JPH06130664A - ネガ型感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ポリアミド酸のカルボキシル基に単又は多官
能感光性基、更に低級アルコールを共有結合で導入した
ポリアミド酸エステル、ナフトキノンジアジド化合物及
び光重合開始剤からなるネガ型感光性樹脂組成物。 【効果】 高感度でかつ高解像度を有するネガ型のパタ
ーンが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は高感度でかつ高解像度を
有するネガ型のパターンが得られる感光性ポリイミド樹
脂組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体素子の表面保護膜、層間絶
縁膜などには、耐熱性が優れ、また卓越した電気絶縁
性、機械強度などを有するポリイミドが用いられている
が、ポリイミドパターンを作成する繁雑な工程を簡略化
する為にポリイミド自身に感光性を付与する技術が最近
注目を集めている。例えば、下式

【０００３】

【化２】

【０００４】で示されるような構造のエステル基で感光
性基を付与したポリイミド前駆体組成物（例えば特公昭
５５−４１４２２号公報）などが知られている。これら
は、いずれも適当な有機溶剤に溶解し、ワニス状態で塗
布、乾燥した後、フォトマスクを介して紫外線照射し、
現像、リンス処理して所望のパターンを得、さらに加熱
処理することによりポリイミド皮膜としている。

【０００５】感光性を付与したポリイミドを使用すると
パターン作成工程の簡素化効果があるだけでなく、毒性
の強いエッチング液を使用しなくてすむので安全でかつ
公害上も優れており、ポリイミドの感光性化は、今後一
層重要な技術となることが期待されている。しかし、か
かるエステル基を付与したポリイミド前駆体に従来の光
重合開始剤および光増感剤を添加したネガ型感光性ポリ
イミド樹脂組成物では感度と解像度の両特性を同時に満
たすのが困難であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はポリア
ミド酸中のカルボキシル基に、単又は多官能な感光性
基、さらに低級なアルコールを共有結合で導入したポリ
アミド酸エステルに、ナフトキノンジアジド化合物及び
光重合開始剤を配合することにより、高感度でかつ高解
像度のネガ型パターンが得られる感光性樹脂組成物を提
供するものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）式
（１）

【０００８】

【化３】

【０００９】で示されるポリアミド酸エステルと（Ｂ）
ナフキノンジアジド化合物及び（Ｃ）光重合開始剤から
なるネガ型感光性樹脂組成物である。

【００１０】

【作用】本発明において用いる式（１）で示されるポリ
アミド酸エステルは、高い反応性を示し、かつ硬化物は
良好な耐熱性、機械特性、電気特性を有する。

【００１１】式（１）中、Ｒ₁は３又は４価の有機基を
有する化合物から導入されるもので、通常芳香族テトラ
カルボン酸又はその誘導体及び芳香族トリカルボン酸又
はその誘導体が主に使用される。例えば、トリメリット
酸無水物、ピロメリット酸二無水物、ベンゼン−１，
２，３，４−テトラカルボン酸二無水物、３，３’，
４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、
２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、ナフタレン−２，３，６，７−テ
トラカルボン酸二無水物、ナフタレン−１，２，５，６
−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−１，２，
４，５−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−１，
４，５，８−テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン−
１，２，６，７−テトラカルボン酸二無水物、４，８−
ジメチル−１，２，３，５，６，７−ヘキサヒドロナフ
タレン−１，２，５，６−テトラカルボン酸二無水物、
４，８−ジメチル−１，２，３，５，６，７−ヘキサヒ
ドロナフタレン−２，３，６，７−テトラカルボン酸二
無水物、２，６−ジクロロナフタレン−１，４，５，８
−テトラカルボン酸二無水物、２，７−ジクロロナフタ
レン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物、
２，３，６，７−テトラクロロナフタレン−１，４，
５，８−テトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−
テトラクロロナフタレン−２，３，６，７−テトラカル
ボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジ
フェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３”，４，
４”−ｐ−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物、
２，２”，３，３”−ｐ−テルフェニルテトラカルボン
酸二無水物、２，３，３”，４”−ｐ−テルフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカ
ルボキシフェニル）−プロパン二無水物、２，２−ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）−プロパン二無水
物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エーテル二
無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテ
ル二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メ
タン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）
メタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニ
ル）スルホン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフ
ェニル）スルホン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジ
カルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス
（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ベ
リレン−２，３，８，９−テトラカルボン酸二無水物、
ペリレン−３，４，９，１０−テトラカルボン酸二無水
物、ペリレン−４，５，１０，１１−テトラカルボン酸
二無水物、ペリレン−５，６，１１，１２−テトラカル
ボン酸二無水物、フェナンスレン−１，２，７，８−テ
トラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−１，２，
６，７−テトラカルボン酸二無水物、フェナンスレン−
１，２，９，１０−テトラカルボン酸二無水物、シクロ
ペンタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸二無水
物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無
水物、ピロリジン−２，３，４，５−テトラカルボン酸
二無水物、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボ
ン酸二無水物などがあげられるが、これらに限定される
ものではない。また、使用にあたっては、１種類でも２
種類以上の混合物でもかまわない。

