JPH0359611A - 電磁放射スイッチング装置及びそれを用いた通信システム - Google Patents

電磁放射スイッチング装置及びそれを用いた通信システム

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JPH0359611A
JPH0359611A JP2190940A JP19094090A JPH0359611A JP H0359611 A JPH0359611 A JP H0359611A JP 2190940 A JP2190940 A JP 2190940A JP 19094090 A JP19094090 A JP 19094090A JP H0359611 A JPH0359611 A JP H0359611A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電磁放射のビームをスイッチングする分野に
係り、特に、一つの光ポートの出力を、選択的に一対の
他の光ポートのいずれかヘスイッチングする光ビーム・
スイッチング装置及びそれを用いた通信システムに関す
る。ここで各ポートは、通常、光ファイバ(光導波管)
の出口端又は人口端のいず熟かである。
[従来技術] 電磁放射信号ビームを用いる遠距離通信又は他のシステ
ムにおいては、入力光ポートに到達した電磁放射ビーム
を、選択的に一対の出力ポートのいずれかの一つへスイ
ッチングすることが望まれている。それは、例えば、入
力光ファイバの出力端に到達した光信号ビームを、何時
でも、スイッチング制御信号に基づいて、一対の出口光
ファイバのいずれか一つへ選択的にスイッチすることで
ある。更に詳しく述べれば、遠距離通信スイッチング・
システムにおいて光通信経路を変更したい場合が往々に
しである。即ち、所定の入力ファイバ(1)から第1出
力光フアイバ(A)へ送られる第1経路である光経路(
IA)を、入力ファイバ(1)から第2出力光フアイバ
(B)へ送る第2経路(IB)へスイッチし、又、tJ
2経路から第1経路へ戻すスイッチングが望まれている
他の例では、ローカル・エリア・ネットワーク(LAN
)は、通常、主コンピユータ・ステーション(M)と、
ループ状に配置された光ファイバで構成される光フアイ
バLANループ(リング)、及びファイバの接合点に配
置された局所ステーション(X、Y、Z・・・)を有し
ている。各局所ステーションは、通常、個々の局所パー
ソナル・コンピュータ、又はそれに類するものを有して
いる。
光スイツチング装置は、故障した局所ステーションをバ
イパスしたり、又はループ自身に故障が発生した場合に
全局所ステーションをバイパスするために必要とされて
いる。
従来の技術は、0pt1cs Letters、Vol
、4.No、1.pp27−28 (1979)に発表
されたM、Nunoshita et atが述べられ
ている光スイツチング装置が代表的なものである。その
論文では、上記目的のための光スィッチは、光経路をス
イッチするための可動レンズを用いている。しかし、そ
のようなスイッチは、主に比較的重い部品を相当高速で
動かす必要があるため、ぎこちなく、かつ高価なものと
なっている。又、このようなスイッチに必要な従来の機
械加工の部品は、光ファイバと接続して用いるためには
、光学的調整上、十分な精度を欠いており、そのため各
スイッチを作る時に、望ましくない、高価で、時間のか
かる調整作業を必要としている。
更に、機械的、熱的特性にバラツキのある部品に起こる
劣化現象のために、長期間の安定性や信頼性に問題を含
んでいる。又、これらのスイッチは、−時的にアクセス
のない(オフ・ライン’)LANの局部ステーションで
、局部光源と接続して、必要な自己テスト操作をするこ
とができず、仮にできたとしても余分な複雑性が追加さ
れる。例えば、5lecor Corp、、Re5er
ch Triangle Park、NC27709発
行のElactro−Optics、Applicat
