JPH0385742A - 欠陥検査方法及びその装置 - Google Patents

欠陥検査方法及びその装置

Info

Publication number
JPH0385742A
JPH0385742A JP1221450A JP22145089A JPH0385742A JP H0385742 A JPH0385742 A JP H0385742A JP 1221450 A JP1221450 A JP 1221450A JP 22145089 A JP22145089 A JP 22145089A JP H0385742 A JPH0385742 A JP H0385742A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image signal
defect
pattern
partial image
circuit pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1221450A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3132565B2 (ja
Inventor
Yasuhiko Hara
靖彦 原
Mitsuyoshi Koizumi
小泉 光義
Shigeki Kitamura
茂樹 北村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Image Information Systems Inc
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Video Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Video Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP01221450A priority Critical patent/JP3132565B2/ja
Priority to US07/575,380 priority patent/US5146509A/en
Publication of JPH0385742A publication Critical patent/JPH0385742A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3132565B2 publication Critical patent/JP3132565B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/0002Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004Industrial image inspection
    • G06T7/001Industrial image inspection using an image reference approach
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/302Contactless testing
    • G01R31/308Contactless testing using non-ionising electromagnetic radiation, e.g. optical radiation
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/30Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108Industrial image inspection
    • G06T2207/30141Printed circuit board [PCB]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリント基板回路パターン、セラミック上回
路パターン、ハイブリッド回路パターン、ファックス用
電極回路パターン、薄膜回路パターン、液晶表示素子用
回路パターン、及びL S I回路パターン等の電子回
路(配線)パターンの欠陥を画像処理により自動的に検
査する回路パターン11 欠陥検査方法及びその装置に関する。
〔従来の技術〕
回路パターンの外観検査装置については、従来多くの事
例がある。例えば、特公昭59−2436工号公報等が
ある。この場合は、2組の回路パターンを互いに比較し
、互いに一致しない部分を欠陥として検出するものであ
る。欠陥検査は、高速を要するため、回路パターンの比
較処理回路は、回路パターン検出器の速度に同期して処
理を行うように構成されている。具体的には、シフトレ
ジスタを多数用いた「パイプライン処理」と言われる論
理回路によって構成される。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術では、パイプライン処理は高速に画像処理
を行えるが、画像処理の内容は単純であり、複雑な欠陥
判定を高速で行うことができないという課題を有してい
た。
本発明の目的は、高速で、しかも人間の目が判定できる
複雑な欠陥の導通上の有害性の判定を画像処理によって
行うことができるようにした回路12 パターン欠陥検査方法及びその装置を提供することにあ
る。
〔課題を解決するための手段〕
即ち、本発明は、上記目的を達成するために、被検査回
路パターンを撮像手段により撮像して画像信号を得、欠
陥候補判定画像処理手段により上記画像信号と基準とな
る基準画像信号とを比較画像処理して上記被検査回路パ
ターンに存在する欠陥候補を上記撮像速度と同期した速
度で判定抽出し、判定抽出された欠陥候補の各々につい
て各欠陥候補を含む部分画像信号を抽出して記憶手段に
記憶し、欠陥判定画像処理手段により上記記憶手段に記
憶された部分画像信号を読出して上記撮像速度と非同期
で画像処理することによって各々の欠陥候補が電気的な
導通上有害か否かを判別することを特徴とする回路パタ
ーン欠陥検査方法である。また、本発明は、上記回路パ
ターン欠陥検査方法において、上記部分画像信号は、上
記撮像手段から得られる正常な回路パターンと欠陥候補
とを有する第1の部分画像信号と欠陥候補判定画像処理
手段から得られる欠陥候補からなる第2の部分画像信号
との組で形成したことを特徴とする回路パターン欠陥検
査方法である。
また、本発明は、被検査回路パターンを撮像して画像信
号を得る撮像手段と、該撮像手段から得られる画像信号
と基準となる基準画像信号とを比較画像処理して上記被
検査回路パターンに存在する欠陥候補を上記撮像速度と
同期した速度で判定抽出する欠陥候補判定画像処理手段
と、該欠陥候補判定画像処理手段により判定抽出された
欠陥候補の各々について各欠陥候補を含む部分画像信号
を抽出して記憶する記憶手段と、該記憶手段に記憶され
た部分画像信号を読出して上記撮像速度と非同期で画像
処理することによって各々の欠陥候補が電気的な導通上
有害か否かを判別する欠陥判定画像処理手段とを備えた
ことを特徴とする回路パターン欠陥検査装置である。
また、本発明は、検査対象回路パターン試料を検出する
光電変換撮像手段と、該撮像手段の撮像速度と同期した
速度で動作する基準パターン発生15− 手段と、上記撮像手段が出力する画像信号と該基準パタ
ーン発生手段が出力する画像信号を、上記撮像手段の撮
像速度と同期した速度で動作し、上記撮像手段が出力す
る画像と上記基準パターン発生手段が出力する画像の不
一致部であらわされる検査対象回路パターン上の欠陥候
補を検出する欠陥候補判定画像処理手段と、該欠陥候補
判定画像処理手段から得られる各々の欠陥候補を有する
周囲の部分画像信号を記憶する記憶手段と、該記憶手段
に記憶された部分画像信号を上記撮像手段と非同期の速
度で画像処理して各々の欠陥候補が電気的な導通上有害
か否かを判別する欠陥判定画像処理手段とを備えたこと
を特徴とする回路パターン欠陥検査装置である。
〔作用〕
上記構成により電気的な導通上有害な欠陥とそうでない
