JPH01176023A - 真空熱処理炉 - Google Patents
真空熱処理炉Info
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- JPH01176023A JPH01176023A JP33576787A JP33576787A JPH01176023A JP H01176023 A JPH01176023 A JP H01176023A JP 33576787 A JP33576787 A JP 33576787A JP 33576787 A JP33576787 A JP 33576787A JP H01176023 A JPH01176023 A JP H01176023A
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Landscapes
- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、−室式の真空熱処理炉に関し、詳しくは、
鋼材等の被処理物を真空加熱した後、ガス冷却を利用し
て熱処理する真空熱処理炉に関する。
鋼材等の被処理物を真空加熱した後、ガス冷却を利用し
て熱処理する真空熱処理炉に関する。
(従来の技術〉
従来のこの種の一室式のガス冷却を利用する真空熱処理
炉では、真空容器に減圧装置と冷却ガス供給装置とが接
続され、真空容器内に加熱室が配設され、真空容器内の
加熱室周囲に、供給された冷却ガスを循環させる循環装
置が配設されているそして、従来のこの種の真空熱処理
炉では、ガス冷却の方式の差により、つぎの2[類のタ
イプのものがある。
炉では、真空容器に減圧装置と冷却ガス供給装置とが接
続され、真空容器内に加熱室が配設され、真空容器内の
加熱室周囲に、供給された冷却ガスを循環させる循環装
置が配設されているそして、従来のこの種の真空熱処理
炉では、ガス冷却の方式の差により、つぎの2[類のタ
イプのものがある。
(1)1番目のタイプは、加熱室を略直方体形状とし、
前部に設けられた被処理物を出し入れする内部扉の他に
、加熱室の上壁と底壁とに冷却用界を設け、さらに、加
熱室上方の真空容器内に循環装置としての冷却ファンを
設けるタイプである。
前部に設けられた被処理物を出し入れする内部扉の他に
、加熱室の上壁と底壁とに冷却用界を設け、さらに、加
熱室上方の真空容器内に循環装置としての冷却ファンを
設けるタイプである。
そしてこのタイプの被処理物の冷却時には、上下の冷却
用界を共に開放させるとともに冷却ファンを作動させ、
被処理物を冷却ガスの上方から下方へ、あるいは下方か
ら上方への一方向だけの流れを利用し、被処理物を冷却
していた。
用界を共に開放させるとともに冷却ファンを作動させ、
被処理物を冷却ガスの上方から下方へ、あるいは下方か
ら上方への一方向だけの流れを利用し、被処理物を冷却
していた。
(2)2番目のタイプは、加熱室を前後に横置きとした
円筒形状とし、加熱室の前後壁に冷却用屏(前壁の冷却
用界は被処理物の出し入れ用も兼ねる)を設け、さらに
、加熱室の内周面に周方向に沿って複数の冷却ガスを吹
き出す吹き出しノズルを設け、これらの各吹出ノズルに
冷却ガスの循環装置としてのブロアから延びるダクトを
接続するタイプである。そしてこのタイプの被処理物の
冷却時には、前後の冷却用屏を共に開放させるとともに
ブロアを作動させ、全であるいは所定の吹出ノズルから
被処理物に冷却ガスを吹き付け、加熱室半径方向内方へ
向かった後に加熱室前後方向へ向かう冷却ガスの流れを
利用し、被処理物を冷却していた。
円筒形状とし、加熱室の前後壁に冷却用屏(前壁の冷却
用界は被処理物の出し入れ用も兼ねる)を設け、さらに
、加熱室の内周面に周方向に沿って複数の冷却ガスを吹
き出す吹き出しノズルを設け、これらの各吹出ノズルに
冷却ガスの循環装置としてのブロアから延びるダクトを
接続するタイプである。そしてこのタイプの被処理物の
