JPH0619826B2 - 磁気記録材料及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録材料及びその製造方法Info
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- JPH0619826B2 JPH0619826B2 JP59041956A JP4195684A JPH0619826B2 JP H0619826 B2 JPH0619826 B2 JP H0619826B2 JP 59041956 A JP59041956 A JP 59041956A JP 4195684 A JP4195684 A JP 4195684A JP H0619826 B2 JPH0619826 B2 JP H0619826B2
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- film
- stretching
- magnetic recording
- temperature
- polyetherketone
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、長さ方向及びそれと直角方向共に優れた機械
的性質を有し、かつ良好な寸法安定性を有する新規な磁
気記録材料が、及びそのうちの特に磁気記録テープの製
造方法に関する。
的性質を有し、かつ良好な寸法安定性を有する新規な磁
気記録材料が、及びそのうちの特に磁気記録テープの製
造方法に関する。
近年工業用途に使用されるフイルムは、ポリエチレンテ
レフタレート系フイルムが主流をなしており、その機械
的性質及び電気的性質から多方面にわたつて応用されて
いる。その中でも磁気記録材料特にオーデイオテープ、
ビデオテープ、フロツピーデイスク用基材としては、格
段に優れた性質を示し、コスト・パーフオーマンスの点
で、他のフイルムの追随を許さないといつても過言では
ない状況にある。
レフタレート系フイルムが主流をなしており、その機械
的性質及び電気的性質から多方面にわたつて応用されて
いる。その中でも磁気記録材料特にオーデイオテープ、
ビデオテープ、フロツピーデイスク用基材としては、格
段に優れた性質を示し、コスト・パーフオーマンスの点
で、他のフイルムの追随を許さないといつても過言では
ない状況にある。
しかし、近年磁気記録材料は、高密度化、薄膜化の傾向
にあり、ポリエチレンテレフタレートに代る更に優れた
フイルムが嘱望されている。例えばビデオテープにおい
ては、現行のビデオで長時間化の要求があり、ベースフ
イルムの薄膜化が計られてきた。しかし最近の動向とし
ては、カメラ一体型の8m/mビデオテープが規格化さ
れ、上市に向けて小型化、高密度化の要求がますます高
まつている。
にあり、ポリエチレンテレフタレートに代る更に優れた
フイルムが嘱望されている。例えばビデオテープにおい
ては、現行のビデオで長時間化の要求があり、ベースフ
イルムの薄膜化が計られてきた。しかし最近の動向とし
ては、カメラ一体型の8m/mビデオテープが規格化さ
れ、上市に向けて小型化、高密度化の要求がますます高
まつている。
特に高密度化のために、これまでの酸化鉄をバインダー
と共に塗布する方式から、金属粉を直接フイルムに蒸着
する方式への転換がなされており、この蒸着過程でフイ
ルムが熱を受けること、またフイルム温度が高温程蒸着
金属とフイルムとの密着性が良いことなどから、ベース
フイルムの耐熱性及び寸法安定性の向上が要望されてい
る。
と共に塗布する方式から、金属粉を直接フイルムに蒸着
する方式への転換がなされており、この蒸着過程でフイ
ルムが熱を受けること、またフイルム温度が高温程蒸着
金属とフイルムとの密着性が良いことなどから、ベース
フイルムの耐熱性及び寸法安定性の向上が要望されてい
る。
また、フロツピーデイスクにおいても、コンパクトデイ
スク化の傾向にあり、それに伴い高密度化が要望されて
いる。高密度化する方法としては、金属蒸着、垂直磁気
蒸着により磁気特性を上げる方法においては耐熱性が、
またトラツク数を上げる方法においては、温湿度膨張係
数、温湿度による不可逆変化を押えるなど寸法安定性の
向上が望まれている。
スク化の傾向にあり、それに伴い高密度化が要望されて
いる。高密度化する方法としては、金属蒸着、垂直磁気
蒸着により磁気特性を上げる方法においては耐熱性が、
またトラツク数を上げる方法においては、温湿度膨張係
数、温湿度による不可逆変化を押えるなど寸法安定性の
向上が望まれている。
これに対しては、ポリイミド系フイルム、芳香族ポリア
ミド系フイルム等が提案されているが、価格が高い、耐
薬品性が悪い、温湿度に対する寸法安定性が悪いなど短
所も多く新規なフイルム特に、溶融押出可能でかつ結晶
性を有し、更にポリエチレンテレフタレートフイルムよ
りも、耐熱性、機械的性質及び寸法安定性に優れたフイ
ルムの開発が望まれている。そのようなフイルムとし
て、例えば特公昭48−42167号公報に記載のよう
に、ポリエステルの1種であるポリエチレン−2,6−
ナフタレンジカルボキシレートが提案されているが、特
性が格段優れていないし、高価格である点で、現在でも
実用化されていない状況にある。