【００１２】式（１）中、Ｒ₂は、２価の有機基で、そ
の導入には通常芳香族ジアミン及び／又はその誘導体が
使用される。例えばｍ−フェニレン−ジアミン、１−イ
ソプロピル−２，４−フェニレン−ジアミン、ｐ−フェ
ニレン−ジアミン、４，４’−ジアミノ−ジフェニルプ
ロパン、３，３’−ジアミノ−ジフェニルプロパン、
４，４’−ジアミノ−ジフェニルエタン、３，３’−ジ
アミノ−ジフェニルエタン、４，４’−ジアミノ−ジフ
ェニルメタン、３，３’−ジアミノ−ジフェニルメタ
ン、４，４’−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、３，
３’−ジアミノ−ジフェニルスルフィド、４，４’−ジ
アミノ−ジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノ−ジ
フェニルスルホン、４，４’−ジアミノ−ジフェニルエ
ーテル、３，３’−ジアミノ−ジフェニルエーテル、ベ
ンジジン、３，３’−ジアミノ−ビフェニル、３，３’
−ジメチル−４，４’−ジアミノ−ビフェニル、３，
３’−ジメトキシ−ベンジジン、４，４”−ジアミノ−
ｐ−テルフェニル、３，３”−ジアミノ−ｐ−テルフェ
ニル、ビス（ｐ−アミノ−シクロヘキシル）メタン、ビ
ス（ｐ−β−アミノ−ｔ−ブチルフェニル）エーテル、
ビス（ｐ−β−メチル−δ−アミノペンチル）ベンゼ
ン、ｐ−ビス（２−メチル−４−アミノ−ペンチル）ベ
ンゼン、ｐ−ビス（１，１−ジメチル−５−アミノ−ペ
ンチル）ベンゼン、１，５−ジアミノ−ナフタレン、
２，６−ジアミノ−ナフタレン、２，４−ビス（β−ア
ミノ−ｔ−ブチル）トルエン、２，４−ジアミノ−トル
エン、ｍ−キシレン−２，５−ジアミン、ｐ−キシレン
−２，５−ジアミン、ｍ−キシリレン−ジアミン、ｐ−
キシリレン−ジアミン、２，６−ジアミノ−ピリジン、
２，５−ジアミノ−ピリジン、２，５−ジアミノ−１，
３，４−オキサジアゾール、１，４−ジアミノ−シクロ
ヘキサン、ピペラジン、メチレン−ジアミン、エチレン
−ジアミン、プロピレン−ジアミン、２，２−ジメチル
−プロピレン−ジアミン、テトラメチレン−ジアミン、
ペンタメチレン−ジアミン、ヘキサメチレン−ジアミ
ン、２，５−ジメチル−ヘキサメチレン−ジアミン、３
−メトキシ−ヘキサメチレン−ジアミン、ヘプタメチレ
ン−ジアミン、２，５−ジメチル−ヘプタメチレン−ジ
アミン、３−メチル−ヘプタメチレン−ジアミン、４，
４−ジメチル−ヘプタメチレン−ジアミン、オクタメチ
レン−ジアミン、ノナメチレン−ジアミン、５−メチル
−ノナメチレン−ジアミン、２，５−ジメチル−ノナメ
チレン−ジアミン、デカメチレン−ジアミン、１、１０
−ジアミノ−１，１０−ジメチル−デカン、２，１１−
ジアミノ−ドデカン、１，１２−ジアミノ−オクタデカ
ン、２，１２−ジアミノ−オクタデカン、２，１７−ジ
アミノ−アイコサン、ジアミノシロキサン、２，６−ジ
アミノ−４−カルボキシリックベンゼン、３，３’−ジ
アミノ−４，４’−ジカルボキシリックベンジジンなど
があげられるが、これらに限定されるものではない。ま
た使用にあたっては、１種類でも２種類以上の混合物で
もかまわない。

【００１３】式（１）中、Ｒ₃はアクリル（メタクリ
ル）基を１〜５基有する感光性基、Ｒ₄は、アクリル
（メタクリル）基を１〜５基有する感光性基又はメチル
基、エチル基である。Ｒ₃、Ｒ₄中、アクリル（メタクリ
ル）基が０では架橋構造が得られず好ましくない。また
６官能以上のアクリル（メタクリル）基は工業上製造が
困難であるばかりでなく、分子量が大きくなるため相溶
性が低下し好ましくない。Ｒ₃、Ｒ₄を導入するための化
合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ペンタエリスリトールアクリレートジメタクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレートメタクリレート、
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタメタクリレート、グリセロールジ
アクリレート、グリセロールジメタクリレート、グリセ
ロールアクリレートメタクリレート、トリメチロールプ
ロパンジアクリレート、１，３−ジアクリロイルエチル
−５−ヒドロキシエチルイソシアヌレート、１，３−ジ
メタクリレート−５−ヒドロキシエチルイソシアヌレー
ト、エチレングリコール変性ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、プロピレングリコール変性ペンタエリス
リトールトリアクリレート、トリメチロールプロパンジ
アクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、
グリシジルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ポ
リエチレングリコール変性メタクリレート、ポリエチレ
ングリコール変性アクリレート、ポリプロピレングリコ
ール変性アクリレート、ポリプロピレングリコール変性
メタクリレートなどがあげられるが、これらに限定され
ない。これらの使用にあたっては１種類でも２種類以上
の混合物でもかまわない。また、Ｒ₄のメチル基又はエ
チル基は、通常それぞれメタノール、エタノール等から
誘導される。

【００１４】本発明に使用する式（１）で示されるポリ
アミド酸エステルは、カルボキシル基にＲ₃が導入され
た構造単位の割合がｘ、一部にＲ₃が、残りにＲ₄が導入
された構造単位の割合がｙ、カルボキシル基がＲ₄で置
換された構造単位の割合がｚであり、３種の構造単位が
混在しているものである。それぞれ、０＜ｘ，ｙ＜１０
０、０＜ｚ＜８０で、かつｘ＋ｙ＋ｚ＝１００を満たす
もので、ｘ、ｙ、ｚは各構造単位の百分率を示すもので
ある。Ｒ₄が−ＣＨ₃又は−Ｃ₂Ｈ₅の場合には、ｚが８０
以上であると感光基量が少なく感度が低く実用性が少な
い。

【００１５】本発明におけるポリアミド酸エステル
（Ａ）は、通常以下のようにして合成される。まず、多
官能感光基Ｒ₃、Ｒ₄を導入するためのアルコール基を有
する化合物を溶媒に溶解させ、これに過剰の酸無水物又
はその誘導体を反応させる。この後、残存するカルボキ
シル基、酸無水物基に、ジアミンを反応させることによ
り合成することができる。

【００１６】本発明における（Ｂ）ナフトキノンジアジ
ド化合物は、従来ポジ型フォトレジストの感光剤として
用いられている化合物である。その作用機構としては、
光が当たるとナフトキノンジアミド化合物が分子内転位
を起こし、インデンカルボン酸を生じ、その結果、アル
カリ水溶液に可溶となる。つまり光が当った所が現像液
に溶解するいわゆるポジ型の感光剤である。このキノン
ジアジドをポリイミドに用いた例としてはポリアミド酸
にナフトキノンジアジドを添加したもの（特開昭５２−
１３３１５号公報）、溶媒可溶性ポリイミドにナフトキ
ノンジアジドを添加したもの（特開昭６３−１３０３２
号公報）、また、ポリアミド酸エステルにナフトキノン
ジアジドを添加したもの（特開平３−１１５４６１号公
報）が挙げられることが、これらすべてポジ型の感光性
樹脂の感光剤としてナフトキノンジアジドを使用してい
るのが現状である。しかし、本発明の式（１）で示され
るポリアミド酸エステルに光重合開始剤と共に用いる
と、優れた増感効果を示し、また高解度のネガ型のパタ
ーンが得られる。この相乗効果がいかにして発現される
か、その理由は今のところ明確でない。ナフトキノンジ
アジドとしては、例えば

【００１７】

【化４】

【００１８】

【化５】

【００１９】

【化６】

【００２０】

【化７】

【００２１】等があげられるが、これに限定されるもの
ではない。

【００２２】本発明における光重合開始剤としては、一
般的なＵＶ硬化樹脂に用いられる下記のものを用いるこ
とができる。ベンジル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピル
エーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベン
ゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチル
ジフェニルサルファイド、ベンジルジメチルケタール、
２−ｎ−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエ
ート、２−クロロチオキサンソン、２，４−ジエチルチ
オキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソ
ン、２−ジメチルアミノエチルベンゾエート、ｐ−ジメ
チルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香
酸イソアミル、３，３’−ジメチル−４−メトキシベン
ゾフェノン、２，４−ジメチルチオキサンソン、１−
（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フ
ェニル−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピル
フェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１
−オンイソプロピルチオキサンソン、メチルベンゾイル
フォーメート、２−メチル−１−〔４（メチルチオ）フ
ェニル〕−２−モルホリノプロパノン−１、Ｎ−フェニ
ルグリシン、１−フェニル−１’，２−プロパンジオン
−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、テトラ
（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等
があげられるが、これに限定されるものではない。な
お、これらは単独でも複数を混合してもよい。

【００２３】また、本発明では更なる感度向上を目的と
して、炭素−炭素二重結合を有する光重合性モノマーを
添加することもできる。その具体例としては、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、テトラエチレングリコール
ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルア
クリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアクリルアミド及びこれらのアクリレート、ア
クリルアミドをメタクリレート、メタクリルアミドに変
えたものを用いることができる。

【００２４】本発明によるネガ型感光性樹脂組成物に
は、接着助剤、禁止剤、レベリング剤その他各種充填剤
を添加してもよい。

【００２５】本発明によるネガ型感光性樹脂組成物の使
用方法は、まず、該組成物を適当な支持体、例えばシリ
コンウェハーやセラミック、アルミ基板などに塗布す
る。塗布方法は、スピンナーを用いた回転塗布、スプレ
ーコーターを用いた噴霧塗布、浸漬、印刷、ロールコー
ティング等で行なう。次に、６０〜８０℃の低温でプリ
ベークして塗膜を乾燥後、所望のパターン形状に化学線
を照射する。化学線としては、Ｘ線、電子線、紫外線、
可視光線などが使用できるが、２００〜５００nmの波長
のものが好ましい。

【００２６】次に、未照射部を現像液で溶解除去するこ
とによりネガ型のレリーフパターンを得る。現像液とし
ては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどや、
メタノール、イソプロピルアルコール、水、アルカリ水
溶液などを単独または混合して使用する。現像方法とし
ては、スプレー、パドル、浸漬、超音波などの方式が可
能である。

【００２７】次に、現像によって形成したレリーフパタ
ーンをリンスする。リンス液としては、メタノール、キ
シレン、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸ブ
チル、水などを使用する。次に加熱処理を行ない、イミ
ド環を形成し、耐熱性に富む最終パターンを得る。

【００２８】本発明による感光性樹脂組成物は、半導体
用途のみならず、多層回路の層間絶縁膜やフレキシブル
銅張板のカバーコート、ソルダーレジスト膜や液晶配向
膜などとしても有用である。

