的に接続できるようにした
点、その為に各トランジスタ1のエミツタと各行の水平
信号線の間にMOS tr12を夫々設けた点、各行の
トランジスタ1のエミツタに接続されたMOS tr1
8のソースを垂直信号線の代わりに対応する水平信号線
20に接続した点、垂直信号線及び、これに接続された
キヤパシタCT,MOS tr11,8等を無くした
点、MOS tr17″が設けられた点、等が異なる。
尚77″は、ドライバー回路である。ドライバー回路7
7″の出力はMOS tr14を制御する為の
φHRS′が第7図のタイミングチヤートにおけるφ
HRSと若干異なり第11図示の如くt13〜t14の
間にもハイレベルとなる。又、VR′はt15〜t16
の間ローレベルのままとなる。その他のパルスφSH,
φV1〜φV3,VRCのタイミングは同じで良い。
7″の出力はMOS tr14を制御する為の
φHRS′が第7図のタイミングチヤートにおけるφ
HRSと若干異なり第11図示の如くt13〜t14の
間にもハイレベルとなる。又、VR′はt15〜t16
の間ローレベルのままとなる。その他のパルスφSH,
φV1〜φV3,VRCのタイミングは同じで良い。
このように構成することにより時刻t11〜t12にか
けてトランジスタのベースはコレクタ電位と同じにな
り、t13〜t14にかけてベースのキヤリアはMOS
tr18、信号線20、MOS tr14を介してグ
ランド徐々に流れる。その後φV1〜φV3がローレベ
ル、φV2がハイレベルとなってからt15〜t16で
それまでの1垂直期間だけ第2行のトランジスタのベー
スに蓄積されていたキヤリアは水平走査回路13でMO
S tr12を順次ONさせることにより信号線20M
OS tr17″を介してアンプ15に導かれ読み出され
る。
けてトランジスタのベースはコレクタ電位と同じにな
り、t13〜t14にかけてベースのキヤリアはMOS
tr18、信号線20、MOS tr14を介してグ
ランド徐々に流れる。その後φV1〜φV3がローレベ
ル、φV2がハイレベルとなってからt15〜t16で
それまでの1垂直期間だけ第2行のトランジスタのベー
スに蓄積されていたキヤリアは水平走査回路13でMO
S tr12を順次ONさせることにより信号線20M
OS tr17″を介してアンプ15に導かれ読み出され
る。
このように構成することにより第6図示の例に比べてブ
ルーミングが発生しにくいという効果がある。
ルーミングが発生しにくいという効果がある。
尚、第12図は第10図示の例においてMOS tr5
の一端をコレクタの代わりに信号線20に接続しMOS
tr18を省略したものであり、このように構成した
場合には第10図示構成の駆動タイミングにおいてφ
HRS′を時刻t11〜t13又はt11〜t12の期
間ハイレベルとし時刻t13〜t14はφHRS′をロ
ーレベルとすれば良い。即ちVRCがハイレベルとなる
時刻t11〜t12において水平信号線20がグランド
となっていればベース電位はゼロとなりベースになる残
留していたキヤリアは消滅する。
の一端をコレクタの代わりに信号線20に接続しMOS
tr18を省略したものであり、このように構成した
場合には第10図示構成の駆動タイミングにおいてφ
HRS′を時刻t11〜t13又はt11〜t12の期
間ハイレベルとし時刻t13〜t14はφHRS′をロ
ーレベルとすれば良い。即ちVRCがハイレベルとなる
時刻t11〜t12において水平信号線20がグランド
となっていればベース電位はゼロとなりベースになる残
留していたキヤリアは消滅する。
このように本発明を用いたラインセンサータイプ、エリ
アセンサータイプ等の各種の光電変換装置は高集積化、
小型化を行なっても高出力が得られ、残像が少なく、固
定パターンノイズも少ないという数多くの特徴を持って
おり、産業上極めて有用である。
アセンサータイプ等の各種の光電変換装置は高集積化、
小型化を行なっても高出力が得られ、残像が少なく、固
定パターンノイズも少ないという数多くの特徴を持って
おり、産業上極めて有用である。
本発明によれば簡単な構成でありながら高感度でしかも
残像特性が著しく改善され、固定パターンノイズも少な
い光電変換装置を得ることができる。
残像特性が著しく改善され、固定パターンノイズも少な
い光電変換装置を得ることができる。
第1図(A)は本発明の第1実施例の光電変換セルの等
価回路図、第1図(B)乃至第1図(C)は夫々第2,
第3実施例の光電変換セルの等価回路図、 第2図は第1図示実施例の動作を説明するためのタイミ
ングチヤート、 第3図は本発明の第4実施例のラインセンサータイプの
光電変換装置の構成図、 第4図は第3図示装置のタイミングチヤート、 第5図は本発明の第5実施例のラインセンサータイプの
光電変換装置の構成図、 第6図は本発明の第6実施例のエリアセンサータイプの
光電変換装置の構成図、 第7図は第6図示装置のタイミングチヤート、 第8図、第9図は第6図示装置の光電変換セルの夫々他
の構成例を示す図、 第10図は本発明の第7実施例のエリアセンサータイプ
の光電変換装置の構成図、 第11図は第10図示実施例の要部タイミングチヤー
ト、 第12図は第10図示実施例の光電変換セルの他の例を
示す図、 第13図(A)は、従来の光電変換装置の概略的平面
図、第13図(B)は、そのI−I線断面図、第13図
(C)は、その等価回路図、 第14図はキヤリア消滅動作時のベース電位の経時変化
そ示すグラフ。 1……フオトトランジスタ 5……PチヤネルMOSトランジスタ 5′,8……NチヤネルMOSトランジスタ
価回路図、第1図(B)乃至第1図(C)は夫々第2,
第3実施例の光電変換セルの等価回路図、 第2図は第1図示実施例の動作を説明するためのタイミ
ングチヤート、 第3図は本発明の第4実施例のラインセンサータイプの
光電変換装置の構成図、 第4図は第3図示装置のタイミングチヤート、 第5図は本発明の第5実施例のラインセンサータイプの
光電変換装置の構成図、 第6図は本発明の第6実施例のエリアセンサータイプの
光電変換装置の構成図、 第7図は第6図示装置のタイミングチヤート、 第8図、第9図は第6図示装置の光電変換セルの夫々他
の構成例を示す図、 第10図は本発明の第7実施例のエリアセンサータイプ
の光電変換装置の構成図、 第11図は第10図示実施例の要部タイミングチヤー
ト、 第12図は第10図示実施例の光電変換セルの他の例を
示す図、 第13図(A)は、従来の光電変換装置の概略的平面
図、第13図(B)は、そのI−I線断面図、第13図
(C)は、その等価回路図、 第14図はキヤリア消滅動作時のベース電位の経時変化
そ示すグラフ。 1……フオトトランジスタ 5……PチヤネルMOSトランジスタ 5′,8……NチヤネルMOSトランジスタ
Claims (1)
