JP3349219B2 - 化粧品基材 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、毛髪や皮膚に対する親
和性がよく、良好な使用感、仕上り感を与える低粘度カ
チオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンからなる
化粧品基材に関するものである。
和性がよく、良好な使用感、仕上り感を与える低粘度カ
チオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンからなる
化粧品基材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】化粧品基材として、天然物およびその誘
導体の使用が一般化しつつあり、セルロース誘導体や澱
粉をカチオン変性して得られた水溶性高分子化合物の利
用が注目されている。例えば、特公昭４７−２０６３５
公報にはシャンプーや毛髪化粧料に、第４級窒素を導入
したセルロース誘導体があげられている。また、特公昭
６０−４２７６３号公報には第４級窒素を導入したカチ
オン化ヒドロキシアルキル澱粉が、シャンプー、リン
ス、クリームなどに用いらることが記載されている。
導体の使用が一般化しつつあり、セルロース誘導体や澱
粉をカチオン変性して得られた水溶性高分子化合物の利
用が注目されている。例えば、特公昭４７−２０６３５
公報にはシャンプーや毛髪化粧料に、第４級窒素を導入
したセルロース誘導体があげられている。また、特公昭
６０−４２７６３号公報には第４級窒素を導入したカチ
オン化ヒドロキシアルキル澱粉が、シャンプー、リン
ス、クリームなどに用いらることが記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これらのカチオン変性
ポリマーの中で、ヒドロキシエチルセルロースヒドロキ
シプロピルトリメチルアンモニウムクロリドエーテルや
グアーガムヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウム
クロリドエーテルは、現在使用されているが、十分満足
できるものではない。例えば、これらを用いたシャンプ
ーや毛髪化粧料は洗髪時、すすぎ時のぬめり感、しっと
り感、柔らかさは付与されるものの、毛髪を乾燥させる
過程で不快なべたつきを生じたり、乾燥につれ、カチオ
ン変性ポリマーと界面活性剤のコンプレックスが固化
し、ごわつきを生じるなど乾燥後の髪に好ましい感触が
得られないなどの理由でいまだ満足できるものではなか
った。このような事情に鑑み、本発明は従来使用されて
きた原料では困難であった良好な使用感、仕上り感を与
える化粧品基材を提供することを目的とする。
ポリマーの中で、ヒドロキシエチルセルロースヒドロキ
シプロピルトリメチルアンモニウムクロリドエーテルや
グアーガムヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウム
クロリドエーテルは、現在使用されているが、十分満足
できるものではない。例えば、これらを用いたシャンプ
ーや毛髪化粧料は洗髪時、すすぎ時のぬめり感、しっと
り感、柔らかさは付与されるものの、毛髪を乾燥させる
過程で不快なべたつきを生じたり、乾燥につれ、カチオ
ン変性ポリマーと界面活性剤のコンプレックスが固化
し、ごわつきを生じるなど乾燥後の髪に好ましい感触が
得られないなどの理由でいまだ満足できるものではなか
った。このような事情に鑑み、本発明は従来使用されて
きた原料では困難であった良好な使用感、仕上り感を与
える化粧品基材を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は前記の目的を達
成すべく種々検討した結果、ＭＳ値０．１〜１．８のガ
ラクトマンナンのヒドロキシアルキルエーテルにグリシ
ジルトリアルキルアンモニウム塩または３−ハロゲノ−
２−ヒドロキシプロピルトリアルキルアンモニウム塩を
第４級窒素含有率０．２〜３重量％含有するように反応
させる前、同時または後に低分子化処理し、３０％水溶
液の３０℃粘度が３〜５００ｃｐｓである低粘度カチオ
ン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンを用いること
により、本発明の目的を達成する各種の化粧料を製造す
ることができることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
成すべく種々検討した結果、ＭＳ値０．１〜１．８のガ
ラクトマンナンのヒドロキシアルキルエーテルにグリシ
ジルトリアルキルアンモニウム塩または３−ハロゲノ−
