JPH03283422A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
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- JPH03283422A JPH03283422A JP2081337A JP8133790A JPH03283422A JP H03283422 A JPH03283422 A JP H03283422A JP 2081337 A JP2081337 A JP 2081337A JP 8133790 A JP8133790 A JP 8133790A JP H03283422 A JPH03283422 A JP H03283422A
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- projection lens
- magnification
- adjustment mechanism
- projecting lens
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- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばＴ Ａ Ｂ （Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍ
ａｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎｇ）方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作に好適な投影露光装置
に関する。
ａｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎｇ）方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作に好適な投影露光装置
に関する。
物体の表面に微細加工を施す技術として、フォトリング
ラフィの技術が知られている。この技術は、半導体集積
回路のほか、最近ではＴＡＢ方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。
ラフィの技術が知られている。この技術は、半導体集積
回路のほか、最近ではＴＡＢ方式の電子部品の実装に使
用されるフィルム回路基板の製作にも応用されている。
フォトリングラフィには、フォトマスクのパターンの転
写のだ緬の露光工程があり、この露光工程ではフォトマ
スクを内蔵した投影露光装置が使用される。
写のだ緬の露光工程があり、この露光工程ではフォトマ
スクを内蔵した投影露光装置が使用される。
投影露光装置においては、実際の露光を開始する前にお
いて、投影される像のピント合わせや倍率合わせの作業
が行われる。このピント合わせや倍率合わせは、例えば
特開平１−１９１４９３号公報に記載されているような
方法によって行われ、露光面に投影されたパターンやア
ライメントマーク等の像をモニタ系でモニタしながら、
投影レンズ位置調節機構やフォトマスク位置調節機構を
光軸方向に移動させてピント合わせ等が行われる。
いて、投影される像のピント合わせや倍率合わせの作業
が行われる。このピント合わせや倍率合わせは、例えば
特開平１−１９１４９３号公報に記載されているような
方法によって行われ、露光面に投影されたパターンやア
ライメントマーク等の像をモニタ系でモニタしながら、
投影レンズ位置調節機構やフォトマスク位置調節機構を
光軸方向に移動させてピント合わせ等が行われる。
しかしながら、従来の装置では、ピント合わせをするた
めに投影レンズ位置調節機構やフォトマスク位置調節機
構を操作して投影レンズやフォトマスクの位置を光軸方
向に変位させると、これにより投影像の倍率も変化し、
予め倍率を正しく設定しておいてもピント合わせ後に倍
率が狂ってしまう。従って、再度倍率合わせの作業が必
要になる。倍率合わせのため、投影レンズ位置調節機構
やフォトマスク位置調節機構を操作すると、折角合わせ