非有害欠陥とを、特に高密度で大形な基板回路パターン
に対して高速度で検査することができる。
〔実施例〕
16− 以下本発明を図面に示す実施例に基いて具体的に説明す
る。
まず、本発明の原理について第1図、及び第2図に基い
て説明する。第1図において破線で囲った検査システム
Iは撮像装置(パターン検出装置)1、l′が出力する
画像信号を欠陥判定装置3で画像処理し、欠陥候補を検
出するものである。同図で撮像装N(パターン検出装置
)1.1′とは、例えばCODリニアイメージセンサ、
あるいはレーザ光点を走査し反射光を検出する方式等の
走査形の光電変換装置である。通常回路パターンAおよ
びBは第3図に示すように同一のXYステージ15上に
乗せられ、対応部分を撮像装W1および1′で検出する
。第1図において、XYステージ15および、照明装置
は省略されている。検査システムIとしては、第1図に
示す他に、様々な形態が考えられる。即ち第2図に示す
ように、検査システム■は、1台の撮像装置(パターン
検出装置)1と欠陥判定装置3からなる(例えば昭48
年電気学会全国大会No、1347に示されている。)
第2図において破線で囲った検査システムIは、撮像装
置(パターン検出装置)1が出力する画像信号8と、基
準パターン発生装置7が出力する基準画像信号9′を欠
陥判定装w3により画像処理し、欠陥候補を検出する。
基準パターン発生装置7としては、例えば、図面に詳述
されていないが、パターン記憶装置にあらかじめ基準パ
ターンを圧縮して記憶し、記憶したデータから基準パタ
ーンを発生するものがある(例えば特開昭62−247
498号公報に記されている。)。また、回路パターン
を描くのに用いた設計データを元に基準パターンを発生
するものがある(例えば、計測自動制御学会論文集vo
1.20.No、12.63〜70ページに記されてい
る。)。
本発明は、検査システムIの構成には依存せずに、第1
図、及び第2図に示すように検査システムIに、部分画
像検査システム■を付属し、組み合わせることにより複
雑な検査ができるようにしたことに特徴がある。部分画
像検査システム■において部分画像処理袋w13は装置
そのものが画像メモリを持っており、画像メモリに書き
込まれた画像信号(例えば256X256画素の画像)
を適宜取りだして画像処理し、再び処理後の画像信号を
画像メモリに書き込むことを繰り返すことによって複雑
な画像処理を実行することができる装置である。個々の
画像処理のアルゴリズムはソフトウェアによって指定で
きるが、装置によっては、この部分を論理回路で組み、
(部分的にパイプライン回路で組み)、高速化を図った
ものもある。この場合も画像信号は、−旦画像メモリに
書き込まれた後、処理が行われるので、検査システムI
の欠陥判定装置3のように高速な画像処理は行えない。
部分画像処理袋W13の例として、文献映像情報(I)
1984年6月25〜31ページがある。
ここで第1図および第2図の、検査シスチムニにおいて
工画素あたりの検出、画像処理時間は0゜1μs程度と
(クロック周波数f。=10MHz)高速に処理できる
が、部分画像処理装置13は、例えば256X256=
6.6X10’個の画素の画像を0.1 (s)程度で
処理するため、工画素当りの処理時間は0.1/(6,
6xlO’)=1゜5μs程度かかる。このためインタ
ーフェース11により検査システム■が出力する画像信
号から欠陥の周辺の部分画像信号をとりだして部分画像
メモリ12に記憶し、記憶した部分画像信号を部分画像
処理装置13に入力して複雑な画像処理を行い、欠陥の
有害性を判定をすることができる第4図は第1図の撮像
袋W(パターン検出装置)1または工′が出力する回路
パターンAの画像信号8又は基準回路パターンBの画像
信号9からの部分画像信号Ip、欠陥判定装置3が処理
結果として出力する欠陥パターン画像信号10の部分画
像信号Dpを1組として部分画像メモリ12に記憶する
概要を示している。第1図の撮像装置(パターン検出装
置)1.1′の検出画素数を例えば1024とすると、
回路パターンAの画像信号8、基準回路パターンBの画
像信号9、欠陥パターン画像信号10の水平画素数nは
1024となる。
19− この中から欠陥を含むNXN画素(例えばN=256)
の矩形の部分画像信号Ip、Dρを部分画像メモリ12
に記憶する。なお部分画像信号Ipとしては回路パター
ン画像信号8の部分画像信号Ipと基準回路パターン画
像信号9の部分画像信号IPを部分画像メモリ■2に記
憶するか、もしくは回路パターン画像信号9、基準回路
パターン画像信号9のうち欠陥候補を含む部分画像信号
IPを部分画像メモリ12に記憶することができる。
第5図は第2図の撮像装置(パターン検出装置)1が出
力する回路パターン画像信号8からの部分画像信号IP
、基準パターン発生装置7が出力する基準回路パターン
画像9″からの部分画像信号RP、欠陥判定装置3が処
理結果として出力する欠陥パターン画像信号10の部分
画像信号Dpを1組として部分画像メモリ12に記憶す
る概要を示している。第2図の撮像袋W(パターン検出
袋W)1の検出画素数を例えば1024とし、基準パタ
ーン発生装置7からは同じ画素数で基準回路パターンを
発生すると、回路パターン画像信号8.2〇− 基準回路パターン画像信号9′、欠陥パターン画像信号
10の水平画素数nは1024となる。この中から欠陥
(候補)点の座標を含むNXN画素(例えばN=256
)の矩形の部分画像信号IP、Rp 、Dpをとりだし
て第2図の部分画像メモリ12に記憶する。複数の欠陥
がある場合にも、複数の部分画像信号IP、RP、DP
を部分画像メモリ12に記憶する。
第6図は第5図における部分画像信号の部分画像メモリ
12への記憶方法を改善したものであり、欠陥代表点4
の座標を中心として、部分画像工p′、RpI、Dp+
を部分画像メモリ12に記憶する。
第7図は第6図における部分画像信号の部分画像メモリ
12への記憶方法を改善したものであり、近接して複数
の欠陥代表点4がある場合も、重複した複数の部分(重
複部分)15についての部分画像信号画像■pII、R
P ′l、Dp″′を部分画像メモリ12に記憶する。
次に部分画像処理装置13による欠陥の有害判定につい
て示す。第8図及び第9図は回路パターンの導通上欠陥
において有害欠陥と非有害欠陥の例をしめすものである
。第8図イは線状回路パターンに欠けの欠陥が有る場合
であるが、欠けの部分の回路パターンに対して長手方向
の長さVlが検査基準値より大きいと有害欠陥となり、
それ以下の場合は有害欠陥とならない。第8図口は線状
回路パターンの中にピンホールが有る場合であり、ピン
ホールの回路パターンに対して長手方向の長さv2が検
査基準値より大きいと有害欠陥となり、それ以下の場合
は有害欠陥とならない。第8図ハは線状回路パターンに
突起がある場合であるが、線状回路パターンの周囲の正
常回路パターンから突起までのパターン間隔の最少値n
1が検査基準値より小さい場合有害欠陥となり、以上の
場合は有害欠陥とならない。第8図二は孤立パターンが
有る場合で、孤立パターンから周囲の正常回路パターン
までのパターン間隔の最少値n2が検査基準値より小さ
い場合有害欠陥となり、以上の場合は有害欠陥とならな
い。第9図示は大きな回路パターン上に欠けがある場合
であるが、欠けの面積23− の合計ΣSiが検査基準値より大きいばあい有害欠陥と
なり、それ以下の場合は有害欠陥とならない。第9図へ
は大きな回路パターンの中にピンホールがある場合であ
るが、ピンホールの最大径の合計ΣQiが検査基準値よ
り大きい場合有害欠陥となり、それ以下の場合は有害欠
陥とならない。
第9図トは大きな回路パターン上に突起がある場合であ
るが、周囲の正常回路パターンから突起までのパターン
間隔n1が検査基準値より小さい場合有害欠陥となり、
それ以上の場合は有害欠陥とならない。
検査システムIの場合は、第8図及び第9図における有
害欠陥と非有害欠陥を区別することはできない。このた
め作業者は、検査装置が指摘した全てのパターンを見て
有害欠陥と非有害欠陥を区別する作業をしいられていた
本発明における、第8図イの場合については、部分画像
処理装置13でt、ほかにvlを計測することにより有