２−ヒドロキシプロピルトリアルキルアンモニウム塩を
第４級窒素含有率０．２〜３重量％含有するように反応
させる前、同時または後に低分子化処理し、３０％水溶
液の３０℃粘度が３〜５００ｃｐｓである低粘度カチオ
ン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンを用いること
により、本発明の目的を達成する各種の化粧料を製造す
ることができることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。
【０００５】ガラクトマンナンはマンノースを構成単位
とする主鎖にガラクトース単位が側鎖として構成される
中性多糖類であって自然界には主として豆科植物の種子
に多く含有されており、特にグア豆を原料とするグアガ
ム、ローカストビーンを原料とするローカストビーンガ
ムが代表的なガラクトマンナンを主成分とする植物ガム
質である。ここでガラクトマンナンのヒドロキシアルキ
ルエーテル化の程度を示すＭＳとはガラクトマンナンの
アンヒドロ糖単位当り付加したアルキレンオキサイドの
モル数を示す数値である。ガラクトマンナンのヒドロキ
シアルキルエーテルは、ガラクトマンナンに炭素数２〜
４の１・２−アルキレンオキシド、すなわちエチレンオ
キシド、１・２−プロピレンオキシド、１・２−ブチレ
ンオキシドが用いられる。これらのアルキレンオキシド
はＭＳ値が０．１〜１．８好ましくは０．３〜１．０の
範囲になるように付加される。
とする主鎖にガラクトース単位が側鎖として構成される
中性多糖類であって自然界には主として豆科植物の種子
に多く含有されており、特にグア豆を原料とするグアガ
ム、ローカストビーンを原料とするローカストビーンガ
ムが代表的なガラクトマンナンを主成分とする植物ガム
質である。ここでガラクトマンナンのヒドロキシアルキ
ルエーテル化の程度を示すＭＳとはガラクトマンナンの
アンヒドロ糖単位当り付加したアルキレンオキサイドの
モル数を示す数値である。ガラクトマンナンのヒドロキ
シアルキルエーテルは、ガラクトマンナンに炭素数２〜
４の１・２−アルキレンオキシド、すなわちエチレンオ
キシド、１・２−プロピレンオキシド、１・２−ブチレ
ンオキシドが用いられる。これらのアルキレンオキシド
はＭＳ値が０．１〜１．８好ましくは０．３〜１．０の
範囲になるように付加される。
【０００６】本発明において使用される低粘度カチオン
化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンは、ガラクトマ
ンナンヒドロキシアルキルエーテルに下記化２で示され
る一般式（ＩＩ）または下記化３で示される一般式（Ｉ
ＩＩ）で示される化合物を窒素含有率０．２〜３重量％
になるよう反応させることによって製造することができ
る。
化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンは、ガラクトマ
ンナンヒドロキシアルキルエーテルに下記化２で示され
る一般式（ＩＩ）または下記化３で示される一般式（Ｉ
ＩＩ）で示される化合物を窒素含有率０．２〜３重量％
になるよう反応させることによって製造することができ
る。
【化２】
【化３】 このカチオン化反応は公知のエーテル化方法に従って行
うことができる。例えば、アルカリ触媒の存在下で、ガ
ラクトマンナンヒドロキシアルキルエーテルの水性ある
いはアルコール性の懸濁液または溶媒の少ない乾式の状
態に前記一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）の化合物を加
えて、加熱反応させ、反応終了後中和することにより行
うことができる。前記一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）
の化合物としては、グリシジルトリアルキルアンモニウ
ム塩および３−ハロ−２−ヒドロキシプロピルトリアル
キルアンモニウム塩例えばグリシジルトリメチルアンモ
ニウムクロリド、グリシジルトリエチルアンモニウムク
ロリド，グリシジルトリプロピルアンモニウムクロリ
ド，グリシジルエチルジメチルアンモニウムクロリド、
グリシジルジエチルメチルアンモニウムクロリドおよび
これらに対応する臭化物、ヨウ化物や、３−クロロ−２
−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルトリエチルア
ンモニウムクロリド、３−クロロ−２−ヒドロキシプロ
ピルトリプロピルアンモニウムクロリド、３−クロロ−
２−ヒドロキシプロピルエチルジメチルアンモニウムク
ロリドおよびこれらに対応する臭化物、ヨウ化物があげ
られる。
うことができる。例えば、アルカリ触媒の存在下で、ガ
