JPH05211192A - 半導体装置のワイヤボンディング方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体装置のワイヤボンディング方法におい
て、パッド間隔の縮小化を図り、しかもワイヤループの
垂みや、カールの発生を防止する。 【構成】 半導体装置のワイヤボンディングにあたり、
予め半導体素子12のパッド12a上に金球14aを形
成し、リードフレームの外部端子13に金線14を接合
し、その金線14を張り、半導体素子12のパッド12
a上の金球14aにウェッジボンドするようにしたもの
である。
て、パッド間隔の縮小化を図り、しかもワイヤループの
垂みや、カールの発生を防止する。 【構成】 半導体装置のワイヤボンディングにあたり、
予め半導体素子12のパッド12a上に金球14aを形
成し、リードフレームの外部端子13に金線14を接合
し、その金線14を張り、半導体素子12のパッド12
a上の金球14aにウェッジボンドするようにしたもの
である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路におけ
る内部配線であるワイヤボンディング方法に関するもの
である。
る内部配線であるワイヤボンディング方法に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来、このような分野の技術としては、
例えば、以下に示すようなものがあった。図3はかかる
従来の半導体装置のワイヤボンディング工程図である。
まず、図3(a)に示すように、ダイパッド1上の半導
体素子2をパッケージの外部端子3に接続する場合、金
属細線4の先端を熱で溶解し、球状5としたものを、半
導体素子2上のパッドに接続した後、その金属細線4を
パッケージの外部端子3側へ導いて接合する。
例えば、以下に示すようなものがあった。図3はかかる
従来の半導体装置のワイヤボンディング工程図である。
まず、図3(a)に示すように、ダイパッド1上の半導
体素子2をパッケージの外部端子3に接続する場合、金
属細線4の先端を熱で溶解し、球状5としたものを、半
導体素子2上のパッドに接続した後、その金属細線4を
パッケージの外部端子3側へ導いて接合する。
【0003】次に、図3(b)に示すように、外部端子
3上の金属細線4を切断する。最後に、図3(c)に示
すように、金属細線4の先端を球状5となし、次の箇所
のワイヤボンドに備える。なお、6はキャピラリ、7は
クランパである。
3上の金属細線4を切断する。最後に、図3(c)に示
すように、金属細線4の先端を球状5となし、次の箇所
のワイヤボンドに備える。なお、6はキャピラリ、7は
クランパである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ワイヤボンディング方法では、半導体素子のパッド側の
金属細線4が150μmから400μm程度立ち上がっ
ているために、半導体素子2上のパッド配列間隔を狭め
るためには、キャピラリ6の先端が隣の既に存在する金
属細線に干渉しないように細くするか、もしくは干渉し
ない程度のパッド配列間隔にとめる等の対策を必要とし
ていた。しかし、キャピラリ6の先端を細くする方法に
も限界があり、おのずとパッド配列間隔は制約されてし
まうという問題点があった。
ワイヤボンディング方法では、半導体素子のパッド側の
金属細線4が150μmから400μm程度立ち上がっ
ているために、半導体素子2上のパッド配列間隔を狭め
るためには、キャピラリ6の先端が隣の既に存在する金
属細線に干渉しないように細くするか、もしくは干渉し
ない程度のパッド配列間隔にとめる等の対策を必要とし
ていた。しかし、キャピラリ6の先端を細くする方法に
も限界があり、おのずとパッド配列間隔は制約されてし
まうという問題点があった。
【0005】本発明は、上記問題点を除去し、パッド間
隔の縮小化が可能で、しかもワイヤループの垂みや、カ
ールが発生することがない半導体装置のワイヤボンディ
ング方法を提供することを目的とする。
隔の縮小化が可能で、しかもワイヤループの垂みや、カ
ールが発生することがない半導体装置のワイヤボンディ
ング方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、半導体装置のワイヤボンディング方法に
おいて、予め半導体素子のパッド上に金属球を形成し、
リードフレームの外部端子に金属細線を接合し、該金属
細線を張り、前記半導体素子のパッド上の金属球にウェ
ッジボンドするようにしたものである。
成するために、半導体装置のワイヤボンディング方法に
おいて、予め半導体素子のパッド上に金属球を形成し、
リードフレームの外部端子に金属細線を接合し、該金属
細線を張り、前記半導体素子のパッド上の金属球にウェ
ッジボンドするようにしたものである。
【0007】また、前記半導体素子のパッド上にはバン
プが形成されたものを用いることもできる。
プが形成されたものを用いることもできる。
【0008】
【作用】本発明によれば、ワイヤボンディング方法にお
いて、予め、半導体素子のパッド上に金球を接合し、金
球のみを残して金線を一旦カットし、金球の生成を行な
う。次に、2つ目に形成した金球をリードフレームの外
部端子に接合し、そこから導いた金線を先程パッド上に
接合した金球へ接合することにより、電気的導通を得
る。
いて、予め、半導体素子のパッド上に金球を接合し、金
球のみを残して金線を一旦カットし、金球の生成を行な
う。次に、2つ目に形成した金球をリードフレームの外
部端子に接合し、そこから導いた金線を先程パッド上に
接合した金球へ接合することにより、電気的導通を得
る。
【0009】従って、パッド間隔の縮小化が可能であ
り、しかも、ワイヤループの垂みや、カールが発生する
ことがない。
り、しかも、ワイヤループの垂みや、カールが発生する
ことがない。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。図1は本発明の実施例を示す前
半の半導体装置のワイヤボンディング工程断面図であ
り、図2は本発明の実施例を示す後半の半導体装置のワ
イヤボンディング工程断面図である。
ながら詳細に説明する。図1は本発明の実施例を示す前
半の半導体装置のワイヤボンディング工程断面図であ
り、図2は本発明の実施例を示す後半の半導体装置のワ
