JPH0313959A - 電子写真用感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、導電性基体、下引層及び電荷発生層。
電荷輸送層からなる感光層から構成される電子写真感光
体に関し、特に下引層を改良した電子写真感光体に関す
る。
体に関し、特に下引層を改良した電子写真感光体に関す
る。
従来、電子写真方式に於いて使用される感光体としては
、導電性支持体上にセレンないしセレン合金を主体とす
る光導電層を設けたもの、酸化亜鉛、硫化カドミウムな
どの無機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの
、ポリ−N−ビニルカルバゾールとトリニトロフルオレ
ノンあるいはアゾ顔料などの有機光導電材料を用いたも
の、及び非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般に
知られている。
、導電性支持体上にセレンないしセレン合金を主体とす
る光導電層を設けたもの、酸化亜鉛、硫化カドミウムな
どの無機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの
、ポリ−N−ビニルカルバゾールとトリニトロフルオレ
ノンあるいはアゾ顔料などの有機光導電材料を用いたも
の、及び非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般に
知られている。
ところで、一般に「電子写真方式」とは、光導電性の感
光体をまず暗所で、例えばコロナ放電によって帯電させ
、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選択的に散逸せ
しめて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔料などの着
色材と高分子物質などの結合剤とから構成される検電微
粒子(トナー)で現像し可視化して画像を形成する様に
した画悔形成法の一つである。
光体をまず暗所で、例えばコロナ放電によって帯電させ
、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選択的に散逸せ
しめて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔料などの着
色材と高分子物質などの結合剤とから構成される検電微
粒子(トナー)で現像し可視化して画像を形成する様に
した画悔形成法の一つである。
この様な電子写真法に於いて感光体に要求される基本的
な特性としては (1)暗所で適当な電位に帯電できること。
な特性としては (1)暗所で適当な電位に帯電できること。
(2)暗所において電荷の散逸が少ないこと。
(3)光照射によって速やかに電荷を散逸できること。
などが挙げられる。
上記の各感光体はこれらの基本的な特性以外に実使用上
それぞれ優れた特徴及び欠点を有しているが、なかでも
近年は製造コストが安い、環境汚染が少ない、比較的自
由な感光体設計ができる等の理由により、有機系感光体
の発展が著しい。
それぞれ優れた特徴及び欠点を有しているが、なかでも
近年は製造コストが安い、環境汚染が少ない、比較的自
由な感光体設計ができる等の理由により、有機系感光体
の発展が著しい。
一般に、有機系感光体とは電荷発生材料及び電荷輸送材
料を結着樹脂の中へ分散あるいは溶解して導電性支持体
上に塗布したものであり、ひとつの層で電荷保持、電荷
発生、電荷輸送の機能を有する単層型と電荷発生の機能
を有する電荷発生層(CGL)、帯電電荷の保持とCG
Lから注入された電荷の輸送機能を有する電荷輸送層(
CTL)、更には必要に応じて支持体からの電荷の注入
を阻止する、あるいは支持体での光の反射を防止する等
の機能を有した層などを積層した構成の機能分離型とが
知られている。
料を結着樹脂の中へ分散あるいは溶解して導電性支持体
上に塗布したものであり、ひとつの層で電荷保持、電荷
発生、電荷輸送の機能を有する単層型と電荷発生の機能
を有する電荷発生層(CGL)、帯電電荷の保持とCG
Lから注入された電荷の輸送機能を有する電荷輸送層(
CTL)、更には必要に応じて支持体からの電荷の注入
を阻止する、あるいは支持体での光の反射を防止する等
の機能を有した層などを積層した構成の機能分離型とが
知られている。
これらの有機系感光体は前述のように優れた特徴を有し
ているが、有機材料であるがゆえに次のような欠点を有
する。
ているが、有機材料であるがゆえに次のような欠点を有
する。
(1)帯電性、及び電荷保持性が低い。
(2)電荷の残留により、画像上にカブリ、濃度ムラが
生じる。
生じる。
(3)基板の化学的、物理的、機械的な性質が不均一で
あるために、画像上に白ポチ、黒ポチなどの欠陥が生じ
る。
あるために、画像上に白ポチ、黒ポチなどの欠陥が生じ
る。
特に、高感度感光体において、帯電、露光を繰り返し与
えた場合いわゆる静電的疲労により、上記(1)の特性
が著しい劣化として現われる。このような疲労は主に感
光体中に正又は/及び負の電荷が移動可能な状態で残留
することから発生するといわれている。すなわち、くり
返しの帯電露光により、残留した電荷が、次の帯電操作
の開始時、表面まで移動し、帯電々荷を中和するため、
IF電初期に必要な表面電位の速い立上りが得られない
。
えた場合いわゆる静電的疲労により、上記(1)の特性
が著しい劣化として現われる。このような疲労は主に感
光体中に正又は/及び負の電荷が移動可能な状態で残留
することから発生するといわれている。すなわち、くり
返しの帯電露光により、残留した電荷が、次の帯電操作
の開始時、表面まで移動し、帯電々荷を中和するため、
IF電初期に必要な表面電位の速い立上りが得られない
。
このため、帯電プロセスに設定された時間内に所望の表
面電位を得ることができず、特に高速複写プロセスにお
いては大きな問題となる。
面電位を得ることができず、特に高速複写プロセスにお
いては大きな問題となる。
上述の欠点に対して、例えば、特開昭47−6341.
48−3544および48−12034号には硝酸セル
ロース系樹脂中間層が、特開昭48−47344.52
−25638.58−30757.58−63945.
58−95351.58−98739および6〇−66
258号にはナイロン系樹脂中間層が、特開昭49−6
9332および52−10138号にはマレイン酸系樹
脂中間層が、そして特開昭58−105155号にはポ
リビニルアルコール樹脂中間層がそれぞれ開示されてい
る。また、中間層の電気抵抗を制御すべく種々の導電性
添加物を樹脂中に含有させた中間層が提案されている1
例えば、特開昭51−65942号にはカーボンまたは
カルコゲン系物質を硬化性樹゛脂に分散した中間層が、
特開昭52−82238号には四級アンモニウム塩を添
加してイソシアネート系硬化剤を用いた熱重合体中間層
が、特開昭55−1180451号には抵抗調節剤を添
加した樹脂中間層が、特開昭58−58556号にはア
ルミニウムまたはスズの酸化物を分散した樹脂中間層が
、特開昭58−93062号には有機金属化合物を添加
した樹脂中間層が、特開昭58−93063.60−9
7363および60−111255号には導電性粒子を
分散した樹脂中間層が、特開昭59−17557号には
マグネタイトを樹脂中に分散した眉が、さらに特開昭5
9−84257.59−93453および60−320
54号にはTie、とSnO□粉体とを分散した樹脂中
間層が開示されている。
48−3544および48−12034号には硝酸セル
ロース系樹脂中間層が、特開昭48−47344.52
−25638.58−30757.58−63945.
58−95351.58−98739および6〇−66
258号にはナイロン系樹脂中間層が、特開昭49−6
9332および52−10138号にはマレイン酸系樹
脂中間層が、そして特開昭58−105155号にはポ
リビニルアルコール樹脂中間層がそれぞれ開示されてい
る。また、中間層の電気抵抗を制御すべく種々の導電性
添加物を樹脂中に含有させた中間層が提案されている1
例えば、特開昭51−65942号にはカーボンまたは
カルコゲン系物質を硬化性樹゛脂に分散した中間層が、
特開昭52−82238号には四級アンモニウム塩を添
加してイソシアネート系硬化剤を用いた熱重合体中間層
が、特開昭55−1180451号には抵抗調節剤を添
加した樹脂中間層が、特開昭58−58556号にはア
ルミニウムまたはスズの酸化物を分散した樹脂中間層が
、特開昭58−93062号には有機金属化合物を添加
した樹脂中間層が、特開昭58−93063.60−9
7363および60−111255号には導電性粒子を
分散した樹脂中間層が、特開昭59−17557号には
マグネタイトを樹脂中に分散した眉が、さらに特開昭5
9−84257.59−93453および60−320
54号にはTie、とSnO□粉体とを分散した樹脂中
間層が開示されている。
しかしながら、従来公知の電子写真用感光体はくり返し
使用による帯電性の低下、とりわけ帯電4位の立上りの
遅れに関しては未だに不充分であり、しかも残留電位の
変化が大きく、依然として大きな問題である。更に、中
間層に用いられる樹脂、無機粒子、染料、その他の有機
物はいずれも程度の差こそあれ、温湿度の影響を受けや
すい材質が多く、このため中間層の抵抗値が大巾に変化
する。常温常温で、ある程度の好適な材料、膜厚の中間
層を設けても、低温低湿又は高温高湿時においては、感
光体の静電特性の変化が著しい。
使用による帯電性の低下、とりわけ帯電4位の立上りの
遅れに関しては未だに不充分であり、しかも残留電位の
変化が大きく、依然として大きな問題である。更に、中
間層に用いられる樹脂、無機粒子、染料、その他の有機
物はいずれも程度の差こそあれ、温湿度の影響を受けや
すい材質が多く、このため中間層の抵抗値が大巾に変化
する。常温常温で、ある程度の好適な材料、膜厚の中間
層を設けても、低温低湿又は高温高湿時においては、感
光体の静電特性の変化が著しい。
本発明は、高感度であるとともに、静電的疲労による帯
電性の低下が著しく小さく、かつ、帯電、露光のくり返
し後においても、帯電電位の立上りの速く、更に残留電
位の変化の小さい電子写真感光体の提供を目的とし、ま
た高温高湿下及び低温低湿下においても、帯電性の良い
残留電位の変化のない電子写真感光体を提供することを
目的とする。
電性の低下が著しく小さく、かつ、帯電、露光のくり返
し後においても、帯電電位の立上りの速く、更に残留電
位の変化の小さい電子写真感光体の提供を目的とし、ま
た高温高湿下及び低温低湿下においても、帯電性の良い
残留電位の変化のない電子写真感光体を提供することを
目的とする。
本発明によれば、導電性基板上に下引層、電荷発生層及
び電荷輸送層を順次積層した電子写真感光体において、
下引層がフッ素系表面処理剤で表面処理された酸化ジル
コニウム粒子及び酸化スズ粒子と結着樹脂からなること
を特徴とする電子写真用感光体が提供される。
び電荷輸送層を順次積層した電子写真感光体において、
下引層がフッ素系表面処理剤で表面処理された酸化ジル
コニウム粒子及び酸化スズ粒子と結着樹脂からなること
を特徴とする電子写真用感光体が提供される。
本発明者は、導電性基体上に下引層、電荷発生層及び電
荷輸送層を順次積層してなる電子写真用感光体の下引層
に着目して、前記欠点を解消すべく鋭意検討した結果、
該下引層の成分を、前記特定の組成とすることによって
、繰り返し使用後の帯電4位の立上りの遅れが少ない′
と共に残留電位の変化が小さく、かつ温湿度に対する特
性変化の小さい電子写真感光体が得られることを見い出
し。
荷輸送層を順次積層してなる電子写真用感光体の下引層
に着目して、前記欠点を解消すべく鋭意検討した結果、
該下引層の成分を、前記特定の組成とすることによって
、繰り返し使用後の帯電4位の立上りの遅れが少ない′
と共に残留電位の変化が小さく、かつ温湿度に対する特
性変化の小さい電子写真感光体が得られることを見い出
し。
本発明を完成するに到った。
以下1本発明の詳細な説明する。
下引層に含有させる酸化ジルコニウムとしては、ふつう
90%以上の純度のもの、好ましくは、 99.5%以
上の純度のものが用いられる。酸化スズとしては、ふつ
う90以上の純度のもの、好ましくは99.5%以上の
純度のものが用いられる。
90%以上の純度のもの、好ましくは、 99.5%以
上の純度のものが用いられる。酸化スズとしては、ふつ
う90以上の純度のもの、好ましくは99.5%以上の
純度のものが用いられる。
又、酸化ジルコニウム及び酸化スズの1次粒子の平均粒
径は0.5μ以下、好ましくは0.3μ以下に分散され
ていることが好ましい、0.5μ以上では画像上に文字
のガサ付き、シミ等が目立ち、静電特性においては感度
のバラツキが大きく品質の安定性に乏しい。
径は0.5μ以下、好ましくは0.3μ以下に分散され
ていることが好ましい、0.5μ以上では画像上に文字
のガサ付き、シミ等が目立ち、静電特性においては感度
のバラツキが大きく品質の安定性に乏しい。
本発明においては、この酸化ジルコニウム及び酸化スズ
の表面をフッ素系表面処理剤で表面処理する。
の表面をフッ素系表面処理剤で表面処理する。
フッ素系表面処理剤としてはふつう以下の構造式のもの
が用いられる。
が用いられる。
CnF、−、Q(、−GE、−ωO1((rs44)C
nF2n+1−Gl=C)1. (n=(y−12)C
IlF17C1(、−CH□イH刀イ詐和H8C,Fl
