JPH0338866A - 半導体装置用製造装置 - Google Patents

半導体装置用製造装置

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JPH0338866A
JPH0338866A JP17487789A JP17487789A JPH0338866A JP H0338866 A JPH0338866 A JP H0338866A JP 17487789 A JP17487789 A JP 17487789A JP 17487789 A JP17487789 A JP 17487789A JP H0338866 A JPH0338866 A JP H0338866A
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Katsuji Kawaguchi
川口 克二
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置のリードを曲げ加工し、かつ半導体
装置をリードフレームから分断する半導体装置用製造装
置に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、面実装型半導体装置はリードフレームを使用して
製造され、樹脂封止後に各リードが所定形状に折曲げ加
工されている。従来のこの種の半導体装置を製造する際
に使用する製造装置を第9図ないし第19図によって説
明する。
第9図は従来の半導体装置用製造装置を示す平面図、第
10図は同じく正面図、第11図は従来の半導体装置用
製造装置に使用されるリードフレームを示す平面図、第
12図は同しく正面図、第13図は曲げ加工後のリード
フレームを示す平面図、第14図は同しく正面図、第1
5図は良品の半導体装置を従来の半導体装置用製造装置
によって搬送している状態を示す平面図、第16図は同
しく正面図、第17図は不良品の半導体装置を従来の半
導体装置用製造装置によって搬送している状態を示す平
面図、第18図は同じく正面図、第19図は半導体装置
が分断された後のリードフレームを示す平面図である。
これらの図において、1は面実装型半導体装置(Sma
ll 0utline Package IC)を製造
する際に使用する従来の半導体装置用製造装置を示し、
2ばこの半導体装置用製造装置に搬入されて加工される
リードフレームを示す。
半導体装置用製造装置1はリードフレーム2が複数枚収
納される収納マガジン3と、この収納マガジン3から供
給装置4によってリードフレーム2が移載される第1の
搬送レール5と、リードフレーム2の外部電極形成部を
曲げ加工する第1の加工金型装置6と、リードフレーム
2から各半導体装置を分断する第2の加工金型装置7と
、分断後の各半導体装置が搬出装置8によって移載され
る搬送ラック9とから構成されている。以下、この半導
体装置用製造装置1の各部材について詳細に説明する。
リードフレーム2は第11図および第12図に示すよう
に、所定形状に打ち抜き成形された板材上に半導体集積
回路を複数形成し、この半導体集積回路を樹脂封止する
ことによって形成されており、同一リードフレーム2上
にSmall 0utline Package IC
l0 (以下、単にsop rcという。)が複数並設
されている。また、このリードフレーム2上の各SOP
 ICl0は外装めっき、商標などのマーキング、外観
検査等が行われ、外観不良の5opICIIには封止樹
脂部の上面に金属シール12が貼着されている。なお、
2aはリードフレーム枠で、このリードフレーム枠2a
には後述する半導体装置用製造装置の送り爪に係止され
るピッチ穴2bが等間隔おいて複数穿設されている。2
cは外部電極形成部、2d、2eはSOP ICl0.
11を支持するための支持部で、これら外部電極形成部
2cおよび支持部2d 。
2eは前記リードフレーム枠2aと一体に形成されてい
る。3は前記リードフレーム2を水平状態で複数枚重ね
て収納する収納マガジンで、この収納マガジン3は最上
部のリードフレーム2が所定の高さに配置されるように
エレヘータ機構(図示せず)によって駆動される。供給
装置4は駆動装置(図示せず)によって前記収納マガジ
ン3と第1の搬送レール5との間を移動自在に設けられ
ており、真空引き装置(図示せず)に接続された吸着パ
ッド4aが複数装着されている。搬送レール5にはりド
フレーム2を支持すると共に水平移動させるための平滑
なレール面5aが形成され、送り方向下流側には呼び込
みローラ装置5bおよびストソバ5cが配設されている
。この呼び込みローラ装置5bは駆動装置(図示せず)
によって回動されるアーム5dと、このアーム5dの回
動端部に設けられたローラ5eとを有し、アーム5dが
レール面5a側に回動された際にローラ5eが第10図
中左回転されるように構成されている。また、ストソバ
5cは前記呼び込みローラ装置5bよりリードフレーム
2の送り方向下流側であって第1の搬送レール5の端部
に配設されており、駆動装置(図示せず)によってレー
ル面5aに対して出没自在に設けられている。6はリー
ドフレーム2の外部電極形成部2cを所定形状に曲げ加
工するための第1の加工金型装置で、平滑なレール面6
aを有し前記第1の搬送レール5に直列に接続された第
2の搬送レール6bと、この第2の搬送レール6bと対
応する位置に配置された加圧部6cと、この加圧部6c
にリードフレーム2を間欠搬送する第1の送り爪6dと
から構成されている。
この送り爪6dはリードフレーム2のピンチ穴2bに係
合する突起(図示せず)を有し、駆動装置(図示せず)
に接続されて第2の搬送レール6bのレール面6aに向
かって傾動自在かつ第2の搬送レール6bの長平方向に
沿って所定距離水平移動自在に設けられている。7はリ
ードフレーム2からSOP IC10、IIを分断する
ための第2の加工金型装置で、この第2の加工金型装置
7は平滑なレール面7aを有し前記第2の搬送レール6
bに直列に接続された第3の搬送レール7bと、この第
3の搬送レール7bと対応する位置に配置された加圧部
7cと、この加圧部7cにリードフレーム2を間欠搬送
する第2の送り爪7dと、前記加圧部7cでリードフレ
ーム2から分断されたSOP IC10b 、llbを
搬出するための搬出部7eと、リードフレーム2の残材
を排出する排出レール7rとから構成されている。前記
送り爪7dは前記送り爪6dと同等に構成されており、
リードフレーム2のピッチ穴2bに係合する突起(図示
せず)を有し、駆動装置(図示せず)に接続されて第3
の搬送レール7bのレール面7aに向かって傾動自在か
つ第3の搬送レール7bの長平方向に沿って所定距離水
平移動自在に設けられている。また、前記搬出部7eに
は分断後のSOP IC10b 、llbが搬出された
際に開閉されるシャンターフgが設けられている。8は
前記搬出部7eに搬出されたSOP IC10b11、
bを後述する搬送ラック9に移載するための搬出装置で
、この搬出装置8は吸着バンドを有し、駆動装置(図示
せず)によって前記搬出部7eのシャツターフ8部分と
搬送ラック9との間を移動自在に設けられている。また
、この搬出装置8は前記シャンターフgが開かれた際に
吸着パッド部分がシャソター7g上に移動されるように
、制御装置(図示せず)によってその動作が制御されて
いる。搬送ラック9はsop rclOb 、llbが
載置される支持台9aを有し、前記第2の加工金型装置
と略平行な位置に配置されている。また、この搬送ラッ
ク9は駆動装置(図示せず)によってリードフレーム2
の送り方向と略平行な方向へ移動自在に設けられている
。なお、第9図および第10図中13はリードフレーム
2の残材を回収するための回収ケースで、前記第2の加
工金型装置7における排出レール7fの後端部に配置さ
れている。
次に、」二連したように構成された従来の半導体装置用
製造装置の動作について説明する。先ず、収納マガジン
3にリードフレーム2を所定数収納させる。そして、こ
の状態で製造装置1を始動させると、リードフレーム2
が所定の高さまで上昇されると共に、供給装置4がリー
ドフレーム2の真上まで移動してその吸着バッド4aと
SOP ICl0 。
11とが当接する位置まで下降される。これによって真
空引き装置が作動してリードフレーム2は供給装置4に
よって支持されることになる。次に、供給装置4は第1
の搬送レール5の真上まで移動し、引き続きリードフレ
ーム2が第1の搬送レール5のレール面5aにほぼ当接
する位置まで下降される。そして、真空引き装置が停止
されてリードフレーム2は第1の搬送レール5上に載置
される。
次いで、呼び込みローラ装置5bが作動され、回転する
ローラ5eがリードフレーム2と接触することによりリ
ードフレーム2は第9図および第10図中右方向へ搬送
される。リードフレーム2の送り方開先端部がストッパ
5Cに当接すると、呼び込みローラ装置5bは停止され
、そのアーム5dが回動されてローラ5eがリードフレ
ーム2から離間される。
この呼び込みローラ装置5bが停止された後、ストッパ
5cはレール面5aよりも下側へ下降される。次に、第
1の加工金型装置6における第■の送り爪6dが第2の
搬送レール6b側へ傾動されてその突起がリードフレー
ム2のピッチ穴2bに係合され、弓き続いて同図中右方
向へ所定距離だけ水平移動され停止される。この第1の
送り爪6dの動作によって、リードフレーム2は所定距
離だけ搬送され、リードフレーム2に複数並設されたS
OP ICl0.11のうち送り方向前側SOP IG
が加圧部6cと対応する位置に位置決めされることにな
る。この状態で第1の加工金型装置6が作動されると、
リードフレーム2においては外部電極形成部2cと支持
部2dとが第13図および第14図に示すようにリード
フレーム枠2aから切り離され、この外部電極形成部2
Cが第14図に示すように所定の形状に折曲げられる。
このようにして外部電極形成部2cが曲げ加工されたS
OP IC10a 、llaが得られる。前記曲げ加工
が終了された後、前記第1の送り爪6dは傾動が解除さ
れ、第9図および第10図に示すように待機位置に復帰
される。そして、この第1の送り爪6dにおいては所定
時間経過後に傾動動作および水平移動動作が再び繰り返
される。このように第1の送り爪6dが間欠的に作動さ
れることによって、リードフレーム2は所定距離ずつ間
欠的に、第1の搬送レール5から第2の搬送レール6b
を経て第3の搬送レール7bへ搬送されることになる。
第1の加工金型装置6で外部電極形成部2Cが曲げ加工
されたリードフレーム2が第2の搬送レール6bから第
3の搬送レール7bに搬送されると、第2の加工金型装
置7における第2の送り爪7dが作動され、その突起が
リードフレーム2のピンチ穴2bに係合された状態で同
図中右方向へ所定距離だけ水平移動され′る。この第2
の送り爪7dの動作によってリードフレーム2は所定距
離ずつ搬送されることになる。
外部電極形成部2cが曲げ加工されたSOP IC10
a、11aが第2の加工金型装置7の所定位置に搬送さ
れ0 ると、第2の加工金型装置7が作動されてリードフレー
ム2の支持部2eが切断され、リードフレーム2がSO
P IC10b 、llbと第19図に示す残材とに分
断される。次いで、このようにして切り則されたSOP
 IC10b 、11bは加圧部7Cから搬出部7eへ
送られる。5oPIC10b 、11b7!l<搬出部
7eへ送られるとシャッター7gが開動作され、このシ
ャンク−7gの動作と同期して搬出装置8がシャソター
7g上まで移動し、引き続いて下降される。下降した搬
出装置8はその吸着パッドでSOP TClob 、l
lbを第15図ないし第18図に示すように吸着保持し
、所定の高さまで上昇する。そして、搬送ランク9上ま
で移動し、再び下降される。下降動作中にSOP IC
l0b 、Ilbを搬送ランク9上へ載置できる高さに
なると、吸着パッドでの吸着を停止させてSOP TC
lob 、llbを解放する。このようにしてSOP 
IC10b 、11bが載置された搬送ランク9は所定
方向へ所定距離移動される。そして、この搬送ランク9
によってSOP ICl0b 、llbは次工程へ搬送
され、金属シール12が貼着されたsop +ciib
は不良品であるとして次工程で除去される。なお、この
不良品の選別作業はずべて人手乙こよって行われていた
〔発明が解決しようとする課題〕
しかるに、上述したように構成された従来の半導体装置
用製造装置においては、製造された5opIC10b 
、llbの中から金属シール12が貼着された不良品を
選び出して除去しなければならない。この選別作業は人
手に頼らざるを得す、しかも作業が煩雑であるため、こ
の選別に要する時間が多くかかっていた。また、不良品
を表示する金属シール12はシール貼り付は時に貼着部
分に空気溜まりが生したりして接着不良を起こすことが
あり、その貼り付は状態によっては、搬出装置8によっ
て吸着された際に第18図に示すように側縁部が剥離さ
れたりし易<、搬送中に落下されることがあった。
搬送中にこのSOP IC11bが落下された場合には
装置を停止させなければならず、能率が低下されてしま
う。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る半導体装置用製造装置は、半導体装置にお
ける封止樹脂部の上面を平滑に加工することによって不
良表示マークを形成し、この不良表示マークを検出する
検出器を分断加工機よりリドフレームの送り方向上流側
に配設し、かつ前記分断加工機より下流側に、前記不良
表示マークを有する半導体装置を前記検出器の出力信号
によって不良表示マーク部分に吸着して排出する排出装
置を設けたものである。
〔作 用〕
不良半導体装置の選別、排出作業を半導体装置用製造装
置によって自動的に行なうことができ、しかも、排出装
置は半導体装置の封止樹脂部を直接に吸着するから、半
導体装置が落下するのを防止することができる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図ないし第8図によって
詳細に説明する。
第1図は本発明に係る半導体装置用製造装置を示す平面
図、第2図は同しく正面図、第3図は本発明の半導体装
置用製造装置に使用されるリード3 フレームを示す平面図、第4図は同しく正面図、第5図
