JPH05157461A - 加熱炉 - Google Patents
加熱炉Info
- Publication number
- JPH05157461A JPH05157461A JP34830491A JP34830491A JPH05157461A JP H05157461 A JPH05157461 A JP H05157461A JP 34830491 A JP34830491 A JP 34830491A JP 34830491 A JP34830491 A JP 34830491A JP H05157461 A JPH05157461 A JP H05157461A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- fan
- temperature
- partition wall
- atmospheric gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Furnace Details (AREA)
- Vertical, Hearth, Or Arc Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 被処理物の加熱時には、ファンにより被処理
物存置空間の雰囲気ガスを攪拌し雰囲気ガスの温度を均
一化させて被処理物の均一加熱を図り、被処理物存置空
間の温度を低下させるときには、同じファンにより雰囲
気ガスを別の通路で流通させて、被処理物存置空間を迅
速に低温化できるようにする。 【構成】 被処理物存置空間は区画壁で囲まれ、その中
にファンが設けてある。区画壁には扉を備えた通気口が
設けられている。扉を閉じた状態では、ファンによって
区画壁内の雰囲気ガスが攪拌される。扉を開けた状態で
は、ファンによって区画壁内外の雰囲気ガスが通気口を
通して流通する。
物存置空間の雰囲気ガスを攪拌し雰囲気ガスの温度を均
一化させて被処理物の均一加熱を図り、被処理物存置空
間の温度を低下させるときには、同じファンにより雰囲
気ガスを別の通路で流通させて、被処理物存置空間を迅
速に低温化できるようにする。 【構成】 被処理物存置空間は区画壁で囲まれ、その中
にファンが設けてある。区画壁には扉を備えた通気口が
設けられている。扉を閉じた状態では、ファンによって
区画壁内の雰囲気ガスが攪拌される。扉を開けた状態で
は、ファンによって区画壁内外の雰囲気ガスが通気口を
通して流通する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は被処理物を雰囲気ガス中
で加熱するようにした加熱炉に関する。
で加熱するようにした加熱炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】炉内に被処理物加熱用のヒータと雰囲気
ガス攪拌用のファンとを備えた加熱炉がある。このよう
な加熱炉においては被処理物の加熱が次のように行なわ
れる。先ず炉内に被処理物を装入する。次にその被処理
物を上記ヒータの発熱及び上記ファンの運転によって、
攪拌状態の雰囲気ガス中で加熱する。従って、雰囲気ガ
スの温度が均一化し、被処理物は全体が均一に加熱され
る。被処理物の加熱が完了するとその被処理物を排出す
る。そして次の被処理物を装入する前に、その被処理物
が突然に高温度の炉内に装入されることによる被処理物
の損傷を防止する為に、炉内の温度を低下させる。低温
化完了後、次の被処理物を炉内に装入する。このような
作業を繰り返し行なう。
ガス攪拌用のファンとを備えた加熱炉がある。このよう
な加熱炉においては被処理物の加熱が次のように行なわ
れる。先ず炉内に被処理物を装入する。次にその被処理
物を上記ヒータの発熱及び上記ファンの運転によって、
攪拌状態の雰囲気ガス中で加熱する。従って、雰囲気ガ
スの温度が均一化し、被処理物は全体が均一に加熱され
る。被処理物の加熱が完了するとその被処理物を排出す
る。そして次の被処理物を装入する前に、その被処理物
が突然に高温度の炉内に装入されることによる被処理物
の損傷を防止する為に、炉内の温度を低下させる。低温
化完了後、次の被処理物を炉内に装入する。このような
作業を繰り返し行なう。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この従来の加熱炉では