冷却時には、前後の冷却用屏を共に開放させるとともに
ブロアを作動させ、全であるいは所定の吹出ノズルから
被処理物に冷却ガスを吹き付け、加熱室半径方向内方へ
向かった後に加熱室前後方向へ向かう冷却ガスの流れを
利用し、被処理物を冷却していた。
〈発明が解決しようとする問題点〉
一番目のタイプの炉では、冷却ガスの上方から下方へ、
あるいは下方から上方への一方向だけの流れを利用して
おり、被処理物が細長い棒状としている場合には、上下
方向に吊り下げるようにし、また、被処理物が薄い板状
としている場合には、上下方向に立てるようにすれば、
均一な焼入れを行なうことができる。
あるいは下方から上方への一方向だけの流れを利用して
おり、被処理物が細長い棒状としている場合には、上下
方向に吊り下げるようにし、また、被処理物が薄い板状
としている場合には、上下方向に立てるようにすれば、
均一な焼入れを行なうことができる。
しかし、被処理物を略球形状、略立方体、略直方体等の
厚肉太物被処理物とする場合には、冷却ガスの上流側と
下流側とに分かれる被処理物の上部と下部との冷却速度
が著しく異なり、被処理物に大きな焼入れ歪が生じ易く
なり、1番目のタイプの炉で熱処理するには不向ぎであ
った。
厚肉太物被処理物とする場合には、冷却ガスの上流側と
下流側とに分かれる被処理物の上部と下部との冷却速度
が著しく異なり、被処理物に大きな焼入れ歪が生じ易く
なり、1番目のタイプの炉で熱処理するには不向ぎであ
った。
なお、この欠点は、二段、三段等の段積みで熱処理する
場合にも同様であり、上段側と下段側との一方の冷却ガ
ス下流側の被処理物の冷却速度が遅くなり、その下流側
の被処理物の焼入れが不充分となって、この1番目のタ
イプの炉で熱処理するのには不向きであった。
場合にも同様であり、上段側と下段側との一方の冷却ガ
ス下流側の被処理物の冷却速度が遅くなり、その下流側
の被処理物の焼入れが不充分となって、この1番目のタ
イプの炉で熱処理するのには不向きであった。
また、2番目のタイプの炉では、加熱室内周壁の吹出ノ
ズルを経て加熱室周壁から半径方向内方に向かって被処
理物に当たった後、加熱室の前後に向かう冷却ガスの流
れを利用しており、被処理物が略球状、略立方体、略直
方体等の厚肉大物被処理物としている場合には、良好に
焼入れを行なうことができる。
ズルを経て加熱室周壁から半径方向内方に向かって被処
理物に当たった後、加熱室の前後に向かう冷却ガスの流
れを利用しており、被処理物が略球状、略立方体、略直
方体等の厚肉大物被処理物としている場合には、良好に
焼入れを行なうことができる。
しかし、このタイプの炉では、既述のように、吹出ノズ
ルから加熱室半径方向内方へ吹出した冷却ガスが必ず最
終的に加熱室前後方向に2手に分かれて流れることから
、被処理物に対して加熱室前後方向の冷却ガスの流れが
重なることが避けられない、そのため、細長い棒状の被
処理物を熱処理する場合には、炉内にいかなる態様でセ
ットしても、被処理物に弓状の焼入れ歪が生じ、2番目
のタイプの炉で熱処理するには不向きであった。
ルから加熱室半径方向内方へ吹出した冷却ガスが必ず最
終的に加熱室前後方向に2手に分かれて流れることから
、被処理物に対して加熱室前後方向の冷却ガスの流れが
重なることが避けられない、そのため、細長い棒状の被
処理物を熱処理する場合には、炉内にいかなる態様でセ
ットしても、被処理物に弓状の焼入れ歪が生じ、2番目
のタイプの炉で熱処理するには不向きであった。
特に、近年に至っては、ターボファンの利用や加圧ガス
冷却の発達により、より速いガス冷却速度が得られるよ
うになり、冷却速度が増々遠くなっているため、上述の
焼入れ歪の問題が生じ易くなっている。
冷却の発達により、より速いガス冷却速度が得られるよ
うになり、冷却速度が増々遠くなっているため、上述の
焼入れ歪の問題が生じ易くなっている。
この発明は、上述の問題を解決できるもので、被処理物
の形状・大きさ等が変わっても、冷却ガスの漬れを適宜