- 【請求項1】第1導電型の第1主電極領域と、 前記第1導電型と同導電型の第2主電極領域と、 電磁波によって発生したキャリアの蓄積部となる第2導
電型の制御電極領域とで形成されるフォトトランジスタ
と、 前記制御電極領域を選択的に第1の電位と浮遊状態にす
る第1の手段と、 前記第1主電極領域を選択的に第2の電位と浮遊状態に
する第2の手段とを具備し、 前記制御電極領域のキャリアの消去を行うために、第1
の期間に制御電極領域を第1電位に保った状態で前記第
1の主電極領域を第2の電位または浮遊状態に保ち、続
く第2の期間に前記制御電極領域を浮遊状態に保った状
態で前記第1の主電極領域を第2の電位に保つ制御手段
と、 を有することを特徴とする光電変換装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61168286A JPH0644619B2 (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 光電変換装置 |
US07/073,220 US4810896A (en) | 1986-07-17 | 1987-07-14 | Photoelectric conversion device with reduced fixed pattern noises |
CA000542160A CA1278079C (en) | 1986-07-17 | 1987-07-15 | Photoelectric conversion device |
EP87306360A EP0253678B1 (en) | 1986-07-17 | 1987-07-17 | Photoelectric conversion device |
DE3752221T DE3752221T2 (de) | 1986-07-17 | 1987-07-17 | Photoelektrischer Wandler |
AT87306360T ATE172056T1 (de) | 1986-07-17 | 1987-07-17 | Photoelektrischer wandler |
ES87306360T ES2120941T3 (es) | 1986-07-17 | 1987-07-17 | Dispositivo de conversion fotoelectrica. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61168286A JPH0644619B2 (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 光電変換装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6324664A JPS6324664A (ja) | 1988-02-02 |
JPH0644619B2 true JPH0644619B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=15865204
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61168286A Expired - Fee Related JPH0644619B2 (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 光電変換装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4810896A (ja) |
EP (1) | EP0253678B1 (ja) |
JP (1) | JPH0644619B2 (ja) |
AT (1) | ATE172056T1 (ja) |
CA (1) | CA1278079C (ja) |
DE (1) | DE3752221T2 (ja) |
ES (1) | ES2120941T3 (ja) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4866293A (en) * | 1986-12-09 | 1989-09-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric converting apparatus to prevent the outflow of excess carriers |
JPS63206069A (ja) * | 1987-02-23 | 1988-08-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | イメ−ジ・センサ |
US4942474A (en) * | 1987-12-11 | 1990-07-17 | Hitachi, Ltd. | Solid-state imaging device having photo-electric conversion elements and other circuit elements arranged to provide improved photo-sensitivity |
JP2990435B2 (ja) * | 1988-02-02 | 1999-12-13 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | イメージセンサー |
US5262850A (en) * | 1988-09-20 | 1993-11-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric converting device having reduced line sensor space |
US5262870A (en) * | 1989-02-10 | 1993-11-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Image sensor in which reading and resetting are simultaneously performed |
DE69009787T2 (de) * | 1989-02-10 | 1994-11-10 | Canon Kk | Bildsensor und photoelektrisches Umwandlungsgerät zur Anwendung desselben. |
US5272345A (en) * | 1989-09-22 | 1993-12-21 | Ada Technologies, Inc. | Calibration method and apparatus for measuring the concentration of components in a fluid |