害欠陥と非有害欠陥を区別している。
第8図口の場合については、t2ほかに■2を計測4− することにより有害欠陥と非有害欠陥を区別している。
また第8図ハの場合については、mlとn□を計測し有
害欠陥と非有害欠陥を区別している。
第8図二の場合については、pとn2を計測し有害欠陥
と非有害欠陥を区別している。第9図示の場合について
は、ΣSiを計測することにより有害欠陥と非有害欠陥
を区別している。第9図への場合については、ΣQiを
計測することにより有害欠陥と非有害欠陥を区別してい
る。また第9図トの場合については、m、と03を計測
し有害欠陥と非有害欠陥を区別している。
このように本発明は、第1図及び第2図に示すように検
査システム■と、部分画像検査システム■を組み合わせ
ることによって検査システムIと同じ高速度で検査を実
行し、かつ部分画像処理袋w13による詳細な画像処理
の利点を兼ね備えて第8図及び第9図に示す有害欠陥と
、非有害欠陥を区別することができる。すなわち、第工
図及び第2図において、検査システムIでパターンの検
3からは、欠陥代表点信号4が出力されるが、この欠陥
代表点信号4は第8図及び第9図に示す有害欠陥と非有
害欠陥からなる全ての欠陥候補を検出したことを示す出
力信号である。本発明のシステムでは、欠陥代表点信号
4は、次のように用いられる。すなわち、欠陥代表点信
号4を、部分画像信号Ip、Rp、Dpを記憶するため
の制御信号として用いることにより、第8図及び第9図
に示す欠陥代表点4の周囲の部分画像を部分画像メモリ
12に記憶する。そして部分画像を部分画像処理装置1
3で処理することにより、第8図及び第9図における導
通上有害な欠陥と非有害な欠陥とを区別する。本システ
ムによれば、検査システムIは、検査対象回路パターン
全面の検査を高速に行う。例えば検査対象回路パターン
の大きさを300X600+m+とする。検出画素の大
きさを0゜01両とすると、このときの処理画素数は、
300X600/ (0,○IXo、01)=1.8x
10’個であり、1画素当りの検出、処理時間を09X
107=180 (s)で全面を検査をする。
一方部分画像処理装置13は、1枚の基板で欠陥候補が
10点ある場合、平均180(s)/10=18 (s
)かけて部分画像信号を処理して、溝道上有害な欠陥と
非有害な欠陥とを判別する。このように本システムによ
って、検査システム■(パイプライン形画像処理装置)
の高速性と、部分画像処理袋W13が持っている詳細画
像処理能力の両方の特性を生かすことが可能となる。欠
陥の判定基準も目視作業による基準に合致させることが
可能となる。
次に本発明の実施例を更に詳述する。即ち、検査システ
ムIと部分画像処理装置13については公知のものを使
うので、両者のインターフェース11の部分がハードウ
ェア回路として意味がある。
以下インターフェース11の内容について記す。
第1図及び第2図において、インターフェース11に撮
像装置(パターン検出装置)王から入力される回路パタ
ーン画像信号8は、第10図(a)に示すような得られ
るの時系列走査信号を2値化7 回路(2値化回路は第1図及び第2図では省略されてい
る。)で2値化して得られる第10図(b)に示すよう
な2値絵素化画像信号である。またインターフェース1
1に入力される基準回路パターン画像信号9.9′は、
第1図においては撮像装置(パターン検出装置)l′か
ら入力される2値化した2値絵素化画像信号であり、第
2図においては基準パターン発生装置7から入力される
基準となる2値絵素化時系列信号である。またインター
フェース11に人力される欠陥判定製置3からの欠陥パ
ターン画像信号10は、回路パターン画像信号8と基準
回路パターン画像信号9.9′を信号処理することによ
って得られる時系列信号である。
第11図はインターフェース11の回路例である。第7
図に示すような水平画素数が例えばn1024の画像(
回路パターン画像信号8、基準回路パターン画像信号9
 (9’ ) 、欠陥パターン画像信号10)をインタ
ーフェースエ1に入力し、欠陥代表点信号4に用いてN
XN画素(例えばN28 =256)の部分画像信号Ip(Ip’、IPI+)、
Rp (Rp’、Rp”)、Dp (Dp’、Dp”)
を部分画像メモリ12に記憶し、記憶した部分画像信号
1p(1p1、rPI+)、Rp (Rp’、Rp ″
)、Dp (Dp’、Dp″)を部分画像処理装置13
に入力する動作について示す(ただし、この動作は部分
画像信号IPと部分画像信号Rpと部分画像信号Dpと
も同じであるため、第11図はいずれか1つの部分画像
をとりだす回路例を示している。)。欠陥判定装置3(
第2図)からの欠陥代表点信号4は欠陥を検出した時点
t。にパルスを発生している。このためt。より以前の
NXN画像に含まれる画像をとりだすことができるよう
に、回路パターン画像信号8.9(9’)、10をN/
2ライン分に対応した時間だけ遅延61により遅延する
。一方、欠陥代表点信号4をゲート発生62に入力し、
欠陥代表点信号4に基づきN画素に対応した期間有効な
ゲート信号63をNライン回繰返し発生する。
ゲートの有効な期間に、書き込みアドレス発生64から
書き込みアドレス65を発生することにより欠陥代表点
の座標を中心としてNXN画素の画像を部分画像メモリ
12に記憶できる。以上の処理は、撮像装置(パターン
検出袋fit) 1の走査速度と同期して高速(クロッ
ク周波数f。)に行われる。部分画像メモリ12は複数
の欠陥がある場合に備え、複数の部分画像信号IP’″
、Rp″、I)p”が記憶できる。
次に、部分画像メモリ12に記憶した部分画像信号Ip
、Rp、Dpを部分画像処理装置工3に入力する。通常
部分画像処理装置13はTVの画像入力用に作られてい
るので、NXN画像を1760 (s)程度の速度で入
力することになる。部分画像処理装置13からの水平同
期信号69を読みだしアドレス発生67に入力し、読み
だしアドレス発生67から読みだしアドレス66を出力
する。読みだしアドレス発生67では水平同期信号69
を、読みだしアドレス66を強制的に発生するためのス
ター1〜信号として用いている。読みだしアドレス66
に同期して、部分画像信号IP、Rp、Dpを部分画像
処理装置13に入力する。
書き込みアドレステーブル68は近接して複数の欠陥代
表点があり、部分画像メモリρ、RP、Dpが重複する
場合をサポートするために設けられたものである。重複
する複数の部分画像信号IP 、RP 、DPを同時に
部分画像メモリ12に書き込むことができないため、重
複している箇所の画像は複数の部分画像信号Ip、Rp
、Dpが共用する形式で部分画像メモリ12に記憶する
。部分画像メモリ12に記憶すると同時に、書き込みア
ドレステーブル68に重複する複数の部分画像信号Ip
、Rp、Dpの各々について書き込みアドレス65を記
憶する。部分画像メモリ12から部分画像信号IP、R
p、Dpを読み出す場合はこの書き込みアドレステーブ
ル68を参照する。
以」二のように、検査システムIによって欠陥代表点を
高速に検出し、検出した欠陥代表点を中心とした周囲の
部分画像信号を部分画像処理装置13に入力することが
できる。
次に欠陥代表点周囲の部分画像信号を部分画像処理装置
↓3によって画像処理をして、欠陥の有害性を判別する
。第1図において第4図に示す部分画像信号Ip、Dp
から欠陥の導通上有害性を判別する例を示す。最初に欠
陥が線状回路パターンにあるのか(または線状回路パタ
ーンの中にあるのか)、大きな回路パターンにあるのか
を判別する。次に欠陥の有害性を判別する時間を短縮化
するため、部分画像信号rpと部分画像信号Dpに(ま
たは部分画像信号Ipのみに)ウィンドウを設定し、部
分画像信号の上部のみ画像処理するようにする。さらに
導通上の欠陥の種類には欠け、ピンホール、突起、孤立
パターンの欠陥があるため、欠陥がピンホールもしくは
孤立パターンであるか判別する。以上の実行をした後、
第8図及び第9図に示すような、各欠陥に対応して欠陥
の導通上の有害性を判別する。
第12図は欠陥が線状回路パターンにあるのか(または
線状回路パターンの中にあるのか)、大きな回路パター