ミド系フイルム等が提案されているが、価格が高い、耐
薬品性が悪い、温湿度に対する寸法安定性が悪いなど短
所も多く新規なフイルム特に、溶融押出可能でかつ結晶
性を有し、更にポリエチレンテレフタレートフイルムよ
りも、耐熱性、機械的性質及び寸法安定性に優れたフイ
ルムの開発が望まれている。そのようなフイルムとし
て、例えば特公昭48−42167号公報に記載のよう
に、ポリエステルの1種であるポリエチレン−2,6−
ナフタレンジカルボキシレートが提案されているが、特
性が格段優れていないし、高価格である点で、現在でも
実用化されていない状況にある。
他方、フイルム基材としてポリエーテルケトンが考えら
れるが、ポリエーテルケトンは高融点及び高い二次転移
点を有し、かつこれから成形された未延伸フイルムは高
い剛性を示すために、これを二軸延伸して配向フイルム
を製造するには、種々の困難が予想され、事実、ポリエ
ーテルケトンを二軸延伸して高ヤング率で高強度のフイ
ルムを製造する適当な方法は、従来全く知られていなか
つた。
れるが、ポリエーテルケトンは高融点及び高い二次転移
点を有し、かつこれから成形された未延伸フイルムは高
い剛性を示すために、これを二軸延伸して配向フイルム
を製造するには、種々の困難が予想され、事実、ポリエ
ーテルケトンを二軸延伸して高ヤング率で高強度のフイ
ルムを製造する適当な方法は、従来全く知られていなか
つた。
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされ
たものであり、その目的は、従来公知のものより機械的
性質及び耐熱寸法安定性に優れた磁気記録材料と、特に
ポリエーテルケトンを用いた磁気記録テープの製造方法
とを提供することにある。
たものであり、その目的は、従来公知のものより機械的
性質及び耐熱寸法安定性に優れた磁気記録材料と、特に
ポリエーテルケトンを用いた磁気記録テープの製造方法
とを提供することにある。
本発明を概説すれば、本発明の第1の発明は磁気記録材
料に関する発明であつて、磁気記録材料における基材
が、120℃以上180℃未満の二次転移点、280℃
以上の融点、及び結晶性を有し、かつポリエーテルケト
ン及び/又はポリエーテルエーテルケトン骨格を有する
高分子物質の未延伸フイルム又はシートを二軸配向させ
たフイルム又はシート(以下、単にフイルムと略称す
る)であつて、その長さ方向及びそれと直角方向の5%
伸長時応力が共に13kg/mm2以上、少なくとも一方向
の初期弾性率が600kg/mm2以上、並びに、180℃
における長さ方向及びそれと直角方向の熱収縮率が4%
以下であることを特徴とする。
料に関する発明であつて、磁気記録材料における基材
が、120℃以上180℃未満の二次転移点、280℃
以上の融点、及び結晶性を有し、かつポリエーテルケト
ン及び/又はポリエーテルエーテルケトン骨格を有する
高分子物質の未延伸フイルム又はシートを二軸配向させ
たフイルム又はシート(以下、単にフイルムと略称す
る)であつて、その長さ方向及びそれと直角方向の5%
伸長時応力が共に13kg/mm2以上、少なくとも一方向
の初期弾性率が600kg/mm2以上、並びに、180℃
における長さ方向及びそれと直角方向の熱収縮率が4%
以下であることを特徴とする。
また、本発明の第2の発明は磁気記録テープの製造方法
に関する発明であつて、下記一般式I: で表される繰返し単位を有し、その固有粘度が0.4dl
/g 以上であるポリエーテルケトンを溶融押出成形して
なる未延伸フイルム(又はシート)を、二次転移点温度
〜210℃において、縦方向及び横方向に、同時又は任
意の順序で遂次、両方向共2.0倍以上二軸延伸した
後、200℃〜融点未満の温度で熱固定して得られるフイ
ルム(又はシート)の表面に、磁性体層を形成すること
を特徴とする。
に関する発明であつて、下記一般式I: で表される繰返し単位を有し、その固有粘度が0.4dl
/g 以上であるポリエーテルケトンを溶融押出成形して
なる未延伸フイルム(又はシート)を、二次転移点温度
〜210℃において、縦方向及び横方向に、同時又は任
意の順序で遂次、両方向共2.0倍以上二軸延伸した
後、200℃〜融点未満の温度で熱固定して得られるフイ
ルム(又はシート)の表面に、磁性体層を形成すること
を特徴とする。
まず、本発明の第1の発明について以下具体的に説明す
る。
る。
本発明において、120℃以上180℃未満の二次転移
点、280℃以上の融点、及び結晶性を有し、かつポリ
エーテルケトン及び/又はポリエーテルエーテルケトン
骨格を有する高分子物質は、この条件を満す限りいかな
るものでもよいが、押出成形の容易さから、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、及びそれらの
各共重合体、更にベンゼン環に側鎖を有するもの等で上
記条件を満すものが特に好適である。なお、本発明にお
ける該高分子物質の融点の上限については、特に制限は
なく、熱固定を行う場合に、その温度の選定において融
点が考慮されるに過ぎない。
点、280℃以上の融点、及び結晶性を有し、かつポリ
エーテルケトン及び/又はポリエーテルエーテルケトン
骨格を有する高分子物質は、この条件を満す限りいかな