JP2810526B2 (ja) * | 1989-11-21 | 1998-10-15 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置及び該装置を搭載した装置 |
US5241169A (en) * | 1989-11-21 | 1993-08-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion device having an improved control electrode structure and apparatus equipped with same |
US5260560A (en) * | 1990-03-02 | 1993-11-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric transfer device |
US5184006A (en) * | 1990-04-23 | 1993-02-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric conversion apparatus having clock signals of different frequencies |
US5288988A (en) * | 1990-08-07 | 1994-02-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconversion device having reset control circuitry |
EP0473294B1 (en) * | 1990-08-07 | 2004-09-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconversion device |
JPH04100383A (ja) * | 1990-08-18 | 1992-04-02 | Seiko Instr Inc | 固体撮像素子 |
JP3050583B2 (ja) * | 1990-10-17 | 2000-06-12 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置 |
US5262873A (en) | 1990-11-07 | 1993-11-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Image signal correcting in image data processing requiring only small memory capacity |
US5281803A (en) * | 1990-11-26 | 1994-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Image sensor and information processing apparatus |
CA2056087C (en) * | 1990-11-27 | 1998-01-27 | Masakazu Morishita | Photoelectric converting device and information processing apparatus employing the same |
JP2662105B2 (ja) * | 1991-04-08 | 1997-10-08 | キヤノン株式会社 | 密着型センサおよびイメージスキャナならびにファクシミリ |
JP2768453B2 (ja) | 1992-03-03 | 1998-06-25 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置及びそれを用いた装置 |
US5406332A (en) * | 1992-03-06 | 1995-04-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric converting device |
JPH05335615A (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-17 | Canon Inc | 光電変換装置 |
CA2098043C (en) * | 1992-06-11 | 1999-09-14 | Toshimitsu Iso | Gapless support system for contact type image sensor |
US5453611A (en) * | 1993-01-01 | 1995-09-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Solid-state image pickup device with a plurality of photoelectric conversion elements on a common semiconductor chip |
DE69418754T2 (de) * | 1993-03-15 | 1999-11-04 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Signalprozessor |
US5838176A (en) * | 1996-07-11 | 1998-11-17 | Foveonics, Inc. | Correlated double sampling circuit |
TW421962B (en) | 1997-09-29 | 2001-02-11 | Canon Kk | Image sensing device using mos type image sensing elements |
JP3467013B2 (ja) | 1999-12-06 | 2003-11-17 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置 |
WO2002027763A2 (en) | 2000-09-25 | 2002-04-04 | Foveon, Inc. | Active pixel sensor with noise cancellation |
US6950131B1 (en) | 2000-09-26 | 2005-09-27 | Valley Oak Semiconductor | Simultaneous access and reset system for an active pixel sensor |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5528456B2 (ja) * | 1972-11-08 | 1980-07-28 | ||