ンにあるのかを判別する例を示している。部分画像信号
IPを線状回路パターンの画像信号vpと大きな回路パ
ターンの画像信号V31 pに分割処理手段16により分割し、また部分画像信号
Dρを拡大処理手段17により拡大し、線状回路パター
ンの画像信号vpと大きな回路パターンの画像信号Vp
と部分画像信号DPの拡大画像信号LPをAND回路1
9a、19bを有する画像間演算処理手段18により画
像間演算処理し。
欠は欠陥の画像信号20と欠は欠陥のない画像信号21
とが得られる。第、13図(a)は線状回路パターンに
(または線状回路パターンの中に)欠陥がある場合のウ
ィンドウの設定例を示している。
部分画像メモリp、Ip’、I PIIと部分画像信号
Dp 、 Dp’、DP”の同じ位置に、同じ大きさの
ウィンドウを設定している。ウィンドウは、欠陥から周
囲に一定の距離(検査基準値であるパターン幅の最大値
とパターン間隔の最小値のうち大きい値)以内の領域を
含むように大きさと位置を設定している。すなわち部分
画像DP 、 Dpl、DpIIから欠陥を含む矩形の
対角線上の座標(xmin、 ym。
jn)、(xmax、 ymax)をもとめ、ウィンド
ウの始点xs=xmin−Δw□、ys=ymin−Δ
W1.終2終 点2−=xmax+ΔW 1+ ye = ymaX+
ΔW1を算出している。ΔW1は欠陥の有害性を判別す
るために必要な一定距離を示す値であり、検査基準値で
あるパターン幅の最大値とパターン間隔の最小値のうち
大きい値である。
第13図(b)は、大きな回路パターンに(または大き
な回路パターンの中に)欠陥がある場合のウィンドウの
設定例を示している。部分画像信号IP、IP’、r 
pl+と部分画像信号Dp 、 Dp’、DpIIの同
じ位置に、同じ大きさのウィンドウを設定している。ウ
ィンドウは、大きな回路パターンから周囲に一定の距離
Δwz(検査基準値であるパターン間隔の最小値)以内
の領域を含むように大きさと位置を設定している。すな
わち部分画像1から大きなパターンを含む矩形の対角線
上の座標(xmin、 ymin) 、  (xmax
、 ymax)をもとめ、ウィンドウの始点xs=xm
in−ΔW 21 ’/ S = yIIIn−ΔW2
.終点xe=xmax+ΔW 213’ e = Y 
maX+Δw2を算出している。Δw2は欠陥の有害性
を判別するために必要な値であり、検査基準値であるパ
ターン間隔の最小値である。
第14図は、欠陥がピンホールであることを判別する例
を示している。第13図に示した部分画像信号■p、r
p’、IPI+のウィンドウ内画像28の穴の数を計測
しくピンホール数計測29)、29′で示すように穴の
数>O(≠O)ならばピンホールの欠陥があり、30で
示すように穴の数=0であればピンホール以外の欠陥で
ある。
第15図は、欠陥が孤立パターンであることを判別する
例を示している。第13図に示した部分画像信号r P
、 工pl 、  r p uの白と黒を反転し、部分
画像信号1p、Ip’、r pI+のウィンドウ内画像
3(の穴の数を32に示すように計測する。
33で示すように穴の数〉○(≠O)ならば孤立パター
ンの欠陥があり、34に示すように穴の数=Oであれば
孤立パターン以外の欠陥である。
次に第2図において第7図に示す部分画像信号rP+l
、Rp+1、DP″から欠陥の導通上有害性を判別する
例を示す。最初に欠陥が線状回路パターンにあるのか(
または線状回路パターンの中にあるの5 か)、大きな回路パターンにあるのかを判別する。
次に欠陥の導通上有害性を判別する時間を短縮化するた
め、部分画像信号rpI+と部分画像信号Rp”と部分
画像信号Dρ″に(または部分画像信号1p″と部分画
像信号RpI+に)ウィンドウを設定し、部分画像信号
の1部のみ画像処理するようにする。
さらに導通上の欠陥の種類には欠け、ピンホール、突起
、孤立パターンの欠陥があるため、欠陥がピンホールも
しくは孤立パターンであるか判別する。
以上の実行をした後、第8図、第9図に示すような、各
欠陥に対応して欠陥の有害性を判別する。
第16図は欠陥が線状回路パターンにあるのか(または
線状回路パターンの中にあるのか)、大きな回路パター
ンにあるのかを判別する例を示している。部分画像信号
Rp 、Rp’、Rp′Iを拡大処理手段33により拡
大して拡大画像信号34を得、この拡大画像信号34に
対して分割処理手段35により線状回路パターンの画像
信号36と大きな回路パターンの画像信号37とに分割
し、線状回路パターンの画像信号36と大きな回路パタ
ーンの画像信号37と部分画像信号Dp 、 DPI、
D、/1について、AND回路39a、39bを有する
画像間演算処理手段18により画像間演算処理して欠陥
画像信号4oと欠陥のない画像信号4工を得る。第エフ
図(a)は線状回路パターンに(または線状回路パター
ンの中に)欠陥がある場合のウィンドウの設定例を示し
ている。部分画像信号■ρと部分画像信号Rpと部分画
像信号Dpの同し位置に、同じ大きさのウィンドウを設
定している。
ウィンドウの大きさと位置の算出方法は、第13図(a
)の場合と同じである。第17図(b)は大きな回路パ
ターンに(または大きな回路パターンの中に)欠陥があ
る場合のウィンドウの設定例を示している。部分画像信
号Ipと部分画像信号RPと部分画像信号Dpの同じ位
置に、同じ大きさのウィンドウを設定している。ウィン
ドウは、大きな回路パターンから周囲に一定の距1II
(検査基準値である回路パターン間隔の最小値)以内の
領域を含むように大きさと位置を設定している。
含む矩形の対角線上の座標(xmin、 ymin)、
(x max 、 y max )をもとめているほか
は、第13図(b)の場合と同じである。欠陥がピンホ
ールであることを判別する例は第14図と同じである。
欠陥が孤立パターンであることを判別する例は第15図
と同じである。
第18図に第8図イに示す線状回路パターンに欠けがあ
る場合の、欠陥の導電上有害性を判定するアルゴリズム
例をしめす。ウィンドウ48(部分画像信号Ip)は欠
けの欠陥を含んでいる部分画像信号Ipのウィンドウ内
の画像信号である。
またウィンドウ49(部分画像信号Rp )は基準パタ
ーン画像の部分画像信号Rpのウィンドウ内画像信号で
ある。最初にウィンドウ48(部分画像信号Ip)の境
界座標52 (xi、 yi)を境界座標抽出手段50
により抽出する。境界の座標を求めるアルゴリズムはウ
ィンドウ内の走査を行い、最初にパターンにぶつかる点
を求めた後、3X3のマスクパターンを利用する方法が
良く知られて次にウィンドウ49(部分画像Cd yR
P )から角度θ抽出手段5工により各境界の座標にお
ける「境界面の方向に垂直な角度0」53を求める。
角度θについては3X3のマスクパターン54から求め
ることができる。求めることができる方向は55で示す
ように工6方向(360’を22゜56で等分)である
。ウィンドウ49(部分#像信号Rp)から「境界面の
方向に垂直な角度θ」を求めるのはウィンドウ48(部
分画像信号Ip)には欠陥や凹凸があるためである。
以上のようにして求めた境界の座II (xi、 yi
)から、56で示すように角度θ方向に検査基準値であ
る回路パターン@t工の最小値だけ離れた点の座1?I
 (XjI yj)を求め、その座標の画素の色を調べ
る。白画素が1個でもあれば導電上有害欠陥、全て黒画
素の場合導電上非有害欠陥である。
同様に境界の座標(x l r y i)から、57で
示すように角度O方向に最少パターン@Cすだけ離れた
点の座標(xk、 yk)の画素の色を求め、白画素−
の連続する長さをもとめる。白画素の連続す9 る長さ■、が検査基憎植より大きい場合導通−Iニイf
害欠陥で、検査基準値以下の場合は導通上非有害欠陥で
ある。
第19図に第8図口に示す線状回路パターンの中にピン
ホールがある場合の、欠陥の導通上有害性を判別するア
ルゴリズム例を示す。ウィンドウ61(部分画像信号I
p)はピンホールの欠陥を含んでいる部分画像信号工p
のウィンドウ内の画像である。ウィンドウ61(部分画
像信号Ip)において線状回路パターンが傾いているた
