JPH0453920B2 - - Google Patents
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- JPH0453920B2 JPH0453920B2 JP1236689A JP23668989A JPH0453920B2 JP H0453920 B2 JPH0453920 B2 JP H0453920B2 JP 1236689 A JP1236689 A JP 1236689A JP 23668989 A JP23668989 A JP 23668989A JP H0453920 B2 JPH0453920 B2 JP H0453920B2
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- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は、半田付けに際して用いられるフラツ
クスを洗浄する液体洗浄剤に関する。 従来の技術 エレクトロニクス産業においては、プリント基
板の半田けの際にフラツクスが使用されている。
このようなフラツクスは、プリント基板および最
終製品の高品質を維持するために、半田け作業の
終了後に、高清浄度に洗浄することが要求されて
いる。 フラツクス用洗浄剤としては、従来から種々の
ものが開示されており、例えば、特開昭59−
227998号公報、同61−37363号公報、同61−42474
号公報等に報告されている。 しかしながら、これら洗浄剤はいずれもフロン
系溶剤、塩素系溶剤を骨格とした組成物であり、
近年、これら溶剤の環境への安全性が比較となつ
ていることから、溶剤系に代わる水系洗浄剤の要
望が高まつている。 発明が解決しようとする課題 本発明は半田フラツクスに対して優れた洗浄性
能を有し、しかも、環境への安全性に対して全く
問題がない水系の液体洗浄剤を提供するものであ
る。 発明の構成 本発明の半田フラツクス用液体洗浄剤は、下記
の一般式（）で表わされる化合物、あるいはさ
らに一般式（）で表わされる化合物を含むこと
を特徴とする。 R1−Ｏ（−CoH2oＯ）−nＨ ……（） （R1：炭素数１〜５のアルキル基またはアル
ケニル基） ｎ：２〜４の数 ｍ：１〜10の数） R2−Ｏ（−C2H4O）−lＨ ……（） （R2：炭素数８〜18のアルキル基またはアル
ケニル基もしくは炭素数12〜25のアルキルフエニ
ル基 ｌ：５〜15の数） 以下、本発明についてさらに詳細に説明する。 上記一般式（）の化合物は、炭素数１〜５の
飽和または不飽和アルコールのアルキレンオキシ
ド付加物である。式中のCoH2oＯは、オキシエチ
レン、オキシプロピレン、オキシブチレンが単独
または混合物として付加していることを示し、特
に、オキシエチレンとオキシプロピレンのブロツ
ク付加物が好適である。ｎはアルキレンオキシド
の平均付加モル数を示し、１〜10、好ましくは２
〜６である。オキシエチレンとオキシプロピレン
とのブロツク付加の場合、オキシエチレン１〜３
モル、オキシプロピレン１〜５モルが好適であ
る。 一般式（）の化合物は、炭素数８〜18の飽和
または不飽和アルコールのエチレンオキシド付加
物と、ベンゼン環も含めて炭素数12〜25のアルキ
ルフエノールのエチレンオキシド付加物とを包含
する。前者の場合は炭素数10〜16の二級アルコー
ルが好ましく、後者の場合はオクチルフエノー
ル、ノニルフエノールが好ましい。エチレンオキ
シドの平均付加モル数(l)は５〜15である。 本発明の半田フラツクス用液体洗浄剤は、一般
式（）の化合物あるいは一般式（）と（）
の化合物の混合物そのままでもよいが、通常、水
にて希釈し５〜70重量％の透明均一な水溶液とす
る。また、一般式（）と（）の化合物を併用
する場合は、（）：（）＝１〜10：10〜１、好ま
しくは１〜５：５〜１の割合（重量比）で配合す
ることにより、いつそう良好な洗浄力を示す。 本発明の液体洗浄剤は、その他必要に応じて、
液安定性を保持するためにエチレングリコール、
プロピレングリコール、メタノール、エタノー
ル、プロパノール等のハイドロトロープ剤などを
配合することもできる。 発明の効果 本発明の液体洗浄剤は、フロン系等の溶媒を必
要とすることなく水系で半田フラツクスに対して
優れた洗浄性能を示し、特にプリント配線板、プ
リント回路板のようなプリント基板の半田付けの
際に使用されるロジンフラツクスの除去に極めて
有効である。 また、透明安定性に優れ、低泡性であるので、
取り扱いも容易である。 以下、実施例により本発明の液体洗浄剤につい
てさらに具体的に説明するが、それに先立つて実
施例で用いた評価方法を示す。 (1) 洗浄剤の透明性 100mlガラスビンに洗浄剤を入れ、25℃恒温室
内に24時間静置し、目視によつて下記の基準で透