ておいたピントがずれてしまうため、またピント合わせ
の作業が必要となる。
めに投影レンズ位置調節機構やフォトマスク位置調節機
構を操作して投影レンズやフォトマスクの位置を光軸方
向に変位させると、これにより投影像の倍率も変化し、
予め倍率を正しく設定しておいてもピント合わせ後に倍
率が狂ってしまう。従って、再度倍率合わせの作業が必
要になる。倍率合わせのため、投影レンズ位置調節機構
やフォトマスク位置調節機構を操作すると、折角合わせ
ておいたピントがずれてしまうため、またピント合わせ
の作業が必要となる。
このように、従来の装置では、ピント合わせと倍率合わ
せを交互に何回も繰り返さないと正しくピント合わせや
倍率合わせをすることができない。
せを交互に何回も繰り返さないと正しくピント合わせや
倍率合わせをすることができない。
従って、ピント合わせや倍率合わせにとても長い時間が
かかる課題があった。
かかる課題があった。
本発明の目的は、倍率を変化させずにピント合わせを行
うことができる投影露光装置を提供することにある。
うことができる投影露光装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、ピントを合わせたまま倍率を変化
させることができる投影露光装置を提供することにある
。
させることができる投影露光装置を提供することにある
。
上記目的を達成するため、本発明の投影露光装置は、光
源と、光源からの光が照射されるレチクルと、レチクル
の像を投影させる投影レンズとを具備した投影露光装置
において、レチクルを光軸方向に変位させて位置を調節
するレチクル位置調節機構と、投影レンズを光軸方向に
変位させて位置を調節する投影レンズ位置調節機構とを
有し、レチクルの変位量をΔＺｌ 、投影レンズの変位
量をΔＺ２とし、レチクルの投影像の倍率をＭとしたと
き、 ΔＺｌ ＝ （１＋ ） ΔＺ ＊
（ａ）の関係をほぼ満たすようにレチクルおよ
び投影レンズを移動する移動機構を具備したことを特徴
とする。
源と、光源からの光が照射されるレチクルと、レチクル
の像を投影させる投影レンズとを具備した投影露光装置
において、レチクルを光軸方向に変位させて位置を調節
するレチクル位置調節機構と、投影レンズを光軸方向に
変位させて位置を調節する投影レンズ位置調節機構とを
有し、レチクルの変位量をΔＺｌ 、投影レンズの変位
量をΔＺ２とし、レチクルの投影像の倍率をＭとしたと
き、 ΔＺｌ ＝ （１＋ ） ΔＺ ＊
（ａ）の関係をほぼ満たすようにレチクルおよ
び投影レンズを移動する移動機構を具備したことを特徴
とする。
本発明の他の投影露光装置は、移動機構がΔＺｌ ＝
（１−−） ΔＺ２ ””’ （ｂ）
２ の関係をほぼ満たすようにレチクルおよび投影レンズを
移動することを特徴とする。
（１−−） ΔＺ２ ””’ （ｂ）
２ の関係をほぼ満たすようにレチクルおよび投影レンズを
移動することを特徴とする。
移動機構により上記（ａ）式の関係をほぼ満たすように
レチクルおよび投影レンズを移動すると、投影像の倍率
を変化させずに一定にしたままでピントを合わせること
ができる。
レチクルおよび投影レンズを移動すると、投影像の倍率
を変化させずに一定にしたままでピントを合わせること
ができる。
また、移動機構により上記（ｂ）式の関係をほぼ満たす
ようにレチクルおよび投影レンズを移動すると、ピント
を合わせた状態で、投影像の倍率を変化させることがで
きる。
ようにレチクルおよび投影レンズを移動すると、ピント
を合わせた状態で、投影像の倍率を変化させることがで
きる。
以下、本発明の詳細な説明する。
第１１！Ｉは、本発明の実施例の投影露光装置の説明図
である。まず、請求項（１）の発明の実施例を説明する
。
である。まず、請求項（１）の発明の実施例を説明する
。
この実施例においては、第１図に示すように、光源１０
と、光源１０からの光が照射されるレチクル２０と、レ
チクル２０の像を投影させる投影レンズ３０とを具備し
た投影露光装置において、レチクル２０を光軸Ｐ方向に
変位させて位置を調節するレチクル位置調節機構４０と
、投影レンズ３０を光軸Ｐ方向に変位させて位置を調節