ラクトマンナンヒドロキシアルキルエーテルの水性ある
いはアルコール性の懸濁液または溶媒の少ない乾式の状
態に前記一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）の化合物を加
えて、加熱反応させ、反応終了後中和することにより行
うことができる。前記一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）
の化合物としては、グリシジルトリアルキルアンモニウ
ム塩および３−ハロ−２−ヒドロキシプロピルトリアル
キルアンモニウム塩例えばグリシジルトリメチルアンモ
ニウムクロリド、グリシジルトリエチルアンモニウムク
ロリド，グリシジルトリプロピルアンモニウムクロリ
ド，グリシジルエチルジメチルアンモニウムクロリド、
グリシジルジエチルメチルアンモニウムクロリドおよび
これらに対応する臭化物、ヨウ化物や、３−クロロ−２
−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロリ
ド、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルトリエチルア
ンモニウムクロリド、３−クロロ−２−ヒドロキシプロ
ピルトリプロピルアンモニウムクロリド、３−クロロ−
２−ヒドロキシプロピルエチルジメチルアンモニウムク
ロリドおよびこれらに対応する臭化物、ヨウ化物があげ
られる。
【０００７】本発明において使用される低粘度カチオン
化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンは、ガラクトマ
ンナンヒドロキシアルキルエーテルをカチオン化反応さ
せる前、同時または後にガラクトマンナンを低分子化さ
せることによって得られる。低分子化の方法としては、
塩酸、硝酸、硫酸、ギ酸、酢酸などの酸、ガラクトマン
ナン分解酵素、次亜塩素酸ソーダ、過酸化水素、過硫酸
アンモニウム、過硫酸カリウムなどの酸化剤を用いてガ
ラクトマンナン分子を加水分解することによって得られ
る。これらの低分子化反応は公知の方法に従って行うこ
とができる。例えば、ガラクトマンナンヒドロキシアル
キルエーテルの水性あるいはアルコール性の懸濁液また
は溶媒の少ない乾式の状態に、酸、分解酵素、酸化剤な
どを加えて、加熱反応させ反応終了後中和することによ
って得られる。低分子化には酸、分解酵素、酸化剤のい
ずれを用いてもよいが、カチオン化反応と同時に低分子
化させるには、高アルカリ条件下でも作用する酸化剤が
好ましい。低分子化の程度は、３０％水溶液の３０℃粘
度が３〜５００ｃｐｓ、好ましくは１０〜４００ｃｐｓ
になるまで低分子化される。
化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンは、ガラクトマ
ンナンヒドロキシアルキルエーテルをカチオン化反応さ
せる前、同時または後にガラクトマンナンを低分子化さ
せることによって得られる。低分子化の方法としては、
塩酸、硝酸、硫酸、ギ酸、酢酸などの酸、ガラクトマン
ナン分解酵素、次亜塩素酸ソーダ、過酸化水素、過硫酸
アンモニウム、過硫酸カリウムなどの酸化剤を用いてガ
ラクトマンナン分子を加水分解することによって得られ
る。これらの低分子化反応は公知の方法に従って行うこ
とができる。例えば、ガラクトマンナンヒドロキシアル
キルエーテルの水性あるいはアルコール性の懸濁液また
は溶媒の少ない乾式の状態に、酸、分解酵素、酸化剤な
どを加えて、加熱反応させ反応終了後中和することによ
って得られる。低分子化には酸、分解酵素、酸化剤のい
ずれを用いてもよいが、カチオン化反応と同時に低分子
化させるには、高アルカリ条件下でも作用する酸化剤が
好ましい。低分子化の程度は、３０％水溶液の３０℃粘
度が３〜５００ｃｐｓ、好ましくは１０〜４００ｃｐｓ
になるまで低分子化される。
【０００８】本発明において使用されるガラクトマンナ
ンヒドロキシアルキルエーテルのＭＳ値は、０．１未満
では皮膚や毛髪を被覆するフィルムの柔軟性が乏しくな
るため、感触、くし通りが悪くなるし、またこの付加モ
ル数が１．８を越えると吸水性が増大し使用後にベトつ
く感じを与えるようになるので好ましくない。またカチ
オン化反応によって導入される窒素の含有率は０．２重
量％未満ではこれを化粧料に配合して毛髪や皮膚に対す
る親和性が低くなるし、またそれが３重量％を越える
と、化粧料の使用時にべとつく感じを与えるようになる
ので好ましくない。窒素含有率の特に好ましい範囲は
０．５〜２．０重量％である。さらに、低分子化の程度
は、３０％水溶液の３０℃粘度が３ｃｐｓ未満では、こ
