JPH03296755A - 画像形成方法 - Google Patents

画像形成方法

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JPH03296755A
JPH03296755A JP10008890A JP10008890A JPH03296755A JP H03296755 A JPH03296755 A JP H03296755A JP 10008890 A JP10008890 A JP 10008890A JP 10008890 A JP10008890 A JP 10008890A JP H03296755 A JPH03296755 A JP H03296755A
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JP
Japan
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acid
alkali
water
diazo resin
soluble
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JP10008890A
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English (en)
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Ikuo Kawachi
幾生 河内
Keitaro Aoshima
桂太郎 青島
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、平版印刷版、IC回路やフォトマスクの製造
に好適に使用される画像形成方法に関するものである。
〔従来の技術〕
感光性印刷版は、一般に、アルミニウム板等の支持体上
に感光性組成物を塗布し、陰画等を通して紫外線等の活
性光線を照射し、光が照射された部分を重合あるいは架
橋させ現像液に不溶化させ、光の非照射部分を現像液に
溶出させ、それぞれの部分を、水を反発して油性インキ
を受容する画像部、および水を受容して油性インキを反
発する非画像部とすることにより得られる。
この場合における感光性組成物はしては、p−ジアゾジ
フェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物などのジ
アゾ樹脂が広く用いられてきた。
このようなジアゾ樹脂において、従来ジアゾニウム塩骨
格を連結させる方法としては、芳香族ジアゾニウム化合
物と反応性カルボニル基含有有機縮合剤、特にホルムア
ルデヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド類又はア
セタール類とを酸性媒体中で縮合させる方法が使用され
ていた。
その最も代表的なものに4−ジアゾジフェニルアミンの
ホルムアルデヒド縮合物がある。該連結法によるジアゾ
樹脂の製造法は、例えば米国特許第2.679.498
号、同第3.050.502号、同第3.311.60
5号、及び同第3.277、074号の明細書に記載さ
れている。
前記反応性カルボニル基により連結したジアゾ樹脂にお
いて、ジアゾニウム塩の対アニオンが塩酸、臭化水素酸
、硫酸及びリン酸などの鉱酸、又は塩化亜鉛との複塩な
どの無機アニオンの場合、水溶性で湿気に対して不安定
となり、保存安定性が悪化する問題点がある。そこで、
保存安定性を改善するために水溶性のジアゾ樹脂をフェ
ノール性水酸基含有芳香族化合物、酸性芳香族化合物又
は酸性脂肪族化合物などの有機カップリング剤と反応さ
せて水不溶性の樹脂として使用する方法が特公昭47−
1167号公報、米国特許第3.300.309号の明
細書に記載されている。
しかしながら、この種のジアゾ樹脂はアルコール類、ケ
トン類、グリコールエーテル類などの有機塗布溶剤への
溶解性が十分ではない。そのた約、ジアゾ樹脂を水不溶
性でかつ有機溶剤可溶性にするためテトラフルオロホウ
酸、ヘキサフルオロリン酸などのハロゲン化ルイス酸、
及び過塩素酸、過ヨウ素酸などの過ハロゲン酸を対アニ
オンとしたジアゾ樹脂の使用について特開昭54−98
613号公報、同56−121031号公報に記載され
ている。
しかしながら、これらのジアゾ樹脂は、有機溶媒に対す
る溶解性が十分でない。
更に、アニオン系の界面活性剤、即ち長鎖のアルキル基
を有するスルホン酸を対アニオンとしたジアゾ樹脂の使
用について、特開昭58−209733号公報、同62
−175731号公報、同63−262643号公報に
記載されている。
しかしながら、これらのジアゾ樹脂は本質的にアルカリ
水に不溶性のため、アルカリ現像の際にジアゾ樹脂が十
分に除去されず、未露光部に残膜が生じる。その結果、
印刷汚れが発生するという問題点があった。
そこで、ジアゾ樹脂にアルカリ可溶性基を導入し、ジア
ゾ樹脂自体のアルカリ水への溶解性を高めようという試
みがなされた。
そのような例として、カルボキシル基を有する芳香族化
合物と芳香族ジアゾ化合物とを構成単位として含む共縮
合ジアゾ樹脂が特開平1−102457号公報、特開平
2−66号公報、特開平2−29650号公報に、スル
ホン酸基を有する芳香族化合物と芳香族ジアゾ化合物と
を構成単位として含む共縮合ジアゾ樹脂が特開平1−2
45246号公報に記載されている。
しかしながら、これらのジアゾ樹脂はアルカリ可溶性基
を有しているために、画像露光後、非画像部をアルカリ
現像する際に画像部にまで現像液が浸透し、膨潤する。
その結果、画像強度、耐刷性に乏しくなるという問題点
を有していた。
また、長鎖のフッ化アルキル基を有するアニオンを対ア
ニオンとしたジアゾ樹脂の使用について、特開昭50−
12029号公報、同51−141003号公報、英国
特許第1501128号の明細書に提案されている。
これらのジアゾ樹脂を支持体上に塗布し、それを露光し
た場合、露光部はジアゾ樹脂に含まれるフッ素により撥
油性を呈するためインキを反発する。すなわち、これら
のジアゾ樹脂は、ドライオグラフィック版、即ち、水な
し平版として用いられる。しかし、ジアゾ樹脂は本質的
に親水性であるため、露光部の撥インキ性は十分でなく
、印刷汚れを生じやすい。
〔発明が解決しようとする課題〕
従って、本発明の目的は、長期保存後に感光層を画像露
光し、アルカリ水によって現像する場合においても、印
刷汚れがなく、耐刷性に優れた画像を与える画像形成方
法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者は上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた結果
、新規な感光性組成物を使用することにより、上記目的
が達成されることを見い出し、本発明に到達した。
即ち、本発明は、高分子化合物および対アニオンがフッ
素原子を有する有機酸のアニオンであるアルカリ可溶性
ジアゾ樹脂を含有する感光層を画像露光後、少なくとも
1種のアルカリ剤及び水を必須成分として含有する現像
液により現像することを特徴とする画像形成方法を提供
するものである。
なお、本発明において、有機酸とは炭素原子を少なくと
も1つ有する酸を示す。
以下、本発明を詳述する。
すなわち、本発明は、特開昭50−12029号公報、
同51−141003号公報に記載されているようなフ
ッ素原子を有する有機酸のアニオンを対アニオンとして
有するアルカリ可溶性ジアゾ樹脂と高分子化合物を含有
する感光層を、画像露光後、水と少なくとも1種のアル
カリ剤を必須成分とする現像液で水性現像することによ
り画像を形成するものである。
本発明におけるアルカリ可溶性ジアゾ樹脂とは、アルカ
リ可溶性基を含有するジアゾ樹脂である。
アルカリ可溶性基としては、好ましくは、芳香族水酸基
、芳香族チオール基、カルボン酸基、スルホン酸基、リ
ンの酸素酸基がなどが挙げられるが、これに限られるも
のではない。また上記のアルカリ可溶性基は単独で用い
てもよく、2種以上混合して用いてもよい。
リンの酸素酸基としては下記−数式(I)〜(VT)で
表わされる基が挙げられる。
−P−OR’        (V) ― 3 −P−OR’        (VI)3 〔式中、R1は水素原子を示し、R2は水素原子、アル
キル基又はアリール基を示し、R3は水素原子、アルキ
ル基又はアリール基を示す。好ましくは、R2は水素原
子を示し、R3は水素原子又は炭素数12以下のアルキ
ル基を示す。〕上記一般式の中で特に好ましいリンの酸
素酸基は(1)及び(III)である。
ジアゾ樹脂にアルカリ可溶性基を導入する方法としては
、有機合成上可能なあらゆる方法を用いることができる
が、主な方法としては、例えば以下のような方法をあげ
ることができる。
(i)アルカリ可溶性基を含有する芳香族ジアゾニウム
化合物とアルデヒド又はケトンもしくはそれら活性カル
ボニル化合物の等価体との縮合反応。
(i)芳香族ジアゾニウム化合物とアルカリ可溶性基を
含有するアルデヒド又はケトンもしくはそれら活性カル
ボニル化合物の等価体との縮合反応。
(iii )芳香族ジアゾニウム化合物とアルカリ可溶
性基を含有する芳香族化合物とアルデヒド又はケトンも
しくはそれら活性カルボニル化合物の等価体との共縮合
反応。
本発明に使用されるジアゾ樹脂の対アニオン、すなわち
、フッ素原子を有する有機酸のアニオンの具体例として
は、例えば、トリフルオロ酢酸等のフルオロアルキルカ
ルボン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のフルオロ
アルキルスルホン酸、ペンタフルオロベンゼンスルホン
酸等のフルオロアリールスルホン酸、トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホン酸等のフルオロアルキルベンゼンス
ルホン酸、トリフルオロメチルナフタレンスルホン酸等
のフルオロアルキルナフタレンスルホン酸のアニオン、
及びビス(トリフルオロメチルスルホニル)メチド等の
ビス(フルオロアルキルスルホニル)メチドのなどが挙
げられる。好ましくは、炭素数4〜20のパーフルオロ
アルキルスルホン酸、パーフルオロアルキルベンゼンス
ルホン酸のアニオン、フルオロアルキル基が炭素数4〜
12であるビス(バーフルオロアルキルスルホニルメチ
ドなどが挙げられる。
また、これらのフッ素原子を有する有機酸のアニオンは
、相互に組合せ自由であり、2種以上混ぜて使用しても
よい。また、さらに生成するジアゾ樹脂のフッ素原子含
有量を調整するために上記以外のアニオンを混ぜること
もできる。このようなアニオンの具体例としては、例え
ば、ハロゲン化水素酸、例えば塩化水素酸、臭化水素酸
;硫酸、硝酸、リン酸(5価のリン)、特にオルトリン
酸、無機イソ−及びヘテロ多酸、例えばリンタングステ
ン酸、リンモリブデン酸、脂肪族又は芳香族ホスホン酸
あるいはその半エステル、アルソン酸、ホスフィン酸、
アミドスルホン酸、セレン酸、過塩素酸、更に脂肪族及
び芳香族スルホン酸、例えばメタンスルホン酸、ラウリ
ルスルホン酸、ジオクチルスルホコハク酸、ジシクロへ
キシルスルホコハク酸、カンファースルホン酸、トリオ
キシ−3−プロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−プ
ロパンスルホン酸、ノニルフェノキシ−4−ブタンスル
ホン酸、ジブチルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸
、ジアミノフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジノ
ニルフェノキシ−3−プロパンスルホン酸、ジブチルフ
ェノキシ−4−ブタンスルホン酸、ジノニルフェノキシ
−4−ブタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、p−クロロベン
ゼンスルホン酸、2.5−ジクロロベンゼンスルホン酸
、スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、p−アセチルベンゼンスルホン酸、5−ニトロ−
〇−トルエンスルホン酸、2−二トロベンゼンスルホン
酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼ
ンスルホン酸、2−クロロ−5−二トロベンゼンスルホ
ン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、ブトキシベンゼンス
ルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾ
イルベンゼンスルホン酸、イソプロピルナフタレンスル
ホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタ
レンスルホン酸、ブトキシナフタレンスルホン酸、ドデ
シルオキシナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレン
スルホン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、
トリブチルナフタレンスルホン酸、1−ナフトール−5
−スルホン酸、ナフタレン−1−スルホン酸、ナフタレ
ン−2−スルホン酸、1.8−ジニトロナフタレン−3
,6−ジスルホン酸、4.4−ジアジドスチルベン−3
,3′−ジスルホン酸、1.2−ナフトキノン−2−ジ
アジド−4−スルホン酸、1゜2−ナフトキノン−2−
ジアジド−5−スルホン酸、1.2−ナフトキノン−1
−ジアジド−4−スルホン酸、オクチルベンゼンスルホ
ン酸、ジオクチルベンゼンスルホン酸、ノニルベンゼン
スルホン酸、ジノニルベンゼンスルホン酸、デシルベン
ゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、ビス−ドデシルベンゼンスル
ホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、ウンデシロキ
シベンゼンスルホン酸、とスーウンデシロキシベンゼン
スルホン酸、ドブシロキシベンゼンスルホン酸、ビス−
ドブシロキシベンゼンスルホン酸、ドデシルトルエンス
ルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸、ベンタテ
シルベンゼンスルホン酸、ヘキサデシルベンゼンスルホ
ン酸、ヘプタデシルベンゼンスルホン酸、オクタデシル
ベンゼンスルホン酸、ノナデシルベンゼンスルホン酸、
エイコサデシルベンゼンスルホン酸、オクチルナフタレ
ンスルホン酸、ジオクチルナフタレンスルホン酸、ノニ
ルナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン
酸、デシルナフタレンスルホン酸、ビス−デシルナフタ
レンスルホン酸、ウンデシルナフタレンスルホン酸、ド
デシルナフタレンスルホン酸、トリデシルナフタレンス
ルホン酸等のアニオンもしくは、これらのアニオンの混
合物が含まれる。
さらに、本発明に使用されるジアゾ樹脂は、対アニオン
にフッ素原子を有する有機酸のアニオンを含まない従来
のジアゾ樹脂と組み合わせて使用することもできる。そ
の代表的なものとして、米国特許第2679498号、
同第3050502号、同第3311065号及び同第
3277074号の各明細書に記載されている4−ジア
ゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物があ
る。また、特開平1−102456号、同1−1024
57号、同1−245246号、同2−66号及び同2
−29650号に記載のアルカリ可溶性基を有するジア
ゾ樹脂や、リンの酸素酸基を有するジアゾ樹脂が挙げら
れる。フッ素原子を有するアニオンを有するジアゾ樹脂
の総和とフッ素原子を有しないアニオンを有するジアゾ
樹脂の総和との混合モル比は、1:0〜20好ましくは
1:0〜10である。
本発明に用いるジアゾ樹脂の分子量は、重量平均で約5
00〜100.000の範囲が適当であり、好ましくは
約1000〜10.000の範囲である。
次に、本発明に用いられるジアゾ樹脂の合成例を示す。
合成例1 (本発明のジアゾ樹脂1) 4−ジアゾジフェニルアミン(0,0600mof>・
フェノキシ酢酸(0,0400moβ)とホルムアルデ
ヒド(0,100mof)との縮合物の硫酸水素塩(常
法により合成、重量平均分子量:2340)32、.6
gを水400−に溶解し、これにパーフルオロオクタン
スルホン酸カリウム38.8 g(0,0720moA
)の水600mg溶液を激しく撹拌しながら添加した。
生成した黄色沈澱を濾取、乾燥し、4−ジアゾジフェニ
ルアミン・フェノキシ酢酸とホルムアルデヒドとの縮合
物のパーフルオロオクタンスルホン酸塩33.3 gを
得た(本発明のジアゾ樹脂1)。
得られたジアゾ樹脂を1−フェニル−3−メチル−5−
パラゾロンとカップリングさせた後にゲルパーミェーシ
ョンクロマトグラフィー(GPC)を用いて重量平均分
子量(ポリスチレン標準)を測定したところ2340で
あった。
合成例2 (本発明のジアゾ樹脂2〜5の合成)合成例
1と同様に以下のジアゾ樹脂を合成した。
4−ジアゾジフェニルアミン(0,0750mo1)ベ
ンジルホスホン酸(0,0250rnoj?)とホルム
アルデヒド(0,100mo’ll )との縮合物のパ
ーフルオロオクタンスルホン酸塩(本発明のジアゾ樹脂
2、重量平均分子量:2080>。
4−ジアゾ−3−メトキシ−ジフェニルアミン(0,0
700moj! )  ・7 エニルリン酸(0,03
00mo Il )とホルムアルデヒド(0,100m
o1)との縮合物のパーフルオロオクタン酸塩(本発明
のジアゾ樹脂3、重量平均分子量: 1960)。
4−ジアゾ−4′−スルホニルメチルフェニルアミン(
0,0400mojり  ・4−ジアゾジフェニルアミ
ン(0,0600moりとホルムアルデヒド(0,10
0mol)との縮合物のビス(パーフルオロオクチルス
ルホニル)メチド塩(本発明のジアゾ樹脂4、重量平均
分子量:1880)。
4−ジアゾジフェニルアミン(0,100mo1>とグ
リオキシル酸(0,0500moj2)  ・ホルムア
ルデヒド(0,0500mo!りとの縮合物のパーフル
オロオクタンスルホン酸塩(本発明のジアゾ樹脂5、重
量平均分子量:1890)。
本発明に使用されるアルカリ可溶性ジアゾ樹脂は、アル
カリ可溶性もしくは膨潤性の高分子化合物をバインダー
樹脂として使用して、これと組合わせて使用するのが望
ましい。
この高分子化合物としては、下記(1)〜αりに示す群
より選ばれた千ツマ−をその構造単位とする通常2〜2
0万の分子量をもつ共重合体が挙げられる。
(1)芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタク
リルアミド類、アクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル類およびヒドロキシスチレン類、例え1fN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド又はN−(4−
ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o+、m−、
p−ヒドロキシフェニルアクリレート又はメタクリレー
ト、o−、m+、p−ヒドロキシスチレン、(2)m−
アミノスルホニルフェニルメタクリレー)、N−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−’
(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N
−(p−)ルエンスルホニル)メタクリルアミド等の不
飽和スルホンアミド、 (3)  脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類
、およびメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒドロキ
シエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタク
リレート、 (4) アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸、 (5)アクリル酸メ・チル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸フェニル、アクリル酸 2−クロ
ロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミ
ノエチルアクリレート等の置換アクリレート、 (6)メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミ
ルメタクリレート、シクロへキシルメタクリレート、ベ
ンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、4−
ヒドロキシブチルメタクリレート、グリシジルメタクリ
レート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート等の
置換メタクリレート、 (7)  アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルア
ミド、N−エチルアクリルアミド、N−へキシルメタク
リルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−
ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリ
ルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エ
チル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド
若しくはメタクリルアミド類、 (8)  エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビ
ニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロ
ピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエ
ーテル類、 (9)  ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート
、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等0)Iニー= 
Jl/エステル類、 αQ スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン
、クロロメチルスチレン等のスチレン類、αD メチル
ビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、 叩 エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェン
、イソプレン等のオレフィン類、(3N−ビニルピロリ
ドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、
アクリロニトリル、メタクロロニトリル等、 (ロ)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、
N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタ
クリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリ
ルアミド等の不飽和イミド。
更に、上記モノマーと共重合し得るモノマーを共重合さ
せてもよい。また、上記モノマーの共重合によって得ら
れる共重合体を例えば、グリシジルメタクリレート、グ
リシジルアクリレート等によって修飾したものも含まれ
るがこれらに限られるものではない。
特に好適な高分子化合物としては、アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸又はマレイン酸を必須成分として含
む共重合体、例えば特開昭50118802号公報に記
載されているような2ヒドロキシエチルアクリレート又
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリロニト
リル又はメタクロロニトリル、アクリル酸又はメタクリ
ル酸及び必要に応じて他の共重合可能な千ツマ−との多
元共重合体、特開昭53−120903号公報に記載さ
れているような末端がヒドロキシ基であり、かつジカル
ボン酸エステル残基を含む基でエステル化されたアクリ
ル酸又はメタクリル酸、アクリル酸、又はメタクリル酸
及び必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元共
重合体、特開昭54−98614号公報に記載されてい
るような芳香族性水酸基を有する単量体(例えば、N−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミドなど)、
アクリル酸又はメタクリル酸及び必要に応じて他の共重
合可能なモノマーとの多元共重合体、特開昭56−41
44号公報に記載されているようなアルキルアクリレー
ト、アクリロニトリル又はメタクリレートリル及び不飽
和カルボン酸よりなる多元共重合体、E P −330
239(^2)に記載されているスルホンアミド基を有
する多元共重合体を挙げることが出来る。また、この他
酸性ポリビニルアルコール誘導体や酸性セルロース誘導
体も有用である。また、ポリビニルアセタールやポリウ
レタンをアルカリ可溶化した特公昭54−19773号
、特開昭57−94747号、同60−182437号
、同62−58242号、同62−123452号、同
62−123453号公報、特願平1−171734号
明細書に記載の高分子化合物も有用である。
このような高分子化合物を合成する際に用いられる溶媒
としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタ
ノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチ
ルアセテート、1−メトキシ−2−プロパツール、1−
メトキシ2−プロピルアセテ−)、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸
エチルなどが挙げられる。
これらの溶媒は単独で用いても、あるいは2種以上混合
して用いてもよい。
これらの高分子化合物は、単独で用いても混合して用い
てもよい。
また必要に応じて、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ノボラッ
ク樹脂、天然樹脂等を添加してもよい。
本発明に用いられる高分子化合物は感光性組成物の固形
分中に通常40〜99重量%、好ましくは50〜95重
量%含有させる。また、本発明に用いられる感光性ジア
ゾ樹脂は通常1〜60重量%、好ましくは3〜30重量
%含有させる。
次に、上記の高分子化合物の合成例を示す。
(高分子化合物1の合成) 撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた11三ツロフラス
コにp−アミノベンゼンスルホンアミド170、2 g
 (1,0mol)及びテトラヒドロフラン700−を
入れ、氷水浴下撹拌した。この混合物にメタクリル酸ク
ロリド52.3g (0,5moj2)を約1時間かけ
て滴下ロートにより滴下した。滴下終了後氷水浴をとり
去り、30分間室温下で撹拌し、さらに、オイルバスを
用いて60℃に加熱しながら1時間撹拌した。反応終了
後、この反応混合物を水31に撹拌下投入し、30分間
撹拌した後、濾過する事によりN−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
。この白色固体は、エタノール−アセトンの混合溶媒よ
り再結晶することにより精製する事ができる(収量39
.3g)。
次に、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド4.57 g (0,0192mof)、アク
リロニトリル2.55 g (0,0480mojり、
メタクリル酸1.66 g (0,0192mojり 
、エチルアクリレート11゜36g  (0,1136
rno1)、α、α′−アゾビスイソブチロニトリル0
.41g及びN、 N−ジメチルホルムアミド25gを
、撹拌機、冷却管を備えた100−三ツロフラスコに入
れ、64℃に暖めながら5時間撹拌した。この反応混合
物を水21に撹拌下投入し、30分間撹拌後濾過、乾燥
することにより、16gの高分子化合物1が得られた。
GPCにより、この高分子化合物1の重量平均分子量(
ポリスチレン標準)を測定したところ35.000であ
った。
(高分子化合物2の合成) N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド4.57 g  (0,0192moi) 、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート6、25 g (0,0
480mojり、メタクリル酸1.66 g (0,0
192mo1)、エチルアクリレート11.36 g 
(0,1136mojり、α、α′−アゾビスイソブチ
ロニトリル0.41g及びN、 N−ジメチルホルムア
ミド29gを、撹拌機、冷却管を備えた100−三ツロ
フラスコに入れ、64℃に暖めながら5時間撹拌した。
この反応混合物を水21に撹拌下投入し、30分間撹拌
後濾過、乾燥する事により、20gの親油性高分子化合
物2が得られた。GPCにより、この高分子化合物2の
重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定したところ
44.000であった。
(高分子化合物3の合成) N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド18
g1アクリロニトリル13g1ベンジルアクリレート6
6g、メタクリル酸8゜6gおよびアゾビスイソブチロ
ニトリル1.642gをアセトン−メタノール1:1混
合溶液112艷に溶解し、窒素置換した後60℃で8時
間加熱した。
反応終了後、反応液を水51に撹拌下注ぎ、生じた白色
沈殿を濾取乾燥して高分子化合物3を88g得た。
この高分子化合物3をGPCにより分子量の測定をした
ところ、重量平均分子量(ポリスチレン標準)は75.