上記炉内を低温化させる場合、炉内の雰囲気ガスを保持
しておく為に、自然の放熱により低温化するのを待つ。
この為その低温化に非常に長時間を要する問題点があっ
た。
上記炉内を低温化させる場合、炉内の雰囲気ガスを保持
しておく為に、自然の放熱により低温化するのを待つ。
この為その低温化に非常に長時間を要する問題点があっ
た。
【０００４】本願発明は上記従来技術の問題点（技術的
課題）を解決する為になされたもので、炉内において上
記攪拌用のファンによる雰囲気ガスの通路を替えられる
ようにすることにより、被処理物の加熱時には上記ファ
ンにより炉内雰囲気ガスを攪拌してその温度の均一化を
図り、炉内の温度を低下させる必要のあるときには上記
雰囲気ガスの通路の切替により上記ファンを冷却用のフ
ァンとして機能させて、炉内を迅速に冷却することがで
きるようにした加熱炉を提供することを目的としてい
る。
課題）を解決する為になされたもので、炉内において上
記攪拌用のファンによる雰囲気ガスの通路を替えられる
ようにすることにより、被処理物の加熱時には上記ファ
ンにより炉内雰囲気ガスを攪拌してその温度の均一化を
図り、炉内の温度を低下させる必要のあるときには上記
雰囲気ガスの通路の切替により上記ファンを冷却用のフ
ァンとして機能させて、炉内を迅速に冷却することがで
きるようにした加熱炉を提供することを目的としてい
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本願発明における加熱炉は、炉内には、被処理物加
熱用のヒータと、雰囲気ガス攪拌用のファンとを備えて
いる加熱炉において、上記炉内には、被処理物の存置空
間を囲む区画壁を、炉の内面との間に空間を隔てて設け
ると共に、上記ヒータ及びファンは上記区画壁内に設
け、上記区画壁には扉を備えた通気口を設け、しかもそ
の通気口の位置は、上記ファンによる雰囲気ガスの流れ
により該通気口を通して区画壁の内外間での雰囲気ガス
の流れが生ずる位置に定めたものである。
に、本願発明における加熱炉は、炉内には、被処理物加
熱用のヒータと、雰囲気ガス攪拌用のファンとを備えて
いる加熱炉において、上記炉内には、被処理物の存置空
間を囲む区画壁を、炉の内面との間に空間を隔てて設け
ると共に、上記ヒータ及びファンは上記区画壁内に設
け、上記区画壁には扉を備えた通気口を設け、しかもそ
の通気口の位置は、上記ファンによる雰囲気ガスの流れ
により該通気口を通して区画壁の内外間での雰囲気ガス
の流れが生ずる位置に定めたものである。
【０００６】
【作用】炉内にて被処理物の加熱をする場合、区画壁の
扉を閉じてファンを運転する。すると被処理物の存置空
間の雰囲気ガスがそのファンにより攪拌され、雰囲気ガ
スの温度の均一化が図られる。一方、存置空間の温度を
低下させる場合、区画壁の扉を開いて上記ファンを運転
する。すると雰囲気ガスは区画壁の通気口を通してその
内外で流通し、上記空間の温度が急速に低下する。
扉を閉じてファンを運転する。すると被処理物の存置空
間の雰囲気ガスがそのファンにより攪拌され、雰囲気ガ
スの温度の均一化が図られる。一方、存置空間の温度を
低下させる場合、区画壁の扉を開いて上記ファンを運転
する。すると雰囲気ガスは区画壁の通気口を通してその
内外で流通し、上記空間の温度が急速に低下する。
【０００７】
【実施例】以下本願の実施例を示す図面について説明す
る。図１には連続熱処理炉の概要が示される。この炉は
後から述べる第２処理室２の構成を除いて周知の連続炉
と同様のもので、１は第１処理室、２は第２処理室、３
は第３処理室を示し、夫々例えば第１の加熱炉、第２の
加熱炉、冷却室である。これらの処理室には夫々真空排
気装置が接続されて各処理室内を真空化乃至は減圧化で
きるようになっている。４〜７は被処理物を通過させる
為の出入口に設けられた扉を夫々示す。
る。図１には連続熱処理炉の概要が示される。この炉は
後から述べる第２処理室２の構成を除いて周知の連続炉
と同様のもので、１は第１処理室、２は第２処理室、３
は第３処理室を示し、夫々例えば第１の加熱炉、第２の
加熱炉、冷却室である。これらの処理室には夫々真空排
気装置が接続されて各処理室内を真空化乃至は減圧化で
きるようになっている。４〜７は被処理物を通過させる