JPS55105480A (en) * | 1979-02-07 | 1980-08-13 | Hitachi Ltd | Solid state pickup device |
JPS5850030B2 (ja) * | 1979-03-08 | 1983-11-08 | 日本放送協会 | 光電変換装置およびそれを用いた固体撮像板 |
US4445117A (en) * | 1981-12-28 | 1984-04-24 | Hughes Aircraft Company | Transistorized focal plane having floating gate output nodes |
JPS59107569A (ja) * | 1982-12-13 | 1984-06-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 一次元半導体撮像装置 |
JPS59108476A (ja) * | 1982-12-14 | 1984-06-22 | Junichi Nishizawa | 2次元固体撮像装置及びその読出し方法 |
JPH0744661B2 (ja) * | 1982-12-14 | 1995-05-15 | オリンパス光学工業株式会社 | 固体撮像装置 |
US4686554A (en) * | 1983-07-02 | 1987-08-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric converter |
JPS61157184A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-16 | Canon Inc | 光電変換装置 |
-
1986
- 1986-07-17 JP JP61168286A patent/JPH0644619B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1987
- 1987-07-14 US US07/073,220 patent/US4810896A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-15 CA CA000542160A patent/CA1278079C/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-17 ES ES87306360T patent/ES2120941T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-17 DE DE3752221T patent/DE3752221T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-17 EP EP87306360A patent/EP0253678B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-17 AT AT87306360T patent/ATE172056T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0253678B1 (en) | 1998-10-07 |
CA1278079C (en) | 1990-12-18 |
EP0253678A2 (en) | 1988-01-20 |
ES2120941T3 (es) | 1998-11-16 |
JPS6324664A (ja) | 1988-02-02 |
US4810896A (en) | 1989-03-07 |
DE3752221D1 (de) | 1998-11-12 |
EP0253678A3 (en) | 1988-06-01 |
ATE172056T1 (de) | 1998-10-15 |
DE3752221T2 (de) | 1999-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0644619B2 (ja) | 光電変換装置 | |
EP0489724B1 (en) | Device and method of photoelectrically converting light into electrical signal | |
KR0155017B1 (ko) | 고체촬상장치 | |
US4117514A (en) | Solid state imaging device | |
EP0455311B1 (en) | Image sensor device | |
US4922138A (en) | Scan circuit using a plural bootstrap effect for forming scan pulses | |
US6476371B2 (en) | Solid state imaging device and driving method thereof | |
EP0274236B1 (en) | Photoelectric converting apparatus | |
US5386108A (en) | Photoelectric conversion device for amplifying and outputting photoelectrically converted signal, and a method thereof | |
US4223330A (en) | Solid-state imaging device | |
US4587562A (en) | Solid state image pick-up device | |
JPH0447515B2 (ja) | ||
JPS6147662A (ja) | 固体撮像装置 | |
JPH05244513A (ja) | 光電変換装置及びその駆動方法 | |
JPH0746839B2 (ja) | 光電変換装置 | |
JPS63186466A (ja) | 光電変換装置 | |
JPH0697408A (ja) | 光電変換装置及びその製造方法 | |
JP2990475B2 (ja) | 光電変換装置及びその制御方法 | |
JPH084132B2 (ja) | 光電変換装置 | |
JPS63128665A (ja) | 光電変換装置 | |
JP2635966B2 (ja) | 撮像装置 | |
JPS6393282A (ja) | 光電変換装置 | |
JPS6376477A (ja) | 光電変換装置 | |
JPS63214083A (ja) | 光電変換装置 | |
JPS61141272A (ja) | 光電変換装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |