JPH05125396A - 洗浄剤 - Google Patents
洗浄剤Info
- Publication number
- JPH05125396A JPH05125396A JP31750991A JP31750991A JPH05125396A JP H05125396 A JPH05125396 A JP H05125396A JP 31750991 A JP31750991 A JP 31750991A JP 31750991 A JP31750991 A JP 31750991A JP H05125396 A JPH05125396 A JP H05125396A
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- JP
- Japan
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- carbon atoms
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- active ingredient
- alkylene
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】環境汚染がなく、引火爆発の少ない洗浄性に優
れた洗浄剤を提供する。 【構成】式 （Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基であ
る）又は、式 Ｒ2Ｏ(Ａ1Ｏ)ａ−Ｘ−(ＯＡ2)ｂＯＲ3 （Ｒ2とＲ3は炭素数１〜６の炭化水素基、Ａ1とＡ2は炭
素数２〜４のアルキレン基、ａ＝０〜１０、ｂ＝０〜１
０、ａ＋ｂ＝１〜２０、Ｘは炭素数１〜８のアルキレン
基又は炭素数２〜９のジカルボン酸のアシル基である）
で表される化合物を有効成分として含有する洗浄剤。
れた洗浄剤を提供する。 【構成】式 （Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基であ
る）又は、式 Ｒ2Ｏ(Ａ1Ｏ)ａ−Ｘ−(ＯＡ2)ｂＯＲ3 （Ｒ2とＲ3は炭素数１〜６の炭化水素基、Ａ1とＡ2は炭
素数２〜４のアルキレン基、ａ＝０〜１０、ｂ＝０〜１
０、ａ＋ｂ＝１〜２０、Ｘは炭素数１〜８のアルキレン
基又は炭素数２〜９のジカルボン酸のアシル基である）
で表される化合物を有効成分として含有する洗浄剤。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント回路基板、ハ
ンダづけフラックス、種々の機器の油汚れの除去など産
業上用いる洗浄剤、又は各家庭の建物や家具、日常品な
どの油汚れの除去に用いる洗浄剤に関するものである。
特に、沸点と引火点が高く、環境汚染の少ない洗浄剤に
関する。
ンダづけフラックス、種々の機器の油汚れの除去など産
業上用いる洗浄剤、又は各家庭の建物や家具、日常品な
どの油汚れの除去に用いる洗浄剤に関するものである。
特に、沸点と引火点が高く、環境汚染の少ない洗浄剤に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、プリント回路基板、ハンダづ
けフラックス、油汚れ、グリースなどの汚れの除去や家
庭の油汚れの洗浄に、トリクロロエチレンなどの塩素系
溶剤あるいはトリクロロトリフルオロエタン（フロンＲ
−１１３）などのフロン系溶剤が用いられていた。しか
し、これらは洗浄力は大きいが、前者は、毒性があるた
め近年になり塩素系溶剤は自然界に蓄積して生態系に悪
影響を及ぼし、また、回路基板や電気部品などに存在す
る樹脂及びゴムの材質を溶解膨潤する欠点があり、後者
のフロン系溶剤は油汚れに対する払拭洗浄力が弱い上、
大気中のオゾン層を破壊することが判明し、これらの溶
剤の使用による地球的規模の環境汚染が大きな問題とな
っている。これらの溶剤に代わるものとして非ハロゲン
系溶剤を含有する洗浄剤が提案されている。特表昭６３
−５０１９０８号公報にはテルペン化合物と界面活性剤
とからなる洗浄剤組成物をプリント回路基板などのロジ
ンフラックスの洗浄に使用することが提案されている。
また、特開平３−２６７９８号公報には、脂肪族炭化水
素などと低級アルコールとからなる洗浄剤組成物を布な
どに含浸させてプラスチックの払拭洗浄に使用すること
が提案されている。さらに、特開平３−３７２９９号公
報には乳酸アルキルエステルを主成分とするフラックス
洗浄剤が、特開平３−９７７９２号公報にはブチルカル
ビトールのような低分子量のポリオキシアルキレンエー
テルからなる洗浄剤が提案されている。
けフラックス、油汚れ、グリースなどの汚れの除去や家
庭の油汚れの洗浄に、トリクロロエチレンなどの塩素系
溶剤あるいはトリクロロトリフルオロエタン（フロンＲ