する投影レンズ位置調節機構５０と、上記（ａ）式の関
係をほぼ満たすようにレチクル２０および投影レンズ３
０を移動する移動機構６０とを設ける。
と、光源１０からの光が照射されるレチクル２０と、レ
チクル２０の像を投影させる投影レンズ３０とを具備し
た投影露光装置において、レチクル２０を光軸Ｐ方向に
変位させて位置を調節するレチクル位置調節機構４０と
、投影レンズ３０を光軸Ｐ方向に変位させて位置を調節
する投影レンズ位置調節機構５０と、上記（ａ）式の関
係をほぼ満たすようにレチクル２０および投影レンズ３
０を移動する移動機構６０とを設ける。
移動機構６０においては、ＣＰＵおよびＲＡＭを内蔵し
た制御部６１と、レチクル２０を光源１０に近づく方向
に移動させる正方向ボタン６２と、レチクル２０を逆方
向に移動させる負方向ボタン６３と、数値入力部６４と
、ライン人力６５とが設けられている。
た制御部６１と、レチクル２０を光源１０に近づく方向
に移動させる正方向ボタン６２と、レチクル２０を逆方
向に移動させる負方向ボタン６３と、数値入力部６４と
、ライン人力６５とが設けられている。
７１はベリクツペア２は顕微鏡であり、これらにより投
影像のモニタ系が構成されている。Ｆはフィルム、８１
は送りローラ、８２はスプロケットローラ、８３、８４
は押さえローラであり、フィルムＦはこれらにより−コ
マごとに順次投影位置にステップ送りされる。
影像のモニタ系が構成されている。Ｆはフィルム、８１
は送りローラ、８２はスプロケットローラ、８３、８４
は押さえローラであり、フィルムＦはこれらにより−コ
マごとに順次投影位置にステップ送りされる。
第２図は、実施例における（ａ）式およびら）式の説胡
図である。第２図に示すように、フィルムＦからレチク
ル２０までの距離を２１、フィルムＦから投影レンズ３
０の中心３０Ｃまでの距離を２２、レチクル２０から投
影レンズ３０の第１主平面３０Ａまでの距離をＡ、投影
レンズ３０の第２主平面３０ＢからフィルムＦまでの距
離をＢとするとき、ｚＩの変位ΔＺ１と、Ｚ２の変位Δ
Ｚ２と、Ａの変位ΔＡと、Ｂの変位ΔＢとの関係は次の
ようになる。ただし、光源に近づく方向への変位〈第２
図において上方への変位）を正とする。
図である。第２図に示すように、フィルムＦからレチク
ル２０までの距離を２１、フィルムＦから投影レンズ３
０の中心３０Ｃまでの距離を２２、レチクル２０から投
影レンズ３０の第１主平面３０Ａまでの距離をＡ、投影
レンズ３０の第２主平面３０ＢからフィルムＦまでの距
離をＢとするとき、ｚＩの変位ΔＺ１と、Ｚ２の変位Δ
Ｚ２と、Ａの変位ΔＡと、Ｂの変位ΔＢとの関係は次の
ようになる。ただし、光源に近づく方向への変位〈第２
図において上方への変位）を正とする。
ΔＡ＝ΔＺ、−ΔＺ２ （＋）ΔＢ＝
Δ２２ −−−−−−−−−−−−− （ｉｉ）ここ
で、投影像の倍率Ｍは、Ｂ／Ａであるから、Ｂ ＝ Ｍ
Ａ −−−（ｉｉｉ ）となる。
Δ２２ −−−−−−−−−−−−− （ｉｉ）ここ
で、投影像の倍率Ｍは、Ｂ／Ａであるから、Ｂ ＝ Ｍ
Ａ −−−（ｉｉｉ ）となる。
なお、像は倒立像であるがＭ＞０とする。
この（ｉｉｉ）式をＡで微分すると、
Ａ
となる。ここで、ΔＡおよびΔＢが微小量のときは、ｄ
Ａ＝ΔＡ、ｄＢ＝ΔＢとみなせるから、ΔＢ＝ＭΔＡ（
１ｖ） となる。この（ＩＶ）式に（ｉ）式、（１１）式を代入
すると、 ΔＢ−Ｍ （Δｚ１−Δｚ２ ）−△ｚ２となり、これ
を整理すると、 ΔＺｌ ＝ Ｎ＋−）ΔＺ２ となり、これは（ａ）式と同一である。
Ａ＝ΔＡ、ｄＢ＝ΔＢとみなせるから、ΔＢ＝ＭΔＡ（
１ｖ） となる。この（ＩＶ）式に（ｉ）式、（１１）式を代入
すると、 ΔＢ−Ｍ （Δｚ１−Δｚ２ ）−△ｚ２となり、これ
を整理すると、 ΔＺｌ ＝ Ｎ＋−）ΔＺ２ となり、これは（ａ）式と同一である。
以上のことから、逆に、（ａ）式の関係をほぼ満たすよ
うにΔｚ１およびΔＺ２を移動させれば、倍率Ｍを一定
としながらピントを合わせることができることになる。
うにΔｚ１およびΔＺ２を移動させれば、倍率Ｍを一定
としながらピントを合わせることができることになる。
