JPH06296917A

JPH06296917A - 塗布装置及び塗布方法

Info

Publication number: JPH06296917A
Application number: JP5116335A
Authority: JP
Inventors: Mikio Tomaru; 美喜男都丸
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1993-04-20
Filing date: 1993-04-20
Publication date: 1994-10-25
Anticipated expiration: 2017-09-09
Also published as: US5425967A; JP3322720B2

Abstract

(57)【要約】【目的】支持体に複数の塗布液を同時多重塗布すると
きに良好な塗布を行なう条件を容易に設定することがで
きる塗布装置及び塗布方法を提供する。【構成】上流パスローラ１１と下流パスローラ１２間
に、個々のブロックの相対高さ位置を上下動調整可能の
複数個のブロック２、３、４、──を結合し、その結合
ブロック２、３、４、──間に少くとも２個の塗布液吐
出スロットを有する構成の塗布ヘッド１０を設け、前記
上流パスローラ１１及び下流パスローラ１２間に装架さ
れ、走行する可撓性支持体１に多重塗布層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は可撓性支持体に、塗布液
を高速に塗布する塗布装置及び塗布方法に関し、さらに
詳しくは、連続的に走行している支持体面に磁性塗布液
等の塗布液等を多重同時に積層塗布する塗布装置及び塗
布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、例えばビデオやオーディオ、
さらにコンピュータ等の情報機器の情報の記録媒体とし
て、磁気テープのごとき磁気記録媒体が汎用されてい
る。この磁気記録媒体の製造方法ならびに製造装置は種
々のものがある。その一つの製造方法として、例えば、
ポリエチレンテレフタレートなどから成るフィルム状の
可撓性支持体（以下「支持体」という）に磁性分散液等
の塗布液を塗布してその記録層を形成する方法がその生
産性の高さから多用されている。前記支持体の塗布面
に、塗布液を塗布する方法として、エクストルージョン
型の塗布装置を用いた方法がある。このエクストルージ
ョン型の塗布装置を用いた方法は周知のごとく塗布液を
吐出するスロットを備えた塗布ヘッドを支持体表面に押
し付け、ドクターエッジ部において吐出塗布液を支持体
表面に一様に塗布する方法が知られている。そして、ド
クターエッジの形状、塗布液圧力、支持体とドクターエ
ッジ先端の位置間隔等については、例えば特開昭６０−
２３８１７９号公報、特開昭６２−１１７６６６号公
報、特開昭６２−１３２５６６号公報、特開平４−１４
５９７７号公報などに開示されており、種々検討されて
いる。

【０００３】また、このエクストルージョン型の塗布装
置を用いた塗布方法を利用すると、複数のスロットから
塗布液を吐出させ、支持体の表面に複数重の塗布層を同
時に形成させることが可能であり、各層毎にに機能を分
離することにより、従来の塗布支持体にない優れた性能
をもった製品を作ることができる。このような多重層の
製品を作る方法は、例えば特開昭６３−８８０８０号公
報、特願平４−４７７４６号公報に示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上述したエ
クストルージョン型塗布装置による塗布では、支持体の
表面に対する塗布ヘッドのエッジ面の押し付け力と塗布
液吐出力等の諸条件がバランスして初めて良好な塗布層
が形成される。特に、２重層以上の多重の塗布層を同時
に形成する塗布方法の場合は、各エッジ面の支持体に対
する相対的位置が微妙に違うと、それぞれのスロットか
ら吐出される塗布液が互いに混合して塗布層を形成す
る。このため、形成される塗布層の性質が複雑になり、
安定した多重層の塗布層が形成された製品を作ることは
難かしかった。

【０００５】このため、支持体張力、支持体の走行方向
に対する上流側の上流パスローラ、下流側の下流パスロ
ーラ位置、エッジ面形状、各エッジ面の支持体に対する
相対位置等の諸条件の因子を経験に基づいて調整し、適
正条件を決めなければならなかった。しかし、折角、適
正な塗布条件を選定しても、支持体の材質、厚さ等が変
ると良好な塗布層を形成できない場合があり、その都
度、適正条件を探して、その最適条件を試し塗布工程を
するなどして探索する必要があり多大な時間を要してい
るのが現状であった。特に高速薄層塗布においては塗布
条件の調整は非常に微妙であり困難を極め、塗布条件の
探索に要する時間は極めて重大な問題であった。