【００２９】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例１ ピロメリット酸二無水物６５.５ｇ（０.３０モル）と
３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物２２５.５ｇ（０.７０モル）とを、グリセロー
ルジメタクリレート４５６.５ｇ（２.００モル）でカル
ボキシル基をエステル化した後、４，４’−ジアミノジ
フェニルエーテル１７０.２ｇ（０.８５モル）をジシク
ロヘキシルカルボジイミドを縮合剤として、ポリアミド
酸エステル共重合物を得た。ジシクロヘキシルウレアを
濾別後、エタノールに再沈し、固形物を濾過し、減圧乾
燥した。このポリアミド酸エステル１００重量部にミヒ
ラーズケトン６重量部、テトラエチレングリコールジア
クリレート１０重量部、下記式（２）に示されるナフト
キノンジアミド化合物３重量部及びメチルエーテルハイ
ドロキノン０.１重量部をＮ−メチルピロリドンキ１０
０重量部に溶解させ、感光性樹脂組成物を得た。

【００３０】

【化８】

【００３１】得られた溶液をシリコンウェハー上に、膜
厚１０μｍの厚さになるようにスピンナーで塗布し、乾
燥機により７０℃で１時間乾燥した。得られたフィルム
を凸版印刷製解像度評価用マスクを介し、超高圧水銀ラ
ンプで照射した。次いでＮ−メチル−２−ピロリドン５
０重量％、キシレン５０重量％の現像液を用い、スプレ
ーで現像、さらにイソプロピルアルコールでリンスをし
たところ、露光量８００mJ/cm²でも１５μｍまで解像
し、高解像度であることがわかった。 実施例２ 実施例１において用いられているグリセロールジメタク
リレートを２２８.３ｇ（1.０モル）に減らし、メタノ
ール３２.０ｇ（1.０モル）を加え反応させた。この他
は同様の方法で樹脂組成を得、同様の評価を実施したと
ころ、露光量1,０００mJ/cm²でも１２μｍまで解像し、
高解像度であることがわかった。 実施例３ 実施例１において用いられているグリセロールジメタク
リレートを２−ヒドロキシエチルメタクリレート２６
０.３ｇ（２モル）に変更し、樹脂組成物を得、同様の
評価を実施したところ、露光量1,０００mJ/cm²でも１８
μｍまで解像し、高解像度であることがわかった。 実施例４ 実施例１において用いられているナフトキノンジアジド
化合物（２）を下記式（３）で示されるナフトキノンジ
アジド化合物を１重量部に変更し、同様の方法で樹脂組
成物を得、同様の評価を実施したところ、露光量７００
mJ/cm²でも１０μｍまで解像し、高解像度であることが
わかった。

【００３２】

【化９】

【００３３】実施例５ 実施例１において用いられているナフトキノンジアジド
化合物（２）を下記式（４）で示されるナフトキノンジ
アジド化合物を１重量部に変更し、同様の方法で樹脂組
成物を得、同様の評価を実施したところ、露光量８００
mJ/cm²でも１８μｍまで解像し、高解像度であることが
わかった。

【００３４】

【化１０】

【００３５】比較例１ 実施例１において添加しているナフトキノンジアジド化
合物（２）を省いて評価を実施したところ、1,５００mJ
/cm²の光を照射しても、良好なパターンが得られなかっ
た。 比較例２ 実施例１において添加しているナフトキノンジアジド化
合物（２）を省き、またミヒラーズケトンを６重量部か
ら１０重量部に、また、テトラエチレングリコールジア
クリレートを２０重量部に増やし、同様の評価を実施し
たところ、露光量1,２００mJ/cm²でパターンはできた
が、解像度が４０μｍと悪く実用性に問題があった。 比較例３ 実施例１において添加しているミヒラーズケトンを省い
て、同様の方法で評価を行ったところ、現像時に露光
部、未露光部ともすべて溶解し、パターンが得られなか
った。

【００３６】

【発明の効果】従来、ポリアミド酸のカルボキシル基に
エステル状に感光性基を導入する技術が知られていた
が、かかる技術に従来の光開始剤を添加しただけでは感
度と解像度の両特性を同時に満たすのは困難であった。
本発明においてポリアミド酸のカルボキシル基に単又は
多官能な感光性基、さらに低級なアルコールを共有結合
で導入したポリアミド酸エステルに、ナフトキノンジア
ジド化合物と光重合開始剤を配合することにより、感
度、解像度が同時に大幅に改善されることが出来た。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（Ａ）下記式（１）で示されるポリアミド
   酸エステルと 【化１】 （Ｂ）ナフトキノンジアジド化合物及び（Ｃ）光重合開
   始剤を必須成分とするネガ型感光性樹脂組成物。