従って、請求項（１）の実施例の投影露光装置では、移
動機構６０を構成する制御部６１中のＲＡＭ等のメモリ
のシステムエリアには、上記（ａ）式の演算を行うプロ
グラムが格納されている。
動機構６０を構成する制御部６１中のＲＡＭ等のメモリ
のシステムエリアには、上記（ａ）式の演算を行うプロ
グラムが格納されている。
この実施例の投影露光装置では、次のようにしてピント
合わせを行うことができる。
合わせを行うことができる。
■ レチクル２０から投影レンズ３０の第１主平面３０
Ａまでの距離Ａと、第２主平面３０ＢからフィルムＦま
での距離Ｂの値を、予め数値入力部６４により制御部６
１のＲＡＭに記憶させ、倍率Ｍ （Ｂ／Ａ）の値を演算
させて記憶させる。
Ａまでの距離Ａと、第２主平面３０ＢからフィルムＦま
での距離Ｂの値を、予め数値入力部６４により制御部６
１のＲＡＭに記憶させ、倍率Ｍ （Ｂ／Ａ）の値を演算
させて記憶させる。
■ 次いで例えば正方向ボタン６２を押すと、押した時
間に応じて投影レンズ３０が光源１０に近づく正方向に
所定距離（ΔＺ２）移動させる信号が制御部６１に送ら
れる。
間に応じて投影レンズ３０が光源１０に近づく正方向に
所定距離（ΔＺ２）移動させる信号が制御部６１に送ら
れる。
■ 制御部６１のＣＰＵでは、予め記憶されていた倍率
Ｍと、正方向ボタン６２によって人力されたΔＺ２とか
ら、上記（ａ）式に基づいて演算されて、Δｚ１の値が
決定される。
Ｍと、正方向ボタン６２によって人力されたΔＺ２とか
ら、上記（ａ）式に基づいて演算されて、Δｚ１の値が
決定される。
■ 以上の△ｚ１、△ｚ２に対応する信号が、レチクル
位置調節機構４０および投影レンズ位置調節機構５０に
送られ、これらによりレチクル２０および投影レンズ３
０が光軸Ｐ方向に移動される。この移動の際には、上記
（ａ）式により、倍率Ｍは一定値に維持される。
位置調節機構４０および投影レンズ位置調節機構５０に
送られ、これらによりレチクル２０および投影レンズ３
０が光軸Ｐ方向に移動される。この移動の際には、上記
（ａ）式により、倍率Ｍは一定値に維持される。
■ また、負方向ボタン６３を押すと、正方向ボタン６
２を押した場合とは逆方向に、すなわち、投影レンズ３
０を光源１０から遠ざかる負方向に所定距離（△Ｚ２’
）移動させる信号が制御部６１に送られ、上記と同様に
してレチクル２０および投影レンズ３０が光軸Ｐ方向に
移動される。
２を押した場合とは逆方向に、すなわち、投影レンズ３
０を光源１０から遠ざかる負方向に所定距離（△Ｚ２’
）移動させる信号が制御部６１に送られ、上記と同様に
してレチクル２０および投影レンズ３０が光軸Ｐ方向に
移動される。
■ このようにしてレチクル２０および投影レンズ３０
が移動すると、 Ｂ の値が変化するので、オペレータは顕微鏡７２によりレ
チクル２００投影像を観察しながら、投影像が最も鮮明
になったときに、正方向ボタン６２または負方向ボタン
６３による移動操作を終了すれば、上記（Ｃ）式の値が
１／ｆに一致し、ピントが合うこととなる。
が移動すると、 Ｂ の値が変化するので、オペレータは顕微鏡７２によりレ
チクル２００投影像を観察しながら、投影像が最も鮮明
になったときに、正方向ボタン６２または負方向ボタン
６３による移動操作を終了すれば、上記（Ｃ）式の値が
１／ｆに一致し、ピントが合うこととなる。
また、投影レンズ３０をどのくらい動かせばピントが合
うか予め推定できるときは、数値入力部６４からΔＺ２
の値を入力して粗調整をした後、正方向ボタン６２また
は負方向ボタン６３による微調整でピント合わせを短時
間に行うことができる。
うか予め推定できるときは、数値入力部６４からΔＺ２
の値を入力して粗調整をした後、正方向ボタン６２また
は負方向ボタン６３による微調整でピント合わせを短時
間に行うことができる。
なお、ライン人力６５は、例えばオートフォーカスを行
う際に使用するものであり、例えばＣＣＤでモニタした
像面の情報を画像処理したプロセスユニットからの信号
が入力される。
う際に使用するものであり、例えばＣＣＤでモニタした
像面の情報を画像処理したプロセスユニットからの信号
が入力される。
次に請求項（２）の発明の実施例について説胡する。
この実施例では、第１図と同様の投影露光装置において
、移動機構６０を、上記（ｂ）式の関係をほぼ満たすよ
うにレチクル２０および投影レンズ３０を移動するよう
に構成したものである。具体的には、第１図の制御部６
１中のメモリのシステムエリアには、上記ら）式の演算
を行うプログラムが予め格納されており、この点を除い
て請求項（１）の実施例とほぼ同様である。
、移動機構６０を、上記（ｂ）式の関係をほぼ満たすよ
うにレチクル２０および投影レンズ３０を移動するよう
に構成したものである。具体的には、第１図の制御部６
１中のメモリのシステムエリアには、上記ら）式の演算
を行うプログラムが予め格納されており、この点を除い
て請求項（１）の実施例とほぼ同様である。
すなわち、第２図においてピントが合っている状態では
、 Ｂｆ が成立する。ただし、ｆは投影レンズ２０の焦点距離で
ある。
、 Ｂｆ が成立する。ただし、ｆは投影レンズ２０の焦点距離で
ある。
この（Ｖ）式をＢで微分すると、ピントが合っている状
態では１／ｆが一定であるから、右辺は０となる。
態では１／ｆが一定であるから、右辺は０となる。
左辺の第１項については、
となる。
また、左辺の第２項については、
となる。
これらより、
（ｖ）
式の微分は、
となり、これを整理すると、
２
ｄＢ＝−ｄＡ
２
となる。
ここで、Ｂ／Ａ＝Ｍ （Ｍ＞Ｏ）であるから、ｄＢ＝−
Ｍ” ｄＡ となる。そして、ΔＡおよびΔＢが微小量のときは、ｄ
Ａ＝ΔＡＳｄＢ＝ΔＢとみなせるから、（ｉ＞式、 （
■）式より、 Δ２２ ＝ Ｍ２ （ΔＺ＋ −Δ２２）となり、こ
れを整理すると、 ΔＺ、＝ （１−−）Δｚ２ ２ となり、これは（ｂ）式と同一である。
Ｍ” ｄＡ となる。そして、ΔＡおよびΔＢが微小量のときは、ｄ
Ａ＝ΔＡＳｄＢ＝ΔＢとみなせるから、（ｉ＞式、 （
■）式より、 Δ２２ ＝ Ｍ２ （ΔＺ＋ −Δ２２）となり、こ
れを整理すると、 ΔＺ、＝ （１−−）Δｚ２ ２ となり、これは（ｂ）式と同一である。
以上のことから、逆に、（′ｂ）式の関係をほぼ満たす
ようにΔＺ１およびΔｚ２を移動させれば、ピントを合
わせた状態で、倍率を変化させることができることにな
る。
ようにΔＺ１およびΔｚ２を移動させれば、ピントを合
わせた状態で、倍率を変化させることができることにな
る。
この実施例の装置においては、次のようにして倍率合わ
せを行うことができる。
せを行うことができる。
■ 前記実施例の■と同様にして、距離Ａと、距離Ｂの
値をＲＡＭに記憶させ、倍率Ｍ （Ｂ／Ａ）の値を演算
させて記憶させる。
値をＲＡＭに記憶させ、倍率Ｍ （Ｂ／Ａ）の値を演算
させて記憶させる。
■ 前記実施例の■と同様にして、例えば正方向ボタン
６２を押すと、投影レンズ３０を光［１０に近づく正方
向に所定距離（ΔＺ２）移動させる信号が制御部６１に
送られる。
６２を押すと、投影レンズ３０を光［１０に近づく正方
向に所定距離（ΔＺ２）移動させる信号が制御部６１に
送られる。
■ ＣＰＵでは、予め記憶されていた倍１と、正方向ボ
タン６２によって入力されたΔＺ２とから、上記ら〕式
に基づいて演算されて、△ｚ１の値が決定される。
タン６２によって入力されたΔＺ２とから、上記ら〕式
に基づいて演算されて、△ｚ１の値が決定される。
■ 以上のΔＺｌ 、ΔＺ２に対応する信号が、レチク
ル位置調節機構４０および投影レンズ位置調節機構５０
に送られ、これらによりレチクル２０および投影レンズ
３０が光軸Ｐ方向に移動される。この移動の際には、上
記ら）式により、ピントは合った状態に維持される。
ル位置調節機構４０および投影レンズ位置調節機構５０
に送られ、これらによりレチクル２０および投影レンズ
３０が光軸Ｐ方向に移動される。この移動の際には、上
記ら）式により、ピントは合った状態に維持される。
■ また、負方向ボタン６３を押すと、投影レンズ３０
を負方向に所定距離（ΔＺ２）移動させる信号が制御部
６１に送られ、上記と同様にしてレチクル２０および投
影レンズ３０が光軸Ｐ方向に移動される。
を負方向に所定距離（ΔＺ２）移動させる信号が制御部
６１に送られ、上記と同様にしてレチクル２０および投
影レンズ３０が光軸Ｐ方向に移動される。
■ このようにしてレチクル２０および投影レンズ３０
が移動すると、ピントが合った状態のままで距離Ａおよ
び距離Ｂの値が変化するので、ピントがずれることなく
倍率Ｍ （Ｂ／Ａ）を変化させることができる。
が移動すると、ピントが合った状態のままで距離Ａおよ
び距離Ｂの値が変化するので、ピントがずれることなく
倍率Ｍ （Ｂ／Ａ）を変化させることができる。
なお、ライン人力６５は、例えばオートスケールに使用
するものである。
するものである。
次に、本発明のその他の実施例について説明する。
（１）制御部６１に人力する信号をΔＺ、とし、ＣＰＵ
で演算する方をΔＺ２としてもよい。
で演算する方をΔＺ２としてもよい。
（２）コンビエータ制御しなくても、ギヤ等の機構的な
制御による移動機構でもよい。
制御による移動機構でもよい。
例えば最初の実施例で、投影像の倍率を１倍とすると、
レチクルが１移動（ΔＺ、＝１）したとき、投影レンズ
が１／２移動（ΔＺ２＝１／２）するようにギヤ比を設
定すれば上記（ａ）式の関係が満足され、倍率は一定の
状態でピント合わせを行うことができる。
レチクルが１移動（ΔＺ、＝１）したとき、投影レンズ
が１／２移動（ΔＺ２＝１／２）するようにギヤ比を設
定すれば上記（ａ）式の関係が満足され、倍率は一定の
状態でピント合わせを行うことができる。
なお、この場合には、倍率を自由に変更できないデメリ
ットはあるが、倍率を変更する必要性が少ない投影露光
装置においては、構成が簡単でコスト的にも有利である
。
ットはあるが、倍率を変更する必要性が少ない投影露光
装置においては、構成が簡単でコスト的にも有利である
。
（３）実際には、第１図の制御部６１中のメモリのシス
テムエリアには、上記（ａ）式とら）式との両方の演算
を行うプログラムを予め格納することが多い。
テムエリアには、上記（ａ）式とら）式との両方の演算
を行うプログラムを予め格納することが多い。
この場合は、ピント合わせを行うか倍率合わせを行うか
によって、どちらのプログラムを実行するかを選択する
ことになる。
によって、どちらのプログラムを実行するかを選択する
ことになる。
本発明の投影露光装置によれば、（ａ）式の関係をほぼ
満たすようにレチクルおよび投影レンズを移動する移動
機構を設けたので、倍率を一定に維持した状態でピント
合わせを行うことができる。
満たすようにレチクルおよび投影レンズを移動する移動
機構を設けたので、倍率を一定に維持した状態でピント
合わせを行うことができる。
本発明の他の投影露光装置によれば、ら）式の関係をほ
ぼ満たすようにレチクルおよび投影レンズを移動する移
動機構を設けたので、ピントを合わせた状態で倍率を変
更することができる。
ぼ満たすようにレチクルおよび投影レンズを移動する移
動機構を設けたので、ピントを合わせた状態で倍率を変
更することができる。
第１図は実施例の投影露光装置の説明図、第２図は実施
例における（ａ）式および（ｂ）式の説明図である。 １０・・・光源 ２０・・・レチクル３０
・・・投影レンズ ３０Ａ・・・第１主平面３０
Ｂ・・・第２主平面 ４０・・・レチクル位置調節機構 ５０・・・投影レンズ位置調節機構 ６０・・・移動機構 ６１・・・制御部６２・
・・正方向ボタン ６３・・・負方向ボタン６４・
・・数値人力部 ７１・・・ペリクル ８１・・・送りローラ ８３、８４・・・押さえローラ ６５・・・ライン人力 フ２・・・顕微鏡 ８２・・・スプロケットローラ Ｆ・・・フィルム
例における（ａ）式および（ｂ）式の説明図である。 １０・・・光源 ２０・・・レチクル３０
・・・投影レンズ ３０Ａ・・・第１主平面３０
Ｂ・・・第２主平面 ４０・・・レチクル位置調節機構 ５０・・・投影レンズ位置調節機構 ６０・・・移動機構 ６１・・・制御部６２・
・・正方向ボタン ６３・・・負方向ボタン６４・
・・数値人力部 ７１・・・ペリクル ８１・・・送りローラ ８３、８４・・・押さえローラ ６５・・・ライン人力 フ２・・・顕微鏡 ８２・・・スプロケットローラ Ｆ・・・フィルム
Claims (2)