変更することができ、被処理物を均一な速度で冷却する
ことができて、焼入れ歪の発生を極力抑えて熱処理する
ことができる真空熱処理炉を提供することを目的とする
。
の形状・大きさ等が変わっても、冷却ガスの漬れを適宜
変更することができ、被処理物を均一な速度で冷却する
ことができて、焼入れ歪の発生を極力抑えて熱処理する
ことができる真空熱処理炉を提供することを目的とする
。
く問題点を解決するための手段〉
この発明に係る真空熱処理炉は、真空容器に減圧装置と
冷却ガス供給装置とが接続され、真空容器内には、加熱
室と、加熱室周囲の所定位置に配置されて、供給される
冷却ガスを真空容器内で循環させる循環装置とが配設さ
れている真空熱処理炉であって、 加熱室が略直方体形状とし、 循環装置の冷却ガス吐出側には、それぞれ独立して開閉
可能なダンパを備えるとともに、それぞれ先端に吹出ノ
ズルを備える4つのダクトが接続され、 各吹出ノズルが、それぞれ加熱室における上壁、底壁及
び左右の両側壁に対して、間隙を有しかつ対向して配置
され、 加熱室における吹出ノズルに対向すると壁、底壁及び左
右の両側壁の部位と、前壁及び後壁の部位とには、それ
ぞれ独立して開閉可能な冷却用群が設けられていること
を特徴とする。
冷却ガス供給装置とが接続され、真空容器内には、加熱
室と、加熱室周囲の所定位置に配置されて、供給される
冷却ガスを真空容器内で循環させる循環装置とが配設さ
れている真空熱処理炉であって、 加熱室が略直方体形状とし、 循環装置の冷却ガス吐出側には、それぞれ独立して開閉
可能なダンパを備えるとともに、それぞれ先端に吹出ノ
ズルを備える4つのダクトが接続され、 各吹出ノズルが、それぞれ加熱室における上壁、底壁及
び左右の両側壁に対して、間隙を有しかつ対向して配置
され、 加熱室における吹出ノズルに対向すると壁、底壁及び左
右の両側壁の部位と、前壁及び後壁の部位とには、それ
ぞれ独立して開閉可能な冷却用群が設けられていること
を特徴とする。
〈発明の作用・効果〉
この発明に係る真空熱処理炉では、被処理物の真空加熱
処理後、冷却ガス供給装置からの冷却ガスを真空容器内
に供給して、加熱室の上壁、底壁及び左右の両側壁の任
意の冷却用群を開放するとともに、加熱室の前後壁の冷
却用群も任意に開放する。と同時に循環装置を作動させ
て、所定のダンパを開放させれば、冷却ガスがダクトを
介して所定の吹出ノズルから吹き出され、所定の加熱室
の壁部から加熱室内にその冷却ガスが流入される、その
後流入された冷却ガスは、被処理物を冷却した後、冷却
ガスの流入なく開放されている加熱室の壁部から加熱室
外へ流出され、循環装置に吸気されて再び循環する。
処理後、冷却ガス供給装置からの冷却ガスを真空容器内
に供給して、加熱室の上壁、底壁及び左右の両側壁の任
意の冷却用群を開放するとともに、加熱室の前後壁の冷
却用群も任意に開放する。と同時に循環装置を作動させ
て、所定のダンパを開放させれば、冷却ガスがダクトを
介して所定の吹出ノズルから吹き出され、所定の加熱室
の壁部から加熱室内にその冷却ガスが流入される、その
後流入された冷却ガスは、被処理物を冷却した後、冷却
ガスの流入なく開放されている加熱室の壁部から加熱室
外へ流出され、循環装置に吸気されて再び循環する。
すなわち、この発明に係る真空熱処理炉では、加熱室に
おける上壁・底壁及び左右の側壁のそれぞれの冷却用群
を任意に開閉し、かつ、ダンパを操作してそれらの壁部
に対向する吹出ノズルから任意に冷却ガスを吹き出させ
れば、加熱室内の上方・下方・左方・右方の任意の方向
から冷却ガスを流入させることができる。そして、加熱
室の他の冷却用群を開放しておけば、湾入した冷却ガス
を流入方向以外の加熱室の前方・後方・上方・下方・左
方・及び右方の任意の方向に流出させることができる。
おける上壁・底壁及び左右の側壁のそれぞれの冷却用群
を任意に開閉し、かつ、ダンパを操作してそれらの壁部
に対向する吹出ノズルから任意に冷却ガスを吹き出させ
