JP2000055566A - 多室熱処理炉の冷却装置 - Google Patents

多室熱処理炉の冷却装置

Info

Publication number
JP2000055566A
JP2000055566A JP10222541A JP22254198A JP2000055566A JP 2000055566 A JP2000055566 A JP 2000055566A JP 10222541 A JP10222541 A JP 10222541A JP 22254198 A JP22254198 A JP 22254198A JP 2000055566 A JP2000055566 A JP 2000055566A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cooling
chamber
cooling gas
heat treatment
guide passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10222541A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Suzuki
晶 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IHI Corp filed Critical IHI Corp
Priority to JP10222541A priority Critical patent/JP2000055566A/ja
Publication of JP2000055566A publication Critical patent/JP2000055566A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Tunnel Furnaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 遮熱板の熱変形による不都合をなくし、真空
冷却又は静止ガス冷却時間を短縮し、遮熱板や冷却ガス
案内通路の材料の融点に制約されない温度からの冷却が
可能な冷却装置を提供する。 【解決手段】 加熱室2,3と冷却室4とを有する多室
熱処理炉の冷却室4に設けられた冷却装置であって、冷
却装置は、被処理物1が搬入され、その周囲を冷却ガス
が流れるように案内する冷却ガス案内通路19と、この
冷却ガス案内通路19を通過して冷却ガスを循環させる
冷却ファン22と、を備え、冷却ガス案内通路19は水
冷パネル23で構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱処理、焼結、焼
成等を行う多室熱処理炉の冷却装置に関する。
【0002】
【従来の技術】金属、セラミックス、磁性材、複合材な
どの熱処理、焼結、焼成をするため、多室熱処理炉が用
いられる。図5は従来の多室熱処理炉の一例として3室
形を示す。この3室熱処理炉は、入り口側より順に、第
1加熱室2、第2加熱室3、冷却室4が配置され、被処
理物1を第1加熱室2で所定温度までの加熱を行い、さ
らに加熱が必要な場合は第2加熱室3で加熱を行い、冷
却室4では放冷や急冷などの冷却処理を行い、100℃
以下にして出口側より排出される。
【0003】冷却室4には被処理物1の搬送方向に冷却
ガス案内通路19が設けられ、この中に被処理物1が搬
入され冷却される。冷却室4の上部には冷却ファン22
が設けられ、冷却ガスを上方からこの冷却ガス案内通路
19を通過し、下方に下がり、上方に戻るよう循環させ
ている。
【0004】図6は従来の冷却室4の断面図を示す。水
冷構造の炉体15の中央に冷却ガス案内通路19が設け
られ、この中に被処理物1が搬入される。冷却ガス案内
通路19の内側には遮熱板20が設けられ、冷却ガス案
内通路19を熱的に保護している。なお矢印は冷却ガス
案内通路19を通過した冷却ガスが下方に下がり、再び
上方に戻り循環する様子を示す。炉体15と冷却ガス案
内通路19の間には冷却フィンチューブ16が設けら
れ、循環する冷却ガスを冷却している。
【0005】図7は従来の冷却室4の断面図で、別の冷
却通路を用いた場合を示す。冷却ガス案内通路19aは
下方より上方に冷却ガスを案内するようになっており、
この形状に合わせた遮熱板20aが設けられている。他