為の出入口に設けられた扉を夫々示す。
【０００８】このような熱処理炉においては、被処理物
８は先ず扉４を開けて第１処理室１内に入れられ、扉４
を閉じた後その処理室内の雰囲気ガス中で常温から例え
ば500 ℃まで加熱される。その加熱が終了すると被処理
物８は扉５を開けて第２処理室２内に移される。この場
合、第２処理室２内の雰囲気ガスの温度は、被処理物８
に損傷を及ぼさぬよう第１処理室１内での被処理物の加
熱温度即ち例えば上記500 ℃に準備されている。被処理
物８が第２処理室２内に入れられると扉５が閉じられ、
被処理物８はそこで500 ℃から例えば800 ℃まで加熱さ
れる。第２処理室２での加熱が終了すると扉６が開けら
れ、被処理物８は第３処理室３に移され、扉６が閉じら
れて被処理物８は第３処理室３で所定の冷却が行われ
る。冷却終了後被処理物８は扉７を開いて搬出され、再
び扉７が閉じられる。以上のような操作が繰り返し行わ
れる。
８は先ず扉４を開けて第１処理室１内に入れられ、扉４
を閉じた後その処理室内の雰囲気ガス中で常温から例え
ば500 ℃まで加熱される。その加熱が終了すると被処理
物８は扉５を開けて第２処理室２内に移される。この場
合、第２処理室２内の雰囲気ガスの温度は、被処理物８
に損傷を及ぼさぬよう第１処理室１内での被処理物の加
熱温度即ち例えば上記500 ℃に準備されている。被処理
物８が第２処理室２内に入れられると扉５が閉じられ、
被処理物８はそこで500 ℃から例えば800 ℃まで加熱さ
れる。第２処理室２での加熱が終了すると扉６が開けら
れ、被処理物８は第３処理室３に移され、扉６が閉じら
れて被処理物８は第３処理室３で所定の冷却が行われ
る。冷却終了後被処理物８は扉７を開いて搬出され、再
び扉７が閉じられる。以上のような操作が繰り返し行わ
れる。
【０００９】上記のような各処理室での被処理物８の処
理は夫々単独で、乃至は同時並行的に行われる。又第２
処理室２では被処理物８が搬出された後次の被処理物を
受け入れる為に上記800 ℃から500 ℃まで炉内の雰囲気
ガスの温度が低下される。
理は夫々単独で、乃至は同時並行的に行われる。又第２
処理室２では被処理物８が搬出された後次の被処理物を
受け入れる為に上記800 ℃から500 ℃まで炉内の雰囲気
ガスの温度が低下される。
【００１０】次に上記第２処理室２の具体的な構造を示
す図２について説明する。10は炉を示し、例えば水冷ジ
ャケットで構成される。炉殻の内面を断熱材で覆ったも
のでもよい。11は区画壁で、上記被処理物８の存置空間
12を囲むように形成されており、炉10とは通気用の空間
13を隔てて設けられている。該区画壁11は例えば黒鉛そ
の他の断熱材で形成されるがそれ以外の材料で形成して
もよい。又該区画壁11において紙面と垂直な方向の側の
端部即ち前記扉５，６の側の端部は被処理物の出入りの
為に扉で構成してある。その扉は前記扉５，６と一体化
させてそれらと一体に開閉するようにしたものであって
も、或いはそれらとは別に独立的に開閉できるようにし
たものであってもよい。14は被処理物搬送用のローラ
で、複数本が紙面と垂直な方向に並設されており、それ
らは炉10の外側から駆動されることにより被処理物８の
搬送が可能となっている。15は区画壁11に電気的に絶縁
状態に取付けた被処理物加熱用のヒータで、区画壁11内
において被処理物の存置空間12を避けた位置に設けられ
ている。16は炉10に電気的に絶縁状態に取付けた端子
で、上記ヒータ15への通電の為のものである。
す図２について説明する。10は炉を示し、例えば水冷ジ
ャケットで構成される。炉殻の内面を断熱材で覆ったも
のでもよい。11は区画壁で、上記被処理物８の存置空間
12を囲むように形成されており、炉10とは通気用の空間
13を隔てて設けられている。該区画壁11は例えば黒鉛そ
の他の断熱材で形成されるがそれ以外の材料で形成して
もよい。又該区画壁11において紙面と垂直な方向の側の
端部即ち前記扉５，６の側の端部は被処理物の出入りの
為に扉で構成してある。その扉は前記扉５，６と一体化
させてそれらと一体に開閉するようにしたものであって
も、或いはそれらとは別に独立的に開閉できるようにし
たものであってもよい。14は被処理物搬送用のローラ
で、複数本が紙面と垂直な方向に並設されており、それ