−１１３）などのフロン系溶剤が用いられていた。しか
し、これらは洗浄力は大きいが、前者は、毒性があるた
め近年になり塩素系溶剤は自然界に蓄積して生態系に悪
影響を及ぼし、また、回路基板や電気部品などに存在す
る樹脂及びゴムの材質を溶解膨潤する欠点があり、後者
のフロン系溶剤は油汚れに対する払拭洗浄力が弱い上、
大気中のオゾン層を破壊することが判明し、これらの溶
剤の使用による地球的規模の環境汚染が大きな問題とな
っている。これらの溶剤に代わるものとして非ハロゲン
系溶剤を含有する洗浄剤が提案されている。特表昭６３
−５０１９０８号公報にはテルペン化合物と界面活性剤
とからなる洗浄剤組成物をプリント回路基板などのロジ
ンフラックスの洗浄に使用することが提案されている。
また、特開平３−２６７９８号公報には、脂肪族炭化水
素などと低級アルコールとからなる洗浄剤組成物を布な
どに含浸させてプラスチックの払拭洗浄に使用すること
が提案されている。さらに、特開平３−３７２９９号公
報には乳酸アルキルエステルを主成分とするフラックス
洗浄剤が、特開平３−９７７９２号公報にはブチルカル
ビトールのような低分子量のポリオキシアルキレンエー
テルからなる洗浄剤が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これまで提案されてき
たテルペン系化合物、あるいは低級アルコールなどの溶
剤を含む洗浄剤は、引火点が低いために引火爆発の危険
性がある。また、油溶性溶剤を使用したものは洗浄後の
すすぎを念入りにしなければならない。さらに沸点が低
いために臭気が強いうえ、毒性が高いことなどの欠点が
あった。本発明はこれらの欠点を解消し、作業環境の悪
化及び環境汚染の少ない洗浄剤を提供することを目的と
する。
たテルペン系化合物、あるいは低級アルコールなどの溶
剤を含む洗浄剤は、引火点が低いために引火爆発の危険
性がある。また、油溶性溶剤を使用したものは洗浄後の
すすぎを念入りにしなければならない。さらに沸点が低
いために臭気が強いうえ、毒性が高いことなどの欠点が
あった。本発明はこれらの欠点を解消し、作業環境の悪
化及び環境汚染の少ない洗浄剤を提供することを目的と
する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、環境汚染
をおこすことが少なく、引火点が高くて各種の油性の汚
れを良く溶解する見地から沸点の高い多数の酸素含有有
機化合物を鋭意研究して特定の構造の化合物がこれを充
足することを見出し、この知見に基づき本発明を完成す
るに至った。すなわち、本発明は、式
をおこすことが少なく、引火点が高くて各種の油性の汚
れを良く溶解する見地から沸点の高い多数の酸素含有有
機化合物を鋭意研究して特定の構造の化合物がこれを充
足することを見出し、この知見に基づき本発明を完成す
るに至った。すなわち、本発明は、式
【０００５】
【化２】
【０００６】（Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜６の炭化
水素基である）又は、式 Ｒ2Ｏ(Ａ1Ｏ)ａ−Ｘ−(ＯＡ2)ｂＯＲ3 …［２］ （Ｒ2とＲ3は炭素数１〜６の炭化水素基、Ａ1とＡ2は炭
素数２〜４のアルキレン基、ａ＝０〜１０、ｂ＝０〜１
０、ａ＋ｂ＝１〜２０、Ｘは炭素数１〜８のアルキレン
基又は炭素数２〜９のジカルボン酸のアシル基である）
で表される化合物を有効成分として含有する洗浄剤を提
供するものである。
水素基である）又は、式 Ｒ2Ｏ(Ａ1Ｏ)ａ−Ｘ−(ＯＡ2)ｂＯＲ3 …［２］ （Ｒ2とＲ3は炭素数１〜６の炭化水素基、Ａ1とＡ2は炭
素数２〜４のアルキレン基、ａ＝０〜１０、ｂ＝０〜１
０、ａ＋ｂ＝１〜２０、Ｘは炭素数１〜８のアルキレン
基又は炭素数２〜９のジカルボン酸のアシル基である）
で表される化合物を有効成分として含有する洗浄剤を提
供するものである。
【０００７】式［１］及び式［２］において、Ｒ1、
Ｒ2、Ｒ3で示される炭素数１〜６の炭化水素基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、アリル基、ブチル基、イソブチル基、第三級ブチル
基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、フェニ
ル基などがある。式［２］において、Ａ1とＡ2で示され
る炭素数２〜４のアルキレン基は、エチレン基、プロピ
レン基、イソプロピレン基、テトラメチレン基、イソブ
チレン基などであり、Ａ1Ｏ又はＯＡ2としてアルキレン
オキシドの付加したオキシアルキレン基を構成する。Ａ
1Ｏ又はＯＡ2で示されるオキシアルキレン基の付加量
ａ、ｂが１０以下に限定されるのは、これを超えると洗
浄剤としての効能が低下するからである。
Ｒ2、Ｒ3で示される炭素数１〜６の炭化水素基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、アリル基、ブチル基、イソブチル基、第三級ブチル
基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、フェニ
ル基などがある。式［２］において、Ａ1とＡ2で示され
る炭素数２〜４のアルキレン基は、エチレン基、プロピ
レン基、イソプロピレン基、テトラメチレン基、イソブ
チレン基などであり、Ａ1Ｏ又はＯＡ2としてアルキレン
オキシドの付加したオキシアルキレン基を構成する。Ａ
1Ｏ又はＯＡ2で示されるオキシアルキレン基の付加量
ａ、ｂが１０以下に限定されるのは、これを超えると洗
浄剤としての効能が低下するからである。
【０００８】従って、ａとｂはそれぞれ好ましくは、７
以下、より好ましくは３以下である。また ａ＋ｂは１
〜２０、好ましくは１〜１４、より好ましくは１〜６で
ある。Ｘで示される炭素数１〜８のアルキレン基として
は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロ
ピレン基、テトラメチレン基、イソブチレン基、ペンチ
レン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基な
どの直鎖又は分枝のアルキレン基がある。また、Ｘで示
される炭素数２〜９のジカルボン酸のアシル基を構成す
るジカルボン酸としてはシュウ酸、マロン酸、コハク
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、マレイン酸、フマル酸、グルタコン
酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸などがあ
る。
以下、より好ましくは３以下である。また ａ＋ｂは１
〜２０、好ましくは１〜１４、より好ましくは１〜６で
ある。Ｘで示される炭素数１〜８のアルキレン基として
は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロ
ピレン基、テトラメチレン基、イソブチレン基、ペンチ
レン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基な
どの直鎖又は分枝のアルキレン基がある。また、Ｘで示
される炭素数２〜９のジカルボン酸のアシル基を構成す
るジカルボン酸としてはシュウ酸、マロン酸、コハク
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、マレイン酸、フマル酸、グルタコン
酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸などがあ
る。
【０００９】本発明において、式［１］又は式［２］で
示される化合物は併用することができ、また界面活性剤
と併用するとさらに洗浄力が向上する。また、本発明の
洗浄剤は水を添加することによって、引火点が高くなっ
たり、引火点を示さなくなったりして安全性がより向上
する。本発明の洗浄剤に使用する界面活性剤は特に限定
されず、通常市販されている界面活性剤が使用できる。
すなわち、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性
剤、両性界面活性剤及び非イオン界面活性剤の１種ある
いは２種以上の混合物が使用できる。
示される化合物は併用することができ、また界面活性剤
と併用するとさらに洗浄力が向上する。また、本発明の
洗浄剤は水を添加することによって、引火点が高くなっ
たり、引火点を示さなくなったりして安全性がより向上
する。本発明の洗浄剤に使用する界面活性剤は特に限定
されず、通常市販されている界面活性剤が使用できる。
すなわち、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性
剤、両性界面活性剤及び非イオン界面活性剤の１種ある
いは２種以上の混合物が使用できる。
【００１０】本発明の洗浄剤において、式［１］又は式
［２］の化合物と界面活性剤との併用時には、洗浄剤中
における式［１］又は式［２］で示される化合物の割合
は２重量％以上が好ましい。また、洗浄力を高めるため
にメタケイ酸ナトリウムや炭酸ナトリウムなどのアルカ
リ性物質を併用することもできる。
［２］の化合物と界面活性剤との併用時には、洗浄剤中
における式［１］又は式［２］で示される化合物の割合
は２重量％以上が好ましい。また、洗浄力を高めるため
にメタケイ酸ナトリウムや炭酸ナトリウムなどのアルカ
リ性物質を併用することもできる。
【００１１】
【実施例】本発明の実施例及び比較例の洗浄剤組成物を
用いて洗浄力テスト及びすすぎ性テストを下記に示す方
法で実施した。 （洗浄力テスト１）松脂の飽和イソプロピルアルコール
溶液にスライドグラス（７６mm×２６mm）を浸漬した
後、風乾したものをテストピースとして用いた。洗浄剤
２００mlの入った２００ml容ビーカーにテストピースを
入れ、超音波洗浄器で５分間３０〜３５℃で処理する洗
浄を行った。次にすすぎとして、テストピースをイオン
交換水２００mlの入ったビーカーに移し替え、超音波洗
浄器で２分間処理し、取り出して風乾したのち、外観を
観察した。 （洗浄力テスト２）事務所内の事務机（３年間使用した
もの）の横壁に洗浄剤を塗布し、２分間放置したのち、
布でぬぐい取り、外観を観察した。なお、洗浄力テスト
１及び２は次の基準で評価した。 ○：汚れがきれいに落ちている。 △：汚れが部分的に残っている。 ×：汚れがほとんど落ちていない。 （洗浄力テスト３）洗浄剤５０mlの入った１００ml容ビ
ーカーに、１０メッシュの篩を通過した松脂粉２.０ｇ
を加え、撹拌羽根を７００±１００ｒｐｍで回転させ、
２０〜２５℃で松脂粉が全量溶解するまでの時間を測定
して洗浄速度の目安とした。
用いて洗浄力テスト及びすすぎ性テストを下記に示す方
法で実施した。 （洗浄力テスト１）松脂の飽和イソプロピルアルコール
溶液にスライドグラス（７６mm×２６mm）を浸漬した
後、風乾したものをテストピースとして用いた。洗浄剤
２００mlの入った２００ml容ビーカーにテストピースを
入れ、超音波洗浄器で５分間３０〜３５℃で処理する洗
浄を行った。次にすすぎとして、テストピースをイオン
交換水２００mlの入ったビーカーに移し替え、超音波洗
浄器で２分間処理し、取り出して風乾したのち、外観を
観察した。 （洗浄力テスト２）事務所内の事務机（３年間使用した
もの）の横壁に洗浄剤を塗布し、２分間放置したのち、
布でぬぐい取り、外観を観察した。なお、洗浄力テスト
１及び２は次の基準で評価した。 ○：汚れがきれいに落ちている。 △：汚れが部分的に残っている。 ×：汚れがほとんど落ちていない。 （洗浄力テスト３）洗浄剤５０mlの入った１００ml容ビ
ーカーに、１０メッシュの篩を通過した松脂粉２.０ｇ
を加え、撹拌羽根を７００±１００ｒｐｍで回転させ、
２０〜２５℃で松脂粉が全量溶解するまでの時間を測定
して洗浄速度の目安とした。
【００１２】実施例１〜６及び比較例１〜３ 第１表に示す洗浄剤について洗浄力テストを行った。そ
の結果を第１表に示した。
の結果を第１表に示した。
【００１３】
【表１】
【００１４】
【表２】
【００１５】注 １）［ ］内は２個のエチレンオキシド単位と１個のプ
ロピレンオキシド単位のランダム状共重合連鎖である。
ロピレンオキシド単位のランダム状共重合連鎖である。
【００１６】実施例７〜１２及び比較例４〜５ 第２表に示す洗浄剤について洗浄力テストを行った。そ
の結果を第２表に示した。
の結果を第２表に示した。
【００１７】
【表３】
【００１８】
【表４】
【００１９】注 １）［ ］内は２個のエチレンオキシド単位と１個のプ
ロピレンオキシド単位のランダム状共重合連鎖である。
第１表と第２表から本発明の洗浄剤は洗浄力が高く、ま
た洗浄速度も大きいことが判明した。
ロピレンオキシド単位のランダム状共重合連鎖である。
第１表と第２表から本発明の洗浄剤は洗浄力が高く、ま
た洗浄速度も大きいことが判明した。
【００２０】
【発明の効果】本発明の洗浄剤は、プラスチックなどの
高分子材料などに対する侵食性が低いので樹脂成形品及
び樹脂又はゴムを部分的に材質とするプリント回路など
の洗浄に用いて被洗浄品を損なわない利点がある上、人
体に対する刺激も少なく、油汚れを非常によく溶解する
利点を有し、さらに、界面活性剤との併用により、プリ
ント回路基板の汚れのほか、家庭の油汚れ、事務用品の
各種汚れ、ロビーや廊下などの床汚れ、ハンダづけフラ
ックスや液晶の汚れなどを容易に除去することができ、
また水によるすすぎが極めて容易であり、その上に、高
沸点で揮発しにくいため、引火爆発の危険が小さく、環
境汚染の恐れのない利点が大きい。
高分子材料などに対する侵食性が低いので樹脂成形品及
び樹脂又はゴムを部分的に材質とするプリント回路など
の洗浄に用いて被洗浄品を損なわない利点がある上、人
体に対する刺激も少なく、油汚れを非常によく溶解する
利点を有し、さらに、界面活性剤との併用により、プリ
ント回路基板の汚れのほか、家庭の油汚れ、事務用品の
各種汚れ、ロビーや廊下などの床汚れ、ハンダづけフラ
ックスや液晶の汚れなどを容易に除去することができ、
また水によるすすぎが極めて容易であり、その上に、高
沸点で揮発しにくいため、引火爆発の危険が小さく、環
境汚染の恐れのない利点が大きい。
Claims (2)
- 【請求項１】式 【化１】 （Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基であ