れば、加熱室内の上方・下方・左方・右方の任意の方向
から冷却ガスを流入させることができる。そして、加熱
室の他の冷却用群を開放しておけば、湾入した冷却ガス
を流入方向以外の加熱室の前方・後方・上方・下方・左
方・及び右方の任意の方向に流出させることができる。
したがって、この発明に係る真空熱処理炉では、冷却ガ
スの流れを適宜変更することができるため、被処理物の
形状・大きさ等が変わることとなっても、被処理物に対
応した冷却ガスの流れで冷却でき、被処理物を均一な速
度で冷却できて、焼入れ歪の発生を極力抑えることがで
きる。
スの流れを適宜変更することができるため、被処理物の
形状・大きさ等が変わることとなっても、被処理物に対
応した冷却ガスの流れで冷却でき、被処理物を均一な速
度で冷却できて、焼入れ歪の発生を極力抑えることがで
きる。
〈実施例〉
以下、この発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
実施例の真空熱処理炉Fは、第1〜3図に示すように、
真空容器1に公知の減圧装置2と窒素ガス等の冷却ガス
供給装置3とが接続され、真空容器1内に加熱室4が配
設されている。真空容器lの前部は内部に被処理物Mを
装入する装入511Aとしている。
真空容器1に公知の減圧装置2と窒素ガス等の冷却ガス
供給装置3とが接続され、真空容器1内に加熱室4が配
設されている。真空容器lの前部は内部に被処理物Mを
装入する装入511Aとしている。
加熱室4は、略直方体形状とし、図示しない公知の発熱
体を具備し、公知の断熱材で囲って構成されている。加
熱室4は、上壁4A、底壁4B。
体を具備し、公知の断熱材で囲って構成されている。加
熱室4は、上壁4A、底壁4B。
左側壁4C,右側壁4D、前壁4E、及び後壁4Fに、
それぞれ被処理物Mを冷却する際選択して開放される冷
却用群8A、8B、8C,8D、8E、8Fを備えてい
る。各冷却用群8A〜8Fは、真空容器1外に配置され
る図示しないエアシリンダ等を利用した開閉装置により
、それぞれ独立して開閉可能としている。なお、前壁4
Eの冷却用m8Eは、被処理物M装入用の機能も兼ねる
こととなる。また、4aは、被処理物Mの架台である。
それぞれ被処理物Mを冷却する際選択して開放される冷
却用群8A、8B、8C,8D、8E、8Fを備えてい
る。各冷却用群8A〜8Fは、真空容器1外に配置され
る図示しないエアシリンダ等を利用した開閉装置により
、それぞれ独立して開閉可能としている。なお、前壁4
Eの冷却用m8Eは、被処理物M装入用の機能も兼ねる
こととなる。また、4aは、被処理物Mの架台である。
加熱室4後方には、冷却ガス供給装置3によって供給さ
れた冷却ガスを真空容器1内で循環させるファンやブロ
ア等を備えた循環装置5が配設されている。この循環装
置5の吸気側は、第1図に示すように、加熱室4後方の
一箇所としているが、吐出側は、第3図に示すように、
それぞれダクト6A、6B、6C及び6Dに接続されて
4つに分岐されている。なお、この循環装置5は、循環
する冷却ガスを冷却する図示しない公知の冷却手段も具
備している。
れた冷却ガスを真空容器1内で循環させるファンやブロ
ア等を備えた循環装置5が配設されている。この循環装
置5の吸気側は、第1図に示すように、加熱室4後方の
一箇所としているが、吐出側は、第3図に示すように、
それぞれダクト6A、6B、6C及び6Dに接続されて
4つに分岐されている。なお、この循環装置5は、循環
する冷却ガスを冷却する図示しない公知の冷却手段も具
備している。
各ダクト6A、6B、6C及び6Dは、第3図に示すよ
うに、元部側にダンパ7A、7B、7C及び7Dを備え
ている。各ダンパ7A〜7Dは、真空容器1外に配置さ
れる図示しないエアシリンダ等を利用した開閉装置によ
り、それぞれ独立して開閉可能としている。
うに、元部側にダンパ7A、7B、7C及び7Dを備え
ている。各ダンパ7A〜7Dは、真空容器1外に配置さ