【０００６】そこで、本発明は、このような従来のエク
ストルージョン型の塗布装置による塗布方法の難点を解
消し、支持体に複数の塗布液を同時多重塗布するとき、
特に高速薄層塗布を行なうときに良好な塗布を行なう条
件を容易に設定することができる塗布装置及び塗布方法
を提供しようとするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は支持
体の走行方向の上流側の上流パスローラと下流側の下流
パスローラと、この両パスローラ間に装架し走行する前
記支持体に塗布ヘッドを押し付けてスロットから塗布液
を吐出するように構成されたエクストルージョン型の塗
布装置において、前記両パスローラが前記塗布ヘッドに
対して支持体厚み方向に移動自在に構成され、かつ前記
塗布ヘッドは３個以上のブロックにより複数の前記スロ
ット及びエッジ面を形成し、該各ブロックは前記エッジ
面の支持体に対する位置が前記スロットの塗布液吐出方
向にそって前後移動可能に構成されたことを特徴とする
塗布装置により達成することができる。また、本発明の
上記目的は支持体をその走行方向の上流側の上流パスロ
ーラと下流側の下流パスローラとの間に装架して走行さ
せた該支持体上に塗布ヘッドを押し付けて複数のスロッ
トから複数の塗布液を同時に吐出する塗布方法におい
て、前記スロットを構成するブロックの３個以上のエッ
ジ面を前記支持体の塗布面に向けて前後移動可能とし、
前記上流パスローラと前記下流パスローラとの間に前記
支持体を掛け渡した後に、前記エッジ面の全てを少なく
とも前記塗布面に接するように調整してから前記塗布液
の塗布を行うことを特徴とする塗布方法によっても達成
することができる。

【０００８】

【実施態様】以下、図２〜図５に本発明の塗布装置の一
実施態様について説明する。図２は本発明の塗布装置の
塗布ヘッド１０の概略構成を示す横断面図であり、図３
は図２に示す塗布ヘッド１０のＡ部分の拡大図であり、
図４は塗布ヘッド１０の構成を示す分解斜視図である。
また、図５は本発明の塗布装置１５の上流パスローラ１
１及び下流パスローラ１２の位置関係及び塗布ヘッド１
０による支持体１に対する塗布状態を示す概略図であ
る。

【０００９】先ず、図２〜図４に示す塗布ヘッド１０に
ついて説明すると、前記塗布ヘッド１０は上流側ブロッ
ク２、中間ブロック３及び下流側ブロック４の３個のブ
ロックから構成され、締結穴６ｂに挿入したボルト６ａ
によってブロック２及び４を中央ブロック３に一体に結
合されている。この塗布ヘッド１０において、ブロック
２の支持体１の塗布面に対向するクエッジ面２ａは、塗
布液が支持体１と該エッジ面２ａとの間に適宜ビードが
形成されて支持体１の走行に伴う空気の巻き込みを防止
するような傾斜面に構成されている。また、前記ブロッ
ク３及び４の支持体１に対向するブロックのエッジ面３
ａ，４ａは、支持体１側が膨らむように曲率（ｒ₁、ｒ
₂）をもつように形成されている。また、支持体１の水
平線に対する進入角度（α及びβ）等は例えば２度〜６
０度程度の範囲に設定することができるできる。

【００１０】また、前記ブロック２と前記ブロック３、
前記ブロック３と前記ブロック４の対向面に前記支持体
１を横断する方向に一方の端面から反対側端面に略半球
状の溝が形成され、両各ブロックを向い会せたときに、
塗布液を送れるよう塗布液供給用の液溜まり８、８を形
成し、前記液溜まり８、８に送液ポンプ（図示せず）を
介して塗布液を圧送すると、前記ブロック２及び３間、
前記ブロック３及び４間に形成されるスロット９、９か
ら前記支持体１の塗布面に塗布液を吐出することができ
る。

【００１１】また、前記塗布ヘッド１０は、前記ブロッ
ク２、３、及び４の相対高さ位置を調整可能に構成され
ている。そして、この高さ調整は、例えば図２に示すよ
うに台盤状の治具Ｂの上において前記ブロック３及び４
の底面に調整板５ａ及び５ｂを差し込んで該ブロック３
及び４の高さを微調整しこの状態で前記各ブロック同士
を固定する。なお、一旦結合した塗布ヘッド１０を再度
調整する様なときには、前記ボルト６ａを適宜緩めて再
度調整することができる。なお、図５に示すように前記
支持体１の走行方向の上流側の上流パスローラ１１及び
下流側の下流パスローラ１２は前記塗布ヘッドのエッジ
面に対して支持体ラップ角度を変える方向の移動（矢印
Ｅ方向）ができるように適宜支持されている。

