JPH05132410A - 化粧料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 下記一般式（１）で表わされるホスホベタイ
ン化合物を含有する化粧料。 【化１】 〔式中、Ｚは構成単糖の縮合度が１０以上の、置換基を
有していてもよい多糖類又はその部分加水分解物由来の
基を示す。〕 【効果】 柔軟性ある良好な使用感を与え、しかも水洗
・汗等によって損なわれることのない優れた保湿効果を
有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は化粧料、さらに詳しくは
汗や水洗等により損なわれにくい優れた保湿効果を有
し、皮膚及び毛髪に対してべとつかず、しっとりとした
感触を与える化粧料に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
化粧料中には、皮膚及び毛髪に対する保護効果を有する
各種保湿剤が配合されている。しかしながらこれらの保
湿剤は汗等の水分に弱く、プール等で用いたり、リン
ス、ボディリンス等の洗い流して用いるタイプの化粧料
においては、その本来の効果を発揮できないことが多
い。また、洗い流してもさらに保湿効果が充分残るよう
保湿剤を多量に配合すると、べとつき等、使用感の悪化
が問題となってくる。従って、汗等に強く、さらに洗い
流して用いても充分な保湿効果を有し、かつべとつきを
生ぜず、しっとりとした良好な感触を与える化粧料の開
発が望まれていた。

【０００３】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる状
況に鑑み鋭意検討した結果、特定のホスホベタインを含
有する化粧料が、前記課題を解決することを見出し、本
発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、下記一
般式（１）で表わされるホスホベタイン化合物を含有す
る化粧料を提供するものである。

【０００４】

【化２】

【０００５】で示される基は、それぞれＺにおいて除か
れた水酸基が結合していた炭素原子と結合する基であ
り、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は同一でも異なってもよく、水素
原子、又は水酸基を有していてもよい直鎖もしくは分岐
鎖の炭素数１〜２４のアルキル基、アルケニル基もしく
はアルキルフェニル基を示し、Ｍ¹及びＭ²は同一でも異
なってもよく、水素原子又は陽イオン性基を示し、ｍは
０以上、ｎは１以上の数を示す。但し、ｍ＋ｎは上記多
糖類又はその部分加水分解物がそれぞれ有する水酸基の
数を超えない数を示す。）

【０００６】上記一般式（１）における残基Ｚのもとと
なる構成単糖の縮合度が１０以上の多糖類としてはデン
プン、アミロース、アミロペクチン、セルロース、デキ
ストラン、カードラン、プルラン、イヌリン、ガラクタ
ン、アラビナン、アガロース、キシラン、マンナン、キ
チン、キトサン、アルギン酸等が挙げられる。多糖類の
部分加水分解物としては、上記多糖類を酸や酵素で加水
分解した生成物が挙げられる。また、これら多糖類又は
部分加水分解物に置換し得る基としては、例えばアシル
化、エーテル化、アルキレンオキサイド付加、アセター
ル化などにより修飾された基が挙げられる。なお、該多
糖類として構成単糖の縮合度が異なる多糖の混合物や２
種類以上の多糖の混合物を用いることは、本発明を実施
するにあたり何ら問題はない。例えばデンプンやセルロ
ースの如き天然多糖は、グルコース縮合度が通常数百か
ら数万の混合物であるが、当該多糖類として好ましいも
のである。