らは炉10の外側から駆動されることにより被処理物８の
搬送が可能となっている。15は区画壁11に電気的に絶縁
状態に取付けた被処理物加熱用のヒータで、区画壁11内
において被処理物の存置空間12を避けた位置に設けられ
ている。16は炉10に電気的に絶縁状態に取付けた端子
で、上記ヒータ15への通電の為のものである。
【００１１】次に炉10内における雰囲気ガスの攪拌及び
流通の為の構造について説明する。18は区画壁11内に設
けたファンで、耐熱材例えば黒鉛で形成され、前記存置
空間12を避けた位置に設けてある。上記ファン18は炉10
に取付けたモータ19によって回動されるようになってい
る。20, 21は区画壁11に形成された通気口で、ファン18
の作動により区画壁11の内、外間での雰囲気ガスの流れ
が生ずるよう通気口20は図示の如くファン18の背後側の
位置に、通気口21はそれとは対向する側の位置に設けて
ある。上記のような雰囲気ガスの流れが生ずる位置であ
ればその他の位置に設けても良い。数は１或いは３以上
でも良い。22, 23は各通気口20, 21を開閉する為の扉
で、断熱材で構成されている。24, 25は上記扉の開閉装
置として例示するシリンダで、炉10に取付けられ各々の
ピストンロッド24ａ, 25ａに前記扉22, 23が取付けてあ
る。
流通の為の構造について説明する。18は区画壁11内に設
けたファンで、耐熱材例えば黒鉛で形成され、前記存置
空間12を避けた位置に設けてある。上記ファン18は炉10
に取付けたモータ19によって回動されるようになってい
る。20, 21は区画壁11に形成された通気口で、ファン18
の作動により区画壁11の内、外間での雰囲気ガスの流れ
が生ずるよう通気口20は図示の如くファン18の背後側の
位置に、通気口21はそれとは対向する側の位置に設けて
ある。上記のような雰囲気ガスの流れが生ずる位置であ
ればその他の位置に設けても良い。数は１或いは３以上
でも良い。22, 23は各通気口20, 21を開閉する為の扉
で、断熱材で構成されている。24, 25は上記扉の開閉装
置として例示するシリンダで、炉10に取付けられ各々の
ピストンロッド24ａ, 25ａに前記扉22, 23が取付けてあ
る。
【００１２】上記構成のものにおいて、被処理物８の加
熱は扉22, 23により通気口20, 21を閉じた状態で行う。
又当然のことながら区画壁11において被処理物出入り用
の扉も閉じられる。この状態でヒータ15が発熱され、フ
ァン18が回動される。その結果、区画壁11内においては
雰囲気ガスが上記ファン18によって攪拌され、被処理物
存置空間12の雰囲気ガスは場所による温度むらの無い状
態で昇温される。
熱は扉22, 23により通気口20, 21を閉じた状態で行う。
又当然のことながら区画壁11において被処理物出入り用
の扉も閉じられる。この状態でヒータ15が発熱され、フ
ァン18が回動される。その結果、区画壁11内においては
雰囲気ガスが上記ファン18によって攪拌され、被処理物
存置空間12の雰囲気ガスは場所による温度むらの無い状
態で昇温される。
【００１３】一方、被処理物８の搬出後存置空間12の雰
囲気ガスの温度を所定温度まで低温化させる場合には、
扉22, 23を開いてファン18を運転する。ファン18の運転
により区画壁11内外の雰囲気ガスは例えば矢印で示され
るように流通する。その結果、区画壁11外の雰囲気ガス
（水冷ジャケット製の炉10に近い乃至はそれに接してい
る為、区画壁11内の雰囲気ガスよりも低い温度となって
いる雰囲気ガス）が区画壁11内に流入し、そこの温度が
迅速に低下される。又区画壁11内から区画壁11外に流出
した熱い雰囲気ガスも上記炉10で迅速に冷却される。そ
の結果、区画壁11内の空間の雰囲気ガスの温度は速い速
度で低下する。
囲気ガスの温度を所定温度まで低温化させる場合には、
扉22, 23を開いてファン18を運転する。ファン18の運転
により区画壁11内外の雰囲気ガスは例えば矢印で示され
るように流通する。その結果、区画壁11外の雰囲気ガス
（水冷ジャケット製の炉10に近い乃至はそれに接してい
る為、区画壁11内の雰囲気ガスよりも低い温度となって
いる雰囲気ガス）が区画壁11内に流入し、そこの温度が
迅速に低下される。又区画壁11内から区画壁11外に流出