る）又は、式 Ｒ2Ｏ(Ａ1Ｏ)ａ−Ｘ−(ＯＡ2)ｂＯＲ3 （Ｒ2とＲ3は炭素数１〜６の炭化水素基、Ａ1とＡ2は炭
素数２〜４のアルキレン基、ａ＝０〜１０、ｂ＝０〜１
０、ａ＋ｂ＝１〜２０、Ｘは炭素数１〜８のアルキレン
基又は炭素数２〜９のジカルボン酸のアシル基である）
で表される化合物を有効成分として含有する洗浄剤。 - 【請求項２】さらに界面活性剤を有効成分として含有す
る請求項１記載の洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31750991A JPH05125396A (ja) | 1991-11-05 | 1991-11-05 | 洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31750991A JPH05125396A (ja) | 1991-11-05 | 1991-11-05 | 洗浄剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05125396A true JPH05125396A (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=18089034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31750991A Pending JPH05125396A (ja) | 1991-11-05 | 1991-11-05 | 洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05125396A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4898847A (en) * | 1986-07-03 | 1990-02-06 | Vyzkumny Ustav Makromolekularni Chemie | Catalyst and method for production of polymers and copolymers of 1-alkenes |
| JPH07331292A (ja) * | 1994-06-15 | 1995-12-19 | Tonen Corp | 洗浄液組成物 |
| EP1129686A1 (en) * | 2000-01-31 | 2001-09-05 | Shiseido Company Limited | Cleansing agents |
| JP2008222866A (ja) * | 2007-03-13 | 2008-09-25 | Dic Corp | 洗浄剤、及び該洗浄剤を用いた洗浄方法 |
| JP2012177055A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Sanyo Chem Ind Ltd | 電子材料用洗浄剤 |
-
1991
- 1991-11-05 JP JP31750991A patent/JPH05125396A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4898847A (en) * | 1986-07-03 | 1990-02-06 | Vyzkumny Ustav Makromolekularni Chemie | Catalyst and method for production of polymers and copolymers of 1-alkenes |
| JPH07331292A (ja) * | 1994-06-15 | 1995-12-19 | Tonen Corp | 洗浄液組成物 |
| EP1129686A1 (en) * | 2000-01-31 | 2001-09-05 | Shiseido Company Limited | Cleansing agents |
| US6548463B2 (en) | 2000-01-31 | 2003-04-15 | Shiseido Company, Ltd. | Cleansing agents |
| JP2008222866A (ja) * | 2007-03-13 | 2008-09-25 | Dic Corp | 洗浄剤、及び該洗浄剤を用いた洗浄方法 |
| JP2012177055A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Sanyo Chem Ind Ltd | 電子材料用洗浄剤 |
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