【０００７】水酸基で置換された直鎖又は分岐鎖のアル
キル基としては、例えばヒドロキシメチル、ヒドロキシ
エチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチル、ヒド
ロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロキシヘプ
チル、ヒドロキシオクチル、ヒドロキシノニル、ヒドロ
キシデシル、ヒドロキシウンデシル、ヒドロキシドデシ
ル、ヒドロキシトリデシル、ヒドロキシテトラデシル、
ヒドロキシペンタデシル、ヒドロキシヘキサデシル、ヒ
ドロキシヘプタデシル、ヒドロキシオクタデシル、ヒド
ロキシノナデシル、ヒドロキシエイコシル、ヒドロキシ
ヘンエイコシル、ヒドロキシコシル、ヒドロキシトリコ
シル、ヒドロキシテトラコシル、ヒドロキシメチルヘキ
シル、ヒドロキシエチルヘキシル、ヒドロキシメチルヘ
プチル、ヒドロキシエチルヘプチル、ヒドロキシメチル
ノニル、ヒドロキシメチルウンデセニル、ヒドロキシメ
チルヘプタデカニル、ヒドロキシヘキシルデシル、ヒド
ロキシオクチルデシルブチル等の基が挙げられる。また
水酸基で置換された直鎖又は分岐鎖のアルケニル基とし
ては、例えばヒドロキシエテニル、ヒドロキシプロペニ
ル、ヒドロキシブテニル、ヒドロキシペンテニル、ヒド
ロキシヘキセニル、ヒドロキシヘプテニル、ヒドロキシ
オクテニル、ヒドロキシノネニル、ヒドロキシデセニ
ル、ヒドロキシドデセニル、ヒドロキシウンデセニル、
ヒドロキシトリデセニル、ヒドロキシテトラデセニル、
ヒドロキシペンタデセニル、ヒドロキシヘキサデセニ
ル、ヒドロキシヘプタデセニル、ヒドロキシオクタデセ
ニル、ヒドロキシノナデセニル、ヒドロキシエイコセニ
ル、ヒドロキシヘンエイコセニル、ヒドロキシドコセニ
ル、ヒドロキシトリコセニル、ヒドロキシテトラコセニ
ル等の基が挙げられる。

【０００８】またＭ¹又はＭ²で示される陽イオン性基と
しては、例えばアルカリ金属、アンモニウム基、アルキ
ルアンモニウム基、酸性アミノ酸基、トリアルカノール
アミンの陽イオン残基が挙げられる。

【０００９】ｍは０以上の数、ｎは１以上の数である
が、ｍは０が好ましい。

【００１０】本発明に使用されるホスホベタイン化合物
（１）は、例えば次の反応式に従って製造される。

【００１１】

【化３】

【００１２】〔式中、Ｚ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｍ¹、Ｍ²、
ｍ及びｎは前記と同じ意味を示し、Ｘ^-は陰イオンを示
す〕

【００１３】すなわち、糖リン酸エステル（２）とエポ
キシ化合物（３）を反応させることにより本発明に使用
のホスホベタイン化合物（１）が合成される。本反応に
用いられる糖リン酸エステル（２）は公知の方法、例え
ば多糖とオルトリン酸との反応による方法（米国特許第
２，８２４，８７０号明細書）や多糖とサリシルリン酸
塩との反応による方法（特開昭４７−３４７７９号公
報）などにより容易に製造することができる。これをデ
ンプンを例にとり、式で示せば例えば次の通りである
〔澱粉科学ハンドブック、二国二郎監修（１９７７）５
１０頁〕。

【００１４】

【化４】

【００１５】糖リン酸エステル（２）は、精製して用い
てもよいが、その製造において副生することのあるジエ
ステル型多糖リン酸エステルや未反応原料多糖の混在す
るまま用いることもできる。

【００１６】また、もう一方の原料であるエポキシ化合
物（３）は公知の方法に従って、例えば対応するアルキ
ルアミン類、アルカノールアミン類、アルケノールアミ
ン類等とエピハロヒドリンとの反応により容易に製造す
ることができる。

【００１７】一般式（３）におけるＸ^-は特に限定され
ないが、例えばハロゲンイオンやアルキル硫酸エステル
の陰イオン基などが挙げられる。

【００１８】本反応を実施するには、例えば上記多糖リ
ン酸エステル（２）とエポキシ化合物（３）を、水、メ
タノール、エタノール、２−プロパノール、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒又はこ
れらから選ばれる二種以上の混合溶媒の存在下、好まし
くは水又は水と低級アルコールの混合溶媒の存在下にお
いて、２０〜１５０℃、好ましくは４０〜９０℃の温度
で反応させればよい。本反応におけるエポキシ化合物
（３）の使用量は、製造しようとする本発明の多糖誘導
体（１）のｍ及びｎの数に応じて適宜設定すればよい
が、通常多糖リン酸エステル（２）のリン酸残基の数
（ｍ＋ｎ）に対して０．１〜２０倍モルが好ましい。