【００１２】前記支持体１面に塗布する塗布液は、異な
った二つの磁性塗布液を塗布してもよいが、下層となる
塗布液は下塗り層であるような塗布でもよい。すなわ
ち、本発明においては単層磁性層だけでなく、磁性層の
多層構成になっているものと、磁性層と非磁性層組み合
せで少くとも磁性層を一層含む構成にしてもよい。

【００１３】上述の磁性塗布液の如き塗布液を塗布する
前記支持体１の素材は、ポリエチレンテレフタレートや
ポリエチレンナフタレートなどのごときポリエステル、
ポリプロピレンのごときポリオレフィン、三酢酸セルロ
ーズや二酢酸セルローズのごときセルローズ誘導体、ポ
リ塩化ビニルのごときビニル系樹脂、ポリカーボネー
ト、ポリアミド樹脂、ポリスルホンなどのプラスチック
のフィルム、アルミニウム、銅などの金属シート、ガラ
スなどのセラミックスなどがある。これらの支持体は、
予めコロナ放電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処
理、金属蒸着処理、アルカリ処理などの前処理が施され
ていてもよい。

【００１４】次に、前記塗布ヘッド１０を使用して、前
記支持体１上に重層の磁気記録層を同時重層塗布する方
法について図５を参照して説明する。まず、図５に示す
塗布装置１５は前記上流パスローラ１１及び前記下流パ
スローラ１２を、装架する前記支持体１の支持体張力が
適当になるように相対位置を調節するとともに、走行停
止時において、前記上流パスローラ１１及び前記下流パ
スローラ１２間に設置を前記塗布ヘッド１０を前記支持
体１に接触させる。この時、各エッジ面２ａ，３ａ，４
ａの全てを、前記支持体１の表面に接触させる調節を適
宜行なう。上述の調節が終了したあとに、図示しない液
送ポンプにより各塗布液を送液するとともに前記パスロ
ーラ１１及び１２に装架した前記支持体１を走行させて
塗布工程を開始することにより、良好な塗布のための設
定を極めて短時間に行なえるものである。

【００１５】上述の構成の塗布装置１５における前記塗
布ヘッド１０の調整操作を説明する。この調整操作の説
明にあたっては図１に示す塗布ヘッドの原理図を参照し
て説明する。図１に示す塗布装置の上流パスローラ１１
及び下流パスローラ１２の間に塗布ッド１０が配置され
ている。そして、前記塗布ヘッド１０は例えば、４個の
ブロックａ、ｂ、ｃ、ｄからなり、最も上流側のブロッ
クａには適宜傾斜したバックエッジ面２ａ、ブロック
ｂ，ｃ，ｄにはドクターエッジ面２ｂ，２ｃ，２ｄを有
している。なお、前記塗布装置１５おける塗布ヘッド１
０の各ブロック間の相対高さは、例えば最上流側のブロ
ックａの先端と他のブロックのエッジ面の各曲率半径中
心Ｃ₂ 、Ｃ₃、Ｃ_nとの段差から求めたり、又、各ブ
ロック間の相対間隔は、例えば最上流側のブロックａの
下流端面と他のブロックのエッジ面の各曲率半径中心Ｃ
₂ 、Ｃ₃、Ｃ_nとの距離等を基準に決めることができ
る。また、前記支持体１は前記上流パスローラ１１、前
記下流パスローラ１２に装架したされている。この支持
体１の張力及び各エッジ面２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄでの
抗力は、支持体１の特定の幅（例えば１ｍ）の場合に換
算して取扱う。前記支持体１は前記下流パスローラ１２
との接触位置１２Ｐにて接線方向に張力Ｔ、法線方向に
抗力Ｒ１を受け、前記上流パスローラ１１との接触位置
１１Ｐにて接線方向に抗力Ｒ２、法線方向に抗力Ｒ３を
受けるものとする。