イヤボンディング工程断面図である。
【0011】まず、図1(a)に示すように、キャピラ
リ16の下方の金線14の先端に形成された金球14a
を、ダイパッド11上に搭載された半導体素子12のパ
ッド12a上に位置合わせする。次に、図1(b)に示
すように、金線14の先端に形成された金球14aをキ
ャピラリ16により半導体素子12のパッド12a上に
押し付け接合する。
リ16の下方の金線14の先端に形成された金球14a
を、ダイパッド11上に搭載された半導体素子12のパ
ッド12a上に位置合わせする。次に、図1(b)に示
すように、金線14の先端に形成された金球14aをキ
ャピラリ16により半導体素子12のパッド12a上に
押し付け接合する。
【0012】次いで、図1(c)に示すように、金球形
成に必要な金球長さlをキャピラリ16から繰り出した
ところで、クランパ17を閉じる。次に、図1(d)に
示すように、キャピラリ16を上昇させて、金球14a
から金線14を切断する。次に、図1(e)に示すよう
に、トーチ18により、金球14bを形成する。
成に必要な金球長さlをキャピラリ16から繰り出した
ところで、クランパ17を閉じる。次に、図1(d)に
示すように、キャピラリ16を上昇させて、金球14a
から金線14を切断する。次に、図1(e)に示すよう
に、トーチ18により、金球14bを形成する。
【0013】次いで、図2(f)に示すように、リード
フレームの外部端子13にその金球14bを位置合わせ
する。次いで、図2(g)に示すように、リードフレー
ムの外部端子13にその金球14bを接合する。次に、
図2(h)に示すように、既存の方式により、ワイヤル
ープを形成しながら、金線14を導いていく。
フレームの外部端子13にその金球14bを位置合わせ
する。次いで、図2(g)に示すように、リードフレー
ムの外部端子13にその金球14bを接合する。次に、
図2(h)に示すように、既存の方式により、ワイヤル
ープを形成しながら、金線14を導いていく。
【0014】次に、図2(i)に示すように、金線14
を半導体素子12のパッド12a上に既に形成された金
球14a上にウェッジボンドする。次に、図2(j)に
示すように、ワイヤボンドに必要な金球形成のためテー
ル14tを繰り出す。次に、図2(k)に示すように、
金球14cをトーチ18により作る。
を半導体素子12のパッド12a上に既に形成された金
球14a上にウェッジボンドする。次に、図2(j)に
示すように、ワイヤボンドに必要な金球形成のためテー
ル14tを繰り出す。次に、図2(k)に示すように、
金球14cをトーチ18により作る。
【0015】このように、上記のサイクルを続けること
で、ワイヤボンドを行なうことができる。なお、上記実
施例においては、図1(d)に示すように、半導体素子
12のパッド12a上にキャピラリ16により金球14
aを形成するようにしているが、これに代えて、図4に
示すように、ダイパッド21上に予めバンプ23が形成
された半導体素子22を搭載し、そのバンプ23上に、
図2(i)と同様に、金線25をウェッジボンドするよ
うにしてもよい。24は外部端子である。
で、ワイヤボンドを行なうことができる。なお、上記実
施例においては、図1(d)に示すように、半導体素子
12のパッド12a上にキャピラリ16により金球14
aを形成するようにしているが、これに代えて、図4に
示すように、ダイパッド21上に予めバンプ23が形成
された半導体素子22を搭載し、そのバンプ23上に、
図2(i)と同様に、金線25をウェッジボンドするよ
うにしてもよい。24は外部端子である。
【0016】上記したように、予め、金球を形成する方
式は、金球形成の位置精度が要求され、次のワイヤボン
ド時に、もう一度金球位置を画像認識補正を個々の金球
について行なうことが必要とされる時に有利である。ま
た、バンプ付き半導体素子を用いる場合は、金球形成
に要するワイヤボンドの時間を短縮することができる。
パッドがダメージを受け易い構造の場合に、全くダメ
ージを与えずに形成できるバンプをつけて、ワイヤボン
ドの衝撃を和らげることができる。
式は、金球形成の位置精度が要求され、次のワイヤボン
ド時に、もう一度金球位置を画像認識補正を個々の金球
について行なうことが必要とされる時に有利である。ま
た、バンプ付き半導体素子を用いる場合は、金球形成
に要するワイヤボンドの時間を短縮することができる。
パッドがダメージを受け易い構造の場合に、全くダメ
ージを与えずに形成できるバンプをつけて、ワイヤボン
ドの衝撃を和らげることができる。
【0017】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
【0018】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、半導体素子のパッド間隔の縮小化を図ることが
できる。例えば、従来180μmピッチであったパッド
間隔を100μm以下とすることができる。その場合、
現在のワイヤボンド装置を流用して、簡単に実施するこ
とができる。
よれば、半導体素子のパッド間隔の縮小化を図ることが
できる。例えば、従来180μmピッチであったパッド
間隔を100μm以下とすることができる。その場合、
現在のワイヤボンド装置を流用して、簡単に実施するこ
とができる。
【0019】更に、以下に述べる効果を奏することがで
きる。 (1)キャピラリ先端の形状は現状のままで良い。 (2)リードフレームの外部端子のボンディング強度が
リード形状に影響されることがない。 (3)リードフレームの外部端子のボンディング時に、
従来発生していたワイヤループの垂みや、カールが発生
することがない。
きる。 (1)キャピラリ先端の形状は現状のままで良い。 (2)リードフレームの外部端子のボンディング強度が
リード形状に影響されることがない。 (3)リードフレームの外部端子のボンディング時に、
従来発生していたワイヤループの垂みや、カールが発生
することがない。
【図1】本発明の実施例を示す前半の半導体装置のワイ
ヤボンディング工程断面図(その1)である。
ヤボンディング工程断面図(その1)である。
【図2】本発明の実施例を示す後半の半導体装置のワイ
ヤボンディング工程断面図(その2)である。
ヤボンディング工程断面図(その2)である。