明性を評価する。〇を合格とする。 評価基準 〇：透明 △：やや白濁 ×：沈澱・二層分離 (2) フラツクスの洗浄性 ガラス板に半田フラツクスを塗布し、200℃、
15分間焼成を行なつて汚垢板とし、各々の洗浄剤
を水で５倍希釈した洗浄液中で40℃、５分間の浸
漬洗浄を行なう。洗浄中のフラツクスの溶解状態
を目視で判定し、次の基準により評価する。〇以
上を合格とする。 評価基準 ◎：溶解力が強い 〇：溶解力がある △：溶解力がやや劣る ×：溶解力がない 実施例１ （洗浄剤の調製） 以下の処方の各液体洗浄剤１〜13を調製した。
なお、組成中のアルキレンオキシド付加の記載で
（C2H4O）1（C3H6O）2Hのようにあるのはその順番
にブロツク付加させた事を意味し、［（C2H4O）1／
（C3H6O）2］はランダム付加を示す。 また、洗浄剤11は比較例であり、他は実施例で
ある。 洗浄剤 １ C4H9−Ｏ（C2H4O）1（C3H6O）2H 30wt％ エチルアルコール 35wt％ 水 35wt％ 洗浄剤 ２ C4H9−Ｏ（C2H4O）1（C3H6O）2H 30wt％ 第２級C12H25−Ｏ（C2H4O）8H 15wt％ エチルアルコール 5wt％ 水 50wt％ 洗浄剤 ３ C4H9−Ｏ（C2H4O）1（C3H6O）2H 30wt％
クスを洗浄する液体洗浄剤に関する。 従来の技術 エレクトロニクス産業においては、プリント基
板の半田けの際にフラツクスが使用されている。
このようなフラツクスは、プリント基板および最
終製品の高品質を維持するために、半田け作業の
終了後に、高清浄度に洗浄することが要求されて
いる。 フラツクス用洗浄剤としては、従来から種々の
ものが開示されており、例えば、特開昭59−
227998号公報、同61−37363号公報、同61−42474
号公報等に報告されている。 しかしながら、これら洗浄剤はいずれもフロン
系溶剤、塩素系溶剤を骨格とした組成物であり、
近年、これら溶剤の環境への安全性が比較となつ
ていることから、溶剤系に代わる水系洗浄剤の要
望が高まつている。 発明が解決しようとする課題 本発明は半田フラツクスに対して優れた洗浄性
能を有し、しかも、環境への安全性に対して全く
問題がない水系の液体洗浄剤を提供するものであ
る。 発明の構成 本発明の半田フラツクス用液体洗浄剤は、下記
の一般式（）で表わされる化合物、あるいはさ
らに一般式（）で表わされる化合物を含むこと
を特徴とする。 R1−Ｏ（−CoH2oＯ）−nＨ ……（） （R1：炭素数１〜５のアルキル基またはアル
ケニル基） ｎ：２〜４の数 ｍ：１〜10の数） R2−Ｏ（−C2H4O）−lＨ ……（） （R2：炭素数８〜18のアルキル基またはアル
ケニル基もしくは炭素数12〜25のアルキルフエニ
ル基 ｌ：５〜15の数） 以下、本発明についてさらに詳細に説明する。 上記一般式（）の化合物は、炭素数１〜５の
飽和または不飽和アルコールのアルキレンオキシ
ド付加物である。式中のCoH2oＯは、オキシエチ
レン、オキシプロピレン、オキシブチレンが単独
または混合物として付加していることを示し、特
に、オキシエチレンとオキシプロピレンのブロツ
ク付加物が好適である。ｎはアルキレンオキシド
の平均付加モル数を示し、１〜10、好ましくは２
〜６である。オキシエチレンとオキシプロピレン
とのブロツク付加の場合、オキシエチレン１〜３
モル、オキシプロピレン１〜５モルが好適であ
る。 一般式（）の化合物は、炭素数８〜18の飽和
または不飽和アルコールのエチレンオキシド付加
物と、ベンゼン環も含めて炭素数12〜25のアルキ
ルフエノールのエチレンオキシド付加物とを包含
する。前者の場合は炭素数10〜16の二級アルコー
ルが好ましく、後者の場合はオクチルフエノー
ル、ノニルフエノールが好ましい。エチレンオキ
シドの平均付加モル数(l)は５〜15である。 本発明の半田フラツクス用液体洗浄剤は、一般
式（）の化合物あるいは一般式（）と（）
の化合物の混合物そのままでもよいが、通常、水
にて希釈し５〜70重量％の透明均一な水溶液とす
る。また、一般式（）と（）の化合物を併用
する場合は、（）：（）＝１〜10：10〜１、好ま
しくは１〜５：５〜１の割合（重量比）で配合す
ることにより、いつそう良好な洗浄力を示す。 本発明の液体洗浄剤は、その他必要に応じて、
液安定性を保持するためにエチレングリコール、
プロピレングリコール、メタノール、エタノー
ル、プロパノール等のハイドロトロープ剤などを
配合することもできる。 発明の効果 本発明の液体洗浄剤は、フロン系等の溶媒を必
要とすることなく水系で半田フラツクスに対して
優れた洗浄性能を示し、特にプリント配線板、プ
リント回路板のようなプリント基板の半田付けの
際に使用されるロジンフラツクスの除去に極めて
有効である。 また、透明安定性に優れ、低泡性であるので、
取り扱いも容易である。 以下、実施例により本発明の液体洗浄剤につい
てさらに具体的に説明するが、それに先立つて実