れをシャンプーなどに配合したとき、ぬめり感が不足
し、５００ｃｐｓを越えると毛髪を乾燥させる過程で不
快なべたつきを生じたり、乾燥につれ、界面活性剤との
コンプレックスが固化しごわつきを生ずる。粘度の好ま
しい範囲は１０〜４００ｃｐｓである。
ンヒドロキシアルキルエーテルのＭＳ値は、０．１未満
では皮膚や毛髪を被覆するフィルムの柔軟性が乏しくな
るため、感触、くし通りが悪くなるし、またこの付加モ
ル数が１．８を越えると吸水性が増大し使用後にベトつ
く感じを与えるようになるので好ましくない。またカチ
オン化反応によって導入される窒素の含有率は０．２重
量％未満ではこれを化粧料に配合して毛髪や皮膚に対す
る親和性が低くなるし、またそれが３重量％を越える
と、化粧料の使用時にべとつく感じを与えるようになる
ので好ましくない。窒素含有率の特に好ましい範囲は
０．５〜２．０重量％である。さらに、低分子化の程度
は、３０％水溶液の３０℃粘度が３ｃｐｓ未満では、こ
れをシャンプーなどに配合したとき、ぬめり感が不足
し、５００ｃｐｓを越えると毛髪を乾燥させる過程で不
快なべたつきを生じたり、乾燥につれ、界面活性剤との
コンプレックスが固化しごわつきを生ずる。粘度の好ま
しい範囲は１０〜４００ｃｐｓである。
【０００９】この低粘度カチオン化ヒドロキシアルキル
ガラクトマンナンを、公知の処方の毛髪化粧料、皮膚化
粧料などに所要量配合することによって、本発明の化粧
料が得られる。化粧料としては上記のものに限らないが
特に好ましいのは、シャンプー、リンス、クレンジング
クリームなどの使用時に水で洗い流す化粧料である。本
発明の化粧品基材を用いる化粧料中の他の成分は特に限
定されず、通常の化粧品用担体、希釈剤または添加物
〔例、各種の界面活性剤、油性物質（例、長鎖脂肪酸エ
ステル、炭化水素など）、加水分解タンパク質、ラノリ
ン、脂質、香料、紫外線吸収剤、ハイドロトロープな
ど〕が使用できる。また、ビタミン類や他の栄養学的ま
たは医薬的に有効な成分を添加してもよい。
ガラクトマンナンを、公知の処方の毛髪化粧料、皮膚化
粧料などに所要量配合することによって、本発明の化粧
料が得られる。化粧料としては上記のものに限らないが
特に好ましいのは、シャンプー、リンス、クレンジング
クリームなどの使用時に水で洗い流す化粧料である。本
発明の化粧品基材を用いる化粧料中の他の成分は特に限
定されず、通常の化粧品用担体、希釈剤または添加物
〔例、各種の界面活性剤、油性物質（例、長鎖脂肪酸エ
ステル、炭化水素など）、加水分解タンパク質、ラノリ
ン、脂質、香料、紫外線吸収剤、ハイドロトロープな
ど〕が使用できる。また、ビタミン類や他の栄養学的ま
たは医薬的に有効な成分を添加してもよい。
【００１０】本発明の化粧品基材の配合量は、用途など
に応じて異なるが通常０．１〜７重量％の範囲が好まし
い。０．１重量％未満では効果が十分に発揮されず、７
重量％を越えると好ましくない感触となる場合がある。
に応じて異なるが通常０．１〜７重量％の範囲が好まし
い。０．１重量％未満では効果が十分に発揮されず、７
重量％を越えると好ましくない感触となる場合がある。
【００１１】
【実施例】つぎに実施例を挙げて本発明をさらに詳しく
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。以下の実施例で用いる「部」は、特に示さない限り
重量部を示す。 実施例１ 水２６ｇ、メタノール１００ｇに苛性ソーダ３ｇを入れ
たガラス製耐圧反応器に、グアーガム６０ｇを撹拌しな
がら加える。次いてエチレンオキシド３５ｇを、窒素を
用いて１．５ｋｇ／ｃｍ２の圧力で導入したのち５０℃
で反応させる。反応の進行とともに、系内の圧力の低下
が観察された。圧力の低下が認められなくなったのち、
さらに５０℃で１時間反応させ、反応系の圧を抜き、グ
リシジルトリメチルアンモニウムクロリド４０ｇを水溶
液として加え、さらに３５％過酸化水素水２５ｇを加え
５０℃で５時間反応させる。反応終了後１０％塩酸水溶
液３０ｇを加え、室温で１時間中和を行う。中和終了後
多量のメタノール中に反応液を注ぎ、反応生成物を沈殿
させ▲ろ▼別した。得られた沈殿物を、各５００ｇのメ
タノールで３回洗浄したのち、減圧下で乾燥し、反応物
１０３ｇを得た。このようにして得られた低粘度カチオ
ン化ヒドロキシアルキルグアーガムの付加されたエチレ
ンオキシドのＭＳ値は１．２、窒素含有率２．４重量
％、３０％水溶液の３０℃粘度は３２０ｃｐｓであっ
た。（試料番号１）
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。以下の実施例で用いる「部」は、特に示さない限り
重量部を示す。 実施例１ 水２６ｇ、メタノール１００ｇに苛性ソーダ３ｇを入れ