【００１９】反応生成物には、本発明に使用のホスホベ
タイン化合物（１）の他、通常副生成物としての無機
塩、未反応のエポキシ化合物（３）もしくはこれのエポ
キシ開環物が含まれている。この反応物中の各成分の割
合は、使用する原料である多糖リン酸エステル（２）や
エポキシ化合物（３）の種類、それらの反応モル比、使
用する反応溶媒の量、反応温度等の条件に依存する。従
って、使用目的によっては反応生成物をそのまま用いる
ことも可能であるが、更に高純度品が必要とされる場合
には、例えば、溶媒分別法、透析法、ゲル濾過法などの
公知の方法により適宜精製して使用すればよい。

【００２０】前記ホスホベタイン化合物（１）は、本発
明化粧料中に通常０．１〜２０重量％含有せしめること
が好ましく、０．５〜１０重量％含有せしめることが特
に好ましい。

【００２１】本発明化粧料には、上記成分の他に、通常
の化粧料に用いられる成分、例えばエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
それ以上のポリエチレングリコール類、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、それ以上のポリプロ
ピレングリコール類、１，３−ブチレングリコール、
１，４−ブチレングリコール等のブチレングリコール
類、グリセリン、ジグリセリン、それ以上のポリグリセ
リン類、ソルビトール、マンニトール、キシリトール、
マルチトール等の糖アルコール類、グリセリン類のエチ
レンオキシド（以下、ＥＯと略記）、プロピレンオキシ
ド（以下、ＰＯと略記）付加物、糖アルコール類のＥ
Ｏ、ＰＯ付加物、ガラクトース、グルコース、フルクト
ース等の単糖類とそのＥＯ、ＰＯ付加物、マルトース、
ラクトース等の多糖類とそのＥＯ、ＰＯ付加物などの多
価アルコール；流動パラフィン、スクワラン、ワセリ
ン、固形パラフィン等の炭化水素、オリーブ油、ホホバ
油、月見草油、ヤシ油、牛脂等の天然油、イソプロピル
ミリステート、セチルイソオクタノエート、ジカプリン
酸ネオペンチルグリコールなどのエステル油、メチルシ
リコーン、メチルフェニルシリコーン等のシリコーン
油、イソステアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸など
の油性成分；ＰＯＥアルキルエーテル、ＰＯＥ分岐アル
キルエーテル、ＰＯＥソルビタンエステル、ＰＯＥグリ
セリン脂肪酸エステル、ＰＯＥ硬化ヒマシ油、ソルビタ
ンエステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリ
ン脂肪酸エステルなどの界面活性剤；ビタミン類、トリ
クロサン、トリクロロカルバン等の殺菌剤、賦活剤、紫
外線吸収剤、グリチルリチン酸ジカリウム、酢酸トコフ
ェロール等の抗炎症剤、ジンクピリチオン、オクトピロ
ックス等の抗フケ剤、メチルパラベン、ブチルパラベン
等の防腐剤、アルキルアミンオキサイド、脂肪酸アルカ
ノールアミド等の増泡剤、メチルセルロース、カルボキ
シビニルポリマー、ヒドロキシエチルセルロース、ポリ
エチレングリコールジステアレート、エタノール等の粘
度調整剤、パール化剤、香料、色素、酸化防止剤などの
薬剤；モンモリナイト、サポナイト、ヘクライト、ビー
ガム、クニビア、スメクトンなどの水膨潤性粘土鉱物；
カラギーナン、キサンタンガム、アルギン酸ナトリウ
ム、プルラン、メチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルセルロース等の多糖類、カルボキシビニルポリマ
ー、ポリビニルピロリドン等の合成高分子などの他の高
分子；酸化チタン、カオリン、マイカ、セリサイト、亜
鉛華、タルク等の体質顔料、ポリメチルメタクリル酸、
ナイロンパウダー等の高分子粉体などの顔料等を、本発
明の効果を損なわない範囲で適宜配合することができ
る。

【００２２】本発明化粧料は、通常の方法により製造す
ることができ、その剤型は液体状、クリーム状、固型
状、粉末状等任意の剤型とすることができるが、特に液
体状又はクリーム状とすることが好ましい。

【００２３】

【発明の効果】本発明化粧料は、汗や水洗等により損な
われにくい、優れた保湿効果を有し、皮膚及び毛髪に対
して柔軟で、べとつかず、しっとりとした良好な感触を
与えるものであり、特に洗い流して用いるタイプのリン
ス、ボディリンスとして好適である。