【００１６】また、前記支持体１は理論的にはｎ個のブ
ロックのエッジ面から抗力を受け、接触力は支持体に垂
直に働くものとする。エッジ面形状が円弧状の場合は支
持体はブロックと一点で接し、抗力は円弧の法線方向に
働く。そして、ｉ番目のブロックのエッジからの抗力を
Ｐｉとする。ブロックがｎ個ある場合、Ｒ１〜Ｒ３、抗
力Ｐ１〜Ｐｎを未知数とし、ｘ方向（図中において両パ
スローラを結んだ線方向）の力の釣り合い、ｙ方向（ｘ
方向とは直角な方向）の力の釣り合いモーメント（Ｍ）
の釣り合い、支持体の撓み形状に関する境界条件より、
これら未知数を求める。支持体の撓み形状は（式１）を
積分することにより求まる。

【００１７】

【式１】

【００１８】Ｓは支持体の曲げ剛性で（式２）により表
される。Ｓ＝Ｅ・ｂ・ｈ³／１２（式２）Ｅ：支持体材料のヤング率〔ｋｇ／ｍｍ²〕ｂ：支持体の幅〔ｍｍ〕ｎ：支持体の厚み〔ｍｍ〕ただし、Ｍは外力により支持体に加わるモーメントを表
す。境界条件としては、上流、下流のパスローラーとの
接触位置、エッジとの接触位置、エッジとの接触点での
連続性、同位置の微分連続性がある。未知数の数は力が
（ｎ＋３）、撓み形状の積分定数が（２ｎ＋２）、合計
（３ｎ＋５）個。方程式は釣り合いの式が３個、境界条
件は位置に関する物がｎ＋２、連続性に関する物２ｎ、
合計（３ｎ＋５）個となり全ての未知数が一意に決ま
る。ブロックのエッジ面の形状が円弧状の場合、接触位
置その物は未知数となるが、接触点で円弧と接線を共有
することより位置と微分（ｄｙ／ｄｘ）の関係が条件と
して与えられるため、やはり一意に決まる。解く方法と
して有限要素法、差分法等の数値解析法が有効である。
これらの手法を採用する場合は、上流及び下流のパスロ
ーラ間を全てに渡り計算すると要素数が多くなり、莫大
な計算時間が必要になる。そこで前記パスローラ１１、
１２の支持体との接触位置（１１Ｐ，１２Ｐ）と、複数
のブロック・エッジ面のうちの代表点（例えば中央ブロ
ック・エッジ面上の一点）を結んだ線上で、ブロック・
エッジ面から十分離れた位置に計算領域の端点を取り、
２つの端点の内側のみ計算すれば短時間に抗力を求める
ことができる。

【００１９】端点までの距離の目安は、計算で求まる支
持体の端点での傾きがパスローラの支持体との接触位置
とブロック・エッジの代表点を結んだ線と略平行になる
かどうかで判断すればよい。このようにして求められる
全てのブロック・エッジでの抗力が正値になるように支
持体張力、パスローラ位置、ブロック・エッジ形状、複
数のエッジ面間相対位置を調整することにより良好に塗
布することができる。

【００２０】本発明の塗布装置は上記各図に示した形態
に限るものではなく、塗布ヘッドの各部分の形状や各ブ
ロックの締結構造等を適宜変更することができる。

【００２１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の塗布装置
は上流パスローラと下流パスローラ間に、各ブロックが
相対高さ位置が上下動可能に調整でき、しかもブロック
間に形成されるスロットが少くとも２個備えた複数のブ
ロックを結合した構成の塗布ヘッドを配置していること
から、またパスローラが前記塗布ヘッドに対して支持体
厚み方向に移動自在で、前記各ブロックの高さ調整とと
もに支持体ラップ角度を調節できるので、各ブロックの
エッジ面の高さ調整が容易でかつ塗布ヘッドに対する支
持体のラップ調節も容易となり、支持体に複数の塗布液
を同時多重塗布するときの良好な塗布条件の設定を迅速
に行なうことができる。

【００２２】また、本発明の塗布方法は、上述した塗布
装置を使用して、上流及び下流のパスローラ間に装架さ
れ走行する支持体の走行停止時に、塗布ヘッドのスロッ
トから塗布液が吐出してない状態で、塗布ヘッドを構成
する全てのブロックのエッジ面と支持体の表面の接触し
た後に塗布工程を行なうようにするので、各ブロックの
エッジ面の高さ調整並びに塗布ヘッドに対する支持体の
ラップ調節が迅速かつ正確にできる。したがって、支持
体の表面への塗布液の同時多層塗布を高速薄層する際
に、塗布条件が変わった場合でも、各層の良好な塗布条
件を正確かつ迅速に設定することができ、高品質な製品
を安定して生産性よく提供することができる。