るものでもよいが、押出成形の容易さから、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、及びそれらの
各共重合体、更にベンゼン環に側鎖を有するもの等で上
記条件を満すものが特に好適である。なお、本発明にお
ける該高分子物質の融点の上限については、特に制限は
なく、熱固定を行う場合に、その温度の選定において融
点が考慮されるに過ぎない。
すなわち、例えばポリエーテルケトン等は、下記一般式
II: (式中R1 及びR2 は水素又はハロゲン、アルキル基若
しくはその他の置換基を示す)で表される繰返し単位を
有するもの、あるいは、それと下記一般式III: (式中、R3〜R5はR1及びR2と同義である)で表される繰
返し単位を形成しうる成分との共重合体である。
II: (式中R1 及びR2 は水素又はハロゲン、アルキル基若
しくはその他の置換基を示す)で表される繰返し単位を
有するもの、あるいは、それと下記一般式III: (式中、R3〜R5はR1及びR2と同義である)で表される繰
返し単位を形成しうる成分との共重合体である。
他方、例えはポリエーテルエーテルケトン等は、下記一
般式IV: (式中、R6〜R8はR1及びR2と同義である)で表される繰
返し単位を有するもの、あるいはそれと上記式IIIの成
分との共重合体である。
般式IV: (式中、R6〜R8はR1及びR2と同義である)で表される繰
返し単位を有するもの、あるいはそれと上記式IIIの成
分との共重合体である。
その他種々の構造のものがあるが、価格の点からみて、
ホスゲンとジフエニルエーテルとから得られるポリエー
テルケトン、及びホスゲンと1,4−ジフエノキシベン
ゼンとから得られるポリエーテルエーテルケトンを使用
するのが好適である。
ホスゲンとジフエニルエーテルとから得られるポリエー
テルケトン、及びホスゲンと1,4−ジフエノキシベン
ゼンとから得られるポリエーテルエーテルケトンを使用
するのが好適である。
なお、該高分子物質には、二酸化チタンなどのつや消
剤、安定剤、微粒子シリカ、チヤイナクレイなどの滑剤
を含有させてもよい。
剤、安定剤、微粒子シリカ、チヤイナクレイなどの滑剤
を含有させてもよい。
本発明の磁気記録材料における基材となるフイルムは、
更に下記の各物性を有するものでなくてはならない。
更に下記の各物性を有するものでなくてはならない。
すなわち、その長さ方向及びそれと直角方向の5%伸張
時の応力が共に13kg/mm2以上、好ましくは15kg/m
m2以上であり、少なくとも一方向の初期弾性率が600
kg/mm2以上、好ましくは800kg/mm2以上であり、1
80℃における長さ方向及びそれと直角方向の熱収縮率
が4%以下、好ましくは3%以下、更に好ましくは1%
以下であることである。
時の応力が共に13kg/mm2以上、好ましくは15kg/m
m2以上であり、少なくとも一方向の初期弾性率が600
kg/mm2以上、好ましくは800kg/mm2以上であり、1
80℃における長さ方向及びそれと直角方向の熱収縮率
が4%以下、好ましくは3%以下、更に好ましくは1%
以下であることである。
以上のごとき3つの条件をすべて兼ね備えた磁気記録材
料は全く新規なものであり、従来公知の磁気記録材料の
いずれのものも、前記3条件のうちの少なくとも1つを
欠くものであつた。例えば、ポリエチレンテレフタレー
トを用いて縦横共に強度の高いフイルムを造ろうとする
と、熱収縮率が高くなり、逆に熱収縮率を抑えようとす
ると所望の機械的強度が得られないというジレンマに陥
つていた。また、両方向共に強度の高いバランスのとれ
たフイルムを造ることは、ポリエチレンテレフタレート
の場合、非常に困難なことであつた。
料は全く新規なものであり、従来公知の磁気記録材料の
いずれのものも、前記3条件のうちの少なくとも1つを
欠くものであつた。例えば、ポリエチレンテレフタレー
トを用いて縦横共に強度の高いフイルムを造ろうとする
と、熱収縮率が高くなり、逆に熱収縮率を抑えようとす
ると所望の機械的強度が得られないというジレンマに陥
つていた。また、両方向共に強度の高いバランスのとれ
たフイルムを造ることは、ポリエチレンテレフタレート
の場合、非常に困難なことであつた。
したがつて、本発明による縦横共に優れた機械的性質と
極めて優れた耐熱寸法安定性を有する結晶性のフイルム
は、従来にない画期的なフイルムであり、これを基材と
する磁気記録材料は、小型化、薄膜化及び高密度化の市
場要求に充分合致するものである。
極めて優れた耐熱寸法安定性を有する結晶性のフイルム
は、従来にない画期的なフイルムであり、これを基材と
する磁気記録材料は、小型化、薄膜化及び高密度化の市
場要求に充分合致するものである。
本発明の磁気記録材料は、前記した高分子物質を、通常
の方法で成型し、得られた未延伸フイルムを二軸方向に
延伸した後、必要に応じ熱処理することにより製造され
る。延伸方法としては、遂次二軸延伸法、同時二軸延伸
法、遂次三段延伸法等を採用することが出来る。しかし
て、遂次二軸延伸法の場合、その順序は縦横いずれでも
よく、その延伸温度は、最初の段階は、該高分子物質の
二次転移点温度〜210℃で、その後段の延伸は、21
0℃以下であつて、前段と同等若しくは3℃以上高い温
度が好ましく、また延伸倍率は、縦方向2.5〜5.