000であった。
(高分子化合物4の合成) 2−ヒドロキシエチルメタクリレート50.0g。
アクリロニトリル20g1メチルメタクリレート25g
1メタクリル酸5gと1.2gの過酸化ベンゾイルの混
合液を、100℃に加熱したエチレングリコールモノメ
チルエーテル300gに2時間かけて滴下した。滴下終
了後エチレングリコールモノメチルエーテル300gと
過酸化ベンゾイル0.3gを加えてそのまま4時間反応
させた。反応終了後メタノールで希釈して水5Ilに撹
拌下注ぎ、生じた白色沈殿を濾取乾燥して高分子化合物
4を90g得た。
この高分子化合物4をGPCにより分子量の測定をした
ところ、重量平均分子量(ポリスチレン標準)は65.
000であった。
(高分子化合物5の合成) 撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた50〇−三ツロフ
ラスコに2.2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン
酸40 g (0,298mojり及び無水酢酸100
−を入れ、氷水浴下撹拌した。この混合物にピリジン1
00−を滴下ロートにより、約30分間かけて滴下した
。滴下終了後氷水浴をとり去り、オイルバスにて、混合
物を60℃に加熱しながら2時間撹拌した。反応終了後
塩酸を加え、混合物を酸性とし、分液ロートを用いて、
クロロホルムにより抽出した。クロロホルム層を水洗し
たのち、無水硫酸ナトリウムにより脱水した。
このクロロホルム溶液より溶媒を減圧留去する事により
、2.2−ビス(アセトキシメチル)プロピオン酸の白
色固体57gを得た。
次に、2.2−ビス(アセトキシメチル)プロピオン酸
30g  (0,137mo1) 、及び塩化チオニル
20−を撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた300−
三ツロフラスコに入れ、80℃に加熱しながら2時間撹
拌した。
反応終了後、減圧留去により未反応の塩化チオニル等を
十分除去した後、氷水浴につけ、この反応生成物を十分
に冷却した。この反応生成物にp−アミノベンゼンスル
ホンアミド46.6 g (0,274mo1)とテト
ラヒドロフラン150stl!の混合物を滴下ロートに
よ、約1時間かけて滴下した。滴下終了後、オイルバス
にて、60℃に加熱しながら2時間撹拌した。反応終了
後、この反応混合物を水2Ilに撹拌下投入し、30分
間撹拌した後、濾過する事により、p−(1,1−ビス
(アセトキシメチル)エチルカルボニルアミノ)ベンゼ
ンスルホンアミドの白色固体を得た。この白色固体はエ
タノールより再結晶する事により精製できる(収量26
g)。
次に、p−(1,1−ビス(アセトキシメチル)エチル
カルボニルアミノ)ベンゼンスルホンアミド22 g 
(0,06mo1) 、水酸化ナトリウム4゜8g (
0,12mojiり 、エタノール5〇−及び水5〇−
を、撹拌機、冷却管を備えた300−三ツロフラスコに
入れ、2時間、加熱還流した。この反応混合物を水11
に撹拌下投入し、30分間撹拌した後、濾過する事によ
りp−(1,1−ビス〈ヒドロキシメチル)エチルカル
ボニルアミノ)ベンゼンスルホンアミドの白色固体を得
た。この白色固体はエタノールより再結晶する事により
精製できる(収量11g)。
次にp−(1,1−ビス(ヒドロキシメチル)エチルカ
ルボニルアミノ)ベンゼンスルホンアミド3.44g 
(0,012mof) 、2. 2−ジヒドロキシメチ
ルプロピオン酸1.07. g (0,008rnoβ
)、4.4′−ジフェニルメタンジイソシアナート5、
26 g (0,021rnof)及びN、 N−ジメ
チルアセトアミド18gを撹拌機、冷却管を備えた10
0mf!三ツロフラスコに入れ、100℃に加熱しなが
ら4時間撹拌した。この反応混合物を冷却し、メタノ4
ル5−を加えしばらく撹拌した後、水500+ytl’
に撹拌子投入し、30分間撹拌した。
析出物を濾過、乾燥する事により白色固体の高分子化合
物5を9g得た。GPCにより、この高分子化合物5の
重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測定したところ
64.000であった。
合成例6 撹拌機、冷却管、滴下ロートを備えた11三ツロフラス
コに、0−アミノベンジルアルコール98.5g (0
,8rnof)及びアセトン500−を入れ、NaCl
−水浴下撹拌した。このフラスコ中にm−ベンゼンジス
ルホニルクロリド27.5 g (0,IIffIo!
りをアセトン200−に溶解したものを滴下ロートによ
り約1時間かけて滴下した。滴下終了後NaC1−水浴
をとり去り、室温下で2時間撹拌した。反応終了後、減
圧下で大部分のアセトンを留去し、水1βに撹拌子投入
し、さらに塩酸で酸性とした。析出物を濾過により集め
、水酸化ナトリウム水溶液に溶解した。不溶物を濾別し
た後、濾液を分液ロートに入れ、酢酸エチルで2回洗浄
した。水層に塩酸を加え酸性とし、析出物を濾過により
集めた。水でよく洗浄した後乾燥することに、、にり、
N、N’ −ビス(0−ヒドロキシメチルフェニル)ベ
ンゼン−m−ジスルホンアミドの固体を得たく収量30
.6g>。
次に、撹拌機、冷却管を備えた1 00Inl三ツロフ
ラスコに、N、N’ −ビス(0−ヒドロキシメチルフ
ェニル)ベンゼン−m−ジスルホンアミド6.28 g
 (0,014moj?) 、2. 2−ジヒドロキシ
メチルプロピオン酸0.80 g  (0,006mo
f)、4.4′−ジフェニルメタンジイソシアナート5
.26 g (0,021mol)及びN、 N−ジメ
チルアセトアミド18gを入れ、100℃に加熱しなが
ら3時間撹拌した。反応終了後メタノール10gを加え
しばらく撹拌した後、この混合物を水500m1に撹拌
子投入し30分間撹拌した。析出物を濾過、乾燥する事
により12gの白色固体を得た。GPCによりこの高分
子化合物60重量平均分子量(ポリスチレン標準)を測
定したところ、55、000であった。
本発明に使用される感光性組成物には更に種々の添加剤
を加えることができる。
例えば塗布性を改良するためのアルキルエーテル類(例
えばエチルセルロース、メチルセルロース)、界面活性
剤類(例えば特開昭62−170950号、同62−2
26143号、米国特許第3.787.351号に記載
されているようなフッ素系界面活性剤)、膜の柔軟性、
耐摩耗性を付与するための可塑剤(例えばトリクレジル
ホスフェート、ジメチルフタレート、ジブチルフタレー
ト、リン酸トリオクチル、リン酸トリブチル、クエン酸
トリブチル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコールなど)、現像液の画像部を可視画化するため
の着色物質としてアクリジン染料、シアニン染料、スチ
リル染料、トリフェニルメタン染料やフタロシアニンな
どの顔料やその他ジアゾ樹脂の一般的な安定化剤(リン
酸、亜リン酸、ビロリン酸、蓚酸、ホウ酸、p−トルエ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−ヒドロキシベ
ンゼンスルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5
−ベンゾイルベンゼンスルホン酸、リンゴ酸、酒石酸、
ジピコリン酸、ポリアクリル酸及びその共重合体、ポリ
ビニルホスホン酸及びその共重合体、ポリビニルスルホ
ン酸及びその共重合体、5−ニトロナフタレン−1=ホ
スホン酸、4−クロロフェノキシメチルホスホン酸、ナ
トリウムフェニル−メチル−ピラゾロンスルホネート、
2−ホスホノブタン−1,2,4−トリカルボン酸、1
−ホスホノエタン−1,2゜2−トリカルボン酸、1−
ヒドロキシエタン−1゜1−ジスルホン酸など)を添加
することが出来る。
これらの添加剤の添加量はその使用対象目的によって異
なるが、一般には感光層の全固形分に対して0.1〜3
0重量%である。
本発明に使用される感光性組成物は適当な有機溶媒に溶
解し、親油性表面を有する支持体上に乾燥塗布重量が0
.2〜10g/rn”となる様に塗布され、感光性平版
印刷版を得ることができる。塗布する際の感光性組成物
の濃度は1〜50重量%の範囲とすることが望ましい。
使用される塗布溶媒としてはメチルセロソルブ、エチル
セロソルブ、1−メトキシ−2−プロパツール、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコール千ツメチルエーテル
、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルセロ
ソルブアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メ
タノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキサイド、乳酸メチル、乳酸エチル
、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等を挙げることができる。これ
らの混合溶媒又はこれらの溶媒や混合溶媒に少量の水や
トルエン等のジアゾ樹脂や高分子化合物を溶解させない
溶媒を添加した混合溶媒も適当である。これらの溶媒に
溶解させた感光液を支持体に塗布し乾燥させる場合50
℃〜120℃で乾燥させることが望ましい。乾燥方法は
始め温度を低くして予備乾燥後高温で乾燥させてもよい
が、適当な溶媒と濃度を選ぶことによって直接高温で乾
燥させてもよい。
本発明に使用される感光性組成物を塗布する支持体とし
ては、紙、プラスチック、金属など種々のものが使用さ
れるが、感光性平版印刷版に使用する場合は、特に親水
化処理したアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板
の表面はワイヤブラシダレイニング、研磨粒子のスラリ
ーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブラシダレ
イニング、ボールダレイニング等の機械的方法や、HF
やA1C1! 、)Iciをエッチャントとする、ケミ
カルダレイニング、硝酸又は塩酸を電解液とする電解グ
レイニングやこれらの粗面化法を複合させて行った複合
グレイニングによって表面を砂目立てした後、必要に応
じて酸又はアルカリによりエツチング処理し、引続いて
硫酸、リン酸、蓚酸、ホウ酸、クロム酸、スルファミン
酸又はこれらの混酸中で直流又は交流電源にて陽極酸化
を行い、アルミニウム表面に強固な不動態皮膜を設けた
ものが好ましい。この様な不動態皮膜自体でアルミニウ
ム表面は親水化されてしまうが、更に必要に応じて米国
特許第 2.714.066号明細書や米国特許第3.
181.461号明細書に記載されている珪酸塩処理(
ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム)、米国特許第2.