たガラス製耐圧反応器に、グアーガム６０ｇを撹拌しな
がら加える。次いてエチレンオキシド３５ｇを、窒素を
用いて１．５ｋｇ／ｃｍ２の圧力で導入したのち５０℃
で反応させる。反応の進行とともに、系内の圧力の低下
が観察された。圧力の低下が認められなくなったのち、
さらに５０℃で１時間反応させ、反応系の圧を抜き、グ
リシジルトリメチルアンモニウムクロリド４０ｇを水溶
液として加え、さらに３５％過酸化水素水２５ｇを加え
５０℃で５時間反応させる。反応終了後１０％塩酸水溶
液３０ｇを加え、室温で１時間中和を行う。中和終了後
多量のメタノール中に反応液を注ぎ、反応生成物を沈殿
させ▲ろ▼別した。得られた沈殿物を、各５００ｇのメ
タノールで３回洗浄したのち、減圧下で乾燥し、反応物
１０３ｇを得た。このようにして得られた低粘度カチオ
ン化ヒドロキシアルキルグアーガムの付加されたエチレ
ンオキシドのＭＳ値は１．２、窒素含有率２．４重量
％、３０％水溶液の３０℃粘度は３２０ｃｐｓであっ
た。（試料番号１）
【００１２】実施例２ 実施例１の方法に準じてアルキレンオキシド、第４級窒
素含有率および粘度の異なる低粘度カチオン化ヒドロキ
シアルキルグアーガムおよび低粘度カチオン化ヒドロキ
シアルキルローカストビーンガムを合成した。この結果
を表１、表２および表３に示した。
素含有率および粘度の異なる低粘度カチオン化ヒドロキ
シアルキルグアーガムおよび低粘度カチオン化ヒドロキ
シアルキルローカストビーンガムを合成した。この結果
を表１、表２および表３に示した。
【表１】
【表２】
【表３】
【００１３】実施例３ 実施例１および実施例２で得た低粘度カチオン化ヒドロ
キシアルキルグアーガムまたは低粘度カチオン化ヒドロ
キシアルキルローカストビーンガムを用いて、表４に示
した組成（Ａ）のシャンプーを調製した。なお組成
（Ｂ）は比較のために調製した、低粘度カチオン化ヒド
ロキシアルキルガラクトマンナンを配合しない組成物で
ある。
キシアルキルグアーガムまたは低粘度カチオン化ヒドロ
キシアルキルローカストビーンガムを用いて、表４に示
した組成（Ａ）のシャンプーを調製した。なお組成
（Ｂ）は比較のために調製した、低粘度カチオン化ヒド
ロキシアルキルガラクトマンナンを配合しない組成物で
ある。
【表４】 低粘度カチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナン
として、実施例２の試料の中から試料番号１、２、４、
５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、
１５、１８、２０、２１および２２の１８種類を選ん
だ。この１８種類のシャンプーに組成（Ｂ）のものを併
せた１９種類のシャンプーそれぞれを、１５名の女性に
使用させて、泡立ち、ぬめり感、使用後の髪の柔らかさ
などの性能を比較した。この結果を表５、表６および表
７に示した。これらの表に示した数値は組成（Ａ）が優
れているとした人数から組成（Ｂ）が優れているとした
人数を差し引いた値である。
として、実施例２の試料の中から試料番号１、２、４、
５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、
１５、１８、２０、２１および２２の１８種類を選ん
だ。この１８種類のシャンプーに組成（Ｂ）のものを併
せた１９種類のシャンプーそれぞれを、１５名の女性に
使用させて、泡立ち、ぬめり感、使用後の髪の柔らかさ
などの性能を比較した。この結果を表５、表６および表
７に示した。これらの表に示した数値は組成（Ａ）が優
れているとした人数から組成（Ｂ）が優れているとした
人数を差し引いた値である。
【表５】
【表６】
【表７】 この表５の結果よりアルキレンオキシド付加のＭＳ値が
０．１以上であれば、使用時、使用後とも感触が改善さ
れることがわかる。（表５の試料番号２に対する１、
４、５、６、７の比較より）また、表６の結果より窒素
含有率が０．２重量％以上であれば、シャンプーの性能
が改善されるが、窒素含有率が３重量％以上になると、
使用後のべとつきが大きくなり、総合的な好みにおいて
マイナス要因となることがわかる。（表６の試料番号８
に対する９，１０、１１、１２、１３の比較より）さら
に、表７の結果より３０％水溶液の３０℃粘度が３ｃｐ
ｓより低いときはぬめり感が不足し、５００ｃｐｓより
高いときはべとつき感があることがわかる。（試料番号
１４，２２に対する１５，１８，２０，２０，２１の比
較より）
０．１以上であれば、使用時、使用後とも感触が改善さ
れることがわかる。（表５の試料番号２に対する１、
４、５、６、７の比較より）また、表６の結果より窒素
含有率が０．２重量％以上であれば、シャンプーの性能