め、回路パターン傾度測定・回転手段62により線状回
路パターンを回転し、計測しやすいような向きにし、6
3で示す線状回路パターンを得る。回転の角度は、回路
パターン傾度測定・回転手段62により慣性主軸の角度
Oを求めることにより得られる。回転はアフィン変換を
利用すればよく、回転パターン63を得ることができる
6回転パターン63に対して白黒反転(NOT)手段6
4により白黒反転(NOT)して65の画像信号を得、
ピンホール抽出手段68によりピンホール抽出の処/1
0 理を行い、ピンホール欠陥だけとりだした計測パターン
69を得る。ここでXX(パターンの存在する最少X座
標)、y、(パターンの存在する最少y座標)−xz(
パターンの存在する最大X座標)、y2(パターンの存
在する最大y座標)を求める。ピンホールのパターンに
対して長手方向の長さ■2はX2−x□である。v2が
検査基準値より大きい場合は導通上有害欠陥、■2が検
査基準値以下の場合は導通上非有害欠陥である。
次にピンホールから線状パターンの境界までの最短距離
の和t2はパターン幅を氾とするとn−(yz−y□)
であるため、回転パターン63のピンホールの穴埋めを
穴埋め手段66により行い、計測パターン67を得る。
この計測パターン67についてパターン幅Qを計測する
。。穴埋めは回転パターン63と計測パターン69のO
Rをとればよく計測パターン67を得ることができる。
計測パターン67において(Xx+ yl)   (X
2νy2)を結ぶ線上で線状パターンの長手方向に対し
て垂直にパターンの幅氾を計測すればよい。t2が検査
基準値より小さい場合は導通上有害欠陥、検査基準値以
上の場合は導通上非有害欠陥である。
第20図に第8図ハに示す線状回路パターンに突起があ
る場合の、欠陥の導通上有害性を判定するアルゴリズム
例を示す。ウィンドウ70(部分画像信号Ip)は突起
の欠陥がある部分画像信号Ipのウィンドウ内の画像で
ある。またウィン1−ウ71(部分画像信号Rp)は基
準回路パターン画像の部分画像信号Rpのウィンドウ内
画像である。最初はウィンドウ70(部分画像信号Ip
)から周囲パターン手段72により周囲パターン74を
抽出する。次に境界座標抽出手段76により周囲パター
ン74の境界座標(xi、yi)78を抽出する。境界
の座標を求めるアルゴリズムは欠けの場合と同様である
。一方ウイントウ71(部分画像信号Rp )から周囲
パターン手段73により周囲パターン75を抽出し、角
度0抽出手段77により周囲パターン75から各境界の
座標における「境界面の方向に垂直な角度θ」79を求
める。角度Oを求めるアルゴリズt1は欠けの場合と同
様である。3×3マスクパターンを80で示す。
以上のようにして78で求めた境界の座標(X1+yl
)から角度θ方向に検査基準値であるパターン間隔の最
小値n1だけ離れた点の座標(x j+yj)を81で
求め、その座標の画素の色を調べる。黒画素が1個でも
あれば導通上有害欠陥、全て白画素の場合導通上有害欠
陥である。
同様に境界の座標(Xi、yj)から82で示すように
角度O方向に最少パターン間隔C1だけ離れた点の座標
(xk、yk)の画素の色を求め、黒画素の連続する長
さをもとめる。黒画素の連続する長さm、が検査基準値
より大きい場合導通上有害欠陥で、検査基準値以下の場
合は導通上非有害欠陥である。
第21図に第8図二に示す孤立パターン欠陥がある場合
の、欠陥の導通上有害性を判別するアルゴリズム例を示
す。ウィンドウ83(部分画像信号Ip)は孤立パター
ンと周囲の正常回路パターンを含む部分画像信号IPの
ウィンドウ内の画像である。最初に、ウィンドウ83(
部分画像信号Ip)を分割手段84により孤立パターン
85と周囲パターン86に分割する。分割の手法として
はラベリングと呼ばれる方法が一般に知られている。孤
立パターンの最大径pは孤立パターン85から同一2次
モーメントを持つ楕円87を求め、計測パターン9工を
得、この計測パターンの楕円の長軸の長さpを計測して
もとめる。Pが検査基準値より大きい場合は導通上有害
欠陥、検査基準値以下の場合は導通上非有害欠陥である
次に孤立パターンから周囲の正常パターンまでのパター
ン間隔n2計測するために、88により孤立パターン8
5の境界の座標(XJ、yj)を中心としてパターン間
隔n2の検査基準値を半径とした円を描きながら境界を
一周し描画パターン89を得、さらに描画パターン89
と周囲パターン86のAND手段90によりANDをと
り計測パターン92を得る。計測パターン92において
パターン数≠Oのときはパターン間隔n、は検査基準値
より小さく導通上有害欠陥である。またパタ値以上で導
通上非有害欠陥である。
第22図に第9図ホに示す欠けが大きなパターンにある
場合のパターンの欠陥の導通上有害性を判定するアルゴ
リズム例をしめす。ウィンドウ93(部分画像信号Ip
)は欠けがある部分画像信号工ρのウィンドウ内の画像
である。またウィンドウ94(部分画像信号Rp)は基
準回路パターン画像の部分画像信号Rpのウィンドウ内
画像である。最初にウィンドウ93(部分画像信号Ip
)から欠陥のあるパターンの面積S1 を求める。次に
ウィンドウ94(部分画像信号Rp)から欠陥のないパ
ターンの面積S2をもとめΣ5i=S。
S工を算出する。面積ΣSiが検査基準値より大きい場
合導通上有害欠陥で、検査基準値以下の場合は導通上非
有害欠陥である。
第23図に第9図へに示すピンホールが大きな回路パタ
ーンの中に有る場合の導通上有害性を判別するアルゴリ
ズム例を示す。ウィンドウ95(部分画像信号Ip)は
ピンホールがある部分画像信号IPのウィンドウ内の画
像である。ウィン4 ドウ95(部分画像信号1p)に対してピンホール抽出
手段96によるピンホール抽出の処理を行い、ピンホー
ルだけとりだしたピンホール画像信号97を得る。ここ
で各ピンホールに対して98により同一2次モーメント
を持つ楕円(計測画像99)をもとめ、楕円の長軸の長
さQjを計測し、ΣQiを算出する。ΣQiが検査基準
値より大きい場合は導通上有害欠陥、検査基準値以下の
場合は導通上非有害欠陥である。
第9図トに示す突起が大きな回路パターンにある場合の
導通上有害性を判定するアルゴリズム例は、第20図の
線状回路パターンに突起がある場合のアルゴリズムと同
様である。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、プリント基板等
の回路パターンに対して目視による複雑な検査基準に合
致させて回路パターンの導通上有害な欠陥と非有害な欠
陥とに高速度で判別検査することができ、従来作業者が
確認していた導通」二本当の欠陥であるか否かの作業を
省略することができる効果を奏する。特に本発明によれ
ば、上記回路パターンの導通上の欠陥検査作業の合理化
とこの欠陥検査の信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は各々本発明の回路パターンの欠陥検
査装置の一実施例の概略構成を示す図、第3図は従来の
回路パターンの欠陥検査装置の一例を示す概要図、第4
図乃至第7図は各々回路パターン画像信号、基準回路パ
ターン画像信号、欠陥パターン画像信号に対する部分画
像信号を示す図、第8図及び第9図は各々回路パターン
に対する導通上有害な欠陥と非有害な欠陥の形状を示し
た図、第10図は撮像装置から得られる画像信号と2値
絵素化画像信号とを示す図、第11図はインターフェー
ス回路の一実施例を示す図、第12図乃至第23図は各
々本発明における導通上有害な欠陥と非有害な欠陥とを
判定するアルゴリズムの例を示す図である。 ■・・・検査システム、■・・・部分画像検査システム
A・・・回路パターン、B・・・基準回路パターン1.
1’・・・撮像装置、3・・・欠陥判定装置4・・・欠
陥(候補)代表点信号 7・・・基準パターン発生装置 8・・・回路パターン画像信号 9.9′・・・基準回路パターン画像信号10・・・欠
陥パターン画像信号 11・・・インターフェース 12・・・部分画像メモリ 13・・・部分画像処理装置 Ip + TPZ Ip”+ Rp r RP’+ R
p”+D PI 、 D PI+・・・部分画像信号p