0、横方向2.5〜5.0がそれぞれ好ましい。
の方法で成型し、得られた未延伸フイルムを二軸方向に
延伸した後、必要に応じ熱処理することにより製造され
る。延伸方法としては、遂次二軸延伸法、同時二軸延伸
法、遂次三段延伸法等を採用することが出来る。しかし
て、遂次二軸延伸法の場合、その順序は縦横いずれでも
よく、その延伸温度は、最初の段階は、該高分子物質の
二次転移点温度〜210℃で、その後段の延伸は、21
0℃以下であつて、前段と同等若しくは3℃以上高い温
度が好ましく、また延伸倍率は、縦方向2.5〜5.
0、横方向2.5〜5.0がそれぞれ好ましい。
熱処理温度は、210℃〜融点未満の範囲が好ましい。
こうして得られるフイルムの表面に磁性体層を形成する
には、磁気記録材料の製造において実施されている従来
公知の方法を採用することができる。例えば、磁性体粒
子(例えば酸化金属又はコバルト、ニツケルなどの金属
単体)とバインダーとの混合物を塗布して薄層を形成さ
せる方法、あるいは金属を真空蒸着、イオンプレーテイ
ング若しくはスパツタリング等で直接固着させる方法な
どがある。
には、磁気記録材料の製造において実施されている従来
公知の方法を採用することができる。例えば、磁性体粒
子(例えば酸化金属又はコバルト、ニツケルなどの金属
単体)とバインダーとの混合物を塗布して薄層を形成さ
せる方法、あるいは金属を真空蒸着、イオンプレーテイ
ング若しくはスパツタリング等で直接固着させる方法な
どがある。
本発明の磁気記録材料は、前述したように、磁性材料の
極薄化及び高密度化の要請に充分こたえるものである。
極薄化及び高密度化の要請に充分こたえるものである。
次に、本発明の第2の発明である磁気記録テープの製造
方法について具体的に説明する。
方法について具体的に説明する。
本発明方法で使用するポリエーテルケトンは、各種の公
知方法でうることができる。例えば、p−フエノキシ塩
化ベンゾイルを、フツ化水素中で三フツ化ホウ素の存在
下で重合させることにより得られる。しかしながら、価
格を低下させる目的で、ホスゲンとジフエニルエーテル
を、二硫化炭素中、三塩化アルミニウムの存在下に重合
させるのが最適の方法である。
知方法でうることができる。例えば、p−フエノキシ塩
化ベンゾイルを、フツ化水素中で三フツ化ホウ素の存在
下で重合させることにより得られる。しかしながら、価
格を低下させる目的で、ホスゲンとジフエニルエーテル
を、二硫化炭素中、三塩化アルミニウムの存在下に重合
させるのが最適の方法である。
また、該ポリエーテルケトン中には、二酸化チタンなど
のつや消剤、安定剤、及び微粒子シリカ、チヤイナクレ
イなどの滑剤等が含まれてもよい。
のつや消剤、安定剤、及び微粒子シリカ、チヤイナクレ
イなどの滑剤等が含まれてもよい。
本発明方法は、これらポリエーテルケトンのうち固有粘
度が0.4dl/g以上のものに適用される。ここにいう
固有粘度とは、濃硫酸中、1.0g/dlの濃度、30℃
の温度で測定した値である。しかして、固有粘度が0.
4dl/g未満のものでは有用なフイルムが得られないの
で好ましくない。
度が0.4dl/g以上のものに適用される。ここにいう
固有粘度とは、濃硫酸中、1.0g/dlの濃度、30℃
の温度で測定した値である。しかして、固有粘度が0.
4dl/g未満のものでは有用なフイルムが得られないの
で好ましくない。
本発明は、前記のごときポリエーテルケトンから成形さ
れた未延伸フイルムに対して適用される。未延伸フイル
ムの厚さは任意に選定することが可能であり、例えば厚
さ数10μm のような薄いものから、例えば厚さ0.5
mmを超えるような相当の厚さのものまで最適可能であ
る。但し、ポリエステルに比べて結晶化速度が早いた
め、急冷の方法には、工夫が必要である。つまり急冷時
球晶が生成しないようにしなければならない。場合によ
つては水冷、氷中への冷却も好ましい方法である。
れた未延伸フイルムに対して適用される。未延伸フイル
ムの厚さは任意に選定することが可能であり、例えば厚
さ数10μm のような薄いものから、例えば厚さ0.5
mmを超えるような相当の厚さのものまで最適可能であ
る。但し、ポリエステルに比べて結晶化速度が早いた
め、急冷の方法には、工夫が必要である。つまり急冷時
球晶が生成しないようにしなければならない。場合によ
つては水冷、氷中への冷却も好ましい方法である。
本発明方法において、遂次延伸方法を採用して、未延伸
フイルムを遂次延伸する場合には、最初の延伸は、使用
したポリエーテルケトンの二次転移点温度〜210℃の
温度で行い、後段の延伸(最初の延伸方向と直角方向へ
の延伸)は、210℃以下の温度で、かつ前段の前記延
伸温度と同等若しくは5℃以上高い温度で行うことが好
ましい。ここで前段延伸後の平均屈折率(以下と略記
する)1.750以下とすることが好ましい。特に本フ
イルムは前述のごとく結晶化速度が早いので、延伸後冷
却過程で結晶化しやすく球晶が生成すると、後段延伸性
が極めて悪化するので、の管理は特に重要である。ま
た、それぞれの延伸における延伸倍率が2.0倍未満で
は、所望の強度及びヤング率が得られないばかりでな
く、得られたフイルムの厚み斑が磁気記録テープとして
は不適当である。
フイルムを遂次延伸する場合には、最初の延伸は、使用
したポリエーテルケトンの二次転移点温度〜210℃の
温度で行い、後段の延伸(最初の延伸方向と直角方向へ
の延伸)は、210℃以下の温度で、かつ前段の前記延
伸温度と同等若しくは5℃以上高い温度で行うことが好
ましい。ここで前段延伸後の平均屈折率(以下と略記
する)1.750以下とすることが好ましい。特に本フ
イルムは前述のごとく結晶化速度が早いので、延伸後冷
却過程で結晶化しやすく球晶が生成すると、後段延伸性
が極めて悪化するので、の管理は特に重要である。ま
た、それぞれの延伸における延伸倍率が2.0倍未満で
は、所望の強度及びヤング率が得られないばかりでな
く、得られたフイルムの厚み斑が磁気記録テープとして
は不適当である。
また最初の延伸において、延伸温度が前記二次転移点よ
り低い場合には、冷延伸となりフイルムの厚薄が生じ、
厚さ斑の均一なフイルムが得られない。他方、延伸温度
が210℃を超える温度になると、延伸時結晶化が進み
前段延伸後のが高くなりすぎて後段延伸が不可能にな
る。ところでこの二次転移点温度と210℃の間で前段
延伸をする際、選択する温度によつては、フロー延伸を
起して充分に配向しない場合も有るが、その際には前段
延伸を何段かの多段に分けて前段延伸後所望のを得る
ことも好適である。
り低い場合には、冷延伸となりフイルムの厚薄が生じ、
厚さ斑の均一なフイルムが得られない。他方、延伸温度
が210℃を超える温度になると、延伸時結晶化が進み
前段延伸後のが高くなりすぎて後段延伸が不可能にな
る。ところでこの二次転移点温度と210℃の間で前段
延伸をする際、選択する温度によつては、フロー延伸を
起して充分に配向しない場合も有るが、その際には前段
延伸を何段かの多段に分けて前段延伸後所望のを得る
ことも好適である。
後段の延伸においては、延伸温度は、最初の延伸後のフ
イルムの配向により適正な条件を選択すれば良いが、後
段の延伸温度を前段延伸温度と同等若しくは、むしろ好
ましくは5℃以上高目に設定するのが好ましい。特に前
段のが高目にある時は後段の延伸温度を高目に設定す
るのが好ましい。
イルムの配向により適正な条件を選択すれば良いが、後
段の延伸温度を前段延伸温度と同等若しくは、むしろ好
ましくは5℃以上高目に設定するのが好ましい。特に前
段のが高目にある時は後段の延伸温度を高目に設定す
るのが好ましい。
一般に、ポリエーテルケトンの二次転移点温度は、差動
走査熱量計(DSC )で測定して154℃を示す。
走査熱量計(DSC )で測定して154℃を示す。
本発明における平均屈折率とは、光線波長589mμ
(D線の中央)、温度20℃にて高屈折率まで測定出来
るようにしたアツベの屈折計の改良型で測定した、フイ
ルム面内の主軸方向の屈折率(nγ)、それと直角な方
向の面内の屈折率(nβ)、及び厚み方向の屈折率(n
α)の相加平均値をいう。
(D線の中央)、温度20℃にて高屈折率まで測定出来
るようにしたアツベの屈折計の改良型で測定した、フイ
ルム面内の主軸方向の屈折率(nγ)、それと直角な方
向の面内の屈折率(nβ)、及び厚み方向の屈折率(n
α)の相加平均値をいう。
前記遂次方法で本発明によるフイルムを得るには、最初
の延伸温度を154〜210℃、延伸倍率を2.0〜
5.0とし、後段の延伸倍率を2.0〜6.0とするこ
とが好適である。そして、その延伸速度は、縦延伸工程
においては、50〜100000%/秒、横延伸工程において
は5〜500%/秒の範囲でそれぞれ変化させることが
出来る。
の延伸温度を154〜210℃、延伸倍率を2.0〜
5.0とし、後段の延伸倍率を2.0〜6.0とするこ
とが好適である。そして、その延伸速度は、縦延伸工程
においては、50〜100000%/秒、横延伸工程において
は5〜500%/秒の範囲でそれぞれ変化させることが
出来る。
本発明における延伸方法としては、まず縦方向に延伸し
たのち横方向に延伸する遂次二軸延伸法が、最も推奨さ