が改善されるが、窒素含有率が３重量％以上になると、
使用後のべとつきが大きくなり、総合的な好みにおいて
マイナス要因となることがわかる。（表６の試料番号８
に対する９，１０、１１、１２、１３の比較より）さら
に、表７の結果より３０％水溶液の３０℃粘度が３ｃｐ
ｓより低いときはぬめり感が不足し、５００ｃｐｓより
高いときはべとつき感があることがわかる。（試料番号
１４，２２に対する１５，１８，２０，２０，２１の比
較より）
【００１４】実施例４ 本発明で用いる低粘度カチオンヒドロキシアルキルガラ
クトマンナンと比較するために、エチレンオキシドの付
加ＭＳ値１．６５、窒素含有率１．８重量％、３０％水
溶液の３０℃粘度が２０万ｃｐｓ以上（５％で３万ｃｐ
ｓ）のカチオン変性ヒドロキシエチルセルロースを用い
て実施例３の表４に示した組成（Ａ）のシャンプーを作
成した。そして同様に１５名の女性によるテストをした
結果、本発明の基材はカチオン変性ヒドロキシエチルセ
ルロースより使用後のべとつきのなさやくし通りの良さ
の点で優れているということがわかった。
クトマンナンと比較するために、エチレンオキシドの付
加ＭＳ値１．６５、窒素含有率１．８重量％、３０％水
溶液の３０℃粘度が２０万ｃｐｓ以上（５％で３万ｃｐ
ｓ）のカチオン変性ヒドロキシエチルセルロースを用い
て実施例３の表４に示した組成（Ａ）のシャンプーを作
成した。そして同様に１５名の女性によるテストをした
結果、本発明の基材はカチオン変性ヒドロキシエチルセ
ルロースより使用後のべとつきのなさやくし通りの良さ
の点で優れているということがわかった。
【００１５】実施例５ 本発明の化粧品基材として表１の試料番号１、表２の試
料番号１１、表３の試料番号１７を用い下記表８の組成
のクリームタイプのヘアリンスを調製した。
料番号１１、表３の試料番号１７を用い下記表８の組成
のクリームタイプのヘアリンスを調製した。
【表８】 このヘアーリンスは、本発明の化粧品基材を配合しない
ものに比べて、使用時および使用後の風合が優れてい
た。
ものに比べて、使用時および使用後の風合が優れてい
た。
【００１６】実施例６ 本発明の化粧品基材として実施例５の同じ試料を用いて
下記表９の組成のクレンジングクリームを調製した。
下記表９の組成のクレンジングクリームを調製した。
【表９】 このクレンジングクリームは、本発明の化粧品基材を配
合しないものに比べて伸びがよく、使用中の油性感が優
れていた。
合しないものに比べて伸びがよく、使用中の油性感が優
れていた。
【００１７】実施例７ 本発明の化粧品基材として実施例５と同じ試料を用いて
下記表１０の組成の中性クリームを調製した。
下記表１０の組成の中性クリームを調製した。
【表１０】 この中性クリームは、本発明の化粧品基材を配合しない
ものに比べて滑らかさおよびしっとり感に優れ、しかも
その効果は長時間持続した。
ものに比べて滑らかさおよびしっとり感に優れ、しかも
その効果は長時間持続した。
【００１８】
【発明の効果】本発明の化粧品基材は、以下の利点があ
る。 （１）毛髪や皮膚への親和性が良好で、フィルム形成性
も良く、それらへの吸着性が優れる。 （２）保温性が優れ、毛髪や皮膚をしっとりさせ、毛髪
に腰のある柔軟性を与え、毛髪のつやを向上させる。し
かもこれらの効果は持続性がある。 （３）毛髪や皮膚に平滑性を付与するので、使用後の感
触が滑らかとなり、シャンプーに用いた場合には毛髪の
くし通りが良くなり、きしみ感がなくなり、クリームな
どに用いた場合には良好な使用感と仕上感を付与するこ
とができる。
る。 （１）毛髪や皮膚への親和性が良好で、フィルム形成性
も良く、それらへの吸着性が優れる。 （２）保温性が優れ、毛髪や皮膚をしっとりさせ、毛髪
に腰のある柔軟性を与え、毛髪のつやを向上させる。し
かもこれらの効果は持続性がある。 （３）毛髪や皮膚に平滑性を付与するので、使用後の感
触が滑らかとなり、シャンプーに用いた場合には毛髪の
くし通りが良くなり、きしみ感がなくなり、クリームな
どに用いた場合には良好な使用感と仕上感を付与するこ
とができる。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−306245（ＪＰ，Ａ) 欧州特許出願公開529883（ＥＰ，Ａ １) 欧州特許出願公開530974（ＥＰ，Ａ １) 国際公開93／6205（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61K 7/00 - 7/50 ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 ＭＳ値０．１〜１．８のガラクトマンナ