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 1. 被検査回路パターンを撮像手段により撮像して画
    像信号を得、欠陥候補判定画像処理手段により上記画像
    信号と基準となる基準画像信号とを比較画像処理して上
    記被検査回路パターンに存在する欠陥候補を上記撮像速
    度と同期した速度で判定抽出し、判定抽出された欠陥候
    補の各々について各欠陥候補を含む部分画像信号を抽出
    して記憶手段に記憶し、欠陥判定画像処理手段により上
    記記憶手段に記憶された部分画像信号を読出して上記撮
    像速度と非同期で画像処理することによって各々の欠陥
    候補が電気的な導通上有害か否かを判別することを特徴
    とする回路パターン欠陥検査方法。
  2. 2. 上記部分画像信号は、上記撮像手段から得られる
    正常な回路パターンと欠陥候補とを有する第1の部分画
    像信号と欠陥候補判定画像処理手段から得られる欠陥候
    補からなる第2の部分画像信号との組で形成したことを
    特徴とする請求項1記載の回路パターン欠陥検査方法。
  3. 3. 線状パターンに欠けがある(凹部)場合の判定基
    準を、線状パターンに対して長手方向の欠けの長さが検
    査基準値より大きいか、又は欠けの部分のパターン幅の
    最少値が検査基準値より小さい場合を有害、その他の場
    合を非有害とすることを特徴とする請求項1記載の回路
    パターン欠陥検査方法。
  4. 4. ピンホールが線状パターンの中にある場合の判定
    基準を、ピンホールの長手方向の長さが検査基準値より
    大きいか、又はピンホールから線状パターンの境界まで
    の最短距離の和(導通している部分のパターン幅)が検
    査基準値より小さい場合を有害、その他の場合を非有害
    とすることを特徴とする請求項1記載の回路パターン欠
    陥検査方法。
  5. 5. 線状パターンに突起がある(凸部)場合の判定基
    準を、線状パターンの周囲の正常パターンから突起まで
    のパターン間隔の最少値が検査基準値より小さい場合、
    又は突起の線状パターンに対して長手方向の長さが検査
    基準値より大きい場合を有害、その他の場合を非有害と
    することを特徴とする請求項1記載の回路パターン欠陥
    検査方法。
  6. 6. 孤立パターンがある場合の判定基準を、孤立パタ
    ーンの最大径の長さが検査基準値より大きい場合、又は
    孤立パターンから周囲の正常パターンまでのパターン間
    隔が検査基準値より小さい場合を有害、その他の場合を
    非有害とすることを特徴とする請求項1記載の回路パタ
    ーン欠陥検査方法。
  7. 7. 大きなパターンに複数あるいは1個の欠けがあっ
    た場合の判定基準を、その面積の合計が検査基準値より
    大きい場合を有害、その他の場合を非有害とすることを
    特徴とする請求項1記載の回路パターン欠陥検査方法。
  8. 8. 大きなパターンの中に複数あるいは1個のピンホ
    ールがある場合の判定基準を、ピンホールの最大径の長
    さの合計が検査基準値より大きい場合を有害、その他の
    場合を非有害とすることを特徴とする請求項1記載の回
    路パターン欠陥検査方法。
  9. 9. 大きなパターンに突起(凸部)がある場合、大き
    なパターンの周囲の正常パターンから突起までのパター
    ン間隔の最少値が検査基準値より小さい場合、又は突起
    の大きなパターンに対して境界方向の長さが検査基準値
    より大きい場合を有害、その他の場合を非有害とするこ
    とを特徴とする請求項1記載の回路パターン欠陥検査方
    法。
  10. 10. 被検査回路パターンの欠陥が有害の場合、欠陥
    の種類が欠け、ピンホール、突起、孤立パターンでいず
    れであるかを識別することを特徴とする請求項1記載の
    回路パターン欠陥検査方法。
  11. 11. 被検査回路パターンを撮像手段により撮像して
    画像信号を得、欠陥候補判定画像処理手段により上記画
    像信号と基準となる基準画像信号とを比較画像処理して
    上記被検査回路パターンに存在する欠陥候補を上記撮像
    速度と同期した速度で判定抽出し、判定抽出された欠陥
    候補の各々について、上記撮像手段から得られる正常な
    回路パターンと欠陥候補とを有する第1の部分画像信号
    と欠陥候補判定画像処理手段から得られる欠陥候補から
    なる第2の部分画像信号との組からなる部分画像信号を
    抽出して記憶手段に記憶し、欠陥判定画像処理手段によ
    り上記記憶手段に記憶された部分画像信号を読出して第
    1の部分画像信号を、線状パターンの画像信号と大きな
    パターンの画像信号とに分割し、第2の部分画像信号に
    ついて拡大した第2の拡大部分画像信号を得、上記線状
    パターンの画像信号と大きなパターンの画像信号と第2
    の拡大部分画像信号とを画像間演算処理することにより
    、欠陥候補が線状パターン上にあるのか、大きなパター
    ン上にあるのか、孤立パターンなのかを判別し、更に画
    像処理することによって各々の欠陥候補が電気的な導通
    上有害か否かを判別することを特徴とする回路パターン
    欠陥検査方法。
  12. 12. 被検査回路パターンを撮像手段により撮像して
    画像信号を得、欠陥候補判定画像処理手段により上記画
    像信号と基準となる基準画像信号とを比較画像処理して
    上記被検査回路パターンに存在する欠陥候補を上記撮像
    速度と同期した速度で判定抽出し、判定抽出された欠陥
    候補の各々について、上記撮像手段から得られる正常な
    回路パターンと欠陥候補とを有する第1の部分画像信号
    と欠陥候補判定画像処理手段から得られる欠陥候補から
    なる第2の部分画像信号との組からなる部分画像信号を
    抽出して記憶手段に記憶し、欠陥判定画像処理手段によ
    り上記記憶手段に記憶された部分画像信号を読出して第
    1の部分画像信号を、線状パターンの画像信号と大きな
    パターンの画像信号とに分割し、第2の部分画像信号に
    ついて拡大した第2の拡大部分画像信号を得、上記線状
    パターンの画像信号と大きなパターンの画像信号と第2
    の拡大部分画像信号とを画像間演算処理することにより
    、欠陥候補が線状パターン上にあるか否かを判別し、欠
    陥候補が線状パターン上にある場合上記第2の部分画像
    信号を用いて欠陥候補から周囲に一定の距離のウインド
    ウを少なくとも上記第1の部分画像信号に対して設定し
    、画像処理することによって各々の欠陥候補が電気的な
    導通上有害か否かを判別することを特徴とする回路パタ
    ーン欠陥検査方法。
  13. 13. 被検査回路パターンを撮像手段により撮像して
    画像信号を得、欠陥候補判定画像処理手段により上記画
    像信号と基準となる基準画像信号とを比較画像処理して
    上記被検査回路パターンに存在する欠陥候補を上記撮像
    速度と同期した速度で判定抽出し、判定抽出された欠陥
    候補の各々について、上記撮像手段から得られる正常な
    回路パターンと欠陥候補とを有する第1の部分画像信号
    と欠陥候補判定画像処理手段から得られる欠陥候補から
    なる第2の部分画像信号との組からなる部分画像信号を
    抽出して記憶手段に記憶し、欠陥判定画像処理手段によ
    り上記記憶手段に記憶された部分画像信号を読出して第
    1の部分画像信号を、線状パターンの画像信号と大きな
    パターンの画像信号とに分割し、第2の部分画像信号に
    ついて拡大した第2の拡大部分画像信号を得、上記線状
    パターンの画像信号と大きなパターンの画像信号と第2
    の拡大部分画像信号とを画像間演算処理することにより
    、欠陥候補が大きなパターン上にあるか否かを判別し、
    欠陥候補が大きなパターン上にある場合上記第1の部分
    画像信号を用いて大きなパターンから周囲に一定の距離
    のウインドウを少なくとも上記第1の部分画像信号に対
    して設定し、画像処理することによって各々の欠陥候補
    が電気的な導通上有害か否かを判別することを特徴とす
    る回路パターン欠陥検査方法。
  14. 14. 被検査回路パターンを撮像手段により撮像して
    画像信号を得、欠陥候補判定画像処理手段により上記画
    像信号と基準となる基準画像信号とを比較画像処理して
    上記被検査回路パターンに存在する欠陥候補を上記撮像
    速度と同期した速度で判定抽出し、判定抽出された欠陥
    候補の各々について、上記撮像手段から得られる正常な
    回路パターンと欠陥候補とを有する第1の部分画像信号
    と欠陥候補判定画像処理手段から得られる欠陥候補から
    なる第2の部分画像信号との組からなる部分画像信号を
    抽出して記憶手段に記憶し、欠陥判定画像処理手段によ
    り上記記憶手段に記憶された部分画像信号を読出して第
    1の部分画像信号に対してウインドウを設定し、該設定
    されたウインドウ内の画像信号の穴の数を計測して欠陥
    がピンホールで有るか否かを判別して欠陥候補が電気的
    な導通上有害か否かを判別することを特徴とする回路パ
    ターン欠陥検査方法。
  15. 15. 被検査回路パターンを撮像手段により撮像して
    画像信号を得、欠陥候補判定画像処理手段により上記画
    像信号と基準となる基準画像信号とを比較画像処理して
    上記被検査回路パターンに存在する欠陥候補を上記撮像
    速度と同期した速度で判定抽出し、判定抽出された欠陥
    候補の各々について、上記撮像手段から得られる正常な
    回路パターンと欠陥候補とを有する第1の部分画像信号
    と欠陥候補判定画像処理手段から得られる欠陥候補から
    なる第2の部分画像信号との組からなる部分画像信号を
    抽出して記憶手段に記憶し、欠陥判定画像処理手段によ
    り上記記憶手段に記憶された部分画像信号を読出して第
    1の部分画像信号に対してウインドウを設定し、該設定
    されたウインドウ内の画像信号の白と黒を反転後、穴の
    数を計測して欠陥が孤立パターンで有るか否かを判別し
    て欠陥候補が電気的な導通上有害か否かを判別すること
    を特徴とする回路パターン欠陥検査方法。
  16. 16. 被検査回路パターンを撮像して画像信号を得る
    撮像手段と、該撮像手段から得られる画像信号と基準と
    なる基準画像信号とを比較画像処理して上記被検査回路
    パターンに存在する欠陥候補を上記撮像速度と同期した
    速度で判定抽出する欠陥候補判定画像処理手段と、該欠
    陥候補判定画像処理手段により判定抽出された欠陥候補
    の各々について各欠陥候補を含む部分画像信号を抽出し
    て記憶する記憶手段と、該記憶手段に記憶された部分画
    像信号を読出して上記撮像速度と非同期で画像処理する
    ことによって各々の欠陥候補が電気的な導通上有害か否
    かを判別する欠陥判定画像処理手段とを備えたことを特
    徴とする回路パターン欠陥検査装置。
  17. 17. 上記部分画像信号は、上記撮像手段から得られ
    る正常な回路パターンと欠陥候補とを有する第1の部分
    画像信号と欠陥候補判定画像処理手段から得られる欠陥
    候補からなる第2の部分画像信号との組で形成したこと
    を特徴とする請求項16記載の回路パターン欠陥検査装
    置。
  18. 18. 上記欠陥候補判定画像処理手段としてパイプラ
    イン型であることを特徴とする請求項16記載の回路パ
    ターン欠陥検査装置。
  19. 19. 検査対象回路パターン試料を検出する光電変換
    撮像手段と、該撮像手段の撮像速度と同期した速度で動
    作する基準パターン発生手段と、上記撮像手段が出力す
    る画像信号と該基準パターン発生手段が出力する画像信
    号を、上記撮像手段の撮像速度と同期した速度で動作し
    、上記撮像手段が出力する画像と上記基準パターン発生
    手段が出力する画像の不一致部であらわされる検査対象
    回路パターン上の欠陥候補を検出する欠陥候補判定画像
    処理手段と、該欠陥候補判定画像処理手段から得られる
    各々の欠陥候補を有する周囲の部分画像信号を記憶する
    記憶手段と、該記憶手段に記憶された部分画像信号を上
    記撮像手段と非同期の速度で画像処理して各々の欠陥候
    補が電気的な導通上有害か否かを判別する欠陥判定画像
    処理手段とを備えたことを特徴とする回路パターン欠陥
    検査装置。
JP01221450A 1989-08-30 1989-08-30 欠陥検査方法及びその装置 Expired - Lifetime JP3132565B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01221450A JP3132565B2 (ja) 1989-08-30 1989-08-30 欠陥検査方法及びその装置
US07/575,380 US5146509A (en) 1989-08-30 1990-08-28 Method of inspecting defects in circuit pattern and system for carrying out the method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01221450A JP3132565B2 (ja) 1989-08-30 1989-08-30 欠陥検査方法及びその装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000280117A Division JP3283866B2 (ja) 2000-09-11 2000-09-11 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0385742A true JPH0385742A (ja) 1991-04-10
JP3132565B2 JP3132565B2 (ja) 2001-02-05