ion Note 102.PIgure 4に述べら
れているように、複雑な余分なファイバを追加しなけれ
ばならない。更に、この81eeOrの刊行物に述べら
れているスイッチは、機械的に停止することが必要なた
め、使用中に磨耗が生じ易く、それが光部品にスイッチ
ング直後のその方向の望ましくないビームのジッタのよ
うな振動を与える原因となる。
従って、本発明は従来技術の上記欠点を解決した光信号
スイッチング装置、更に一般的には電磁信号スイッチン
グ装置を提供することを目的としている。
[発明の概要] 前記欠点を解決するために本発明の電磁放射スイッチン
グ装置は、 (a)平らな偏向面を有する放射偏向 要素(例えば、第2図のM、第11図のR3)と、(b
)平らな偏向面が、第1#r4域から第2領域へ、及び
第2領域から第1領域へ、それ自身と平行に動くことが
できるように、偏向要素を動かすための駆動手段(例:
第4図のG)と、(c)偏向要素が第1領域にある時、 第1ポート(P1)のスイッチング部に到着した放射信
号ビームが、第2位置の箇所を通過して伝搬して、第2
ポート(P2)に入り、さらに偏向要素が駆動手段によ
って動かされて第2領域にある時、第1ポート(P1)
に到着した信号ビームが、偏向要素の平らな表面により
第3ポート(F3)へ偏向されるように、夫々が配置さ
れている第1、第2、及び第3放射ポート(例えば、第
1図のPl、F2、F3)と、 (d)平らな主表面(例えば、第3図 のPS)と、その主表面に、第1、第2、第3ポートの
夫々の位置を決める第1、第2、第3導波管を配置する
溝(例えば、第3図のFRI、FR2、FR3)と、°
その主表面に、第1、第2、第3ポートの位置と関係し
て偏向要素を位置決めする一対の偏向要素位置決め用溝
(例えば、第3図の5BR1、SBR2)を有する基板
(例えば、第3図のS)と、 を備えたことを特徴としている。
通常、各ポートは、ミリメータ導波管である先導波管(
ファイバ)のような導波管の端部を有している。
本発明の実施例においては、放射は光であり、偏向要素
は鏡であり、各ポートは光ファイバの各端部である。鏡
は一対の満を持つホルダ(ヘッダ)に保持されている。
この一対の溝は、鏡を位置決めするため、シリコン基板
にリトグラフされた他の一対の溝と同位置にある。一対
のボールベアリングの各々は、同位置の満の対の夫々に
嵌められている。ファイバは、光フアイバ配列用の細長
い満の夫々に光ファイバを収納することにより、相互に
、鏡に対し正しい関係位置を保つ。これらのすべての溝
は、ボールベアリングを嵌める溝と同時に、シリコン基
板にリトグラフされる。この様にして、′シリコン・ワ
ークベンチ”技術の望ましい精密配列が達成される。又
、鏡の平らな反射面は、ボールベアリングによりそれ自
身と平行に動くように拘束されるので、スイッチング動
作中の鏡の停止時、たとえそれが急停止であっても、光
ビームのジッタは防止されるので効果的である。
このスイッチング装置は、LANの光ファイバ・ループ
に適したスイッチング装置にも適用できる。特に、この
上述の装置に対しては、基板中のもう一つの細長い溝に
入れられた第4の光ファイバを形成することにより、第
4ポートが追加される。同時に、局所光源を局所ステー
ションに設けると共に、局所光源からの第2光信号ビー
ムをこの第4ファイバ部分へ送る位置に配置し、さらに
光検出器を局所ステーションに設けて、それを第3ファ
イバ部分に入ってそこから伝搬した後の光ビームを受け
る位置に配置する。この方法では、第1ポートに到着し
た光ビームはLANループからせきとめられ、第4ポー
トに到着した第2光ビームは局所光源からせきとめられ
、さらに局所ステーションの偏向要素が第1領域(オフ
・ライン)にある時、第3と第4ファイバ部分をオフセ
ットすることにより、望ましい僅かな有効光強度で、局
所ステーションにおける自己テスト操作を特徴とする特
徴を備えた光スイツチング装置を上述のようにLANの
中で用いることができる。