の構成は図5と同じである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】冷却ガス案内通路1
9、19aは鋼製であり、遮熱板20、20aはステン
レス鋼板やモリブデン板が用いられている。遮熱板2
0、20aは高温となるため熱変形が発生しやすく、こ
の熱変形が起こると、被処理物1を搬送する時干渉が生
じる。このため遮熱板20、20aの破損により、場合
によっては、冷却ガス案内通路19、19aまで熱損傷
を受けることがある。このため遮熱板20、20aの点
検、メンテナンス、交換などの作業が頻繁に必要にな
る。
【0007】また、被処理物1の材料特性によっては、
第2加熱室3から冷却室4へ移送後、ある温度まで真空
中、または静止した冷却ガス中で徐冷し、その後冷却フ
ァンで急冷する場合があるが、真空または静止ガス冷却
に時間がかかり、冷却サイクルタイムが長くなり、生産
性が上がらない。また、遮熱板20、20a、冷却ガス
案内通路19、19aを構成する材料の融点以上の温度
で、被処理物1の冷却処理ができない。
【0008】本発明は、上述の問題点に鑑みてなされた
もので、遮熱板の熱変形による不都合をなくし、真空冷
却又は静止ガス冷却時間を短縮し、遮熱板や冷却ガス案
内通路の材料の融点に制約されない温度からの冷却が可
能な冷却装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明では、加熱室と冷却室とを有する多
室熱処理炉の冷却室に設けられた冷却装置であって、前
記冷却装置は、被処理物が搬入され、その周囲を冷却ガ
スが流れるように案内する冷却ガス案内通路と、この冷
却ガス案内通路を通過して冷却ガスを循環させる冷却フ
ァンと、を備え、前記冷却ガス案内通路は水冷パネルで
構成されている。
【0010】被処理物が設置される冷却ガス案内通路を
水冷パネルで構成することにより、低温に保つことがで
き、熱変形の発生をなくすことができ搬送時被処理物と
の干渉を起こさなくなる。また冷却ガス案内通路が冷却
されるので真空冷却及び循環ガス冷却時間が短縮され
る。
【0011】請求項2の発明によれば、前記水冷パネル
には冷却用のフィンが設けられている。
【0012】水冷パネルにフィンを設けることにより、
冷却ガスの冷却を効率よく行うことができ、冷却ファン
による冷却時間を短縮することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。図1は本発明の実施形態の冷却室を
含む多室熱処理炉を示す。図2は図1のX−X断面で、
冷却室の断面を示す。この3室形熱処理炉は、入り口扉
6から順に第1加熱室2、第2加熱室3、冷却室4で構
成され、冷却室4の出口扉7から被処理物1を排出して
いる。入り口扉6を入った所からコンベヤ5が設けら
れ、冷却室4まで配置されている。第1加熱室2は所定
の温度、例えば800℃までの加熱をする。入り口扉8
と出口扉9が設けられ、底板、天井、側壁にはヒータ1
0が設けられている。第2加熱室3はさらに高い温度、
例えば1500〜2000℃程度の加熱をする。第2加
熱室3には入り口扉11と出口扉12が設けられ、室内
にはヒータ13が設けられている。
【0014】冷却室4も入り口扉14と出口扉7を有す
る。冷却室4には搬出入方向に被処理物1が通過する冷
却ガス案内通路19が設けられている。またこの通路1
9を通って冷却ガスを循環する冷却ファン22が設けら
れ、駆動装置21により回転する。なお、上述した各扉
6、7、8、9、11、12、14はシリンダで開閉す
る。
【0015】図2に示すように、炉体15は真空に耐え
るように円筒形となっており、また中央に冷却ガス案内
通路19が配置され、そのなかを被処理物1が搬送され
るようになっている。なを冷却ガス案内通路19の断面
は四角の場合を示したが、被処理物1の形状に応じて円
形としてもよい。炉体15と冷却ガス案内通路19の側
壁の間には水冷フィンチューブ16が搬出方向に設けら
れ、炉体15と冷却ガス案内通路19を冷却している。
被処理物1は炉床17で支持され、炉床17は炉床サポ
ート18で炉体15から支持されている。炉床17はグ
ラファイト製でつくられ、1500℃を越える超高温状
態で被処理物1の冷却を可能としている。なお、矢印は