【００２４】

【実施例】以下に本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【００２５】参考例１ 反応器に水２ｌを入れ、撹拌しながら６０℃まで昇温
し、リン酸デンプン（リン酸モノエステル化度０．０
６）５０ｇを徐々に添加し溶解させた。次に反応系を６
０℃に保ちながら、グリシジルトリメチルアンモニウム
クロライド１７．０ｇ（０．１１モル：リン酸デンプン
のリン酸基に対して７倍モル）を添加した後、６０℃で
１５時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷
却し、これにエタノール２ｌを加え、反応生成物を沈澱
させた。得られた粗生成物を１．６ｌの水に再溶解し、
これにエタノール２ｌを加え反応生成物を再沈させ、得
られた沈澱を少量のエタノールで数回洗浄した後、減圧
下で乾燥し、デンプンのポリ〔３−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
メチルアンモニオ）−２−ヒドロキシプロピルホスフェ
ート〕（化合物１とする）を２７ｇ得た。本化合物の¹
Ｈ−ＮＭＲより、本化合物にはグルコース残基約１５個
当たり１個の３−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニ
オ）−２−ヒドロキシプロピルホスフェート基が結合し
ていた。

【００２６】参考例２ 反応器に水２ｌを入れ、撹拌しながら６０℃まで昇温
し、リン酸デンプン（リン酸モノエステル化度０．１
０）５０ｇを徐々に添加し溶解させた。次に反応系を６
０℃に保ちながら、グリシジルトリメチルアンモニウム
クロライド２．２ｇ（０．０１４モル：リン酸デンプン
のリン酸基に対して０．５倍モル）を添加した後、６０
℃で１５時間反応させた。反応終了後、反応液を室温ま
でに冷却し、これにエタノール２ｌを加え、反応生成物
を沈澱させた。得られた粗生成物を１．６ｌの水に再溶
解し、これにエタノール２ｌを加え反応生成物を再沈さ
せ、得られた沈澱を少量のエタノールで数回洗浄した
後、減圧下で乾燥し、デンプンのポリ〔３−（Ｎ，Ｎ，
Ｎ−トリメチルアンモニオ）−２−ヒドロキシプロピル
ホスフェート〕（化合物２とする）を２１ｇ得た。本化
合物のリン及び窒素含量と ¹Ｈ−ＮＭＲより、本化合物
にはグルコース残基約３０個当たり１個の３−（Ｎ，
Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニオ）−２−ヒドロキシプロ
ピルホスフェート基と３個のリン酸基がそれぞれ結合し
ていた。

【００２７】参考例３ 反応器に水２ｌを入れ、撹拌しながら６０℃まで昇温
し、リン酸デンプン（リン酸エステル化度０．１）５０
ｇを徐々に添加し溶解させた。次に反応系を６０℃に保
ちながら、グリシジルジメチルドデシルアンモニウムク
ロライド３１．３ｇ（０．１３モル：リン酸デンプンの
リン酸基に対して５倍モル）を２００mlの水に溶解させ
た溶液を徐々に滴下した後、６０℃で１５時間反応させ
た。この後、減圧下で反応溶媒を留去して反応液を濃縮
し、更に凍結乾燥した。得られた残渣を５００mlのアセ
トンで３回洗浄した後、水１．５ｌに溶解させ、これに
アセトン１．５ｌを加え反応生成物を沈澱させた。得ら
れた沈澱を少量のアセトンで洗浄した後、減圧下で乾燥
し、デンプンのポリ〔３−（Ｎ−ドデシル−Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアンモニオ）−２−ヒドロキシプロピルホスフェ
ート〕（化合物３とする）を２１ｇ得た。本化合物の¹
Ｈ−ＮＭＲより、本化合物にはグルコース残基約１０個
当たり１個の３−（Ｎ−ドデシル−Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ンモニオ）−２−ヒドロキシプロピルホスフェート基が
結合していた。