れる図示しないエアシリンダ等を利用した開閉装置によ
り、それぞれ独立して開閉可能としている。
また、各ダクト6A〜6Dの先端側は、第1・2図に示
すように、加熱室4の上壁4A、底壁4B、及び左右側
壁4C,4Dにおける冷却用扉8A〜8Dの開放部位ま
で延びている。そして、それぞれの先端部位には、各壁
部4A〜4Dに対して間隙を有しかつ対向して配置され
、複数の吐出孔を備える吹出ノズル9A、9B、9C及
び9Dが配置されている。
すように、加熱室4の上壁4A、底壁4B、及び左右側
壁4C,4Dにおける冷却用扉8A〜8Dの開放部位ま
で延びている。そして、それぞれの先端部位には、各壁
部4A〜4Dに対して間隙を有しかつ対向して配置され
、複数の吐出孔を備える吹出ノズル9A、9B、9C及
び9Dが配置されている。
つぎに、この実施例の炉Fの使用態様について説明する
。
。
まず、薄い板状の被処理物M1を熱処理する場合につい
て述べる。ちなみに、被処理物M1が薄い板状とする場
合には、処理量を考慮すると、複数の被処理物M1を立
てて上下方向で冷却ガスを流すことが好ましい。
て述べる。ちなみに、被処理物M1が薄い板状とする場
合には、処理量を考慮すると、複数の被処理物M1を立
てて上下方向で冷却ガスを流すことが好ましい。
まず、装入扉IAと加熱室前壁4Eの冷却用扉8Eとを
開放して加熱室4内に複数の被処理物M1を立てて装入
し、装入5itAと冷却用5i113Eとを閉鎖する。
開放して加熱室4内に複数の被処理物M1を立てて装入
し、装入5itAと冷却用5i113Eとを閉鎖する。
そして、減圧装置2を作動させて、真空容器1内を真空
状態とし、被処理物M1を加熱する。
状態とし、被処理物M1を加熱する。
被処理物M1を所定温度で所定時間維持したならば、冷
却ガス供給装置3を作動させ、真空容器1内を冷却ガス
の加圧状態とする。と同時に、加熱室上・底壁4A・4
Bの冷却用扉8A・8Bと、上壁4Aに通じるダクト6
Aのダンパ7Aとを開放し、循環装置5を作動させる。
却ガス供給装置3を作動させ、真空容器1内を冷却ガス
の加圧状態とする。と同時に、加熱室上・底壁4A・4
Bの冷却用扉8A・8Bと、上壁4Aに通じるダクト6
Aのダンパ7Aとを開放し、循環装置5を作動させる。
すると、冷却ガスは、吹出ノズル9Aを経て加熱室上壁
4Aから流入して底壁4Bから流出し、その後、循環装
置5内へ吸入され、ダクト6Aを経て再び吹出ノズル9
Aから加熱室4へ上方から流入して循環することとなる
(第1〜4図参照)その後、ダンパ7Aを閉じ、底壁4
Bに通ずるダクト6Bのダンパ7Bを開放する。
4Aから流入して底壁4Bから流出し、その後、循環装
置5内へ吸入され、ダクト6Aを経て再び吹出ノズル9
Aから加熱室4へ上方から流入して循環することとなる
(第1〜4図参照)その後、ダンパ7Aを閉じ、底壁4
Bに通ずるダクト6Bのダンパ7Bを開放する。
すると、冷却ガスは、吹出ノズル9Bを経て加熱室底壁
から流入して上壁4Aから流出し、その後、循環装置5
を経て循環することとなる(第5図参照)。
から流入して上壁4Aから流出し、その後、循環装置5
を経て循環することとなる(第5図参照)。
そして、これらの加熱室4内を上方から下方へ又は下方
から上方へ流れる冷却ガスにより、薄い板状の被処理物
M1が各部を均一な冷却速度で冷却され、焼入れ歪の発
生を低減されて焼入れされることとなる。
から上方へ流れる冷却ガスにより、薄い板状の被処理物
M1が各部を均一な冷却速度で冷却され、焼入れ歪の発
生を低減されて焼入れされることとなる。
その後、焼入れ処理がなされたならば、循環装置5を停
止させ、装入扉IA及び加熱室前壁4Eの冷却用扉8E
を開放し、被処理物M1を取出せばよい。
止させ、装入扉IA及び加熱室前壁4Eの冷却用扉8E
を開放し、被処理物M1を取出せばよい。
つぎに、二・三段等の段積みで被処理物M2を熱処理す
る場合を説明すると、冷却時、加熱室左右側壁4C・4