、−CI!、−CI、−OH 結着樹脂としては、種々のものが用いられるが、好まし
くはイソシアネート化合物で反応硬化させたポリビニル
アセタール樹脂が用いられる。
nF2n+1−Gl=C)1. (n=(y−12)C
IlF17C1(、−CH□イH刀イ詐和H8C,Fl
、−CI!、−CI、−OH 結着樹脂としては、種々のものが用いられるが、好まし
くはイソシアネート化合物で反応硬化させたポリビニル
アセタール樹脂が用いられる。
本発明で使用されるポリビニルアタール樹脂は、このも
のは、一般に以下に示すくり返し単位を含むもので、R
の種類によって特性の異なった種類の樹脂を形成する。
のは、一般に以下に示すくり返し単位を含むもので、R
の種類によって特性の異なった種類の樹脂を形成する。
C,F、、C0−0−C,H,−5i(QC)I))I
Cm Fl□−so、−N−C2馬−5i((9)、)
3け CIFI−一ωIIJH−C3H−3i(OCHs)i
これらの表面処理剤を用いて、酸化ジルコニウム及び酸
化スズの表面を処理するには1通常、n−ヘキサン等の
飽和脂肪族炭化水素、メタノール、エタノール等アルコ
ール系等の適切な溶媒で表面処理剤を希釈し、ついでこ
のものを乾燥処理された酸化ジルコニウム及び酸化スズ
と混合し、濾過、洗浄及び乾燥して分散操作にかければ
よい。
Cm Fl□−so、−N−C2馬−5i((9)、)
3け CIFI−一ωIIJH−C3H−3i(OCHs)i
これらの表面処理剤を用いて、酸化ジルコニウム及び酸
化スズの表面を処理するには1通常、n−ヘキサン等の
飽和脂肪族炭化水素、メタノール、エタノール等アルコ
ール系等の適切な溶媒で表面処理剤を希釈し、ついでこ
のものを乾燥処理された酸化ジルコニウム及び酸化スズ
と混合し、濾過、洗浄及び乾燥して分散操作にかければ
よい。
(R:アルキル基又は水素)
このポリビニルアセタール樹脂の具体例としては、たと
えば以下の様なくり返し単位を含む樹脂が挙げられる。
えば以下の様なくり返し単位を含む樹脂が挙げられる。
更に、本発明においては、以下の様に(4)のモノマー
構成に酢酸ビニル及びビニルアルコールのモノマーを同
時番こ含有するポリビニルブチラール樹脂が好適に使用
される。
構成に酢酸ビニル及びビニルアルコールのモノマーを同
時番こ含有するポリビニルブチラール樹脂が好適に使用
される。
(Q、■、n:整数)
通常Ωが、50〜80−〇Q%、讃が10mofi%以
下、nが30〜50moQ%のものが好ましい。
下、nが30〜50moQ%のものが好ましい。
この様に上記(1)−(5)から選択された少なくとも
一種のくり返し単位以外に、特性改良のために、その他
2種以上のくり返し単位が含まれた樹脂であってもよい
。
一種のくり返し単位以外に、特性改良のために、その他
2種以上のくり返し単位が含まれた樹脂であってもよい
。
この場合においてもOH基が、硬化反応のために存在す
る樹脂でなければならない、 OH含有率は、通常1〜
10wt%、好ましくは、3〜8vt%である。 OH
含有率は、おおよそ以下の2点から考慮される。
る樹脂でなければならない、 OH含有率は、通常1〜
10wt%、好ましくは、3〜8vt%である。 OH
含有率は、おおよそ以下の2点から考慮される。
(1)下引層上に積層される電荷発生層の塗工液の溶媒
に対して、下引層が溶解しない程度に硬化可能な量のO
H基が含有されること。
に対して、下引層が溶解しない程度に硬化可能な量のO
H基が含有されること。
(2)酸化ジルコニウム粒子と酸化スズ粒子の樹脂分散
を容易にさせる程度の量のOH基が含有されていること
。
を容易にさせる程度の量のOH基が含有されていること
。
結着樹脂の硬化には、脂肪族イソシアネート化合物が用
いられる。このような脂肪族イソシアネート化合物とし
ては、たとえばヘキサメチレンジイソシアネート、トリ
メチルへキサメチレンジイソシアネート、リジンイソシ
アネート等が挙げられる。また本発明においては、イソ
シアネート化合物モノマーをポリオールに付加させたイ
ソシアネートアダクト体も使用することができる。
いられる。このような脂肪族イソシアネート化合物とし
ては、たとえばヘキサメチレンジイソシアネート、トリ
メチルへキサメチレンジイソシアネート、リジンイソシ
アネート等が挙げられる。また本発明においては、イソ
シアネート化合物モノマーをポリオールに付加させたイ
ソシアネートアダクト体も使用することができる。
このようなインシアネートアダクト体としては。
例えば、トリメチロールプロパンにヘキサメチレンジイ
ソシアネートを3分子付加した以下の構造を成分にもつ
アダクト体、 ヘキサメチレンジイソシアネートと水を反応させたビウ
レット、3分子の脂肪族イソシアネートモノマーが重合
したイソシアヌレート類1例えば。
ソシアネートを3分子付加した以下の構造を成分にもつ
アダクト体、 ヘキサメチレンジイソシアネートと水を反応させたビウ
レット、3分子の脂肪族イソシアネートモノマーが重合
したイソシアヌレート類1例えば。
ヘキサメチレンジイソシアネートが3分子重合した以下
の構造等があげられる。
の構造等があげられる。
川
(、H,、−原力
これらのイソシアネート化合物は、OH基を含有する高
分子化合物と熱架橋反応して、硬化塗膜になる。この場
合、O)1基有量に見合った量(当量)のイソシアネー
ト化合物を添加する必要がある。
分子化合物と熱架橋反応して、硬化塗膜になる。この場
合、O)1基有量に見合った量(当量)のイソシアネー
ト化合物を添加する必要がある。
しかし、酸化ジルコニウム粒子及び酸化スズ粒子には、
場合によっては、多量の吸着水が含有されかつ、加熱乾
燥によって、充分な乾燥が得られないこと、又、塗布液
に使用される溶媒中に若干ながら水分の含有があり1M
I脂に対して、イソシアネート化合物を当量添加しても
実際上不足になる。このため、未架橋の水酸基が多量に
残留したまま、下引層の硬化がなされ、結果として感光
体に対する温湿度の影響がより大きなものとして現われ
る。
場合によっては、多量の吸着水が含有されかつ、加熱乾
燥によって、充分な乾燥が得られないこと、又、塗布液
に使用される溶媒中に若干ながら水分の含有があり1M
I脂に対して、イソシアネート化合物を当量添加しても
実際上不足になる。このため、未架橋の水酸基が多量に
残留したまま、下引層の硬化がなされ、結果として感光
体に対する温湿度の影響がより大きなものとして現われ
る。
この場合1本発明においては、イソシアネート化合物の
添加量をイソシアネート化合物中のNGO基とポリアセ
タール樹脂中のO1l基の数の比(NGOloH)が、
1/1〜3/l、好ましくは1.2/1〜2.2/1の
範囲とすることにより温湿度の変動に対しても安定な?
iF電性が確保される。
添加量をイソシアネート化合物中のNGO基とポリアセ
タール樹脂中のO1l基の数の比(NGOloH)が、
1/1〜3/l、好ましくは1.2/1〜2.2/1の
範囲とすることにより温湿度の変動に対しても安定な?
iF電性が確保される。
N G O10H比が171未満では、上記の問題が発
生しやす<、3/1以上では、ポリアセタール樹脂本来
の良好な性質が失なわれる。
生しやす<、3/1以上では、ポリアセタール樹脂本来
の良好な性質が失なわれる。
酸化ジルコニウム粒子及び酸化スズ粒子の合計量と結着
樹脂の使用割合は5重量比で50150〜9515゜好
ましくは3/1−10/1である。使用割合が5015
0未満では効果が小さく、又、9515を越えると下引
き層に気泡が残留するため電荷発生層と電荷移動層の塗
膜に欠陥が生じるので好ましくはない。
樹脂の使用割合は5重量比で50150〜9515゜好
ましくは3/1−10/1である。使用割合が5015
0未満では効果が小さく、又、9515を越えると下引
き層に気泡が残留するため電荷発生層と電荷移動層の塗
膜に欠陥が生じるので好ましくはない。
又、下引層の膜厚は、 0.3−10μ、好ましくは0
゜5〜5.0μである。下引層の膜厚が0.3μ未満で
は、効果の発現性が乏しく、10μ以上では残留電位の
蓄積を生じるので望ましくはない。
゜5〜5.0μである。下引層の膜厚が0.3μ未満で
は、効果の発現性が乏しく、10μ以上では残留電位の
蓄積を生じるので望ましくはない。
又、酸化ジルコニウム粒子と酸化スズ粒子の使用割合は
重量比で5/1〜30/l好ましくは9/1〜20/1
更に好ましくは971〜15/1である。
重量比で5/1〜30/l好ましくは9/1〜20/1
更に好ましくは971〜15/1である。
本発明において、前記下引層を形成するには、導電性基
体上に前記の様な成分を溶解又は分散した液を塗布し、
乾燥する。乾燥条件はふつう、80〜150℃、20分
〜10時間である。
体上に前記の様な成分を溶解又は分散した液を塗布し、
乾燥する。乾燥条件はふつう、80〜150℃、20分
〜10時間である。
導電性基体としては1体積抵抗101oΩcya以下の
導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、
クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸化
スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はス
パッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラ
スチック、紙等に被覆したもの、あるいは、アルミニウ
ム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板お
よびそれらをり、1..1.1.、押出し、引抜き等の
工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等で表面処理し
た管等を使用することができる。
導電性を示すもの、例えば、アルミニウム、ニッケル、
クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金などの金属、酸化
スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はス
パッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラ
スチック、紙等に被覆したもの、あるいは、アルミニウ
ム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板お
よびそれらをり、1..1.1.、押出し、引抜き等の
工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩等で表面処理し
た管等を使用することができる。
次に、電荷発生層について説明する。
電荷発生層は、電荷発生物質を主材料とした層で、必要
に応じてバインダー樹脂を用いることもある。
に応じてバインダー樹脂を用いることもある。
バインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、
ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボ
ネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、
ポリスチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリア
クリルアミドなどが用いら九る。
ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボ
ネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブ
チラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、
ポリスチレン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリア
クリルアミドなどが用いら九る。
電荷発生物質としては1例えば、シーアイピグメントブ
ルー25[カラーインデックス((1:I)21180
]、シーアイピグメントレッド41(CI 21200
)、シーアイアシッドレッド52(CI 45100)
、シーアイベーシックレッド3(CI 45210)、
さらに、ポリフィリン骨格を有するフタロシアニン系顔
料、アズレニウム塩顔料、スクアリック塩顔料、カルバ
ゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033
号公報に記載)、スチルスチルベン骨格を有するアゾ顔
料(特開昭53−138229号公報に記載)、トリフ
ェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−13
2547号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格を有
するアゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記載)
、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54
−12742号公報に記載)、フルオレノン骨格を有す
るアゾ顔料(特開昭54−22834号公報に記載)、
ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−1
7733号公報に記載)、ジスチリルオキサジアゾール
骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−2129号公報に
記載)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料
(特開昭54−17734号公報に記載)、カルバゾー
ル骨格を有するトリアゾ顔料(特開昭57−19576
7号公報、同57−195768号公報に記載)等、さ
らに、シーアイピグメントブルー16(CI 7410
0)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウ
ン5(CI 73410)。
ルー25[カラーインデックス((1:I)21180
]、シーアイピグメントレッド41(CI 21200
)、シーアイアシッドレッド52(CI 45100)
、シーアイベーシックレッド3(CI 45210)、
さらに、ポリフィリン骨格を有するフタロシアニン系顔
料、アズレニウム塩顔料、スクアリック塩顔料、カルバ
ゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−95033
号公報に記載)、スチルスチルベン骨格を有するアゾ顔
料(特開昭53−138229号公報に記載)、トリフ
ェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−13
2547号公報に記載)、ジベンゾチオフェン骨格を有
するアゾ顔料(特開昭54−21728号公報に記載)
、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54
−12742号公報に記載)、フルオレノン骨格を有す
るアゾ顔料(特開昭54−22834号公報に記載)、
ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−1
7733号公報に記載)、ジスチリルオキサジアゾール
骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−2129号公報に
記載)、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料
(特開昭54−17734号公報に記載)、カルバゾー
ル骨格を有するトリアゾ顔料(特開昭57−19576
7号公報、同57−195768号公報に記載)等、さ
らに、シーアイピグメントブルー16(CI 7410
0)等のフタロシアニン系顔料、シーアイバットブラウ
ン5(CI 73410)。
シーアイバットダイ(CI 73030)等のインジゴ
系顔料、アルゴスカーレットB(バイオレット社製)、
インダスレンスカーレットR(バイエル社製)等のペリ
レン系顔料等の有機顔料を使用することができる。
系顔料、アルゴスカーレットB(バイオレット社製)、
インダスレンスカーレットR(バイエル社製)等のペリ
レン系顔料等の有機顔料を使用することができる。
これら電荷発生物質の中でも特にアゾ顔料が好適であり
、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスアゾ顔料あるい
はトリスアゾ顔料が最も好ましい。
、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスアゾ顔料あるい
はトリスアゾ顔料が最も好ましい。
アゾ顔料の具体例を以下に示す。
N。
これらの電荷発生物質は単独で、あるいは2種以上併用
して用いられる。
して用いられる。
バインダー樹脂は、電荷発生物質100重量部に対して
0〜100重量部用いるのが適当であり、好ましくはθ
−50重量部である。
0〜100重量部用いるのが適当であり、好ましくはθ
−50重量部である。
電荷発生層は、電荷発生物質を必要ならばAインダー樹
脂とともに、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、
ジオキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用いてボールミ
ル、アトライター、サンドミルなどにより分散し、分散
液を適度に希釈して塗布することにより形成できる。塗
布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法な
どを用いて行なうことができる。
脂とともに、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、
ジオキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用いてボールミ
ル、アトライター、サンドミルなどにより分散し、分散
液を適度に希釈して塗布することにより形成できる。塗
布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法な
どを用いて行なうことができる。
電荷発生層の膜厚は、0.O1〜5岬程度が適当であり
、好ましくは061〜2よである。
、好ましくは061〜2よである。
電荷輸送層は、電荷輸送物質および必要に応じて用いら
れるバインダー樹脂よりなる。
れるバインダー樹脂よりなる。
以上の物質を適当な溶剤に解溶ないし分散してこれを塗
布乾燥することにより電荷輸送層を形成することができ
る。
布乾燥することにより電荷輸送層を形成することができ
る。
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがあ
る。
る。
正孔輸送物質としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール
およびその誘導体、ポリーγ−カルバゾリルエチルグル
タメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド
縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニ
ルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン
誘導体、9−(P−ジエチルアミノスチリル)アントラ
セン、l、1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニル
)プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリ
ン、フ二二ルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘
導体等の電子供与性物質が挙げられる。
およびその誘導体、ポリーγ−カルバゾリルエチルグル
タメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド
縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニ
ルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン
誘導体、9−(P−ジエチルアミノスチリル)アントラ
セン、l、1−ビス−(4−ジベンジルアミノフェニル
)プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリ
ン、フ二二ルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘
導体等の電子供与性物質が挙げられる。
電子輸送物質としては、たとえば、クロルアニル、ブロ
ムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノン
ジメタン、2,4.7− トリニトロ−9−フルオレノ
ン、 2,4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノ
ン、2,4,5.7−テトラニトロキサントン、2,4
゜8−トリニドロチオキサントン、 2,6.8− ト
リニトロ−4H−インデノ(1,2−b)チオフェン−
4−オン、1,3.7−ドリニトロジベンゾチオフエノ
ンー5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げ
られる。
ムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノン
ジメタン、2,4.7− トリニトロ−9−フルオレノ
ン、 2,4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノ
ン、2,4,5.7−テトラニトロキサントン、2,4
゜8−トリニドロチオキサントン、 2,6.8− ト
リニトロ−4H−インデノ(1,2−b)チオフェン−
4−オン、1,3.7−ドリニトロジベンゾチオフエノ
ンー5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げ
られる。
これらの電荷輸送物質は、単独又は2種以上混合して用
いられる。
いられる。
また、本発明において必要に応じて用いられるバインダ
ー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニ
トリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体、スチ
レン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ボリアリレート樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂
、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリーN−ビ
とル力ルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール
樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂
が挙げられる。
ー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニ
トリル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体、スチ
レン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸
ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ボリアリレート樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂
、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリーN−ビ
とル力ルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール
樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂
が挙げられる。
溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トル
エン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチ
レンなどが用いられる。
エン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチ
レンなどが用いられる。
電荷輸送層の厚さは5〜100声程度が適当である。
また、本発明において電荷輸送層中に可塑剤やレベリン
グ剤を添加してもよい、可塑剤としては、ジブチルフタ
レート、ジオクチルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤
として使用されているものがそのまま使用でき、その使
用量は、バインダー樹脂に対して0〜30重i%程度が
適当である。レベリング剤としては、ジメチルシリコー
ンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリ
コーンオイル類が使用され、その使用量はバインダー樹
脂に対して、O−1重量ぶ程度が適当である。
グ剤を添加してもよい、可塑剤としては、ジブチルフタ
レート、ジオクチルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤
として使用されているものがそのまま使用でき、その使
用量は、バインダー樹脂に対して0〜30重i%程度が
適当である。レベリング剤としては、ジメチルシリコー
ンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリ
コーンオイル類が使用され、その使用量はバインダー樹
脂に対して、O−1重量ぶ程度が適当である。
なお、本発明において、感光層の上にさらに絶縁層や保
護層を設けることも可能である。
護層を設けることも可能である。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例I
Aj2板上に下記の下引層塗工液を浸漬塗工し。
120℃で30分間乾燥して膜厚2.0−の酸化ジルコ
ニウム及び酸化スズを含有する下引層を形成した。
ニウム及び酸化スズを含有する下引層を形成した。
ブチラール樹脂(エスレックBL−1:種水化学工業社
)の5.7重量2シクロヘキサノン溶液525gと下記
の処方によりフッ素系表面処理剤で表面処理した酸化ジ
ルコニウム(第1希元素工業社製)420gと酸化スズ
(三菱金属社製)をボールミルボット(15φ1硬質ガ
ラス)に投入し、PSzボール(部分安定ジルコニア製
)を内容量の約半分まで充填し、100時間ボールミル
分散した。
)の5.7重量2シクロヘキサノン溶液525gと下記
の処方によりフッ素系表面処理剤で表面処理した酸化ジ
ルコニウム(第1希元素工業社製)420gと酸化スズ
(三菱金属社製)をボールミルボット(15φ1硬質ガ
ラス)に投入し、PSzボール(部分安定ジルコニア製
)を内容量の約半分まで充填し、100時間ボールミル
分散した。
(酸化ジルコニウムと酸化スズの表面処理)C,FL、
、C00C,H,5i(OCH,)、の2,0重量%メ
タノール溶液1Ωに120℃で24時間乾燥した酸化ジ
ルコニウム粒子(ZrO,−HP型)500gを混入し
、撹拌した。ついでこの液をろ過し、ろ逸物を大量のメ
タノールで洗浄した後、120℃で1時間、乾燥してフ
ッ素系表面処理剤で表面処理された酸化ジルコニウムを
得た。全つく同様な処方によって表面処理された酸化ス
ズを得た。
、C00C,H,5i(OCH,)、の2,0重量%メ
タノール溶液1Ωに120℃で24時間乾燥した酸化ジ
ルコニウム粒子(ZrO,−HP型)500gを混入し
、撹拌した。ついでこの液をろ過し、ろ逸物を大量のメ
タノールで洗浄した後、120℃で1時間、乾燥してフ
ッ素系表面処理剤で表面処理された酸化ジルコニウムを
得た。全つく同様な処方によって表面処理された酸化ス
ズを得た。
このミルベース129gにメチルエチルケトン125g
を加えて希釈後、ヘキサメチレンジイソシアネート4.
5gと、ブチラール樹脂液(BL−1,10wt%シク
ロヘキサノン溶液)を67g加えて、インシアネート基
と水酸基のモル比を1.5:1(NGO10H=1.5
/1)に、かつ酸化ジルコニウム粒子及び酸化スズの合
計量と結着樹脂の重量比を5:1に調製し、下引層塗工
液を作成した。
を加えて希釈後、ヘキサメチレンジイソシアネート4.
5gと、ブチラール樹脂液(BL−1,10wt%シク
ロヘキサノン溶液)を67g加えて、インシアネート基
と水酸基のモル比を1.5:1(NGO10H=1.5
/1)に、かつ酸化ジルコニウム粒子及び酸化スズの合
計量と結着樹脂の重量比を5:1に調製し、下引層塗工
液を作成した。
次にこの下引層上に、下記電荷発生層塗工液をデツピン
グコートし、120℃10分乾燥後、膜厚0.7μの電
荷発生層を形成した。
グコートし、120℃10分乾燥後、膜厚0.7μの電
荷発生層を形成した。
(電荷発生層塗工液)
15φロ硬化ガラスポツト中に、PSzボールを、内容
量の約半分まで投入し、次に前記アゾ顔料Nα3925
gと、シクロへキサノン415gを投入した。50時間
のボールミリング後、更にシクロへキサノン560gを
加えて24時間ボールミリングした。このミルベースに
シクロヘキサノンを加えて約2.0wt%まで希釈し電
荷発生層塗工液を作成した。
量の約半分まで投入し、次に前記アゾ顔料Nα3925
gと、シクロへキサノン415gを投入した。50時間
のボールミリング後、更にシクロへキサノン560gを
加えて24時間ボールミリングした。このミルベースに
シクロヘキサノンを加えて約2.0wt%まで希釈し電
荷発生層塗工液を作成した。
次に、前記電荷発生層上に、下記電荷移動層塗工液をデ
ツピングコートし、120℃20分乾燥して、膜厚20
胛の電荷輸送層を設け、本発明の電子写真用感光体を得
た。
ツピングコートし、120℃20分乾燥して、膜厚20
胛の電荷輸送層を設け、本発明の電子写真用感光体を得
た。
(電荷輸送層塗工液)
下記構造式の電荷移動材料 20gテトラ
ヒドロフラン 60g 実施例2 実施例1において、下引層塗工液用のミルベースの量を
157gに、メチルエチルケトンの量を115g、ヘキ
サメチレンジイソシアネートの量を3.7gに、ブチラ
ール樹脂の量を39gに代えた以外は実施例1と同様の
方法で電子写真感光体を作成した。
ヒドロフラン 60g 実施例2 実施例1において、下引層塗工液用のミルベースの量を
157gに、メチルエチルケトンの量を115g、ヘキ
サメチレンジイソシアネートの量を3.7gに、ブチラ
ール樹脂の量を39gに代えた以外は実施例1と同様の
方法で電子写真感光体を作成した。
実施例3
実施例1において、酸化ジルコニウム及び酸化(三菱金
属社製)を用い、又、下引層塗工液用ミルベースの量を
151’1g、メチルエチルケトンの量を115g、ヘ
キサメチレンジイソシアネートの量を3.7g、ブチラ
ール樹脂の量を38gに代えた以外は実施例1と同様の
方法で電子写真感光体を作成した。
属社製)を用い、又、下引層塗工液用ミルベースの量を
151’1g、メチルエチルケトンの量を115g、ヘ
キサメチレンジイソシアネートの量を3.7g、ブチラ
ール樹脂の量を38gに代えた以外は実施例1と同様の
方法で電子写真感光体を作成した。
実施例4
実施例1において、電荷発生材料であるアゾ顔料をNa
39からNalに代え、かつ酸化ジルコニウム及び酸化
スズの表面処理剤をC,Fl、−C□H,−COOHに
代え、更に下引層塗工液用ミルベースの仕込みにおいて
、酸化ジルコニウムと酸化スズの割合を971から67
1に代え、又、下引層塗工液ミルベースを161g、メ
チルエチルケトンを110g、ヘキサメチレンジイソシ
アネートを5.2g、ブチラール樹脂液を44gに代え
て塗工液を作成した以外は実施例1と同様にして電子写
真感光体を作成した。
39からNalに代え、かつ酸化ジルコニウム及び酸化
スズの表面処理剤をC,Fl、−C□H,−COOHに
代え、更に下引層塗工液用ミルベースの仕込みにおいて
、酸化ジルコニウムと酸化スズの割合を971から67
1に代え、又、下引層塗工液ミルベースを161g、メ
チルエチルケトンを110g、ヘキサメチレンジイソシ
アネートを5.2g、ブチラール樹脂液を44gに代え
て塗工液を作成した以外は実施例1と同様にして電子写
真感光体を作成した。
実施例5
実施例2において、電荷発生材料のアゾ顔料をNo39
からNotに代え、かつ酸化ジルコニウムと酸化スズの
表面処理剤を、C,F□、−C,H,−COOHに代え
、更に下引層塗工液用ミルベースの仕込みにおいて、酸
化ジルコニウムと酸化スズの割合を971から1271
に代え、又、下引層塗工液用ミルベースを161g、メ
チルエチルケトンを110g、ヘキサメチレンジイソシ
アネートを7.0g、ブチラール樹脂液を33gに代え
て塗工液を作成した以外は実施例2と同様にして電子写
真感光体を作成した。
からNotに代え、かつ酸化ジルコニウムと酸化スズの
表面処理剤を、C,F□、−C,H,−COOHに代え
、更に下引層塗工液用ミルベースの仕込みにおいて、酸
化ジルコニウムと酸化スズの割合を971から1271
に代え、又、下引層塗工液用ミルベースを161g、メ
チルエチルケトンを110g、ヘキサメチレンジイソシ
アネートを7.0g、ブチラール樹脂液を33gに代え
て塗工液を作成した以外は実施例2と同様にして電子写
真感光体を作成した。
実施例6
実施例3において、電荷発生材料のアゾ顔料をNo39
からNolに代え、かつ酸化ジルコニウムと酸代え、更
に下引層塗工液用ミルベースを122gに、メチルエチ
ルケトンを128gにヘキサメチレンジイソシアネート
3.2g、ブチラール樹脂を75gに代えた以外は実施
例3と同様にして電子写真感光体を作成した。
からNolに代え、かつ酸化ジルコニウムと酸代え、更
に下引層塗工液用ミルベースを122gに、メチルエチ
ルケトンを128gにヘキサメチレンジイソシアネート
3.2g、ブチラール樹脂を75gに代えた以外は実施
例3と同様にして電子写真感光体を作成した。
比較例1
実施例1において0、フッ素系表面処理剤で表面処理さ
れていない通常の酸化ジルコニウムと酸化スズ粒子を用
い、下引層塗工液用ミルベースを122g、メチルエチ
ルケトンを128g、ヘキサメチレンジイソシアネート
3.2g、ブチラール樹脂を74.5gに代えた以外は
実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
れていない通常の酸化ジルコニウムと酸化スズ粒子を用
い、下引層塗工液用ミルベースを122g、メチルエチ
ルケトンを128g、ヘキサメチレンジイソシアネート
3.2g、ブチラール樹脂を74.5gに代えた以外は
実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
以上の様にして作成した各電子写真感光体を市販の静電
複写紙試験装置(川口電気製作所5P−428)を用い
て、−6KVのコロナ放電を20秒間行なって帯電させ
、感光体の表面電位V票を測定し、更に、20秒間暗所
に放置した後、表面電位Voを測定した。
複写紙試験装置(川口電気製作所5P−428)を用い
て、−6KVのコロナ放電を20秒間行なって帯電させ
、感光体の表面電位V票を測定し、更に、20秒間暗所
に放置した後、表面電位Voを測定した。
次いで、タングステンランプ光を感光体表面での照度が
4 、5!uxになる様に照射してvOが1/2になる
までの露光量E1/2及び30秒後の残留電位Vrとを
測定した。またくり返し疲労特性を知るために上記装置
で−7,5KVでの帯電と30ルツクスでの露光を1時
間くり返して疲労後の表面電位y/、1表面電位V’o
、露光量E’ 1/2および残留表面電位V’rを測定
した。常温室温下(25℃、55%R)I)、低温低湿
(10℃、15%R)l)及び高温高湿下(30℃、9
0%RH)の結果を各々表−1、表−2及び表−3に示
す。
4 、5!uxになる様に照射してvOが1/2になる
までの露光量E1/2及び30秒後の残留電位Vrとを
測定した。またくり返し疲労特性を知るために上記装置
で−7,5KVでの帯電と30ルツクスでの露光を1時
間くり返して疲労後の表面電位y/、1表面電位V’o
、露光量E’ 1/2および残留表面電位V’rを測定
した。常温室温下(25℃、55%R)I)、低温低湿
(10℃、15%R)l)及び高温高湿下(30℃、9
0%RH)の結果を各々表−1、表−2及び表−3に示
す。
表−2(低温儂(支)
表−3(高温高l
−ザブリンター等の可干渉性光を用いた露光においても
、光干渉による異常画像の発生を防止することができる
。
、光干渉による異常画像の発生を防止することができる
。
特許出顕人 株式会社 リ コ 一代 理 人 弁
理士 池浦敏明(ほか1名また、実施例2及び実施例3
の電子写真感光体をドラム形状にしたものをレーザービ
ームプリンターに取り付け、(30℃、90%RH)、
(15℃、 20%RH)の環境下にて、 5000枚
の連続プリント動作をさせ電子写真感光体にくり返し疲
労を与え1画質を評価した。連続プリント後において、
初期と同様の劣化のない鮮明な画像が得られた。
理士 池浦敏明(ほか1名また、実施例2及び実施例3
の電子写真感光体をドラム形状にしたものをレーザービ
ームプリンターに取り付け、(30℃、90%RH)、
(15℃、 20%RH)の環境下にて、 5000枚
の連続プリント動作をさせ電子写真感光体にくり返し疲
労を与え1画質を評価した。連続プリント後において、
初期と同様の劣化のない鮮明な画像が得られた。
本発明の電子写真感光体は、基板上に、フッ素表面処理
剤で表面処理された酸化ジルコニウム粒子及び酸化スズ
粒子と好ましくは脂肪族インシアネート化合物で、 N
GO10H比を115〜5/1の割合で反応硬化したポ
リアセタール樹脂を結着樹脂とする下引層を設けたこと
により、高感度であるとともに、帯電露光のくり返し後
においても、帯電4位立上がりが速く、かつ残留電位の
小さいという顕著な特性を有する。
剤で表面処理された酸化ジルコニウム粒子及び酸化スズ
粒子と好ましくは脂肪族インシアネート化合物で、 N
GO10H比を115〜5/1の割合で反応硬化したポ
リアセタール樹脂を結着樹脂とする下引層を設けたこと
により、高感度であるとともに、帯電露光のくり返し後
においても、帯電4位立上がりが速く、かつ残留電位の
小さいという顕著な特性を有する。
また1本発明の電子写真感光体は、温湿度に対する電気
的特性の変化が著しく小さいものである。
的特性の変化が著しく小さいものである。
Claims (2)
- (1)導電性基板上に下引層、電荷発生層及び電荷輸送
層を順次積層した電子写真感光体において、下引層がフ
ッ素系表面処理剤で表面処理された酸化ジルコニウム粒
子及び酸化スズ粒子と結着樹脂からなることを特徴とす
る電子写真用感光体。 - (2)結着樹脂がポリビニルアセタール樹脂と脂肪族イ
ソシアネートを配合し、反応硬化させた樹脂である特許
請求の範囲第1項記載の電子写真用感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14992189A JPH0313959A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14992189A JPH0313959A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 電子写真用感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0313959A true JPH0313959A (ja) | 1991-01-22 |
Family
ID=15485493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14992189A Pending JPH0313959A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0313959A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008116659A (ja) * | 2006-11-02 | 2008-05-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
-
1989
- 1989-06-12 JP JP14992189A patent/JPH0313959A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008116659A (ja) * | 2006-11-02 | 2008-05-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
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