【図3】従来の半導体装置のワイヤボンディング工程図
である。
である。
【図4】本発明の他の実施例を示す半導体装置のワイヤ
ボンディング状態を示す断面図である。
ボンディング状態を示す断面図である。
11,21 ダイパッド 12,22 半導体素子 12a パッド 13,24 外部端子 14,24 金線 14a,14b,14c 金球 14t テール 16 キャピラリ 17 クランパ 18 トーチ 23 バンプ
Claims (2)
- 【請求項1】(a)予め半導体素子のパッド上に金属球
を形成し、 (b)次に、リードフレームの外部端子に金属細線を接
合し、 (c)該金属細線を張り、前記半導体素子のパッド上の
金属球にウェッジボンドすることを特徴とする半導体装
置のワイヤボンディング方法。 - 【請求項2】 前記パッド上にはバンプが形成された半
導体素子を用いることを特徴とする請求項1記載の半導
体装置のワイヤボンディング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3161696A JPH05211192A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 半導体装置のワイヤボンディング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3161696A JPH05211192A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 半導体装置のワイヤボンディング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05211192A true JPH05211192A (ja) | 1993-08-20 |
Family
ID=15740127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3161696A Withdrawn JPH05211192A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 半導体装置のワイヤボンディング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05211192A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0753891A2 (en) * | 1995-06-28 | 1997-01-15 | Texas Instruments Incorporated | Low loop wire bonding |
US6079610A (en) * | 1996-10-07 | 2000-06-27 | Denso Corporation | Wire bonding method |
JP2002237499A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法、半導体装置の製造装置 |
WO2002082527A1 (en) * | 2001-04-05 | 2002-10-17 | Stmicroelectronics Pte Ltd | Method of forming electrical connections |
US6601752B2 (en) | 2000-03-13 | 2003-08-05 | Denso Corporation | Electronic part mounting method |
EP1374298A1 (en) * | 2001-03-23 | 2004-01-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Chip module with bond-wire connections with small loop height |
KR100734269B1 (ko) * | 2005-07-29 | 2007-07-02 | 삼성전자주식회사 | 와이어 본딩 장치 |
-
1991
- 1991-07-02 JP JP3161696A patent/JPH05211192A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0753891A2 (en) * | 1995-06-28 | 1997-01-15 | Texas Instruments Incorporated | Low loop wire bonding |
EP0753891A3 (en) * | 1995-06-28 | 1999-03-31 | Texas Instruments Incorporated | Low loop wire bonding |
US6079610A (en) * | 1996-10-07 | 2000-06-27 | Denso Corporation | Wire bonding method |
US6601752B2 (en) | 2000-03-13 | 2003-08-05 | Denso Corporation | Electronic part mounting method |
JP2002237499A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法、半導体装置の製造装置 |
EP1374298A1 (en) * | 2001-03-23 | 2004-01-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Chip module with bond-wire connections with small loop height |
WO2002082527A1 (en) * | 2001-04-05 | 2002-10-17 | Stmicroelectronics Pte Ltd | Method of forming electrical connections |
KR100734269B1 (ko) * | 2005-07-29 | 2007-07-02 | 삼성전자주식회사 | 와이어 본딩 장치 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981008 |