は曲げ加工後のリードフレームを示す平面図、第6図は
同しく正面図、第7図は不良品の半導体装置を本発明の
半導体装置用製造装置によって搬送している状態を示す
平面図、第8図は同しく正面図である。これらの図にお
いて前記第9図ないし第19図で説明したものと同一も
しくは同等部材については同一符号を付し、ここにおい
て詳細な説明は省略する。これらの図において、21は
不良表示マークで、この不良表示マーク21は外観検査
等によって不良とされたsop rcの樹脂封止部の上
面を平滑に加工することによって形成されている。この
不良表示マーク21を形成するには、例えばレーザ加工
等によって行なうことができる。
22は前記不良表示マーク21が形成されたSOP I
CIIを検出するための検出装置で、この検出器N22
は、正常なSOP ICl0と、不良表示マーク21を
有するSOP ICIIとを検出すると共に、不良表示
マーク21を有するSOP ICIIを検出した際に所
定の信号を制御装置(図示せず)へ出力するように構成
されたセ4 ンサー等が使用されている。また、この検出装置22は
第1の加工金型装置6より搬送方向上流側であって、第
1の搬送レール5の上方に配置されている。すなわち、
リードフレーム2がこの検出装置22の下方を移動する
と、検出装置22が前記不良表示マーク21を検出し、
リードフレーム2中の各SOP ICl0.11毎の良
品、不良品のデータが作成されることになる。23は不
良SOP lG11bが搬送される排出容器で、この排
出容器23は第2の加工金型装置7と搬送ラック9との
間に配置されている。
24は前記排出容器23に不良SOP ICl1 bを
搬送するための第2の搬送装置で、この第2の搬送装置
24は真空引き装置(図示せず〉に接続された吸着パッ
ドを有し、駆動装置(図示せず)によって前記搬送ラッ
ク9と排出容器23との間を移動自在に設けられている
。また、この第2の搬送装置24は未動作時には排出容
器23上の所定位置に待機し、不良SOP IC11b
が搬送ラック9によってこの第2の搬送装置24の前方
に移動された際に前記検出装置22によって作成された
各SOP IC毎の良品、不良品のデータにしたがって
作動され、不良SOP rcllbを選択的に排出容器
23へ搬送するように構成されている。すなわち、不良
SOP rcllbが搬送ラック9によってこの第2の
搬送装置24の前方に移動されると、この第2の搬送装
置24は搬送ラック9上へ移動し、引き続き所定位置ま
で下降される。そして、真空引き装置が駆動され、この
第2の搬送装置24の吸着パッドに不良SOP IC1
1bが吸着される。この際、第2の搬送装置24は第7
図および第8図に示すように、不良SOP ICl1 
bの不良表示マーク21部分を吸着することになるが、
この不良表示マーク21はSOP IC11,bの封止
樹脂部をレーザ加工等によって平滑に加工しただけであ
るため、第2の搬送装置24はSOP IC11bの封
止樹脂部を直接に吸着することになる。しかる後、この
第2の搬送装置24は不良SOP IC11bを吸着し
た状態で排出容器23の上方へ復帰され、この状態で真
空引き装置が停止されて不良SOP ICl1 bが排
出容器23内に排出される。
このように構成された本発明に係る半導体装置用製造装
置は、検出装置22からの信号が、第1および第2の送
り爪6d 、7dによって第1.第2および第3の搬送
レール5 .6b 、7bならびに搬出部7eを搬送さ
れる不良表示マーク21を有するSOP ICIIと共
に転送され、第2の搬送装置24に入力されることにな
る。
次に、本発明に係る半導体装置用製造装置の動作につい
て説明する。不良表示マーク21が形成されたリードフ
レーム2を収納マガジン3に収納し、この半導体装置用
製造装置を始動すると、リードフレーム2は所定の高さ
まで上昇され、供給装置4によって第1の搬送レール5
に移載される。そして、このリードフレーム2は呼び込
みローラ装置5bによってストソバ5Cに当接されるま
で第1の搬送レール5上を搬送される。ストソバ5Cに
リードフレーム2が当接されることによって第1の送り
爪6dが作動され、リードフレーム2は第1の加工金型
装置6へと送られる。この際、リードフレーム2が第1
の送り爪6dによって間欠的に搬送されると、検出装置
22がSOP ICl0.11の表面の表示7 を検出し、各SOP ICl0.11毎の良品、不良品
のデータが作成される。なお、このデータはsop I
Cl0゜11と共に転送されることになる。前記検出装
置23によって表示の有無が検出されたリードフレーム
2は、第1の加工金型装置6で外部電極形成部2Cが曲
げ加工され、第2の加工金型装置7でSOP IC10
b 、11.bと残材とに分断される。リードフレーム