【００２８】参考例４ 反応器に水２ｌを入れ、撹拌しながら６０℃まで昇温
し、リン酸デンプン（リン酸モノエステル化度０．０
６）５０ｇを徐々に添加し溶解させた。次に反応系を６
０℃に保ちながら、グリシジル−（２−ヒドロキシエチ
ル）−ジメチルアンモニウムクロライド２０．２ｇ
（０．１１モル：リン酸デンプンのリン酸基に対して７
倍モル）を添加した後、６０℃で１５時間反応させた。
反応終了後、反応液を室温まで冷却し、これにエタノー
ル２ｌを加え、反応生成物を沈澱させた。得られた粗生
成物を１．６ｌの水に再溶解し、これにエタノール２ｌ
を加え反応生成物を再沈させ、得られた沈澱を少量のエ
タノールで数回洗浄した後、減圧下で乾燥し、デンプン
のポリ〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ−（２−ヒドロキシ
エチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ｝プロピル〕ホ
スフェート（化合物４とする）を３２ｇ得た。本化合物
の¹Ｈ−ＮＭＲより、本化合物にはグルコース残基約１
６個当たり１個の〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ−（２−
ヒドロキシエチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ｝プ
ロピル〕ホスフェート基が結合していた。

【００２９】参考例５ 反応器に水２ｌを入れ、撹拌しながら、６０℃まで昇温
し、リン酸デンプン（リン酸モノエステル化度０．０
６）５０ｇを徐々に添加し溶解させた。次に反応系を６
０℃に保ちながら、グリシジル−ジ（２−ヒドロキシエ
チル）メチル−アンモニウムクロライド２３．３ｇ
（０．１１モル：リン酸デンプンのリン酸基に対して７
倍モル）を添加した後、６０℃で１５時間反応させた。
反応終了後、反応液を室温まで冷却し、これにエタノー
ル２ｌを加え、反応生成物を沈澱させた。得られた粗生
成物を１．６ｌの水に再溶解し、これにエタノール２ｌ
を加え反応生成物を再沈させ、得られた沈澱を少量のエ
タノールで数回洗浄した後、減圧下で乾燥し、デンプン
のポリ〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒド
ロキシエチル）−Ｎ−メチルアンモニオ｝プロピル〕ホ
スフェート（化合物５とする）を２５ｇ得た。本化合物
の¹Ｈ−ＮＭＲより、本化合物にはグルコース残基約１
５個当たり１個の〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ，Ｎ−ジ
（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアンモニオ｝プ
ロピル〕ホスフェート基が結合していた。

【００３０】参考例６ 反応器に水２ｌを入れ、撹拌しながら、６０℃まで昇温
し、リン酸デンプン（リン酸モノエステル化度０．１
０）５０ｇを徐々に添加し溶解させた。次に反応系を６
０℃に保ちながら、グリシジル−（２−ヒドロキシエチ
ル）−ジメチルアンモニウムクロライド２．５ｇ（０．
０１４モル：リン酸デンプンのリン酸基に対して０．５
倍モル）を添加した後、６０℃で１５時間反応させた。
反応終了後、反応液を室温まで冷却し、これにエタノー
ル２ｌを加え、反応生成物を沈澱させた。得られた粗生
成物を１．６ｌの水に再溶解し、これにエタノール２ｌ
を加え反応生成物を再沈させ、得られた沈澱を少量のエ
タノールで数回洗浄した後、減圧下で乾燥し、デンプン
のポリ〔２−ヒドロキシ−３−｛Ｎ−（２−ヒドロキシ
エチル）−Ｎ，Ｎ−メチルアンモニオ｝プロピル〕ホス
フェート（化合物６とする）を２９ｇ得た。本化合物の
リン及び窒素含量と¹Ｈ−ＮＭＲより、本化合物にはグ
ルコース残基約３０個当たり１個の〔２−ヒドロキシ−
３−｛Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアンモニオ｝プロピル〕ホスフェート基と３個のリン
酸基がそれぞれ結合していた。

【００３１】実施例１ 下記表１に示す組成のヘアリンス組成物を調製し、今ま
でにコールドパーマ、ブリーチ等の美容処理を受けたこ
とのない日本人女性パネラー１０人に、シャンプー後の
毛髪に２ｇ塗布してなじませたのち、４０℃の流水です
すぎを行い、タオルドライ後ドライヤーで乾燥し、その
性能を評価してもらった。結果を平均して表１に示す。
なお評価基準は以下のとおりであった。 （評価基準） （１）柔軟性 ◎：非常に柔らかい。 ○：柔らかい。 △：硬いとも、柔らかいともいえない。 ×：硬い。 （２）べとつき感 ◎：べとつかず使用感が良好である。 ○：べとつかない。 △：どちらとも言えない。 ×：べとつく。 （３）しっとり感 ◎：非常にしっとりする。 ○：しっとりする。 △：どちらともいえない。 ×：しっとりしない。