れる。しかし、まず横方向に延伸したのち、縦方向に延
伸する遂次二軸延伸方法、延伸温度の条件を遂次二軸延
伸の前段延伸条件と一致するように選択すれば同時二軸
延伸方法も好適である。延伸装置としてはロール、テン
ター、チユーブラー等必要に応じて選択出来る。また、
縦方向に強度を向上させるためには、再延伸、再縦横延
伸等も望ましい。このようにして得た配向フイルムは、
高強度及び高ヤング率でありかつ平面性に優れている
が、これを下記の条件で熱処理することにより、耐熱性
及び寸法安定性を更に向上させることが出来る。
たのち横方向に延伸する遂次二軸延伸法が、最も推奨さ
れる。しかし、まず横方向に延伸したのち、縦方向に延
伸する遂次二軸延伸方法、延伸温度の条件を遂次二軸延
伸の前段延伸条件と一致するように選択すれば同時二軸
延伸方法も好適である。延伸装置としてはロール、テン
ター、チユーブラー等必要に応じて選択出来る。また、
縦方向に強度を向上させるためには、再延伸、再縦横延
伸等も望ましい。このようにして得た配向フイルムは、
高強度及び高ヤング率でありかつ平面性に優れている
が、これを下記の条件で熱処理することにより、耐熱性
及び寸法安定性を更に向上させることが出来る。
すなわち、前記の条件で、二軸延伸したポリエーテルケ
トンフイルムは、200℃以上融点未満の温度で熱処理
することによつて更に優れたフイルムが得られる。
トンフイルムは、200℃以上融点未満の温度で熱処理
することによつて更に優れたフイルムが得られる。
熱処理温度が200℃より低い場合には、熱処理時間が
長すぎ効果的ではない。他方、融点以上になると、フイ
ルムは融解して破断してしまう。
長すぎ効果的ではない。他方、融点以上になると、フイ
ルムは融解して破断してしまう。
また、熱処理は緊張下又は収縮下のいずれで行つても良
いが、収縮下で行う際は、10%以下の制限収縮下で行
うことが好ましい。それ以上では配向緩和が起りすぎて
機械的強度の著しい低下を招くので不適当である。
いが、収縮下で行う際は、10%以下の制限収縮下で行
うことが好ましい。それ以上では配向緩和が起りすぎて
機械的強度の著しい低下を招くので不適当である。
次いで、前記のように延伸し、熱処理したフイルムの表
面に磁性体層を形成するが、その方法としては、既述し
た従来公知の方法を採用することができる。
面に磁性体層を形成するが、その方法としては、既述し
た従来公知の方法を採用することができる。
上記した本発明方法により得られる磁気記録テープは、
従来公知のテープと比較して、強度及び寸法安定性が優
れており、極薄のテープで充分に磁気記録テープとして
の機能を発揮することが出来ると共に、8m/mビデオ用
蒸着型テープとして好適に用いられる。
従来公知のテープと比較して、強度及び寸法安定性が優
れており、極薄のテープで充分に磁気記録テープとして
の機能を発揮することが出来ると共に、8m/mビデオ用
蒸着型テープとして好適に用いられる。
以下、実施例及び製造例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明は、その要旨を超えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。
明するが、本発明は、その要旨を超えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。
製造例1 ホスゲンとジフエニルエーテルを5:1のモル比で二硫
化炭素中、三塩化アルミニウムの存在下で常法により合
成された固有粘度が0.81dl/gのポリエーテルケト
ンを使用して製造された種々の厚さの未延伸フイルムを
押出成形加工して未延伸フイルムを製造した。
化炭素中、三塩化アルミニウムの存在下で常法により合
成された固有粘度が0.81dl/gのポリエーテルケト
ンを使用して製造された種々の厚さの未延伸フイルムを
押出成形加工して未延伸フイルムを製造した。
該未延伸フイルムを、まず縦方向に延伸温度175℃で
延伸倍率1.9倍(番号1)、3.2倍(番号2)、
3.5倍(番号3)、及び4.1倍(番号4)延伸した
後、横方向に同一温度で×3.2倍延伸し、次いで35
0℃で20秒熱固定して最終フイルムとして厚さ15μ
mの二軸延伸熱固定フイルムを得た。それらの物性を下
記表1に示す。
延伸倍率1.9倍(番号1)、3.2倍(番号2)、
3.5倍(番号3)、及び4.1倍(番号4)延伸した
後、横方向に同一温度で×3.2倍延伸し、次いで35
0℃で20秒熱固定して最終フイルムとして厚さ15μ
mの二軸延伸熱固定フイルムを得た。それらの物性を下
記表1に示す。
表1より厚さ斑の点から縦方向の延伸倍率は×2.0倍
以上必要であることが分る。
以上必要であることが分る。
実施例1 固有粘度0.75なるポリエーテルケトンから製造され
た未延伸フイルムをまず縦方向に175℃で3.5倍、
次いで横方向に180℃で3.5倍延伸したのち、32
0℃で熱固定を行つた。このようにして得られたフイル
ムと市販の磁気テープ用ポリエチレンテレフタレートフ
イルムの性能を比較した。その結果を下記表2に示す。
た未延伸フイルムをまず縦方向に175℃で3.5倍、
次いで横方向に180℃で3.5倍延伸したのち、32
0℃で熱固定を行つた。このようにして得られたフイル
ムと市販の磁気テープ用ポリエチレンテレフタレートフ
イルムの性能を比較した。その結果を下記表2に示す。
これらのフイルムに、針状磁性酸化鉄とバインダーとか
らなる組成物を薄層で塗布し、固化させて造つた磁気テ
ープを対比すると、強度では同等であるが、寸法安定性
特に高温高湿度での寸法安定性においては、ポリエーテ
ルケトンフイルムを基材とした磁気テープの方が、ポリ
エチレンテレフタレートフイルムを基材とした磁気テー
プよりも格段に優れており、また同一のケースに入る磁
気テープの長さも格段に長いことが分つた。
らなる組成物を薄層で塗布し、固化させて造つた磁気テ