した熱い雰囲気ガスも上記炉10で迅速に冷却される。そ
の結果、区画壁11内の空間の雰囲気ガスの温度は速い速
度で低下する。
【００１４】次に異なる実施例について説明する。上記
区画壁11内の空間の雰囲気ガスを低温化させる場合、区
画壁11外において雰囲気ガスの流通路となる空間13に想
像線で示される如く雰囲気ガスの冷却器（熱交換器）26
を設けその冷却器26によって上記雰囲気ガスを低温化さ
せてもよい。
区画壁11内の空間の雰囲気ガスを低温化させる場合、区
画壁11外において雰囲気ガスの流通路となる空間13に想
像線で示される如く雰囲気ガスの冷却器（熱交換器）26
を設けその冷却器26によって上記雰囲気ガスを低温化さ
せてもよい。
【００１５】
【発明の効果】以上のように本願発明にあっては、炉内
で被処理物８を加熱する場合、ファン18で被処理物の存
置空間12の雰囲気ガスを攪拌して雰囲気ガスの温度の均
一化を図ることができ、被処理物の全体を均一加熱でき
る効果があるは勿論のこと、
で被処理物８を加熱する場合、ファン18で被処理物の存
置空間12の雰囲気ガスを攪拌して雰囲気ガスの温度の均
一化を図ることができ、被処理物の全体を均一加熱でき
る効果があるは勿論のこと、
【００１６】上記被処理物の加熱を終えた後、次の被処
理物を受入れる為に被処理物の存置空間12の温度を低温
化させる場合は、通気口20の扉22を開いて上記雰囲気ガ
スの攪拌に用いたファン18により区画壁11の内外の雰囲
気ガスを流通させることによって、存置空間12の熱い雰
囲気ガスを区画壁11外のそれより低い温度の雰囲気ガス
と入れ替えて、迅速に低温化させられる効果がある。繰
返して述べれば、本願発明では上記通気口20の位置を、
雰囲気ガス攪拌用のファン18による雰囲気ガスの流れに
より該通気口20を通して区画壁11の内外間での雰囲気ガ
スの流れが生ずる位置に定めたものだから、上記一つの
ファン18によって、雰囲気ガスの温度の均一化のみなら
ず、上記雰囲気ガスの低温化の為の雰囲気ガスの流通を
も行なうことができ、炉内でのファンの占有スペースを
何ら広げることなく上記雰囲気ガスの迅速低温化をも行
ない得る効果がある。
理物を受入れる為に被処理物の存置空間12の温度を低温
化させる場合は、通気口20の扉22を開いて上記雰囲気ガ
スの攪拌に用いたファン18により区画壁11の内外の雰囲
気ガスを流通させることによって、存置空間12の熱い雰
囲気ガスを区画壁11外のそれより低い温度の雰囲気ガス
と入れ替えて、迅速に低温化させられる効果がある。繰
返して述べれば、本願発明では上記通気口20の位置を、
雰囲気ガス攪拌用のファン18による雰囲気ガスの流れに
より該通気口20を通して区画壁11の内外間での雰囲気ガ
スの流れが生ずる位置に定めたものだから、上記一つの
ファン18によって、雰囲気ガスの温度の均一化のみなら
ず、上記雰囲気ガスの低温化の為の雰囲気ガスの流通を
も行なうことができ、炉内でのファンの占有スペースを
何ら広げることなく上記雰囲気ガスの迅速低温化をも行
ない得る効果がある。
【図１】連続熱処理炉を略示する図。
【図２】加熱炉の縦断面図（図１におけるII−II線位置
での断面図）。
での断面図）。
10 炉 11 区画壁 12 存置空間 15 ヒータ 18 ファン 20, 21 通気口 22, 23 扉
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｆ２７Ｄ 9/00 8825−4Ｋ
Claims (1)
- 【請求項１】 炉内には、被処理物加熱用のヒータと、
雰囲気ガス攪拌用のファンとを備えている加熱炉におい
て、上記炉内には、被処理物の存置空間を囲む区画壁
を、炉の内面との間に空間を隔てて設けると共に、上記
ヒータ及びファンは上記区画壁内に設け、上記区画壁に
は扉を備えた通気口を設け、しかもその通気口の位置
は、上記ファンによる雰囲気ガスの流れにより該通気口
を通して区画壁の内外間での雰囲気ガスの流れが生ずる