【００２３】

【実施例】以下、本発明の効果を具体的な実施例に基づ
いてより明確にすることができる。支持体に塗布する塗
布液には、表１及び表２に示す成分組成の磁性塗布液Ａ
及び磁性塗布液Ｂをそれぞれボールミルに入れて充分に
混合分散させた後に、エポキシ樹脂（エポキシ当量５０
０）を３０重量部加えて均一に混合分散させて磁性塗布
液とした。

【００２４】

【表１】

【００２５】

【表２】

【００２６】塗布層を形成するための塗布装置は、図５
に示す塗布装置１５（ブロックが３個の場合もの）を使
用した。この塗布ヘッド１０は、ブロック２、３、４間
の相対高さｂ₁、ｂ₂（測定の基準位置は最上流側のブ
ロックの先端と他のブロックのエッジ面の各曲率半径中
心ｃとの差）；ブロック２、３、４間の相対間隔ａ₁、
ａ₂（測定の基準位置は最上流側のブロックの下流端面
と他のブロックのエッジ面の各曲率半径中心ｃとの距
離）；ブロック２、３、４に対する支持体１の傾き角
α、β；ブロック２、３、４の曲率ｒ₁、ｒ₂、ｒ₃；
支持体１の張力Ｔ；支持体１がブロック２、３、４との
接触点で法線方向から受ける抗力Ｐ₁、Ｐ₂、Ｐ₃（図
６参照）、支持体厚み、支持体剛性を固定した場合にお
けるｂ₁と抗力Ｐ₁、Ｐ₂、Ｐ₃の関係の計算結果につ
いて測定した。ただし、パスローラ１１、１２位置、エ
ッジの相対位置関係、支持体張力を表す量および記号は
図６を参照。

【００２７】（実施例１）ブロック２の曲率ｒ１＝２．
０００ｍｍ、ｒ２＝３．０００ｍｍ、ａ１＝１．０００
ｍｍ、ａ２＝１．７００ｍｍ、ｂ２＝７．９５０ｍｍ、
α＝１５°、β＝５°、支持体厚み＝１００μｍ、支持
体剛性＝６００ｋｇ／ｍｍ²に固定し、ｂ１と抗力Ｐ１
〜Ｐ３の関係を計算式にしたがって計算した。代表値で
の抗力の値と塗布結果を図７に示す。次に、図７より抗
力が負になる、すなわち支持体１がブロックのエッジ面
と接触しなくなる臨界値近傍での代表値を３つ選び実際
に塗布を行った。塗布速度は２００ｍ／分、塗布量は１
ｍ²あたり１０ｇとした。代表値での抗力の値と塗布結
果を表３に示す。なお、塗布結果の欄に示した評価は塗
膜の厚みムラについて観察した。

【００２８】

【表３】

【００２９】（実施例２）ｒ１＝２．０００ｍｍ、ｒ２
＝３．０００ｍｍ、ａ１＝０．８００ｍｍ、ａ２＝１．
１４０ｍｍ、ｂ２＝２．８５０ｍｍ、α＝１７°、β＝
３°、Ｔ＝２０ｋｇ／ｍ、支持体厚み＝３０μｍ、支持
体剛性＝６００ｋｇ／ｍｍ²に固定し、ｂ１と抗力Ｐ１
〜Ｐ３の関係を計算にて求めた。その結果を図８に示
す。次に図８より抗力が負になる、すなわち支持体がエ
ッジ面と接触しなくなる臨界値近傍でｂ₁の代表値を３
つ選び実際に塗布を行った。塗布速度は２００ｍ／分、
塗布量は１ｍ²あたり１０ｇとした。代表値での抗力の
値と塗布結果を表４に示す。