施例で用いた評価方法を示す。 (1) 洗浄剤の透明性 100mlガラスビンに洗浄剤を入れ、25℃恒温室
内に24時間静置し、目視によつて下記の基準で透
明性を評価する。〇を合格とする。 評価基準 〇：透明 △：やや白濁 ×：沈澱・二層分離 (2) フラツクスの洗浄性 ガラス板に半田フラツクスを塗布し、200℃、
15分間焼成を行なつて汚垢板とし、各々の洗浄剤
を水で５倍希釈した洗浄液中で40℃、５分間の浸
漬洗浄を行なう。洗浄中のフラツクスの溶解状態
を目視で判定し、次の基準により評価する。〇以
上を合格とする。 評価基準 ◎：溶解力が強い 〇：溶解力がある △：溶解力がやや劣る ×：溶解力がない 実施例１ （洗浄剤の調製） 以下の処方の各液体洗浄剤１〜13を調製した。
なお、組成中のアルキレンオキシド付加の記載で
（C2H4O）1（C3H6O）2Hのようにあるのはその順番
にブロツク付加させた事を意味し、［（C2H4O）1／
（C3H6O）2］はランダム付加を示す。 また、洗浄剤11は比較例であり、他は実施例で
ある。 洗浄剤 １ C4H9−Ｏ（C2H4O）1（C3H6O）2H 30wt％ エチルアルコール 35wt％ 水 35wt％ 洗浄剤 ２ C4H9−Ｏ（C2H4O）1（C3H6O）2H 30wt％ 第２級C12H25−Ｏ（C2H4O）8H 15wt％ エチルアルコール 5wt％ 水 50wt％ 洗浄剤 ３ C4H9−Ｏ（C2H4O）1（C3H6O）2H 30wt％
【式】 15wt％
エチルアルコール 5wt％
水 50wt％
洗浄剤 ４
C4H9−Ｏ［（C2H4O）1／（C3H6O）2］Ｈ 30wt％
エチルアルコール 35wt％
水 35wt％
洗浄剤 ５〜11
C4H9−Ｏ（C2H4O）J（C3H6O）kＨ（ｊ，ｋの値
は表−１に記載） 30wt％ エチルアルコール 35wt％ 水 35wt％
は表−１に記載） 30wt％ エチルアルコール 35wt％ 水 35wt％
【表】
洗浄剤 12〜13
C4H9−Ｏ（C2H4O）1（C3H6O）2H 30wt％
第２級C12H25−Ｏ（C2H4O）lＨ（ｌの値は、表−
２中に記載） 15wt％ エチルアルコール 5wt％ 水 50wt％
２中に記載） 15wt％ エチルアルコール 5wt％ 水 50wt％
【表】
実施例２ （洗浄剤の性能評価）
実施例１で調製した各洗浄剤の性能を評価し、
結果を表−３に示した。
結果を表−３に示した。
【表】
他は実施例である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（）で表わされる化合物を含むこと
を特徴とする半田フラツクス用液体洗浄剤。 R1−Ｏ（−CoH2oＯ）−nＨ ……（） （R1：炭素数１〜５のアルキル基またはアル
ケニル基） ｎ：２〜４の数 ｍ：１〜10の数） ２ 一般式（）で表わされる化合物と、一般式
（）で表わされる化合物とを含むことを特徴と
する半田フラツクス用液体洗浄剤。 R1−Ｏ（−CoH2oＯ）−nＨ ……（） （R1：炭素数１〜５のアルキル基またはアル
ケニル基） ｎ：２〜４の数 ｍ：１〜10の数） R2−Ｏ（−C2H4O）−lＨ ……（） （R2：炭素数８〜18のアルキル基またはアル
ケニル基もしくは炭素数12〜25のアルキルフエニ
ル基 ｌ：５〜15の数）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23668989A JPH0397792A (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 半田フラックス用液体洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23668989A JPH0397792A (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 半田フラックス用液体洗浄剤 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5252475A Division JP2684319B2 (ja) | 1993-09-13 | 1993-09-13 | 半田フラックス用液体洗浄剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0397792A JPH0397792A (ja) | 1991-04-23 |
| JPH0453920B2 true JPH0453920B2 (ja) | 1992-08-27 |
Family