Dの冷却用扉8C・8Dを共に開放し、さらに、左側壁
4Cに通じるダクト6cのダンパ7Cと、右側壁4Dに
通じるダクト6Dのダンパ7Dとを順次交互に開放し、
循環装置5を作動させればよい。
る場合を説明すると、冷却時、加熱室左右側壁4C・4
Dの冷却用扉8C・8Dを共に開放し、さらに、左側壁
4Cに通じるダクト6cのダンパ7Cと、右側壁4Dに
通じるダクト6Dのダンパ7Dとを順次交互に開放し、
循環装置5を作動させればよい。
すると、冷却ガスは、第6・7図に示すように、吹出ノ
ズル9Cを経て左側壁4cから加熱室4へ流入して右側
壁4Dから流出して循環したり、吹出ノズル9Dを経て
右側壁4Dから加熱室4へ流入して左側壁4Cから流出
して循環する。
ズル9Cを経て左側壁4cから加熱室4へ流入して右側
壁4Dから流出して循環したり、吹出ノズル9Dを経て
右側壁4Dから加熱室4へ流入して左側壁4Cから流出
して循環する。
そのため、段積みの被処理物M2の各々を均一に冷却す
ることができ、焼入れ歪の発生を押えて被処理物M2の
焼入れが行なえる。
ることができ、焼入れ歪の発生を押えて被処理物M2の
焼入れが行なえる。
さらに、球状等の厚肉太物の被処理物M3を熱処理する
場合には、冷却時、加熱室4の8壁4A〜4Fと、各ダ
クト6A〜6Dの各ダンパ7Aへ7Dとを全て開放して
循環装置5を作動させればよい。
場合には、冷却時、加熱室4の8壁4A〜4Fと、各ダ
クト6A〜6Dの各ダンパ7Aへ7Dとを全て開放して
循環装置5を作動させればよい。
すると、冷却ガスは、第10・11図に示すように、各
吹出ノズル9A〜9Dを経て加熱室4全周の上壁4 A
’・底壁4B・及び左右側壁4C・4Dから流入し、前
後壁4E・4Fから流出して循環する。
吹出ノズル9A〜9Dを経て加熱室4全周の上壁4 A
’・底壁4B・及び左右側壁4C・4Dから流入し、前
後壁4E・4Fから流出して循環する。
そのため、従来の技術の欄で述べた2番目のタイプの炉
と同様となって、厚肉大物被処理物M3を均一に冷却す
ることができ、焼入れ歪の発生を抑えて被処理物M3の
焼入れが行える。
と同様となって、厚肉大物被処理物M3を均一に冷却す
ることができ、焼入れ歪の発生を抑えて被処理物M3の
焼入れが行える。
さらに、所望に応じて、加熱室前後壁4E・4Fを除い
た8壁4A〜4Dを開放した状態で、上・底壁4A・4
Bに通じるダクト6A・6BのダンバフA・7Bを開放
させたり、左右側壁4C・4Dに通じるダクト6C・6
DのダンバフC・7Dを開放させ、循環装置5を作動さ
せてもよい。
た8壁4A〜4Dを開放した状態で、上・底壁4A・4
Bに通じるダクト6A・6BのダンバフA・7Bを開放
させたり、左右側壁4C・4Dに通じるダクト6C・6
DのダンバフC・7Dを開放させ、循環装置5を作動さ
せてもよい。
このような態様とすると、冷却ガスは、第8・9図に示
すように、加熱室4内へ上下方向から流入して左右方向
へ流出したり、あるいは、加熱室4内へ左右方向から流
入して上下方向へ流出することとなる。
すように、加熱室4内へ上下方向から流入して左右方向
へ流出したり、あるいは、加熱室4内へ左右方向から流
入して上下方向へ流出することとなる。
したがって、実施例の真空熱処理炉Fでは、冷却用m8
A〜8Fやダンパ7A〜7Dを操作し、冷却時における
加熱室4内の冷却ガスの涜れを上下方向・左右方向・前
後方向等を組合わせた第4〜10図に示す7つの基本形
の他、さらに種々の流れを選択することができる。
A〜8Fやダンパ7A〜7Dを操作し、冷却時における
加熱室4内の冷却ガスの涜れを上下方向・左右方向・前
後方向等を組合わせた第4〜10図に示す7つの基本形
の他、さらに種々の流れを選択することができる。
そのため、被処理物の形状・大きさ等が変わることとな
っても、冷却ガスの流れを適宜変更することができるた
め、被処理物に対応した冷却ガスの流れで冷却でき、既
述の発明の作用・効果の欄で述べたと同様な効果を奏す