冷却ガス案内通路19を通った冷却ガスが下側に回り水
冷フィンチューブ16により冷却されて冷却ファン22
に戻る様子を示す。
【0016】図3は冷却ガス案内通路19を構成する水
冷パネル23を示し、(A)は平面図、(B)は(A)
のY−Y断面図を示す。水冷パネル23は2枚の鋼板を
リブで結んで3本の水路を形成し、この水路を図に示す
ようにジグザグになるようにつなぎ、流路を長くしてい
る。また冷却ガス案内通路19の内側になる面にフィン
24を設けて熱伝達を良くしている。なお水冷パネル2
3の両面にフィン24を設けてもよい。冷却ガス案内通
路19の頂板、底板、両側板は水冷パネル23で構成さ
れている。水冷パネルは被処理物1の輻射熱を吸収する
とともに、循環する冷却ガスの熱を対流伝熱により吸収
する。従って、遮熱板は必要としない。なお、水冷パネ
ルの材質は鋼製に限定されるものでなく、熱伝導に優れ
る銅製とすることにより、さらに冷却性能を高める場合
など、ケースにより適宜選定することができる。また、
水冷パネルの冷却水路を含む構造は、作用する圧力、熱
負荷、装置の大小、冷却水条件により定められるので、
図示の形状に限定されるものではない。さらに、フィン
構造も同様、図示形状に限定されるものではない。
【0017】また、図4は本多室熱処理炉の熱処理パタ
ーンを本発明と従来のものと比較して示した図である。
第1加熱室2と第2加熱室3で被処理物1を加熱し、こ
の温度が1500℃を越えた時、従来は、a〜bに示す
ように第2加熱室3で1500℃以下に冷却した後、冷
却室4に移し、熱処理の品質確保のためb〜cで示すよ
うに真空冷却をし、次に冷却ガスを循環するファン冷却
でc〜dで示すように急冷する。これに対し本発明で
は、被処理物1が1500℃を越える場合でも、a〜c
1に示すように冷却室に移し、真空冷却して熱処理の品
質確保をし、次に冷却ガスを循環するファン冷却でc1
〜d1で示すように急冷する。これにより図4に示すよ
うに冷却時間が短縮される。なお、真空冷却は真空中の
放冷であり、静止冷却ガス冷却は冷却ガス雰囲気中の放
冷であり、ファン冷却は強制冷却ガス循環冷却で、前2
者が徐冷であるのに対し、急冷である。冷却速度は、フ
ァン冷却、静止冷却ガス冷却、真空冷却の順に大きい。
また、従来の温度制限はファン冷却で1500℃、静止
冷却ガス冷却、真空冷却で1200℃である。
【0018】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
は、冷却ガス案内通路を水冷パネルで構成し、遮熱板を
廃止したことにより次の効果を奏する。 冷却ガス案内通路の熱損傷がなくなり、炉内構造物
の熱保護が可能になる。 冷却ガス案内通路構造の水冷化によりこの構造の耐
熱温度の制限がなくなったので、2000℃を越える被
処理物の真空冷却または静止冷却ガス冷却が冷却室で可
能になる。 従来は被処理物が高温時は、遮熱板温度も上昇する
ため、真空冷却または静止冷却ガス冷却の冷却性が悪
く、ファン冷却開始可能温度まで被処理物が冷えるのに
時間を要したが、水冷パネルの採用によりこの時間を短
縮できる。 循環する冷却ガスの温度を水冷パネルにより下げる
ことができるので、ファン冷却開始温度を従来より大幅
に高められる。これによりファン冷却による温度範囲が
大きくなり、冷却時間を短縮できる。 冷却ガス案内通路自体が冷却効果をもつため、冷却
フィンチューブ数の節減、または省略が可能になり、炉
体のコンパクト化が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の冷却室を含む多室熱処理炉の構成を示
す図である。
【図2】図1のX−X断面図である。
【図3】水冷パネルの構成を示す図である。
【図4】多室熱処理炉の熱処理パターンを示す図であ
る。
【図5】従来の冷却室を含む多室熱処理炉の構成を示す
図である。
【図6】従来の冷却室の断面図である。
【図7】従来の別の冷却室の断面図である。
【符号の説明】
1 被処理物 2 第1加熱室 3 第2加熱室 4 冷却室 5 コンベヤ 6,8,11,14 入り口扉 7,9,12 出口扉 10,13 ヒータ 15 炉体 16 水冷フィンチューブ 17 炉床 18 炉床サポート 19,19a 冷却ガス案内通路 20,20a 遮熱板 21 駆動装置 22 冷却ファン 23 水冷パネル 24 フィン