Family

ID=16766923

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP01221450A Expired - Lifetime JP3132565B2 (ja) 1989-08-30 1989-08-30 欠陥検査方法及びその装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5146509A (ja)
JP (1) JP3132565B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06342472A (ja) * 1993-05-31 1994-12-13 Nippon Avionics Co Ltd 残渣の検査方法
JP2005158780A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Hitachi Ltd パターン欠陥検査方法及びその装置
US7133550B2 (en) 2000-11-09 2006-11-07 Hitachi, Ltd. Pattern inspection method and apparatus
US7269280B2 (en) 2001-07-09 2007-09-11 Hitachi, Ltd. Method and its apparatus for inspecting a pattern
JP2008516233A (ja) * 2004-10-04 2008-05-15 ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション 能力が向上した表面検査システム
JP2009273005A (ja) * 2008-05-09 2009-11-19 Omron Corp 部品実装基板の外観検査用画像の保存方法および復元方法、ならびに画像保存処理装置
US8036447B2 (en) 2005-02-01 2011-10-11 Hitachi High-Technologies Corporation Inspection apparatus for inspecting patterns of a substrate
US8111902B2 (en) 2005-08-31 2012-02-07 Hitachi High-Technologies Corporation Method and apparatus for inspecting defects of circuit patterns

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE38716E1 (en) 1984-12-20 2005-03-22 Orbotech, Ltd. Automatic visual inspection system
USRE38559E1 (en) 1984-12-20 2004-07-27 Orbotech Ltd Automatic visual inspection system
US6320977B1 (en) * 1990-04-04 2001-11-20 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd Method and apparatus for positional detection using pattern matching process
JP2747105B2 (ja) * 1990-11-05 1998-05-06 富士通株式会社 画像データ検証方法及び装置
EP0495481A3 (en) * 1991-01-16 1993-06-02 Ezel Inc. Liquid crystal panel inspection method
KR960002145B1 (ko) * 1991-07-30 1996-02-13 가부시기가이샤 히다찌세이사구쇼 박막트랜지스터 액정기판의 검사방법 및 그 장치
DE69329554T2 (de) * 1992-02-18 2001-05-31 Neopath Inc Verfahren zur identifizierung von objekten unter verwendung von datenverarbeitungstechniken
KR0170542B1 (ko) 1993-04-21 1999-05-01 다테이시 요시오 육안 검사 지원장치 및 기판 검사장치와 이것들을 이용한 납땜 검사방법 및 수정방법
SG80529A1 (en) * 1993-06-14 2001-05-22 Omron Tateisi Electronics Co Visual inspection supporting apparatus and printed circuit board inspecting apparatus, and methods of soldering inspection and correction using the apparatus
JPH0763691A (ja) * 1993-08-24 1995-03-10 Toshiba Corp パターン欠陥検査方法及びその装置
JP3392573B2 (ja) * 1994-03-31 2003-03-31 株式会社東芝 試料検査装置及び方法
JP2999679B2 (ja) * 1994-11-30 2000-01-17 大日本スクリーン製造株式会社 パターン欠陥検査装置
US5818576A (en) * 1995-11-28 1998-10-06 Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. Extraneous substance inspection apparatus for patterned wafer
JP2956755B2 (ja) * 1996-03-11 1999-10-04 日本電気株式会社 微細パターン検査装置
US5917934A (en) * 1996-03-15 1999-06-29 Sony Corporation Automated visual inspection apparatus for detecting defects and for measuring defect size
US6330354B1 (en) 1997-05-01 2001-12-11 International Business Machines Corporation Method of analyzing visual inspection image data to find defects on a device
US6295374B1 (en) * 1998-04-06 2001-09-25 Integral Vision, Inc. Method and system for detecting a flaw in a sample image
US6317514B1 (en) * 1998-09-09 2001-11-13 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for inspection of patterned semiconductor wafers
US6466314B1 (en) * 1998-09-17 2002-10-15 Applied Materials, Inc. Reticle design inspection system
US7177458B1 (en) 2000-09-10 2007-02-13 Orbotech Ltd. Reduction of false alarms in PCB inspection
US6898305B2 (en) * 2001-02-22 2005-05-24 Hitachi, Ltd. Circuit pattern inspection method and apparatus
JP2002358509A (ja) * 2001-06-01 2002-12-13 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 穴検査装置
JP3400797B2 (ja) 2001-12-17 2003-04-28 株式会社日立製作所 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置
GB2389178B (en) * 2001-12-31 2004-10-27 Orbotech Ltd Method for inspecting patterns
US8111898B2 (en) * 2002-12-06 2012-02-07 Synopsys, Inc. Method for facilitating automatic analysis of defect printability
US20050289488A1 (en) * 2004-06-29 2005-12-29 I-Ju Chou System and method for mask defect detection
US20060092274A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Rockwell Automation Technologies, Inc. Image sensor annotation method and apparatus
JP2007024737A (ja) * 2005-07-20 2007-02-01 Hitachi High-Technologies Corp 半導体の欠陥検査装置及びその方法
KR100684104B1 (ko) * 2005-08-02 2007-02-16 삼성전자주식회사 결함 검사 방법 및 이를 수행하기 위한 결함 검사 장치
TWI361007B (en) * 2006-07-24 2012-03-21 Himax Semiconductor Inc Video processing method and video display system
US7369236B1 (en) * 2006-10-31 2008-05-06 Negevtech, Ltd. Defect detection through image comparison using relative measures
US8953870B2 (en) * 2009-11-18 2015-02-10 Honda Motor Co., Ltd. Surface inspection device and surface inspection method
CN114356191B (zh) * 2022-03-04 2022-07-12 北京阿丘科技有限公司 线路板图像显示方法、装置、设备及存储介质