ープを対比すると、強度では同等であるが、寸法安定性
特に高温高湿度での寸法安定性においては、ポリエーテ
ルケトンフイルムを基材とした磁気テープの方が、ポリ
エチレンテレフタレートフイルムを基材とした磁気テー
プよりも格段に優れており、また同一のケースに入る磁
気テープの長さも格段に長いことが分つた。
また、コバルト又はニツケル金属を真空蒸着して磁気テ
ープを造つたところ、ポリエチレンテレフタレートフイ
ルムの場合には、蒸着源と反対面にある冷却ドラムを、
カール及び寸法変化の点から室温にしなければならない
のに対して、ポリエーテルケトンフイルムの場合には、
130℃までドラム温度を上げても全く問題がないこと
が分つた。このようにして得た蒸着テープは、磁性体層
とフイルムとの接着性が格段に優れていた。
ープを造つたところ、ポリエチレンテレフタレートフイ
ルムの場合には、蒸着源と反対面にある冷却ドラムを、
カール及び寸法変化の点から室温にしなければならない
のに対して、ポリエーテルケトンフイルムの場合には、
130℃までドラム温度を上げても全く問題がないこと
が分つた。このようにして得た蒸着テープは、磁性体層
とフイルムとの接着性が格段に優れていた。
実施例2〜6 常法により得たポリエーテルケトンから未延伸フイルム
を作製した。その二次転移点は154℃、融点は367
℃であつた。この未延伸フイルムを、まず縦方向に17
5℃で3.4倍延伸し、次いで横方向に180℃で3.
4倍延伸したのち、320℃で熱固定を行い、厚さ15
μmのフイルムを得た(実施例2)。
を作製した。その二次転移点は154℃、融点は367
℃であつた。この未延伸フイルムを、まず縦方向に17
5℃で3.4倍延伸し、次いで横方向に180℃で3.
4倍延伸したのち、320℃で熱固定を行い、厚さ15
μmのフイルムを得た(実施例2)。
また、熱固定しないものについても評価した(実施例
3)。更にまた、上記と同様の未延伸フイルムを用い
て、185℃で縦横共に3.4倍で同時二軸延伸し、3
00℃で熱固定を行つて、厚さ15μmのフイルムを得
た(実施例4)。
3)。更にまた、上記と同様の未延伸フイルムを用い
て、185℃で縦横共に3.4倍で同時二軸延伸し、3
00℃で熱固定を行つて、厚さ15μmのフイルムを得
た(実施例4)。
このようにして得た各延伸フイルムの各特性を下記表3
に示す。
に示す。
このフイルム表面に、従来公知の磁性粒子と結着剤との
組成物を塗布して薄層を形成させて磁気記録テープを造
つた。
組成物を塗布して薄層を形成させて磁気記録テープを造
つた。
これを、市販されている縦横方向5%伸張時応力が約1
5kg/mm2のポリエチレンテレフタレートを基材とした
磁気記録テープと対比した。この市販品の180℃、1
分における熱収縮率は、縦方向で15%と非常に高いも
のであつた。
5kg/mm2のポリエチレンテレフタレートを基材とした
磁気記録テープと対比した。この市販品の180℃、1
分における熱収縮率は、縦方向で15%と非常に高いも
のであつた。
実施例5 常法により得たポリエーテルエーテルケトンから未延伸
フイルムを作製した。その二次転移点は138℃、融点
は320℃であつた。この未延伸フイルムを、まず縦方
向に160℃で4.0倍延伸し、次いで横方向に170
℃で2.8倍延伸したのち、300℃で熱処理し、厚さ
15μmのフイルムを得た。このようにして得た延伸フ
イルムの各特性を下記表4に示す。
フイルムを作製した。その二次転移点は138℃、融点
は320℃であつた。この未延伸フイルムを、まず縦方
向に160℃で4.0倍延伸し、次いで横方向に170
℃で2.8倍延伸したのち、300℃で熱処理し、厚さ
15μmのフイルムを得た。このようにして得た延伸フ
イルムの各特性を下記表4に示す。
このフイルムから実施例2と同様にして磁気記録テープ
を造り、市販のポリエチレンテレフタレートを基材とし
たテンシライズドフイルム(縦方向5%伸長時応力1
9.3kg/mm2)からの磁気記録テープと対比した。
を造り、市販のポリエチレンテレフタレートを基材とし
たテンシライズドフイルム(縦方向5%伸長時応力1
9.3kg/mm2)からの磁気記録テープと対比した。
該市販テープと本実施例のテープとは、縦方向の強度は
同等であつたが、横方向の強度は、本実施例のテープが
13kg/mm2であるのに対して、市販テープは9.8kg
/mm2であり、また多数回走行後の耐久性は、本実施例
のテープの方が市販テープよりも格段に優れていること
が分つた。更に、寸法安定性についても、市販テープの
場合には縦方向180℃、1分の熱収縮率は20%と非
常に劣るものであつた。
同等であつたが、横方向の強度は、本実施例のテープが
13kg/mm2であるのに対して、市販テープは9.8kg
/mm2であり、また多数回走行後の耐久性は、本実施例
のテープの方が市販テープよりも格段に優れていること
が分つた。更に、寸法安定性についても、市販テープの
場合には縦方向180℃、1分の熱収縮率は20%と非
常に劣るものであつた。
以上説明したように、本発明による磁気記録材料、特に
磁気記録テープは、従来公知のものより優れた機械的性
質及び耐熱寸法安定性をもつという顕著な効果を奏する
ものである。
磁気記録テープは、従来公知のものより優れた機械的性
質及び耐熱寸法安定性をもつという顕著な効果を奏する
ものである。
Claims (3)
- 【請求項1】磁気記録材料における基材が、120℃℃
以上180℃未満の二次転移点、280℃以上の融点、
及び結晶性を有し、かつポリエーテルケトン及び/又は
ポリエーテルエーテルケトン骨格を有する高分子物質の
未延伸フイルム又はシートを二軸配向させたフイルム又
はシートであつて、その長さ方向及びそれと直角方向の
5%伸長時応力が共に13kg/mm2以上、少なくとも一
方向の初期弾性率が600 kg/mm2以上、並びに、180
℃における長さ方向及びそれと直角方向の熱収縮率が4