946.638号明細書に記載されている弗化ジルコニ
ウム酸カリウム処理、米国特許第3、201.247号
明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国
特許第1.108.559号に記載されているアルキル
チタネート処理、独国特許第1、091.433号明細
書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第1
.134.093号明細書や英国特許jlG 1,23
0,447号明細書に記載されているポリビニルホスホ
ン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されてい
るホスホン酸処理、米国特許第3.307.951号明
細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−1
6893号や特開昭58−18291号の各公報に記載
されている親水性有機高分子化合物と2価の金属との塩
による処理、特開昭59−1[)1B51号公報に記載
されているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗り
によって親水化処理を行ったものは特に好ましい。
その他の親水化処理方法としては米国特許第3、658
.662号明細書に記載されているシリケート電着をも
挙げることが出来る。
また、砂目立て処理及び陽極酸化後、封孔処理を施した
ものも好ましい。かかる封孔処理は熱水及び無機塩又は
有機塩を含む熱水溶液への浸漬ならびに水蒸気浴などに
よって行われる。
支持体上に塗布された感光性組成物は線画像、網点画像
等を有する透明原画を通して露光し、次いで水性アルカ
リ現像液で現像することにより、原画に対してネガのレ
リーフ像を与える。
露光に好適な光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯
、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ストロボ、
紫外線、レーザー光線などが挙げられる。
本発明において感光層の現像処理に用いられる現像液は
、少なくとも1種のアルカリ剤と、水とを必須成分とし
て含有する。
現像液中に必須成分として含有されるアルカリ剤として
は、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二又は第三リン
酸のナトリウム又はアンモニウム塩、メタ珪酸ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリ剤、
モノ、ジ、又はトリメチルアミン、モノ、ジ又はトリエ
チルアミン、モノ又はジイソプロピルアミン、n−ブチ
ルアミン、モノ、ジ又はトリエタノールアミン、モノ、
ジ又はトリイソプロパツールアミン、エチレンイミン、
エチレンジイミン等の有機アミン化合物等が挙げられる
。これらのアルカリ剤は単独で用いてもよく、2種以上
混合して用いてもよい。
これらのアルカリ剤の現像液中における含有量は0.0
5〜10重量%で、好ましくは0.5〜5重量%である
。0.05重量%より少ないと現像が不良となり、10
重量%を超えると平版印刷版としての印刷性能に悪影響
を及ぼす。
本発明に用いられる現像液は、必要に応じて、特定の有
機溶媒を含有していてもよい。
このような有機溶媒としては、現像液中に含有せしめた
とき上述の感光性組成物層の非露出部(非画像部)を溶
解または膨潤することができ、しかも常温(20℃)に
おいて水に対する溶解度が10重量%以下の有機溶媒を
いう。このような有機溶媒としてはこのような特性を有
するものでありさえすればなんでもよく、次のものが挙
げられるがこれらに限定されるもので1tない。即ち、
例示するならば、例えば酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレングリコ
ールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レブリン酸ブ
チルのようなカルボン酸エステル;エチルブチルケトン
、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのような
ケトン類;エチレングリコールモノブチルエーテル、エ
チレングリコールベンジルエーテル、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチル
フェニルカルビノール、n−アミルアルコール、メチル
アミルアルコールのようなアルコール類:キシレンのよ
うなアルキル置換芳香族炭化水素;メチレンジクロライ
ド、エチレンジクロライド、モノクロルベンゼンのよう
なハロゲン化炭化水素などがある。これら有機溶媒は単
独で用いても二種以上を組み合わせて用いてもよい。こ
れら有機溶媒の中では、エチレングリコールモノフェニ
ルエーテルとベンジルアルコールが特に有効である。ま
た、これら有機溶媒の現像液中における含有量は、概ね
0〜20重量%であり、特に2〜10重量%のときより
好ましい結果を得る。
また、本発明に用いられる現像液は、必要に応じて水溶
性亜硫酸塩を含有していても良い。このような水溶性亜
硫酸塩としては、亜硫酸のアルカリ又はアルカリ土類金
属塩が好ましく、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリ
ウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウムなどがある
。これらの亜硫酸塩の現像液組成物における含有量は0
〜4重量%で、好ましくは0.1〜1重量%である。
また、上記水溶性亜硫酸塩の代わりにアルカリ可溶性ピ
ラゾロン化合物、アルカリ可溶性チオール化合物、又は
メチルレゾルシン等のようなヒドロキシ芳香族化合物を
含有させてもよい。勿論、これらの化合物と水溶性亜硫
酸塩を併用することもできる。
また、上述の有機溶媒の水への溶解を助けるために一定
の可溶化剤を含有させることもできる。
このような可溶化剤としては、本発明所定の効果を実現
するため、用いる有機溶媒より水易溶性で、低分子のア
ルコール、ケトン類を用いるのがよい。
また、アニオン活性剤、両性活性剤等も用いる事が出来
る。このようなアルコール、ケトン類としては、例えば
メタノール、エタノール、プロパツール、ブタノール、
アセトン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、メトキシブタノール、エトキシブタノール、4−
メトキシ−4−メチルブタノール、N−メチルビロリド
ンなどを用いることが好ましい。また、活性剤としては
例えばイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、
n−ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、N−メチ
ル−N−ペンタデシルアミノ酢酸ナトリウム、ラウリル
サルフェートナトリウム塩等が好ましい。これらアルコ
ール、ケトン等の可溶化剤の使用量は、一般に現像液全
体に対し約30重量%以下とすることが好ましい。
しかし、有機溶剤等を含有すると、作業時の毒性、臭気
等の衛生上の問題、火災、ガス爆発等の安全性の問題、
泡の発生等の作業性の問題、廃液による公害等の問題、
コストの問題等が発生するため、実質上有機溶媒を含ま