[実施例の説明] 第1図、第2図に示すように、3ポート(1人力、2出
力)光スイツチング装置10(第1図)又は20(第2
図)は、mMを有し、この鏡Mは光経路外(第1図)又
は光経路内(第2図)のいずれかに位置している。双方
の場合(第1図及び第2図)において、スイッチング装
置10,20は、第1、第2、第3の光ポートP1、F
2、F3を有し、これらの第1、第2、第3の光ポート
P1、F2、F3は、第1、第2、第3の光フアイバ部
分F1、F2、F3の夫々の隣接した端部で構成されて
いる。スイッチング装置10.20は更に、第1、第2
、第3のレンズL1、L2、L3を有し、これらのレン
ズL1、L2、L3は、第1フアイバF1から放射する
夫々の光線を平行にして、第2フアイバF2(11図)
に入れ、又は第3フアイバF3(第2図)に入れる。光
線の光放射は光Fi、Lにより供給され、利用手段U1
(第1図)又はU2(第2図)に集められる。鏡M(第
2図)は前部反射面MSI及びそれと平行な後部反対面
MS2を有する。
スイッチング装置10.20は、光スイツチング装置3
0(第3図)を形成するため、シリコン・ワークベンチ
技術の組立体の中に集積されることができる。ここで、
第1図、第2図と同じ部品には同じ記号が付しである。
シリコン基板Sの主表面PS上には、その中に鏡Mが適
合する焼用#MRを含む基板Sに切り込まれた複数の凹
所(へこみ、又は溝)がある。基板Sに切り込まれたそ
の他の溝は、第1、第2、第3フアイバ用湾FRI、F
R2、FR3、第1、第2、第3レンズ用溝LRI、L
R2、LR3,1対の同一のボールベアリングB1、B
2を受は入れて、その場所に保持する第1、第2ボール
用溝5BR1、SBR2である。鏡Mは、シリコン・ヘ
ッダー(ホルダー)Hに集積されている。このヘッダー
は、1対の鏡ボールベアリング用溝MBRI、MBR2
を持ち、それらは、ボールベアリングB1、B2を受入
れて保持する1対の同じ基板ボールベアリング用溝5B
R1、SBR2と同じ位置にある。鏡面の擦れを防止す
るため、即ち鏡が溝から出し入れされるとき、溝MRの
側面に鏡反射面が触れることを防止するため、焼用溝は
十分広く作られている。焼用溝MRとポールベアリング
用満5BR1、SBR2、MBRI、MBR2は、鏡面
MSI、レンズL1、B2、B3、ファイバ部分F1、
F2、F3が望ましい相互配置になるように、配置され
る。
第4図は、ヘッダHと基板Sの第3図の4−4線に沿う
部分断面図である。第4図の前部ヘッダ断面FH3は、
通常ヘッダHを構成する単結晶シリコン体の<110>
面であり、鏡Mは、既知のリトグラフ◆マスキングと異
方性エツチングで形成され、同じシリコン体に集積され
た部分である。
基板Sの前面FSS断面は、通常、基板Sを構成する単
結晶シリコン体の<100>面である。
ヘッダHは、ボールベアリングB1、B2の中心を結ん
だ軸の回りを回転運動することができる。
従って鏡Mの面MSI(及びMS2)は、それ自身と平
行に動くように拘束されており、横方向の動きはない。
このようにして、鏡M(第3図及び第4図)の右端は、
ボールベアリングB1、B2を通る前記軸の左側のヘッ
ダH上の点(又は領域)に加えられる適当な力G(又は
力の分布)に応じて、焼用溝MRに円滑に出入りするこ
とができる。
この力Gは、所望のスイッチングに適した時間の関数に
従って加えられる。この力Gは、第4図に示されるよう
に下方に向かっている時は、反時計方向のトルクを生じ
させ、それによって鏡M(光線の入射するところにある
)の関連部分は、スイッチング装置10,20の光経路
外に動かされる。
Gが上向き(図示せず)のときは、この力Gは時計方向
のトルクを生じさせ、鏡Mを光経路の中に入れる。この
ようにして、スイッチング動作の間、Gの方向はスイッ
チング装置10対20(第1図対第2図)の条件を作る
ためのfiMの動きを決める。
鏡Mは、ファイバF1、F2、F3によって決められる
場所と直角方向に動くように拘束している同一の溝5B
R1、SBR2内に固定されている同一のボールベアリ