【００３２】

【表１】

【００３３】表１から明らかなように本発明のヘアリン
スはべとつき感がない、柔軟性及びしっとり感にすぐれ
るものであった。

【００３４】実施例２ 下記に示す組成の、ヘアトリートメントを調製した。 （重量％） （１） ２−ドデシルヘキサデシルトリメチルア ンモニウムクロリド ２ （２） ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド ２ （３） 化合物２ ５ （４） ステアリルアルコール ５ （５） ラノリン ３ （６） 流動パラフィン ３ （７） ポリペプタイド （コラーゲン加水分解物） ５ （８） ヒドロキシエチルセルロース （１％水溶液粘度８，０００cp） ０．５ （９） ポリエチレン（５）オレイルエーテル ０．５ （１０）メチルパラベン ０．２ （１１）香料 ０．４ （１２）水 バランス 得られた本発明のヘアトリートメントはべとつき感がな
い一方、柔軟性及びしっとり感のある、使用感の良好な
ものであった。

【００３５】実施例３ 以下に示す組成の、ボディトリートメントを調製した。 （重量％） （１） ２−ヘキサデシルリン酸アルギニン塩 １ （２） ２−エチルヘキサン酸ジグリセライド ２０ （３） ２−エチルヘキサン酸ネオペンチルグリコール ２０ （４） 化合物４ ５ （５） Ｎ−トリス（ヒドロキシメチル）−イソステ アリン酸アミド ３ （６） オリーブ油 ３ （７） スクワラン ３ （８） ソルビトール １０ （９） ジエチレングリコールモノエチルエーテル １０ （１０）香料、色素 適量 （１１）水 バランス 得られた本発明のボディトリートメントはべとつき感が
ない一方、しっとり感のある、使用感の良好なものであ
った。また、上記感触は水洗い後でもほとんど損なわれ
ることはなかった。

【００３６】実施例４ 以下に示す組成の、パック化粧料を調製した。 （重量％） （１） ポリビニルアルコール^*1 １２ （２） ポリエチレングリコール４０００ ２ （３） ポリオキシエチレンメチルグルコシド （２０ＥＯ付加物）^*2 ３ （４） 化合物５ ５ （５） スクワラン ３ （６） エタノール ７．７ （７） 香料 ０．５ （８） 防腐剤 適量 （９） モノステアリン酸ソルビタン^*3 ０．５ （１０）モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン （２０ＥＯ付加物）^*4 ０．２ （１１）水 バランス ＊１ ゴーセノールＥＧ−３０：日本合成化学工業
（株）製 ＊２ グルカムＥ−２０：アマコールコーポレーション
製 ＊３ レオドールＳＰＳ１０：花王（株）製 ＊４ レオドールＴＷＳ１２０：花王（株）製 得られた本発明のパック化粧料は、べとつき感のない一
方、柔軟性及びしっとり感のある、使用感の良好なもの
であった。また、上記感触は水洗後にも持続していた。

【００３７】実施例５ 以下に示す組成の化粧水を調製した。 （重量％） （１） 乳酸 ０．０３ （２） 乳酸ナトリウム ０．８４ （３） 化合物１ ５ （４） グリセリン ２ （５） ポリオキシエチレンオレイルエーテル （２０ＥＯ付加物） １ （６） エタノール １０ （７） 香料 ０．３ （８） 水 バランス 得られた本発明の化粧水は、べとつき感のない一方、し
っとり感のある、使用感の良好なものであった。

【００３８】実施例６ 下記に示す組成の粉末入浴剤を調製した。 （重量％） （１） 炭酸水素ナトリウム ６７ （２） デキストリン ３０ （３） 化合物１ ２ （４） 香料 ０．５ （５） 色素 ０．５ 得られた本発明の粉末入浴剤は、べとつき感のない、し
っとり感の良好なものであった。

【００３９】実施例７ 以下に示す組成の固型入浴剤を調製した。 （重量％） （１） 炭酸水素ナトリウム ３７ （２） コハク酸 ３６ （３） デキストリン ２５ （４） 化合物２ １．５ （５） 香料 ０．５ 得られた本発明の固型入浴剤は、べとつき感のない、し
っとり感の良好なものであった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 7/50 9051−4Ｃ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表わされるホスホベ
   タイン化合物を含有することを特徴とする化粧料。 【化１】