2の残材(前記第19図に示す。)は排出レール7fか
ら回収ケース13へ排出される。また、前記第2の加工
金型装置7でリードフレーム2から分離されたSOP 
IC10b 、Ilbは搬出部7eへ搬送される。この
sop rciob 、1ibが搬出部7eへ搬送され
るとシャソター7gが開動作される。そして、前記so
p rci。
b 、Ilbは従来と同様にして搬送ラック9へ搬出装
置8によって搬出される。このようにしてSOP IC
10b 、1.1bが移載された搬送ラック9は所定方
向へ所定距離移動される。そして、不良SOP ICI
Iが搬送ラック9によって第2の搬送装置24の前方に
移動されると、第2の搬送装置24は上述したデータに
従って作動され、搬送ラック9上へ移動してS08 PICllbを吸着する。次いで、この第2の搬送装置
24は排出容器23の上方へ復帰され、この状態で不良
SOP IC11bを排出容器23内に排出する。
なお、本実施例では不良SOP IC11bを搬送ラッ
ク9から第2の搬送装置24によって移載させた例を示
したが、本発明はこのような限定にとられれることなく
、例えば、搬出部7eのシャッタ7g部分から搬送ラッ
ク9へ搬送せずに、ここから直接移載させる構成として
もよい。また、本実施例では半導体装置としてSOP 
ICを使用した例を示したが、樹脂封止部を有しかつリ
ードフレームを使用して製造される半導体装置であれば
、どのような半導体装置でも適用することができるとい
うことはいうまでもない。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、半導体装置におけ
る封止樹脂部の上面を平滑に加工することによって不良
表示マークを形成し、この不良表示マークを検出する検
出器を分断加工機よりリードフレームの送り方向上流側
に配設し、かつ前記 9− 分断加工機より下流側に、前記不良表示マークを有する
半導体装置を前記検出器の出力信号によって不良表示マ
ーク部分に吸着して排出する排出装置を設けたため、不
良半導体装置の選別、排出作業を半導体装置用製造装置
によって自動的に行なうことができる。したがって、不
良品を除去する作業を省略することができるから、ラン
ニングコストを低く抑えることができる。また、排出装
置は半導体装置の封止樹脂部を直接に吸着するから、半
導体装置が落下するのを確実に防止することができ、高
能率な半導体装置用製造装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る半導体装置用製造装置を示す平面
図、第2図は同じく正面図、第3図は本発明の半導体装
置用製造装置に使用されるリードフレームを示す平面図
、第4図は同じく正面図、第5図は曲げ加工後のリード
フレームを示す平面図、第6図は同じく正面図、第7図
は不良品の半導体装置を本発明の半導体装置用製造装置
によつ0 て搬送している状態を示す平面図、第8図は同しく正面
図である。第9図は従来の半導体装置用製造装置を示す
平面図、第10図は同しく正面図、第11図は従来の半
導体装置用製造装置に使用されるリードフレームを示す
平面図、第12図は同しく正面図、第13図は曲げ加工
後のリードフレームを示す平面図、第14図は同しく正
面図、第15図は良品の半導体装置を従来の半導体装置
用製造装置によって搬送している状態を示す平面図、第
16図は同じく正面図、第17図は不良品の半導体装置
を従来の半導体装置用製造装置によって搬送している状
態を示す平面図、第18図は同しく正面図、第19図は
半導体装置が分断された後のリードフレームを示す平面
図である。 2・・・・リードフレーム、6・・・・第1の加工金型
装置、71.・・第2の加工金型装置、10.11・・
・・SOP IC121・・・・不良表示マーク、22
・・・・検出装置、23・・・・排出容器、24・・・
・第2の搬送装置。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 樹脂封止後の半導体装置をリードフレームから分断する
    分断加工機を備えた半導体装置用製造装置において、半
    導体装置における封止樹脂部の上面を平滑に加工するこ
    とによって不良表示マークを形成し、この不良表示マー
    クを検出する検出器を前記分断加工機よりリードフレー
    ムの送り方向上流側に配設し、かつ前記分断加工機より
    下流側に、前記不良表示マークを有する半導体装置を前
    記検出器の出力信号によって不良表示マーク部分に吸着
    して排出する排出装置を設けたことを特徴とする半導体
    装置用製造装置。
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