ングBl、B2によって配置が完全に決められているの
で、fiMの上下方向のジッタリング(ランダム的な)
運動は、この光装置を損傷することはない。この様な方
法で、有害な横方向相対運動は、溝5BR1、SBR2
中のボールベアリングBl、B2の剛性によって拘束さ
れるため、基板と鏡開の相対運動となる機械的振動は、
光伝送に悪影響を及ぼすことはない。
レンズL1、B2、B3は、通常、サファイア(n=1
.7) 、又は高屈折率指数(約1.7から1.9)の
ガラスでできている。ボールベアリングB1、B2はレ
ンズと同じ材料でできている。
第5図は、LANでの使用に適した4ポート(2人力、
2出力)光スイツチング装置50の組立を示している。
この装置50は、前記の光スイツチング装置30に、フ
ァイバ用m F R4に入れられるファイバ部分F4で
形成される第4のポート、及びそれに伴うレンズ用溝L
R4に入るレンズL4、fiMの第1の面MSIに平行
な第2の鏡面MS2が追加されたものと見ることができ
る。
第6図は、鏡Mが光経路外にある時(オフ・ライン、バ
イパス・モード)の装置50の平面図を示している。第
6図に示すように、鏡Mが光経路外の一位置にある時は
、第1光ファイバ部分F1から出る光放射はスイッチン
グ装置60の第2フアイバF2に入る。同時に、別の光
源(図示せず)から第4ファイバ部分F4中を伝搬する
光ビームは、ファイバ部分F3に入るが、ファイバ部分
F3のファイバ部分F4に対する意図的に選択されたオ
フセット距離d(レンズL3とL4も同じオフセットで
ある)のため、光強度は減衰する(点線で示す)。ファ
イバ部分F3に入るこの減衰ビームは、自己テスト操作
に有用である。ファイバ部分F4から来る(過剰な)光
を吸収するため、即ち、ファイバ部分F3に入らない光
を吸収するため、必要に応じアブソーバAを追加するこ
とができる。
第7図は、鏡が光ビームの経路中にある時(活性モード
)のスイッチング装置50(第5図)の平面図である。
第7図に示されるように、鏡Mが、光経路中に動かされ
たときは、ファイバ部分F1から出る光ビームはスイッ
チング装置70の中に入り、そこで鏡Mの第1面MSI
で反射され、第3ファイバ部分F3に向かう。同時に、
ファイバ部分F4から出る光は、mMの第2表面MS2
で反射され、ファイバ部分F2に入る。もし装置60が
正しく配置されていれば、vlMの厚さ(前面と後面間
の距離)をd/J2 (=a c o s 45°)と
等しく作ることによって、装置70も正しく配置される
。特に、第6図おいて、Flから出るビームのほぼ全て
がF2に入り、F4から出るビームの断面の一部のみが
F3に入る。第7図おいては、Flから出るビームのほ
ぼ全てがF3に入り、F4から出るビームのほぼ全てが
F2に入る。
第8,9図は、オフセットを回避するためのレンズとフ
ァイバの組み合わせを示す別の実施例である。同図にお
いて、ファバFl、  F2.  F3゜F4は、第6
−7図と同等に機能するが、鏡Mの同一側面(前面)配
置されている。鏡Mの他の側面(背面)には、補助のフ
ァイバAF1、AF2゜AF3が、補助のレンズALI
、AL2.AL3と共に、ファバFl、F2.F3と整
合して配置される(第9図)。3個のレンズLl、  
L2.  L3のみが必要である。レンズL1は、2本
の直交ビームを同時に通過させる。補助ファイバAPI
は、補助ファイバAF3に接続ファイバCFIによりそ
の端部間で接続されている。同様に、補助ファイバAF
2は、補助ファイバAF4に接続ファイバCF2により
その端部間で接続されている。
かくして、鏡Mが、光ビームの通路内に配置されると(
第8図)、バイパス(オフライン)モードが得られる。
特に、ファイバF1から出た光は、Llを通り、鏡Mに
反射され、L2を通り、ファイバF2に入る。そして、
ファイバF4から出た光は、Llを通り、鏡Mに反射さ
れ、L3を通り、ファイバF3に入る。fiMが、光ビ
ームの通路外に配置されると(第9図)、活性(オンラ