位置に定めたことを特徴とする加熱炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34830491A JPH05157461A (ja) | 1991-12-03 | 1991-12-03 | 加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34830491A JPH05157461A (ja) | 1991-12-03 | 1991-12-03 | 加熱炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05157461A true JPH05157461A (ja) | 1993-06-22 |
Family
ID=18396133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34830491A Pending JPH05157461A (ja) | 1991-12-03 | 1991-12-03 | 加熱炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05157461A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100404739B1 (ko) * | 2001-07-18 | 2003-11-12 | 주식회사 신명 | 세라믹 전자부품 제조용 박스형 로 |
| JP2005083633A (ja) * | 2003-09-08 | 2005-03-31 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 誘導加熱式乾留炉 |
| EP2144026A1 (de) * | 2008-06-20 | 2010-01-13 | Volker Probst | Prozessvorrichtung zum Prozessieren von gestapelten Prozessgütern |
| KR101136323B1 (ko) * | 2009-09-21 | 2012-04-18 | 이순석 | 대형 침탄 열처리로 |
| US9284641B2 (en) | 2008-11-28 | 2016-03-15 | Volker Probst | Processing device for producing semiconductor layers and coated substrates treated with elemental selenium and/or sulphur |
-
1991
- 1991-12-03 JP JP34830491A patent/JPH05157461A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100404739B1 (ko) * | 2001-07-18 | 2003-11-12 | 주식회사 신명 | 세라믹 전자부품 제조용 박스형 로 |
| JP2005083633A (ja) * | 2003-09-08 | 2005-03-31 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 誘導加熱式乾留炉 |
| EP2144026A1 (de) * | 2008-06-20 | 2010-01-13 | Volker Probst | Prozessvorrichtung zum Prozessieren von gestapelten Prozessgütern |
| US9082796B2 (en) | 2008-06-20 | 2015-07-14 | Volker Probst | Process device for processing in particular stacked processed goods |
| US9284641B2 (en) | 2008-11-28 | 2016-03-15 | Volker Probst | Processing device for producing semiconductor layers and coated substrates treated with elemental selenium and/or sulphur |
| KR101136323B1 (ko) * | 2009-09-21 | 2012-04-18 | 이순석 | 대형 침탄 열처리로 |
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