ンのヒドロキシアルキルエーテルにおいて、その中のヒ
ドロキシル基の一部が下記化１の一般式（Ｉ）で示され
る残基で置換された構造を有し、かつ窒素含有率が０．
２〜３重量％で３０％水溶液の３０℃粘度が３〜５００
ｃｐｓである酸処理カチオン化ヒドロキシアルキルガラ
クトマンナンからなる化粧品基材。 【化１】
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|---|---|---|---|
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25120593A JP3349219B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 化粧品基材 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0717825A JPH0717825A (ja) | 1995-01-20 |
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| JP25120593A Expired - Fee Related JP3349219B2 (ja) | 1993-06-30 | 1993-06-30 | 化粧品基材 |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2006169410A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Toho Chem Ind Co Ltd | カチオン変性精製グアーガム及び該物質を含む化粧料組成物 |
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| JP4783064B2 (ja) * | 2005-06-02 | 2011-09-28 | 東邦化学工業株式会社 | カチオン変性寒天及び該物質を含む化粧料組成物 |
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-
1993
- 1993-06-30 JP JP25120593A patent/JP3349219B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006097010A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-04-13 | Toho Chem Ind Co Ltd | カチオン変性大豆多糖及び該物質を含む化粧料組成物 |
| JP2006117923A (ja) * | 2004-09-27 | 2006-05-11 | Toho Chem Ind Co Ltd | カチオン変性サイリウムシードガム及び該物質を含む化粧料組成物 |
| JP2006152280A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-06-15 | Toho Chem Ind Co Ltd | カチオン変性グルコマンナン多糖及び該物質を含む化粧料組成物 |
| JP2007009092A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Toho Chem Ind Co Ltd | カチオン変性ジェランガム及び該物質を含む化粧料組成物 |
| JP2007039477A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-15 | Toho Chem Ind Co Ltd | カチオン変性カラヤガム及び該物質を含む化粧料組成物 |
| JP2007063446A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Toho Chem Ind Co Ltd | カチオン変性キサンタンガム及び該物質を含む化粧料組成物 |
| JP2007063479A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Toho Chem Ind Co Ltd | カチオン変性アラビアガム及び該物質を含む化粧料組成物 |
| JP2007099785A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Toho Chem Ind Co Ltd | カチオン変性ペクチン及び該物質を含む化粧料組成物 |
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