%以下であることを特徴とする磁気記録材料。 - 【請求項2】該高分子物質が、ポリエーテルケトン又は
ポリエーテルエーテルケトンである特許請求の範囲第1
項記載の磁気記録材料。 - 【請求項3】下記一般式I: で表される繰返し単位を有し、その固有粘度が0.4dl
/g以上であるポリエーテルケトンを溶融押出成形して
なる未延伸フイルム又はシートを、二次転移点温度〜2
10℃において、縦方向及び横方向に、同時又は任意の
順序で逐次、両方向共2.0倍以上二軸延伸した後、2
00℃〜融点未満の温度で熱固定して得られるフイルム
又はシートの表面に、磁性体層を形成することを特徴と
する磁気記録テープの製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59041956A JPH0619826B2 (ja) | 1984-03-07 | 1984-03-07 | 磁気記録材料及びその製造方法 |
DE8585901547T DE3583315D1 (de) | 1984-03-07 | 1985-03-06 | Film oder blatt mit waermebestaendigkeit. |
EP85901547A EP0174376B1 (en) | 1984-03-07 | 1985-03-06 | Heat-resistant film or sheet |
PCT/JP1985/000112 WO1985003905A1 (en) | 1984-03-07 | 1985-03-06 | Heat-resistant film or sheet |
US07/476,146 US4977230A (en) | 1984-03-07 | 1990-02-05 | Heat-resistant film or sheet |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59041956A JPH0619826B2 (ja) | 1984-03-07 | 1984-03-07 | 磁気記録材料及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60187928A JPS60187928A (ja) | 1985-09-25 |
JPH0619826B2 true JPH0619826B2 (ja) | 1994-03-16 |
Family
ID=12622641
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59041956A Expired - Lifetime JPH0619826B2 (ja) | 1984-03-07 | 1984-03-07 | 磁気記録材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0619826B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6139929A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-26 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 磁気記録媒体用ベ−スフイルム |
JP2581745B2 (ja) * | 1988-04-12 | 1997-02-12 | 帝人株式会社 | メンブレンスイッチ用フイルム |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5619012A (en) * | 1979-07-25 | 1981-02-23 | Fujitsu Ltd | Photocoupler |
JPS5863417A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 等方性配向ポリエ−テルエ−テルケトンフイルムの製造方法 |
JPS58140221A (ja) * | 1982-02-17 | 1983-08-19 | Toray Ind Inc | ポリエチレンテレフタレ−トフイルムの製造方法 |
JPS58153232A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-12 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-03-07 JP JP59041956A patent/JPH0619826B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5619012A (en) * | 1979-07-25 | 1981-02-23 | Fujitsu Ltd | Photocoupler |
JPS5863417A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-15 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 等方性配向ポリエ−テルエ−テルケトンフイルムの製造方法 |
JPS58140221A (ja) * | 1982-02-17 | 1983-08-19 | Toray Ind Inc | ポリエチレンテレフタレ−トフイルムの製造方法 |
JPS58153232A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-12 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60187928A (ja) | 1985-09-25 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |