JPH0314296B2

JPH0314296B2 -

Info

Publication number: JPH0314296B2
Application number: JP58248760A
Authority: JP
Inventors: Kinji Hashimoto; Kyoto Goto; Yoshiaki Tsuda
Original assignee: Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1983-12-27
Filing date: 1983-12-27
Publication date: 1991-02-26
Also published as: JPS60139646A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明はナフタレン誘導体に関する。本発明のナフタレン誘導体は、文献未載の新規
化合物であつて、下記一般式(1)で表わされる。（式中R¹は低級アルコキシ基を示し、R₂はカル
ボキシル基、ニトロ基又は基

【式】を示す。R₃及びR₄は、同一又は異なつて水素原子、
低級アルキル基、シクロアルキル基、シクロアル
キルアミノカルボニル基、置換基として低級アル
コキシカルボニル基もしくはカルボキシル基を有
することのあるフエニル基、置換基として低級ア
ルコキシ基を有することのあるフエニル低級アル
キル基又は置換基としてカルボキシル基、フエニ
ル低級アルコキシカルボニル基もしくはカルボキ
シピロリジニルカルボニル基を有する低級アルキ
ル基を示す。またR₃及びR₄は、隣接する窒素原
子と共に酸素原子もしくは窒素原子を介し又は介
することなく互いに結合して５員又は６員の飽和
複素環基を形成してもよく、該複素環基は更にフ
エニル基、フエニル低級アルキル基、ベンゾイル
基、フロイル基、カルボキシル基又は基

【式】（Ａは低級アルキレン基を、R₅は水素原子、カルボキシル基又は低級
アルコキシカルボニル基をそれぞれ示す。）を置
換基として有していてもよい。は一重結合又は
二重結合を示す。〕上記一般式(1)中、R₁で定義される低級アルコ
キシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、イソプロポキシ、sec−ブトキシ、
tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキ
シ基等を例示できる。またR₃及びR₄で定義される低級アルキル基と
しては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、
tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等を例示で
きる。シクロアルキル基としては、例えばシクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基
等を例示できる。シクロアルキルアミノカルボニ
ル基としては、例えばシクロプロピルアミノカル
ボニル、シクロブチルアミノカルボニル、シクロ
ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミ
ノカルボニル、シクロヘプチルアミノカルボニ
ル、シクロオクチルアミノカルボニル基等を例示
できる。置換基として低級アルコキシカルボキシ
ル基もしくはカルボキシル基を有することのある
フエニル基としては、例えばフエニル、ｏ−メト
キシカルボニルフエニル、ｍ−エトキシカルボニ
ルフエニル、ｐ−tert−ブトキシカルボニルフエ
ニル、ｏ−カルボキシフエニル、ｍ−カルボキシ
フエニル、ｐ−カルボキシフエニル基等を例示で
きる。置換基として低級アルコキシ基を有するこ
とのあるフエニル低級アルキル基としては、例え
ばベンジル、α−フエネチル、β−フエネチル、
１−フエニルプロピル、２−フエニルプロピル、
３−フエニルプロピル、１−フエニルブチル、２
−フエニルブチル３−フエニルブチル、４−フエ
ニルブチル、１−フエニルペンチル、３−フエニ
ルペンチル、５−フエニルペンチル、１−フエニ
ルヘキシル、３−フエニルヘキシル、５−フエニ
ルヘキシル、１，１−ジメチル−２−フエニルエ
チル、２−メトキシベンジル、β−（３−エトキ
シフエニル）エチル、β−（４−プロポキシフエ
ニル）エチル、１−（２，３−ジメトキシフエニ
ル）プロピル、１−（３，４−ジエトシフエニル）
ブチル、３，４，５−トリメトキシベンジル、β
−（３，４−ジメトキシフエニル）エチル、４−
（２，３−ジメトキシフエニル）ヘキシル基等を
例示できる。置換基としてカルボキシル基、フエ
ニル低級アルコキシカルボニル基もしくはカルボ
キシピロリジニルカルボニル基を有する低級アル
キル基としては、例えばカルボキシメチル、１−
カルボキシエチル、２−カルボキシルエチル、１
−カルボキシプロピル、２−カルボキシプロピ
ル、３−カルボキシプロピル、１−（ベンジルオ
キシカルボニル）エチル、２−（ベンジルオキシ
カルボニル）エチル、１−（α−フエネチルオキ
シカルボニル）エチル、２−（β−フエネチルオ
キシカルボニル）エチル、１−（２−カルボキシ
ピロリジニカルボニル）エチル、１−（３−カル
ボキシピロリジニルカルボニル）エチル基等を例
示できる。更に上記基

【式】が形成し得る複素環基としては、例えば１−ピロリジニル、ピペリジノ、
ピペラジニル、モルホリノ基等を例示でき、上記
複素環基にフエニル基、フエニル低級アルキル
基、ベンゾイル基、フロイル基、カルボキシル基
又は基

【式】（Ａは低級アルキレン基を、R₅は水素原子、カルボキシル基又
は低級アルコキシカルボニル基をそれぞれ示す。）
が置換された例としては、４−フエニルピペラジ
ニル、４−ベンジルピペラジニル、４−α−フエ
ネチルピペラジニル、４−β−フエネチルピペラ
ジニル、４−（５−フエニルヘキシル）ピペラジ
ニル、４−ベンジルピペリジノ、４−ベンゾイル
ピペラジニル、４−（２−フロイル）ピペラジニ
ル、４−（２−フロイル）ピペリジノ、２−カル
ボキシピペリジノ、２−カルボキシ−１−ピロリ
ジニル、４−（１−ピロリジニルカルボニルメチ
ル）ピペラジニル、４−〔１−（２−カルボキシ−
１−ピロリジニル）カルボニルエチル〕ピペラジ
ニル、４〔１−（２−メトキシカルボニル−１−ピ
ロリジニル）カルボニルエチル〕ピペラジニル、
４−ジフエニルメチルピペラジニル、４−（２，
２−ジフエニルエチル）ピペラジニル、４−（４，
５−ジフエニルペンチル）ピペラジニル基等を例
示できる。上記一般式(1)で表わされる本発明の化合物は、
脳及び冠血管拡張作用、トロンボキサンA₂生合
成阻害作用、強心作用、鎮痙作用、抗アレルギー
作用を有し、抗高血圧剤、血小板凝集阻害剤、強
心剤、鎮痙剤、抗アレルギー剤として有用であ
る。本発明の化合物は、種々の方法により製造され
る。その好ましい具体例を下記反応行程式に示し
詳述する。〔式中R₁，R₃及びR₄は前記に同じ。〕反応行程式−１によれば、一般式(2)で表わされ
る公知のアルデヒドにマロン酸を縮合させること
によりR₂がカルボキシル基を示し且つが二重
結合である本発明の化合物１ａを収得でき、該化
合物１ａに一般式(3)で表わされるアミンを反応さ
せることによりR₂が基

【式】を示し且つが二重結合である本発明化合物１ｂを収得でき
る。一般式(2)のアルデヒドとマロン酸との縮合は、
例えばOrganic Synthesis第４巻第327頁に記載
の方法に準じて行なわれる。即ちピリジン溶媒中
一般式(2)のアルデヒド１モルとマロン酸２モルと
を、少量のピペリジンの存在下に60〜100℃程度
に加熱することにより行なわれる。化合物１ａとアミン３との反応には、通常のア
ミド結合形成反応、例えば酸クロリド法、混合酸
無水物法、活性エステル法、Ｎ，N′−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド（DCC法）、アシド法等
の反応条件を広く適用できる。アジド法の変法と
考えられるシアノリン酸ジエチル法を例にとり説
明すると、反応溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（DMF）、テトラヒドロフラ
ン（THF）、酢酸エチル等が挙げられるが、化合
物１ａの溶解性を考慮するとDMFが好ましい。
アミン３の使用量としては、化合物１ａに対して
等モル〜1.2倍モルとするのが好ましい。上記溶
媒に化合物１ａとアミン３とを加えた混合物に、
０〜10℃においてシアノリン酸ジエチルを化合物
１ａに対して等モル〜1.2倍モル量加え、次いで
同一度下にトリエチルアミン、ピリジン等の有機
アミンを化合物１ａに対して通常等モル〜５倍モ
ル、好ましくは等モル〜２倍モル量徐々に加え、
その後０〜25℃の範囲で１〜24時間撹拌するのが
よい。上記反応は通常20時間以内に終了する。〔式中R₆はベンゾイル基、フロイル基又は基

【式】（Ａ及びR₅は前記に同じ）を示す。R₁は前記に同じ。〕反応行程式−２によれば、R₂が基

【式】を示し且つが二重結合である本発明化合物１b″は、R₂が基

【式】を示し且つが二重結合である本発明化合物１b′をアシル化又はアルキル化す
ることにより製造される。化合物１b′のアシル化は、脱酸剤の存在下無水
の不活性有機溶媒中化合物１b′に塩化フロイル又
は塩化ベンゾイルを反応させることにより行なわ
れる。塩化フロイル又は塩化ベンゾイルは、化合
物１b′に対して少くとも１当量、好ましくは1.2
〜1.3当量使用するのがよい。不活性有機溶媒と
しては、例えばアセトン、DMF，エーテル、
THF、ベンゼン、クロロホルム、トルエン等が
挙げられる。また脱酸剤としては、例えばトリエ
チルアミン、ピリジン、炭酸カリウム等が挙げら
れ、これら脱酸剤は化合物１b′に対して少くとも
１当量、好ましくは1.2〜1.3当量用いられる。該
反応は室温〜用いられる不活性有機溶媒の沸点付
近、好ましくは室温付近にて行なわれる。化合物１b′のアルキル化は脱酸剤の存在下化合
物１b′に一般式〔式中Ｘはハロゲン原子を示す。R₅及びＡは
前記に同じ。〕で表わされるハライドを反応させ
ることにより行なわれる。一般式(4)のハライド
は、化合物１b′に対して少くとも１当量、好まし
くは1.2〜２当量使用するのがよい。該反応は、
通常無水の不活性有機溶媒中にて行なわれる。不
活性有機溶媒としては、例えばアセトン、DMF、
エーテル、トルエン、ベンゼン、クロロホルム、
THF等が挙げられる。また脱酸剤としては、例
えばトリエチルアミン、ピリジン、炭酸カリウム
等が挙げられ、これら脱酸剤は化合物１b′に対し
て少くとも１当量、好ましくは1.2〜２当量用い
られる。該反応は室温〜用いられる溶媒の沸点付
近にて行なわれる。用いられる溶媒がDMFであ
る場合には室温付近にて反応を行なうのが好まし
く、また溶媒がDMF以外である場合にはその溶
媒の沸点付近にて反応を行なうのが好ましい。〔式中R₁，R₃及びR₄は前記と同じ。〕反応行程式−３によれば、化合物１ａを還元す
ることによりR₂がカルボキシル基を示し且つ
が一重結合である本発明の化合物１ｃを収得で
き、また化合物１ｂを還元することによりR₂が
基

【式】を示し且つが一重結合である本発明の化合物１ｄを収得できる。また化合物１ｄ
は、化合物１ｃにアミン３を反応させることによ
つても製造される。化合物１ａ又は化合物１ｂを還元するに際して
は、例えばPd−カーボン、PtO₂、ラネーニツケ
ル等の従来公知の触媒を用い、常圧〜100気圧、
好ましくは常圧下にて水素で接触還元するのがよ
い。反応溶媒としては、化合物１ａや化合物１ｂ
の溶解性を考慮してDMF，DMF−メタノール、
DMF−エタノール等が好ましい。上記還元反応
は、通常室温〜50℃付近にて行なうのが好まし
く、一般に２時間〜10日間で該反応は終了する。化合物１ｃとアミン３との反応は、上記化合物
１ａとアミン３との反応と同様の反応条件下にて
行なうことができる。〔式中R₁は前記と同じ。〕反応行程式−４によれば、一般式(2)のアルデヒ
ドにニトロメタンを縮合させることによりR₂が
ニトロ基を示し且つが２重結合である本発明の
化合物１ｅが収得でき、該化合物１ｅを還元する
ことによりR₂がニトロ基を示し且つが１重結
合である本発明の化合物１ｆが収得できる。一般式(2)のアルデヒドとニトロメタンとの縮合
反応は、例えば酢酸アンモニウムの存在下酢酸等
の溶媒中アルデヒド２とニトロメタンとの混合物
を加熱すればよい。アルデヒド２にニトロメタン
との混合割合としては、前者に対して後者を通常
等モル以上、好ましくは３〜４倍モルとするのが
よい。また酢酸アンモニウムの使用量としては、
通常アルデヒド２に対して少くとも等モル量、好
ましくは２〜2.2倍モル量とするのがよい。該反
応は、通常100〜150℃程度、好ましくは溶媒の沸
点付近に加熱することにより好適に進行し、一般
に２〜５時間程度で反応が完結する。化合物１ｅの還元は、例えば水素化ホウ素ナト
リウムを用いて行なわれる。この還元は、通常メ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール
等のアルコール類又はこれらのアルコール類と
DMFもしくはTHFとの混合溶媒中にて行なれ
る。水素化ホウ素ナトリウムの使用量としては通
常化合物１ｅに対して等モル〜６倍モル程度とす
るがよい。該還元反応は、通常０〜30℃程度にて
行なわれ、一般に0.5〜３時間程度で反応が終了
する。また本発明の化合物中、R₂が基

【式】であり、R₃とR₄とが互いに結合して形成する５員
又は６員の飽和複素環基であり、さらに該複素環
基に基

【式】が置換している化合物において、該化合物のR₅がカルボキシル
基である化合物は、対応するR₅が低級カルボキ
シカルボニル基である化合物を常法に従い加水分
解することによつても製造される。加水分解は、
アルカリ性加水分解が好ましく、通常0.1〜3N程
度、好ましくは0.1〜1Nの水酸化アルカリを用い
て行なわれる。該加水分解は、常温室温付近にて
行なわれ、一般に１〜20時間で完了する。また本発明の化合物のうちカルボキシル基を有
する化合物は、常法により塩、例えばアルカリ金
属塩（例、ナトリウム塩、カリウム塩）、アルカ
リ土類金属塩（例、カルシウム塩、マグネシウム
塩）等として、また本発明の化合物うち第４級ア
ンモニウム塩を形成し得る窒素原子を有する化合
物は、有機酸及び無機酸の塩として、それぞれ単
離してもよい。斯かる塩類も本発明化合物の範囲
に包含されるものである。上記各反応行程により得られる本発明の目的物
は、慣用の分離手段、例えば溶媒抽出、再結晶、
カラムクロマトグラフイー等により反応混合物か
ら容易に単離精製することができる。更に本発明の化合物には光学異性体、幾何異性
体が考えられ、本発明に斯かる異性体をも当然に
包含する。以下本発明を更に詳しく説明するため、本発明
化合物の製造例を挙げる。製造例１ β−〔２−（１，４，５，８−テトラメトキシ）
ナフチル〕アクリル酸（化合物１）の製造 4.2ｇ（40mM）のマロン酸を10mlのピリジン
に55℃にて溶解する。この溶液に１，４，５，８
−テトラメトキシ−２−カルボアルデヒド5.6ｇ
（20mM）及びピペリジン0.3mlを加え、80〜85℃
に30分を要して昇温する。同温条件下、１時間撹
拌し、次いで３時間還流する。冷後水の中に移
し、濃塩酸で酸性にすると結晶が析出する。この
ものを取し、水洗後、乾燥させると、５ｇの化
合物１を黄色結晶として得る。このものは、シリ
カゲルクロマトグラフイー（クロロホルム：メタ
ノール＝20：１）にて精製すれば、融点200〜202
℃の純品が得られる。しかし粗生成物は、そのま
次の反応に使用できる。製造例２Ｎ−〔β−（３，４−ジメトキシフエニル）エチ
ル〕−β−〔２−（１，４，５，８−テトラメトキ
シ）ナフチル〕アクリルアミド（化合物９）の製
造製造例１で得た化合物１及びＮ−β−（３，４
−ジメトキシフエニル）エチルアミン1.85ｇの
DMF20ml溶液に、氷冷下シアノリン酸ジエチル
1.88ｇを加え、次いでトリエチルアミン1.05ｇの
DMF20ml溶液を20分間要して滴下する。その後
氷冷下〜室温にて16時間撹拌する。反応混合物を
水に移し、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗
し、乾燥（MgSO₄）、濃縮して得られる粗生成物
を、シリカゲルクロマトグラフイー（酢酸エチ
ル：クロロホルム＝１：１）で精製すると、4.52
ｇの化合物９を黄色結晶として得る。上記と同様にして後記第１表に示す化合物３，
５，６，７，１０，１３，１４，１６，１８及び
２０を得る。製造例３Ｎ−〔β−〔２−（１，４，５，８−テトラメト
キシ）ナフチル〕アクリロイル〕アントラニル酸
（化合物４）の製造製造例２で得た化合物３ 2.2ｇをエタノール
−DMF（１：１）200mlに溶解し、10％水酸化ナ
トリウム水50mlを加え、室温で２時間30分撹拌す
る。その後反応液を濃塩酸で酸性にした後、酢酸
エチルで抽出する。有機層を乾燥濃縮後、得られ
た結晶をエーテル−クロロホルムで再結晶して
1.2ｇの黄色結晶として化合物４を得る。製造例４Ｎ−〔β−〔２−（１，４，５，８−テトラメト
キシ）ナフチル〕アクリロイル〕ピペラジン（化
合物１５）の製造製造例１で得た化合物１ 15ｇ及びピペラジン
40.55ｇをDMF350mlに溶解し、氷冷下シアノリ
ン酸ジエチル9.4ｇのDMF25ml溶液を加える。そ
の後トリエチルアミン5.25ｇのDMF25ml溶液を
30分を要して滴下する。氷冷下〜室温にて16時間
撹拌する。その後、DMF及びピペラジンを減圧
下に留去し、粗生成物をシリカゲルクロマトグラ
フイー（クロロホルム：メタノール＝30：１）で
精製すると10ｇの黄色結晶として化合物１５を得
る。製造例５４−ベンゾイル−１−〔β−〔２−（１，４，５，
８−テトラメトキシ）ナフチル〕アクリロイル〕
ピペラジン（化合物１２）の製造製造例４で得た化合物１５ 500mg及びベンゾ
イルクロライド20mgをDMF30mlに溶解し、これ
にK₂CO₃100mgを加え、室温にて６時間撹拌す
る。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。
濃縮後、シリカゲルクロマトグラフイー（クロロ
ホルム：メタノール＝25：１）で精製すると化合
物１２ 500mgを黄色結晶として得る。上記と同様にして後記第１表に示す化合物１１
を得る。製造例６１−〔β−〔２−（１，４，５，８−テトラメト
キシ）ナフチル〕アクリロイル〕−４−（１−ピロ
リジニルカルボニルメチル）ピペラジン（化合物
１７）の製造製造例４で得た化合物１５２ｇ、Ｎ−クロル
アセチルピロリジン1.4ｇ及び炭酸カリウム1.4ｇ
のDMF60mlの懸濁液を20時間室温で撹拌する。
析出物を別し、液を濃縮後、シリカゲルクロ
マトグラフイー（クロロフイルム：メタノール＝
50：１次いで30：１）にて精製すると、1.95ｇの
化合物１３を黄色結晶として得る。製造例７２−カルボキシ−１−〔β−〔２−（１，４，５，
８−テトラメトキシ）ナフチル〕アクリロイル〕
ピロリジン（化合物２６）の製造製造例１で得た化合物１ 1.5ｇ、２−ベンジ
ルオキシカルボニルピロリジン1.08ｇ及びトリエ
チルアミン0.53ｇのDMF30ml溶液に、氷冷下シ
アノリン酸ジエチル0.95ｇ、次いでトリエチルア
ミン0.53ｇを加え、室温で16時間撹拌する。製造
例２と同様に処理して得られた油状物2.1をエタ
ノール50mlに溶解し、Pd−C200mgを加え、水素
雰囲気下室温、常圧で１時間撹拌する。Pd−Ｃ
を別し、溶媒を留去後シリカゲルクロマトグラ
フイー（クロロホルム：メタノール＝10：１）で
精製すると、淡黄色結晶の化合物２０を1.2ｇ得
る。上記と同様にして製造例１で得た化合物１にベ
ンジルオキシカルボニル基を有するアミンを縮合
させ、次いで還元することにより後記第２表に示
す化合物２４及び２５を得る。製造例８（Ｅ）−２−〔２−（１，４，５，８−テトラメ
トキシ）ナフチル〕−１−ニトロエチレン（化合
物２）の製造１，４，５，８−テトラメトキシアルデヒド
4.8ｇを酢酸50ml、酢酸アンモニウム2.8及びニト
ロメタン3.1ｇの混合物に加え、この反応混合物
を２時間還流する。冷後、減圧下に濃縮し、粗結
晶を塩化メチレンに溶解し、シリカゲルクロマト
グラフイーにて精製すると、3.7ｇの化合物２を
褐色結晶として得る。製造例９１，４，５，８−テトラメトキシ−２−（２−
ニトロエチル）ナフタレン（化合物２７）の製造（Ｅ）−２−〔２−（１，４，５，８−テトラメ
トキシ）ナフチル〕−１−ニトロエチレン300mgを
DMF6ml及びエタノール３mlに溶解し、水素化ホ
ウ素ナトリウムを80mg氷冷下に加え、撹拌を15分
続ける。その後、水に移し、塩化メチレンで抽出
し、有機層を乾燥、濃縮して得られる結晶を塩化
メチレン：ヘキサン＝１：１で再結晶すると、
250mgの化合物２７を得る。製造例 10 Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−シクロヘキシルアミ
ノカルボニル−β−〔２−（１，４，５，８−テト
ラメトキシ）ナフチル〕アクリルアミド（化合物
８）及び１−〔β−（２−（１，４，５，８−テト
ラメトキシ）ナフチル〕アクリロイル〕−４−フ
エニルピペラジン（化合物１４）の製造製造例１で得た化合物１１ｇ及びＮ−フエニ
ルピペラジン0.51ｇをDMF21mlに溶解し、これ
にDCC0.71ｇを加え、室温にて16時間撹拌する。
反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、濃縮後
シリカゲルクロマトグラフイー（クロロホルム：
メタノール＝10：１）で精製すると、化合物８を
950mgと化合物14を200mgそれぞれ黄色結晶として
得る。製造例 11 １−〔β−〔２−（１，４，５，８−テトラメト
キシ）ナフチル〕アクリロイル〕−４−〔−（２−
メトキシカルボニル）ピロリジニルカルボニルエ
チル〕ピペラジン（化合物２１）及び１−〔β−
〔２−（１，４，５，８−テトラメトキシ）ナフチ
ル〕アクリロイル〕−４−〔１−（２−カルボキシ）
ピロリジニルカルボニルエチル〕ピペラジン（化
合物１９）の製造製造例６と同様に製造例４で得た化合物１５
２ｇ、２−メトキシカルボニル−１−（２−ブロ
モプロピオニル）ピロリジン1.37ｇ及び炭酸カリ
ウム0.36ｇのDMF25ml懸濁液を、20時間室温で
撹拌する。製造例５と同様に処理して得られる粗
生成物をシリカゲルクロマトグラフイー（クロロ
ホルム：メタノール＝25：１）で精製すると、
2.4ｇの化合物２１を黄色結晶として得る。化合
物２１を1.8ｇメタノール3.6mlに溶解し、これに
1N水酸化ナトリウム3.6mlを加え、１時間室温で
撹拌し、その後反応液に1N塩酸3.6mlを加え濃縮
した。これをシリカゲルクロマトグラフイー（ク
ロロホルム：メタノール＝６：１）で精製する
と、1.0ｇの化合物１９を黄色結晶として得る。製造例 12 ３−〔２−（１，４，５，８−テトラメトキシ）
ナフチル〕プロピオン酸（化合物２２）の製造製造例１で得た化合物１ 10ｇをDMF−エタ
ノール（１：１）100mlに溶解し、Pd−C1ｇ存在
下に常圧、室温で接触還元する。７日後Pd−Ｃ
を別し、液を濃縮し、得られる結晶をシリカ
ゲルクロマトグラフイー（クロロホルム：メタノ
ール＝20：１）で精製すると、8.6ｇの化合物２
２を白色結晶として得る。製造例 13 Ｎ−〔β−（３，４−ジメトキシフエニル）エチ
ル〕−３−〔２−（１，４，５，８−テトラメトキ
シ）ナフチル〕プロピオニルアミド（化合物２
３〕の製造製造例12で得た化合物２２ 300ｇ、Ｎ−β−
（３，４−ジメトキシフエニル）エチルアミン151
mg、シアノリン酸ジエチル153mg及びトリエチル
アミン86mgを製造例２と同様に処理すると、化合
物２３が得られる。上記各製造例で得られた化合物及びその物性
（融点、 ¹H−NMR分析結果）を第１表及び第２
表に示す。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１一般式（式中R¹は低級アルコキシ基を示し、R₂はカル
ボキシル基、ニトロ基又は基【式】を示す。R₃及びR₄は、同一又は異なつて水素原子、
低級アルキル基、シクロアルキル基、シクロアル
キルアミノカルボニル基、置換基として低級アル
コキシカルボニル基もしくはカルボキシル基を有
することのあるフエニル基、置換基として低級ア
ルコキシ基を有することのあるフエニル低級アル
キル基又は置換基としてカルボキシル基、フエニ
ル低級アルコキシカルボニル基もしくはカルボキ
シピロリジニルカルボニル基を有する低級アルキ
ル基を示す。またR₃及びR₄は、隣接する窒素原
子と共に酸素原子もしくは窒素原子を介し又は介
することなく互いに結合して５員又は６員の飽和
複素環基を形成してもよく、該複素環基は更にフ
エニル基、フエニル低級アルキル基、ベンゾイル
基、フロイル基、カルボキシル基又は基
【式】（Ａは低級アルキレン基を、R₅は水素原子、カルボキシル基又は低級
アルコキシカルボニル基をそれぞれ示す。）を置
換基として有していてもよい。〓は一重結合又は
二重結合を示す。〕で表わされるナフタレン誘導体。