ID=17004313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23668989A Granted JPH0397792A (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 半田フラックス用液体洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0397792A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2789046B2 (ja) * | 1989-11-08 | 1998-08-20 | 荒川化学工業株式会社 | ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤 |
| JPH0768547B2 (ja) * | 1989-11-21 | 1995-07-26 | 花王株式会社 | 洗浄剤組成物 |
| JPH03198395A (ja) * | 1989-12-27 | 1991-08-29 | Toho Chem Ind Co Ltd | 洗浄剤組成物 |
| JPH0457898A (ja) * | 1990-06-27 | 1992-02-25 | Kao Corp | 水系洗浄剤組成物 |
| JP2774205B2 (ja) * | 1991-04-16 | 1998-07-09 | 三和油化工業株式会社 | 高分子物と油状物の油水分離方法 |
| JPH0624170A (ja) * | 1992-03-25 | 1994-02-01 | Sanyo Chem Ind Ltd | スクリーン印刷版用洗浄剤 |
| JP2893497B2 (ja) * | 1992-04-30 | 1999-05-24 | 花王株式会社 | 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物 |
| JP2652298B2 (ja) * | 1992-04-30 | 1997-09-10 | 花王株式会社 | 精密部品又は治工具類用洗浄剤組成物 |
| GB2281909B (en) * | 1993-09-21 | 1997-06-04 | Asahi Chemical Ind | Propylene glycol cyclohexyl ether derivatives, method of producing same and uses thereof |
| CN111117797A (zh) * | 2020-01-17 | 2020-05-08 | 重庆理工大学 | 一种多功能通用型水基清洗剂及清洗方法 |
| TW202307192A (zh) * | 2021-08-10 | 2023-02-16 | 日商日油股份有限公司 | 導電性糊用清洗劑組成物及導電性糊的清洗方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5040126A (ja) * | 1973-08-15 | 1975-04-12 | ||
| US3886099A (en) * | 1972-03-13 | 1975-05-27 | Griffin Bros Inc | Water soluble flux remover |
| JPS54158409A (en) * | 1978-06-05 | 1979-12-14 | Kao Corp | Liquid detergent composition |
| JPS59134891A (ja) * | 1983-01-21 | 1984-08-02 | メック株式会社 | プリント基板洗浄液 |
| JPS63159500A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-02 | ライオン株式会社 | ゲル状洗浄剤 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS649299A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Lion Corp | Liquid detergent composition |
-
1989
- 1989-09-11 JP JP23668989A patent/JPH0397792A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3886099A (en) * | 1972-03-13 | 1975-05-27 | Griffin Bros Inc | Water soluble flux remover |
| JPS5040126A (ja) * | 1973-08-15 | 1975-04-12 | ||
| JPS54158409A (en) * | 1978-06-05 | 1979-12-14 | Kao Corp | Liquid detergent composition |
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