イン)モードが得られる。Flから出た光は、Ll、A
L1、AFI、CFl、AF3.Al1.L3を介して
F3に入る。F4から出た光は、Ll、Al1.AF4
.CF2.AF2.Al1.L2を介してF3に入る。
第8.9図のファイバとレンズの配置は、基板S(第5
図)の凹みでシリコンワークベンチ技術で規定され、鏡
Mの配置は、凹みに配置されたボールベアリング(第8
,9図には図示せず)により規定される(第5図の鏡の
配置と同様である)。
また、第8.9図では、ファイバF2とF3と及びレン
ズL2とL3は交換可能である。この場合、活性(オン
ライン)モードは、第8図の構成で得られ、バイパス(
オフライン)モードは、第9図の構成で得られる。
反射鏡の代わりに、光屈折要素(例えば平行屈折板R3
)を使うこともできる。即ち、光屈折媒体で構成された
平行板を第10図及び第11図(ファイバF1、F2、
F3は図示せず)に示す3ポートの形態、及び第12図
及び第13図(ファイバF1、F2、F3、F4は図示
せず)に示す4ポートの形態で使うことができる。光フ
ァイバ(第10図及び第11図、第12図及び第13図
では図示せず)は、第3図、第5図で示されたように配
置されており、又、接続ファイバCFは、ALlの光出
力をAl1の人力ポートへ結合している。特に、屈折数
(第10図及び第11図)RSは、それが、ボールベア
リングB1、B2の溝によって拘束されて、光経路中に
入ったときは、先ビームを異なるレンズへ、例えば、レ
ンズL2(第10図)の代わりにL3(第11図)へ、
十分な量を送るように屈折する厚さと屈折率に設計され
ている。屈折板RSの前面と後面は、共に夫々それ自身
と平行に動くように拘束されている。
第13図におけるALIとAL2は、接続ファイバCF
によって結ばれた補助レンズであり、その構成(第10
図及び第13図)は第6図及び第7図で示したと同じ4
ポート光スイツチング装置に用いることができる。
以上、全ての実施例に関連して注意すべきことは、fi
M、又1;!、平行屈折板RS(第11図)の位置や方
向は、溝5BRIと5BR2に嵌合されたボールベアリ
ングの位置によって決められることである。これらのボ
ールベアリングの位置が、第4図に示した力Gに応答し
て回転する鏡Mの回転軸を正確に決定する。シリコン・
ワークベンチ技術は、鏡、ボールベアリング、ファイバ
及びレンズ用の全ての溝を、信頼性あるリトグラフによ
って同時に形成し、大量生産ベースで、全てのファイバ
、レンズ及び鏡の精密相対配置を保証する。
即ち、全ての溝が、従来のリトグラフ技術の手段で位置
決めされた複数の基板を、同時に製作することが可能と
なる。同じく、屈折板R9(第11図及び第13図)の
位置と方向は、例えば第3図及び第5図で示したような
基板S中の溝中に嵌合されたボールベアリング(図示せ
ず)によって決定される。
本発明については、特定の実施例に関し詳細に説明した
が、本発明の範囲内で各種変形例を作ることが可能であ
る。例えば、出てくる光ビームを平行にするために、フ
ァイバの端部を平面でなく、球面ににすることにより、
レンズの省略が可能となる。また、一つのMMまたは屈
折板RSで、3ポート(又は4ポート)の単一セットを
結合して、より多くのセットを用いることができる。即
ち、それは、各セットがFl、F2、F3(及びF4)
と同じ働きをする3本(又は4本)のファイバの複数の
セットを含むファイバのアレイを持っている。
ファイバ部分F3、F4を距離dだけオフセット(レン
ズL3、L4も同じ)させる代わりに、オフ・ライン・
モードの間、ファイバ部分F4からファイバ部分F3へ
入る光放射の量を減らすために、鏡(の中心)をオフセ
ットすることも可能である。
長期間の安定性、信頼性、光の挿入損失を、ある程度犠
牲にすれば、ヘッダHは、シリコン基板の溝に嵌合する
突起を有するプレス成型の金属又はモールド樹脂であっ
てもよく、その場合ボールベアリングは省略される。
光信号の代わりに、レンズ、鏡、導波路の材料を適切に