【００３０】

【表４】

【００３１】（実施例３）ｒ１＝２．０００ｍｍ、ｒ２
＝３．０００ｍｍ、ａ１＝０．８００ｍｍ、ａ２＝１．
１４０ｍｍ、ｂ１＝１．８５０ｍｍ、ｂ２＝２．８５０
ｍｍ、α＝１８°、β＝３°、Ｔ＝２０ｋｇ／ｍ、支持
体剛性＝６００ｋｇ／ｍｍ²に固定し、支持体厚みと抗
力Ｐ１〜Ｐ３の関係を計算にて求めた。その結果を図９
に示す。次に図９より抗力が負になる、すなわち支持体
がエッジ面と接触しなくなる臨界値近傍で支持体厚みの
代表値を３つ選び実際に塗布を行った。塗布速度は２０
０ｍ／分、塗布量は１ｍ²あたり１０ｇとした。代表値
での抗力の値と塗布結果を表５に示す。

【００３２】

【表５】

【００３３】（実施例４）ｒ１＝２．０００ｍｍ、ｒ２
＝３．０００ｍｍ、ａ１＝０．８００ｍｍ、ａ２＝１．
１４０ｍｍ、ｂ１＝１．８５０ｍｍ、ｂ２＝２．８５０
ｍｍ、α＝１７°、β＝３°、支持体厚み＝３０μｍ、
支持体剛性＝６００ｋｇ／ｍｍ²に固定し、Ｔと抗力Ｐ
１〜Ｐ３の関係を計算にて求めた。その結果を図１０に
示す。次に図１０より抗力が負になる、すなわち支持体
がエッジ面と接触しなくなる臨界値近傍でＴの代表値を
３つ選び実際に塗布を行った。塗布速度は２００ｍ／
分、塗布量は１ｍ²あたり１０ｇとした。代表値での抗
力の値と塗布結果を表６に示す。

【００３４】

【表６】

【００３５】（実施例５）ｒ１＝２．０００ｍｍ、ｒ２
＝３．０００ｍｍ、ａ１＝０．８００ｍｍ、ａ２＝１．
１４０ｍｍ、ｂ１＝１．８５０ｍｍ、ｂ２＝２．８５０
ｍｍ、β＝３°、Ｔ＝２０ｋｇ、支持体厚み＝３０μ
ｍ、支持体剛性＝６００ｋｇ／ｍｍ²に固定し、αと抗
力Ｐ１〜Ｐ３の関係を計算にて求めた。その結果を図１
１に示す。次に図１１より抗力が負になる、すなわち支
持体がエッジ面と接触しなくなる臨界値近傍で角αの代
表値を４つ選び実際に塗布を行った。塗布速度は２００
ｍ／分、塗布量は１ｍ²あたり１０ｇとした。代表値で
の抗力の値と塗布結果を表７に示す。

【００３６】

【表７】

【００３７】（実施例６）ｒ１＝５．０００ｍｍ、ｒ２
＝８．０００ｍｍ、ａ１＝１．０００ｍｍ、ａ２＝１．
７００ｍｍ、ｂ２＝７．９５０ｍｍ、α＝１５°、β＝
５°、支持体厚み＝１００μｍ、支持体剛性＝６００ｋ
ｇ／ｍｍ²に固定し、ｂ１と抗力Ｐ１〜Ｐ３の関係を計
算にて求めた。その結果を図１２に示す。次に図１２よ
り抗力が負になる、すなわち支持体がエッジ面と接触し
なくなる臨界値近傍でｂ１の代表値を３つ選び実際に塗
布を行った。塗布速度は２００ｍ／分、塗布量は１ｍ²
あたり１０ｇとした。代表値での抗力の値と塗布結果を
表８に示す。

【００３８】

【表８】

【００３９】表３ないし表８から明らかなように、支持
体とエッジ面との非接触状態（抗力がマイナスの箇所）
の部分があると塗布結果は低下していることが判り、本
発明のごとく支持体とエッジ面とを接触状態にすること
により良好な塗布層が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の塗布装置の塗布ヘッドによる塗布ヘッ
ドの設定手順を説明するための原理図である。