る。
っても、冷却ガスの流れを適宜変更することができるた
め、被処理物に対応した冷却ガスの流れで冷却でき、既
述の発明の作用・効果の欄で述べたと同様な効果を奏す
る。
なお、実施例の炉Fにおいて、各冷却用m8A〜8Fや
ダンパ7八〜7Dの動作をコントローラ等で調整できる
ようにし、例えば、第4〜10図に示す7つの基本形を
時間を含めて自動的に構成できるようにして、同一ある
いは異種の被処理物Mを種々のパターンによる自動操作
で真空熱処理することもできる。
ダンパ7八〜7Dの動作をコントローラ等で調整できる
ようにし、例えば、第4〜10図に示す7つの基本形を
時間を含めて自動的に構成できるようにして、同一ある
いは異種の被処理物Mを種々のパターンによる自動操作
で真空熱処理することもできる。
341図はこの発明の一実施例を示す断面図、第2図は
同実施例における第1図のII −11部位を示す断面
図、第3図は同実施例における第1図のlll−I+1
部位を示す断面図、第4図・第5図・第6図・第7図・
第8図・第9図・第10図はそれぞれ冷却時の冷却ガス
の漬れを種々変更させた際の概略断面図、第11図は同
実施例における第10図のXl−X1部位を示す概略断
面図である。 1・・・真空容器、 2・・・減圧装置、 3・・・冷却ガス供給装置、 4・・・加熱室、 4A・・・上壁、 4B・・・底壁、 4C・・・左側壁、 4D・・・右側壁、 4E・・・前壁、 4F・・・後壁、 5・・・循環装置、 6A・6B・6C・6D・・・ダクト、7A・7B・7
C・7D・・・ダンパ、8A・8B・8C・8D・8E
・8F ・・・冷却用扉 9A・9B・9C・9D・・・吹出ノズル、F・・・真
空熱処理炉、 M(Ml・M2・M3)・・・被処理物。 特 許 出 願 人 第2図 第4図
同実施例における第1図のII −11部位を示す断面
図、第3図は同実施例における第1図のlll−I+1
部位を示す断面図、第4図・第5図・第6図・第7図・
第8図・第9図・第10図はそれぞれ冷却時の冷却ガス
の漬れを種々変更させた際の概略断面図、第11図は同
実施例における第10図のXl−X1部位を示す概略断
面図である。 1・・・真空容器、 2・・・減圧装置、 3・・・冷却ガス供給装置、 4・・・加熱室、 4A・・・上壁、 4B・・・底壁、 4C・・・左側壁、 4D・・・右側壁、 4E・・・前壁、 4F・・・後壁、 5・・・循環装置、 6A・6B・6C・6D・・・ダクト、7A・7B・7
C・7D・・・ダンパ、8A・8B・8C・8D・8E
・8F ・・・冷却用扉 9A・9B・9C・9D・・・吹出ノズル、F・・・真
空熱処理炉、 M(Ml・M2・M3)・・・被処理物。 特 許 出 願 人 第2図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 真空容器に減圧装置と冷却ガス供給装置とが接続され、
前記真空容器内には、加熱室と、該加熱室周囲の所定位
置に配置されて、供給される冷却ガスを前記真空容器内
で循環させる循環装置とが配設されている真空熱処理炉
であつて、 前記加熱室が略直方体形状とし、 前記循環装置の冷却ガス吐出側には、それぞれ独立して
開閉可能なダンパを備えるとともに、それぞれ先端に吹
出ノズルを備える4つのダクトが接続され、 前記各吹出ノズルが、それぞれ前記加熱室における上壁
、底壁及び左右の両側壁に対して、間隙を有しかつ対向
して配置され、 前記加熱室における前記吹出ノズルに対向する上壁、底
壁及び左右の両側壁の部位と、前壁及び後壁の部位とに
は、それぞれ独立して開閉可能な冷却用扉が設けられて