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 加熱室と冷却室とを有する多室熱処理炉
    の冷却室に設けられた冷却装置であって、前記冷却装置
    は、被処理物が搬入され、その周囲を冷却ガスが流れる
    ように案内する冷却ガス案内通路と、この冷却ガス案内
    通路を通過して冷却ガスを循環させる冷却ファンと、を
    備え、前記冷却ガス案内通路は水冷パネルで構成されて
    いることを特徴とする多室熱処理炉の冷却装置。
  2. 【請求項2】 前記水冷パネルには冷却用のフィンが設
    けられていることを特徴とする請求項1記載の多室熱処
    理炉の冷却装置。
JP10222541A 1998-08-06 1998-08-06 多室熱処理炉の冷却装置 Pending JP2000055566A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10222541A JP2000055566A (ja) 1998-08-06 1998-08-06 多室熱処理炉の冷却装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10222541A JP2000055566A (ja) 1998-08-06 1998-08-06 多室熱処理炉の冷却装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000055566A true JP2000055566A (ja) 2000-02-25

Family

ID=16784067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10222541A Pending JP2000055566A (ja) 1998-08-06 1998-08-06 多室熱処理炉の冷却装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000055566A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7120860B1 (en) 1998-10-20 2006-10-10 Fujitsu Limited Display control apparatus and storage medium
KR100747743B1 (ko) 2007-04-13 2007-08-08 한국기계연구원 와류방지가이드를 구비한 가열로와 냉각로 및 롤러하스형소둔로

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7120860B1 (en) 1998-10-20 2006-10-10 Fujitsu Limited Display control apparatus and storage medium
KR100747743B1 (ko) 2007-04-13 2007-08-08 한국기계연구원 와류방지가이드를 구비한 가열로와 냉각로 및 롤러하스형소둔로

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000003918A (ja) 半導体熱処理装置及びその方法
US5267257A (en) Vacuum furnace with convection heating and cooling
US5703901A (en) Calcination furnace
US6623269B2 (en) Thermal treatment apparatus
KR100981141B1 (ko) 연속 공정 노
JP2000055566A (ja) 多室熱処理炉の冷却装置
JP2005121308A (ja) 高圧熱処理炉
JP5194288B2 (ja) プラズマ窒化処理装置及び連続式プラズマ窒化処理方法
US4182611A (en) Roller-hearth furnace with shielded rollers
JP2010016285A (ja) 熱処理装置
JP6440436B2 (ja) 円筒状板材コイルの熱処理設備および熱処理方法
JPH05157461A (ja) 加熱炉
JP3208839B2 (ja) 被処理材の熱処理方法
JPH07115066A (ja) 半導体熱処理装置
JP3916073B2 (ja) 熱処理オーブン
JPH0347923A (ja) 光輝焼鈍炉
US3422205A (en) Electric furnace having replaceable liner tube sections
JPH0418008B2 (ja)
CN216115385U (zh) 一种真空炉加热***
JP3814785B2 (ja) 熱処理オーブン
JP2933469B2 (ja) 熱処理装置
US20230168036A1 (en) Heat treatment furnace
SU1279534A3 (ru) Способ непрерывного отжига полосовой катушки металла в двухкамерной печи
JP3978900B2 (ja) 液晶注入装置
JP3379136B2 (ja) 連続炉における炉内冷却構造

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050714

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080115

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080123

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080321

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080715