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61245007A (ja) * 1985-04-24 1986-10-31 Hitachi Ltd 欠陥検査装置
JPS62119442A (ja) * 1985-11-20 1987-05-30 Fujitsu Ltd パタ−ン検査装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5371563A (en) * 1976-12-08 1978-06-26 Hitachi Ltd Automatic inspection correcting method for mask
JPS6017044B2 (ja) * 1979-07-23 1985-04-30 株式会社日立製作所 印刷配線板のパタ−ン検査装置
US4484081A (en) * 1980-09-19 1984-11-20 Trw Inc. Defect analysis system
DE3070721D1 (en) * 1980-12-18 1985-07-04 Ibm Process for inspecting and automatically classifying objects presenting configurations with dimensional tolerances and variable rejecting criteria depending on placement, apparatus and circuits therefor
US4496971A (en) * 1981-07-22 1985-01-29 National Research Development Corporation Detection apparatus
JPS5924361A (ja) * 1982-07-29 1984-02-08 Sharp Corp 日付の表示方式
GB2129547B (en) * 1982-11-02 1986-05-21 Cambridge Instr Ltd Reticle inspection
JPS59157505A (ja) * 1983-02-28 1984-09-06 Hitachi Ltd パタ−ン検査装置
DE3347645C1 (de) * 1983-12-30 1985-10-10 Dr.-Ing. Ludwig Pietzsch Gmbh & Co, 7505 Ettlingen Verfahren und Einrichtung zum opto-elektronischen Pruefen eines Flaechenmusters an einem Objekt
US4659220A (en) * 1984-10-22 1987-04-21 International Business Machines Corporation Optical inspection system for semiconductor wafers
JPS62247478A (ja) * 1986-04-21 1987-10-28 Hitachi Ltd パタ−ン検査装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61245007A (ja) * 1985-04-24 1986-10-31 Hitachi Ltd 欠陥検査装置
JPS62119442A (ja) * 1985-11-20 1987-05-30 Fujitsu Ltd パタ−ン検査装置

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06342472A (ja) * 1993-05-31 1994-12-13 Nippon Avionics Co Ltd 残渣の検査方法
US7957579B2 (en) 1998-11-30 2011-06-07 Hitachi, Ltd. Pattern inspection method and apparatus
US7457453B2 (en) 2000-11-09 2008-11-25 Hitachi, Ltd. Pattern inspection method and apparatus
US7133550B2 (en) 2000-11-09 2006-11-07 Hitachi, Ltd. Pattern inspection method and apparatus
US7266235B2 (en) 2000-11-09 2007-09-04 Hitachi, Ltd. Pattern inspection method and apparatus
US7894658B2 (en) 2000-11-09 2011-02-22 Hitachi, Ltd. Pattern inspection method and apparatus
US7269280B2 (en) 2001-07-09 2007-09-11 Hitachi, Ltd. Method and its apparatus for inspecting a pattern
US7388979B2 (en) 2003-11-20 2008-06-17 Hitachi High-Technologies Corporation Method and apparatus for inspecting pattern defects
US8275190B2 (en) 2003-11-20 2012-09-25 Hitachi High-Technologies Corporation Method and apparatus for inspecting pattern defects
US7792352B2 (en) 2003-11-20 2010-09-07 Hitachi High-Technologies Corporation Method and apparatus for inspecting pattern defects
US8005292B2 (en) 2003-11-20 2011-08-23 Hitachi High-Technologies Corporation Method and apparatus for inspecting pattern defects
US8639019B2 (en) 2003-11-20 2014-01-28 Hitachi High-Technologies Corporation Method and apparatus for inspecting pattern defects
JP2005158780A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Hitachi Ltd パターン欠陥検査方法及びその装置
US7978323B2 (en) 2004-10-04 2011-07-12 KLA—Tencor Technologies Corporation Surface inspection system with improved capabilities
JP2008516233A (ja) * 2004-10-04 2008-05-15 ケーエルエー−テンカー テクノロジィース コーポレイション 能力が向上した表面検査システム
US8036447B2 (en) 2005-02-01 2011-10-11 Hitachi High-Technologies Corporation Inspection apparatus for inspecting patterns of a substrate
US8111902B2 (en) 2005-08-31 2012-02-07 Hitachi High-Technologies Corporation Method and apparatus for inspecting defects of circuit patterns
JP2009273005A (ja) * 2008-05-09 2009-11-19 Omron Corp 部品実装基板の外観検査用画像の保存方法および復元方法、ならびに画像保存処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3132565B2 (ja) 2001-02-05
US5146509A (en) 1992-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0385742A (ja) 欠陥検査方法及びその装置
JPS59157505A (ja) パタ−ン検査装置
JP2008047664A (ja) パターン検査装置及び半導体検査システム
KR960013357B1 (ko) 화상데이타 검사방법 및 장치
JP2007147407A (ja) 外観検査方法
JPH10221035A (ja) 実装部品検査装置
JP2710527B2 (ja) 周期性パターンの検査装置
JP3243541B2 (ja) 錠剤の外観検査方法
JP3283866B2 (ja) 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置
JP4956077B2 (ja) 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
JP3400797B2 (ja) 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置
JPH03291507A (ja) 円筒体の検査装置
JPS6186638A (ja) 配線パターン欠陥検査方法
JP2003203218A (ja) 外観検査装置および方法
JP2827756B2 (ja) 欠陥検査装置
CN109115782B (zh) 基于多分辨率图像的光学式瑕疵检测装置
JP2000046748A (ja) 導体パターンの検査方法およびその装置並びに多層基板の製造方法
JP3210713B2 (ja) 所定の特徴及び許容差の識別のための画像化パターンの収縮、拡張及び処理を用いた幾何学的パターン検査方法及び装置
JP2004212277A (ja) パターンを検査するための方法
JPH01150987A (ja) 形状認識方法
JP3704014B2 (ja) パターンの検査方法
JP2002032736A (ja) 欠陥検査方法及び装置
JP2005018584A (ja) パターン検査方法
JPS62150143A (ja) パタ−ン欠陥検出方法
JPH0199174A (ja) 形状認識装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071124

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081124

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081124

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091124

Year of fee payment: 9

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091124

Year of fee payment: 9