いる、 ことを特徴とする真空熱処理炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33576787A JPH01176023A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 真空熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33576787A JPH01176023A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 真空熱処理炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01176023A true JPH01176023A (ja) | 1989-07-12 |
JPH0255486B2 JPH0255486B2 (ja) | 1990-11-27 |
Family
ID=18292230
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33576787A Granted JPH01176023A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 真空熱処理炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01176023A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0640049A (ja) * | 1992-03-02 | 1994-02-15 | Seikosha Co Ltd | 印字ワイヤのロウ付け構造およびそのロウ付け方法 |
US7625204B2 (en) * | 2003-06-27 | 2009-12-01 | Ihi Corporation | Gas cooling type vacuum heat treating furnace and cooling gas direction switching device therefor |
US7771193B2 (en) | 2004-03-18 | 2010-08-10 | Ihi Corporation | Double-chamber type heat-treating furnace |
WO2022054437A1 (ja) * | 2020-09-09 | 2022-03-17 | 中外炉工業株式会社 | バッチ式熱処理炉 |
-
1987
- 1987-12-29 JP JP33576787A patent/JPH01176023A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0640049A (ja) * | 1992-03-02 | 1994-02-15 | Seikosha Co Ltd | 印字ワイヤのロウ付け構造およびそのロウ付け方法 |
US7625204B2 (en) * | 2003-06-27 | 2009-12-01 | Ihi Corporation | Gas cooling type vacuum heat treating furnace and cooling gas direction switching device therefor |
US7771193B2 (en) | 2004-03-18 | 2010-08-10 | Ihi Corporation | Double-chamber type heat-treating furnace |
WO2022054437A1 (ja) * | 2020-09-09 | 2022-03-17 | 中外炉工業株式会社 | バッチ式熱処理炉 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0255486B2 (ja) | 1990-11-27 |
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Legal Events
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