変更して、光からミリ波にわたって、他の形の電磁放射
信号を用いることもできる。
尚、特許請求の範囲に記載した参照番号は、発明の容易
なる理解のためで、その範囲を制限するよう解釈される
べきではない。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例による3ポート光スイツチ
ング装置の概略図、 第2図は、鏡が光経路中に動かされた時の第1図の実施
例を示す概略図、 第3図は、第1図及び第2図に示された実施例を含み、
シリコン・ワークベンチ技術内に集積された本発明の他
の実施例のスイッチング装置の組立図、 第4図は、第1図及び第2図に示された本発明の一実施
例(理解を容易にするため光ファイバは省略しである)
の部分断面図、 第5図は、本発明の他の実施例である、LANでの使用
に適した4ポート光スイツチング装置の組立図、 第6図は、鏡が光経路外にある時の、第5図に示される
実施例の平面図、 第7図は、鏡が光経路中にある時の、第5図に示される
実施例の平面図、 第8図及び第9図は、本発明の更に他の実施例によ込3
ポート光スイッチング装置の部分平面図、第10図及び
第11図は、本発明の更に他の実施例による3ポート光
スイツチング装置の部分平面図、 第12図及び第13図は、本発明の更に他の実施例によ
る4ポート光スイツチング装置の部分平面図である。 出 願 人:アメリカン テレフォン アンドFIG、
 1 辺 FIG、 2 ト FIG、 3 FIG、 4 G FIG、 5 0 FIG、 8 FIG、 9 FIG。 0 FIG。 1

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)平らな偏向面を有する放射偏向要素(M、
    RS)と、 (b)平らな偏向面が、第1領域から 第2領域へ、及び第2領域から第1領域へ、それ自身と
    平行に動くことができるように、偏向要素を動かすため
    の駆動手段(G)と、 (c)偏向要素が第1領域にある時、 第1ポート(P1)のスイッチング部に到着した放射信
    号ビームが、第2位置の箇所を通過して伝搬してポート
    (P2)に入り、さらに偏向要素が駆動手段によって動
    かされて第2領域にある時、第1ポート(P1)に到着
    した信号ビームが、偏向要素の平らな表面により第3ポ
    ート(P3)へ偏向されるように、夫々が配置されてい
    る第1、第2、第3放射ポート(P1、P2、P3)と
    、(d)平らな主表面(PS)と、その 主表面に、第1、第2、及び第3ポートの夫々の位置を
    決める第1、第2、第3導波管を配置する溝(FR1、
    FR2、FR3)と、その主表面に、第1、第2、及び
    第3ポートの位置と関係して偏向要素を位置決めする一
    対の偏向要素位置決め用溝(SBR1、SBR2)を有
    する基板(S)と、を備えたことを特徴とする電磁放射
    スイッチング装置。
  2. (2)電磁放射は、放射信号ビームが第1光ビームであ
    る光放射であり、第1、第2、及び第3導波管配置用溝
    は、細長いファイバ配置用溝であり、第1、第2、第3
    ポートは夫々、第1、第2、第3の細長い溝に入れられ
    た第1、第2、第3光ファイバ部分を有しこれらの第1
    、第2、第3の細長い溝が、第1ファイバ部分から第2
    、第3ファイバ部分へ放射される第1光ビームの伝搬の
    ため、相互に方向づけられた第1、第2、第3の軸を夫
    々有することを特徴とする請求項1記載の装置。
  3. (3)基板中の第4導波管用の細長い溝に入れられた第
    4ファイバ部分を含む第4光ポートを有し、この細長い
    第4導波管が、偏向要素が第1領域に位置する時、局所
    光源から供給されて第4ポートに到達した第2光信号ビ
    ームが、第2領域を通過して第3ポートに入り、さらに
    偏向要素が第2領域に動かされた時、第2光ビームが偏