ないものが好ましい。
尚、「実質上有機溶媒を含まない」とは、前述の環境衛
生、安全性、作業性等の点からみて不都合を生じる程度
までは有機溶媒を含有しない、の意であり、本発明にお
いては該物質の組成物中に占給る割合が2重量%以下で
ある事を言い、好ましくは1重量%以下である。
〔発明の効果〕
本発明の画像形成方法は、長期保存後に感光層を画像露
光、水性現像する場合においても、印刷汚れがなく耐刷
性に優れた画像を与えることができる。
実施例工 厚さ0.24 mmのアルミニウム板をナイロンブラシ
と400メツシユのパミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。これを1
0%水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬し
てエツチングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗
浄後、特開昭53−67507号公報記載の電気化学的
粗面化法、即ち、VA=12.7VSVc=9.IVの
正弦波交番波形電流を用い、1%硝酸水溶液中で160
クロ一ン/dm2の陽極特電気量で電解粗面化処理を行
った。引き続き30%の硫酸水溶液中に浸漬し、55℃
で2分間デスマットした後、7%硫酸水溶液中で酸化ア
ルミニウムの被覆量が2.0g/m”になるように陽極
酸化処理を行った。その後70℃のケイ酸ナトリウムの
3%水溶液に1分間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上の
ようにして得られたアルミニウム板に次に示す感光液を
ホイラーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥した。乾
燥重量は2.0g/ゴであった。
また下記感光液に用いたジアゾ樹脂及び高分子化合物は
第1表に示す。
(感光液) 次に比較例として、上記感光液中に次のジアゾ樹脂を用
いた感光液を塗布し、乾燥した。乾燥重量は2゜Og/
ゴであった。
(比較例1〜3に用いたジアゾ樹脂) 比較例1 4−ジアゾジフェニルアミン(0,100モル)とホル
ムアルデヒド(0,100モル)との縮合物のドデシル
ベンゼンスルホン酸塩。
比較例2 4−ジアゾジフェニルアミン(0,060モJL/)フ
ェノキシ酢酸(0,040モル)とホルムアルデヒド(
0,100モル)との縮合物のドデシルベンゼンスルホ
ン酸塩。
比較例3 4−ジアゾジフェニルアミン(0,075モル)ベンジ
ルホスホン酸(0,025モル)とホルムアルデヒド(
0,100モル)との縮合物のドデシルベンゼンスルホ
ン酸塩。
〔印刷汚れ及び耐剛性の評価〕
このようにして得られた各感光性平版印刷版に、富士写
真フィルム■製PSライトで1mの距離から1分間画像
露光し、次に示す現像液に室温で1分間浸漬した後、脱
脂綿で表面を軽くこすり、未露光部を除去し、明るい青
色の画像の平版印刷版(I)〜(X)を得た。
(現像液) 各印刷版を用いてハイデルベルグ社製KOR印刷機で市
販のインキにて、上質紙に印刷した。
平版印刷版(I)〜(X)の印刷汚れ及び耐刷性を調べ
たところ、第1表に示すとおりであった。
一方、得られた各感光性平版印刷版(I)〜(X)を温
度45℃、湿度75%で1週間強制疲労させた後、同様
に画像露光・現像・印刷を行った。このように強制疲労
させた平版印刷版(I)〜(X)の印刷汚れ及び耐刷性
を調べたところ、第1表に示すとおりであった。
第1表かられかるように、本発明における平版印刷版(
1)〜(■)は強制疲労前において印刷時に印刷汚れが
なく、耐剛性に優れた画像を与えるが、比較例の(■)
〜(X)と比べて顕著な差異はみられない。しかし、本
発明における平版印刷版(I)〜(■)は、強制疲労後
に画像露光、水性現像した場合においても、印刷時に印
刷汚れが発生せず、耐刷性の低下しない画像を与えるも
のであり、比較例の(■)〜(X)と比べて顕著に優れ
ている。
すなわち、本発明の画像形成方法は印刷版を強制疲労さ
せた後に処理した場合においても印刷時に印刷汚れが発
生せず、耐刷性の低下しない画像を与える非常に優れた
ものである。
実施例2 実施例1で得られた各感光性平版印刷版に富士写真フィ
ルム■製PSライトで1mの距離から1分間画像露光し
、次に示す現像液に室温で1分間浸漬した後、脱脂綿で
表面を軽くこすり、未露光部を除去し、明るい青色の画
像の平版印刷版(I)〜(X)を得た。
(現像液) 実施例1と同様に各印刷版を用いてハイデルベルグ社製
KOR型印刷機で市販のインキにて、上質紙に印刷した
平版印刷版(r)〜(X)の印刷汚れ及び耐刷性を調べ
たところ、第2表に示すとおりであった。
一方、得られた各感光性平版印刷版(I)〜(X)を温
度45℃、相対湿度75%で1週間強制疲労させに後、
同様に画像露光・現像・印刷を行った。このように強制
疲労させた平版印刷版(1)〜(X)の印刷汚れ及び耐
剛性を調べたところ、第2表に示すとおりであった。
第2表かられかるように、本発明における平版印刷版(
I)〜(■)は、強制疲労前において印刷時に印刷汚れ
がなく、耐刷性に優れた画像を与えるが、比較例の(■
)〜(X)と比べて顕著な差異はみられない。しかし、
本発明における平版印刷版(I)〜(■)は、強制疲労
後に画像露光、水性現像した場合においても、印刷時に
印刷汚れが発生せず、耐剛性の低下しない画像を与える
ものであり、比較例の(■)〜(X)と比べて顕著に優
れている。
すなわち、本発明の画像形成方法は印刷版を強制疲労さ
せた後に処理した場合においても印刷時に印刷汚れが発
生せず、耐刷性の低下しない画像を与える非常に優れた
ものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 高分子化合物および対アニオンがフッ素原子を有する有
    機酸のアニオンであるアルカリ可溶性ジアゾ樹脂を含有
    する感光層を画像露光後、少なくとも1種のアルカリ剤
    及び水を必須成分として含有する現像液により現像する
    ことを特徴とする画像形成方法。
JP10008890A 1990-04-16 1990-04-16 画像形成方法 Pending JPH03296755A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5712022A (en) * 1992-09-14 1998-01-27 Yoshino Kogyosho Co., Ltd. Printed thermoplastic resin products and method for printing such products
JPH10226707A (ja) * 1996-10-03 1998-08-25 Alain Vallee ポリイオン性ポリマー化合物、その製造方法及び光開始剤としての使用

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5712022A (en) * 1992-09-14 1998-01-27 Yoshino Kogyosho Co., Ltd. Printed thermoplastic resin products and method for printing such products
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