【図２】本発明の塗布装置における塗布ヘッドの組立方
及び概略構成を示す横断面図である。

【図３】図３に示した塗布装置のＡ部分の拡大図であ
る。

【図４】本発明の塗布装置の塗布ヘッドの分解斜視図で
ある。

【図５】図３に示した塗布装置による塗布状態を示す概
略図である。

【図６】本発明の塗布装置における上流及び下流パスロ
ーラ間に装架した支持体における張力、抗力の状態を示
す説明図である。

【図７】実施例１において測定した支持体の厚みと各ブ
ロックのエッジ面から受ける抗力の関係を示す特性曲線
図である。

【図８】実施例２において得られたブロックのエッジ面
高さを位置と各ブロックのエッジ面から受ける抗力の関
係を示す特性曲線図である。

【図９】実施例３において得られた支持体の厚みと各ブ
ロックのエッジ面から受ける抗力の関係を示す特性曲線
図である。

【図１０】実施例４において得られる支持体張力と各ブ
ロックのエッジ面から受ける抗力の関係を示す特性曲線
図である。

【図１１】実施例５において得られるブロックのエッジ
面における支持体の接触角と各ブロックエッジから受け
る抗力の関係を示す特性曲線図である。

【図１２】実施例６において得られる支持体厚みと各ブ
ロックのエッジ面から受ける抗力の関係を示す特性曲線
図である。

【符号の説明】

１支持体２，３，４ブロック８液溜まり９スロット１０塗布ヘッド１１上流パスローラ１２下流パスローラ１５塗布装置

【手続補正書】

【提出日】平成６年７月１９日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２７】（実施例１）ブロック２の曲率ｒ１＝５．
０００ｍｍ、ｒ２＝８．０００ｍｍ、ａ１＝１．０００
ｍｍ、ａ２＝１．７００ｍｍ、ｂ１＝４．９４５ｍｍ、
ｂ２＝７．９５０ｍｍ、α＝１５°、β＝５°、Ｔ＝２
０ｋｇ／ｍ、支持体剛性＝６００ｋｇ／ｍｍ²に固定
し、支持体の厚みと抗力Ｐ１〜Ｐ３の関係を計算式にし
たがって計算した。代表値での抗力の値と塗布結果を図
７に示す。次に、図７より抗力が負になる、すなわち支
持体１がブロックのエッジ面と接触しなくなる臨界値近
傍での代表値を３つ選び実際に塗布を行った。塗布速度
は２００ｍ／分、塗布量は１ｍ²あたり１０ｇとした。
代表値での抗力の値と塗布結果を表３に示す。なお、塗
布結果の欄に示した評価は塗膜の厚みムラについて観察
した。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３７】（実施例６）ｒ１＝５．０００ｍｍ、ｒ２
＝８．０００ｍｍ、ａ１＝１．０００ｍｍ、ａ２＝１．
７００ｍｍ、ｂ２＝７．９５０ｍｍ、α＝１５°、β＝
５°、Ｔ＝２０ｋｇ／ｍ、支持体厚み＝１００μｍ、支
持体剛性＝６００ｋｇ／ｍｍ²に固定し、ｂ１と抗力Ｐ
１〜Ｐ３の関係を計算にて求めた。その結果を図１２に
示す。次に図１２より抗力が負になる、すなわち支持体
がエッジ面と接触しなくなる臨界値近傍でｂ１の代表値
を３つ選び実際に塗布を行った。塗布速度は２００ｍ／
分、塗布量は１ｍ²あたり１０ｇとした。代表値での抗
力の値と塗布結果を表８に示す。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】可撓性支持体の走行方向の上流側の上流
パスローラと下流側の下流パスローラと、この両パスロ
ーラ間に装架し走行する前記可撓性支持体に塗布ヘッド
を押し付けてスロットから塗布液を吐出するように構成
されたエクストルージョン型の塗布装置において、前記
両パスローラが前記塗布ヘッドに対して支持体厚み方向
に移動自在に構成され、かつ前記塗布ヘッドは３個以上
のブロックにより複数の前記スロット及びエッジ面を形
成し、該各ブロックは前記エッジ面の支持体に対する位
置が前記スロットの塗布液吐出方向にそって前後移動可
能に構成されたことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】可撓性支持体をその走行方向の上流側の
上流パスローラと下流側の下流パスローラとの間に装架
して走行させた該支持体上に塗布ヘッドを押し付けて複
数のスロットから複数の塗布液を同時に吐出する塗布方
法において、前記スロットを構成するブロックの３個以
上のエッジ面を前記可撓性支持体の塗布面に向けて前後
移動可能とし、前記上流パスローラと前記下流パスロー
ラとの間に前記可撓性支持体を掛け渡した後に、前記エ
ッジ面の全てを少なくとも前記塗布面に接するように調
整してから前記塗布液の塗布を行うことを特徴とする塗
布方法。