    向要素で反射されて第2ポートに入るように配置された
    軸を有することを特徴とする請求項2記載の装置。
  4. (4)第3ファイバ部分に入りそこから伝搬した後の光
    ビームを受けるために配置された光検出器を有し、偏向
    要素が第1距離だけ離れた前面と後面を有する鏡であり
    、第4の溝が第3の溝に対してオフセット距離を持って
    配置され、それによって、鏡が第1領域に位置する時、
    第4ポートに到達した第2光ビームの断面の一部のみが
    第3ファイバ部分に入り、鏡が第2領域に動かされた時
    、第4ポートに到達した光ビームの断面のほぼ全てが第
    2ファイバ部分に入ることを特徴とする請求項3記載の
    装置。
  5. (5)第1、第2、第3、第4ポート夫々に関して配置
    された夫々の箇所に設けられた第1、第2、第3、及び
    第4光レンズ夫々を有する基板の表面に、第5、第6、
    第7、第8の溝を更に有することを特徴とする請求項4
    記載の装置。
  6. (6)第1、第2、第3、第4ポート夫々に関して配置
    された夫々の箇所に設けられた第1、第2、第3、第4
    光レンズ夫々を有する基板の表面に、第5、第6、第7
    、第8の溝を更に有することを特徴とする請求項3記載
    の装置。
  7. (7)第1、第2、及び第3ポート夫々に関して配置さ
    れた夫々の箇所に設けられた第1、第2、第3光レンズ
    夫々を有する基板の表面に、第4、第5、第6の溝を更
    に有することを特徴とする請求項3記載の装置。
  8. (8)電磁放射は光放射であり、かつ、第1、第2、第
    3ポート夫々に関して配置された夫々の箇所に設けられ
    た第1、第2、第3光レンズ夫々を有する基板の表面に
    、第4、第5、第6の溝を更に有することを特徴とする
    請求項2記載の装置。
  9. (9)第1、第2、第3ポート夫々に関して配置された
    夫々の箇所に設けられた第1、第2、第3光レンズ夫々
    を有する基板の表面に、第4、第5、第6の溝を更に有
    することを特徴とする請求項1記載の装置。
  10. (10)鏡を駆動するための手段は、鏡前面に平行であ
    る第1方向に運動を行わせ、その第1方向は、光ビーム
    によって決められる面と直角であることを特徴とする請
    求項1記載の装置。
  11. (11)請求項1に記載の装置を有し、更に(a)光放
    射を利用するための利用手段と、(b)第2ポートに入
    る光ビームを集め、 それを利用手段へ伝搬するための光伝送手段と、を有す
    ることを特徴とする通信システム。
  12. (12)請求項2に記載のスイッチング装置を有し、更
    に、第2ファイバ部分から放射される光放射をそこを伝
    搬後に利用するための利用手段を有することを特徴とす
    る通信システム。
  13. (13)請求項4に記載のスイッチング装置を有し、更
    に、第2ファイバ部分から放射される光信号をそこを伝
    搬後に利用するための利用手段を有することを特徴とす
    る通信システム。
  14. (14)偏向要素が鏡であることを特徴とする請求項1
    1記載のシステム。
  15. (15)偏向要素が鏡であることを特徴とする請求項1
    2記載のシステム。
  16. (16)偏向要素が鏡であることを特徴とする請求項1
    3記載のシステム。
  17. (17)偏向要素が平行板屈折要素であることを特徴と
    する請求項11記載のシステム。
  18. (18)偏向要素が平行板屈折要素であることを特徴と
    する請求項12記載のシステム。
  19. (19)偏向要素が平行板屈折要素であることを特徴と
    する請求項13記載のシステム。
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