- （１）光源と、光源からの光が照射されるレチクルと、
レチクルの像を投影させる投影レンズとを具備した投影
露光装置において、 レチクルを光軸方向に変位させて位置を調節するレチク
ル位置調節機構と、 投影レンズを光軸方向に変位させて位置を調節する投影
レンズ位置調節機構とを有し、 レチクルの変位量をΔＺ＿１、投影レンズの変位量をΔ
Ｚ＿２とし、レチクルの投影像の倍率をＭとしたとき、 ΔＺ＿１＝（１＋１／Ｍ）ΔＺ＿２・・・（ａ）の関係
をほぼ満たすようにレチクルおよび投影レンズを移動す
る移動機構を具備したことを特徴とする投影露光装置。 - （２）光源と、光源からの光が照射されるレチクルと、
レチクルの像を投影させる投影レンズとを具備した投影
露光装置において、 レチクルを光軸方向に変位させて位置を調節するレチク
ル位置調節機構と、 投影レンズを光軸方向に変位させて位置を調節する投影
レンズ位置調節機構とを有し、 レチクルの変位量をΔＺ＿１、投影レンズの変位量をΔ
Ｚ＿２とし、レチクルの投影像の倍率をＭとしたとき、 ΔＺ＿１＝（１−１／Ｍ＾２）ΔＺ＿２・・・（ｂ）の
関係をほぼ満たすようにレチクルおよび投影レンズを移
動する移動機構を具備したことを特徴とする投影露光装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2081337A JP2767774B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2081337A JP2767774B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03283422A true JPH03283422A (ja) | 1991-12-13 |
| JP2767774B2 JP2767774B2 (ja) | 1998-06-18 |
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ID=13743558
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2081337A Expired - Fee Related JP2767774B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2767774B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009037026A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Ushio Inc | 帯状ワークの露光装置及び帯状ワークの露光装置におけるフォーカス調整方法 |
| CN111837175A (zh) * | 2018-03-19 | 2020-10-27 | 索尼公司 | 图像显示***、信息处理装置、信息处理方法、程序和移动体 |
-
1990
- 1990-03-30 JP JP2081337A patent/JP2767774B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009037026A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Ushio Inc | 帯状ワークの露光装置及び帯状ワークの露光装置におけるフォーカス調整方法 |
| CN111837175A (zh) * | 2018-03-19 | 2020-10-27 | 索尼公司 | 图像显示***、信息处理装置、信息处理方法、程序和移动体 |
| CN111837175B (zh) * | 2018-03-19 | 2023-11-14 | 索尼公司 | 图像显示***、信息处理装置、信息处理方法、程序和移动体 |
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|---|---|
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