JPH04229872A - 電子写真用感光体 - Google Patents
電子写真用感光体Info
- Publication number
- JPH04229872A JPH04229872A JP11263191A JP11263191A JPH04229872A JP H04229872 A JPH04229872 A JP H04229872A JP 11263191 A JP11263191 A JP 11263191A JP 11263191 A JP11263191 A JP 11263191A JP H04229872 A JPH04229872 A JP H04229872A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- resin
- charge
- treated
- silane compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 48
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 48
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 38
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 24
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 19
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 77
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 25
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 23
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 22
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 14
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 5
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 2,4,7-trinitrofluoren-9-one Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3C(=O)C2=C1 VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SXQCTESRRZBPHJ-UHFFFAOYSA-M lissamine rhodamine Chemical compound [Na+].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1S([O-])(=O)=O SXQCTESRRZBPHJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 2
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- WQGWMEKAPOBYFV-UHFFFAOYSA-N 1,5,7-trinitrothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C(=O)C3=CC([N+](=O)[O-])=CC([N+]([O-])=O)=C3SC2=C1 WQGWMEKAPOBYFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 1-[(e)-2-phenylethenyl]anthracene Chemical compound C=1C=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C2C=1\C=C\C1=CC=CC=C1 VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- FIADVASZMLCQIF-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6,8,8-octamethyl-1,3,5,7,2,4,6,8-tetrazatetrasilocane Chemical compound C[Si]1(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N1 FIADVASZMLCQIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGGNJZRNHUJNEM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexamethyl-1,3,5,2,4,6-triazatrisilinane Chemical compound C[Si]1(C)N[Si](C)(C)N[Si](C)(C)N1 WGGNJZRNHUJNEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOERSAVCLPYNIZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,5,7-tetranitrofluoren-9-one Chemical compound O=C1C2=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C2C2=C1C=C([N+](=O)[O-])C=C2[N+]([O-])=O JOERSAVCLPYNIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVNMKGQIOLSWHJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,5,7-tetranitroxanthen-9-one Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)C3=CC([N+](=O)[O-])=CC([N+]([O-])=O)=C3OC2=C1[N+]([O-])=O FVNMKGQIOLSWHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNGDCMHTNXRQQD-UHFFFAOYSA-N 3,6-dioxocyclohexa-1,4-diene-1,2,4,5-tetracarbonitrile Chemical compound O=C1C(C#N)=C(C#N)C(=O)C(C#N)=C1C#N JNGDCMHTNXRQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLQYLLIGYDFCGY-UHFFFAOYSA-N 4-(2-anthracen-9-ylethenyl)-n,n-diethylaniline Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=C(C=CC=C2)C2=CC2=CC=CC=C12 CLQYLLIGYDFCGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical group CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRZQGDNQQAALAY-UHFFFAOYSA-N Methyl benzeneacetate Chemical compound COC(=O)CC1=CC=CC=C1 CRZQGDNQQAALAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKFRUJSEPGHZFJ-UHFFFAOYSA-N N-trimethylsilylimidazole Chemical compound C[Si](C)(C)N1C=CN=C1 YKFRUJSEPGHZFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003074 TiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003082 TiO2-SiO2 Inorganic materials 0.000 description 1
- MKYQPGPNVYRMHI-UHFFFAOYSA-N Triphenylethylene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MKYQPGPNVYRMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000411 antimony tetroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXOSTENCGSDMRE-UHFFFAOYSA-N butyl-chloro-dimethylsilane Chemical compound CCCC[Si](C)(C)Cl MXOSTENCGSDMRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001787 chalcogens Chemical class 0.000 description 1
- MRQIXHXHHPWVIL-UHFFFAOYSA-N chembl1397023 Chemical compound OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC1=CC=CC=C1 MRQIXHXHHPWVIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZGREZWGCWVAEE-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-octadecylsilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(C)Cl GZGREZWGCWVAEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000002482 conductive additive Substances 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N dibenzothiophene Chemical group C1=CC=CC=2[34S]C3=C(C=21)C=CC=C3 IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000003631 expected effect Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical group C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195712 glutamate Natural products 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- GACNTLAEHODJKY-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzyl-4-[1-[4-(dibenzylamino)phenyl]propyl]aniline Chemical compound C=1C=C(N(CC=2C=CC=CC=2)CC=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(CC)C(C=C1)=CC=C1N(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 GACNTLAEHODJKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000007978 oxazole derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910003446 platinum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001470 polyketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920006215 polyvinyl ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920002102 polyvinyl toluene Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical group 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- RCYFOPUXRMOLQM-UHFFFAOYSA-N pyrene-1-carbaldehyde Chemical compound C1=C2C(C=O)=CC=C(C=C3)C2=C2C3=CC=CC2=C1 RCYFOPUXRMOLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoethylene Chemical group N#CC(C#N)=C(C#N)C#N NLDYACGHTUPAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-methylpropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC(C)C XYJRNCYWTVGEEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FTVLMFQEYACZNP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound C[Si](C)(C)OS(=O)(=O)C(F)(F)F FTVLMFQEYACZNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001651 triphenylamine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000006617 triphenylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板、下引き層及び電
荷発生層、電荷輸送層からなる感光層から構成される電
子写真感光体に関し、特に下引き層を改良した電子写真
感光体に関する。
荷発生層、電荷輸送層からなる感光層から構成される電
子写真感光体に関し、特に下引き層を改良した電子写真
感光体に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子写真複写機に使用される感光
体として、低価格、生産性及び無公害等の利点を有する
有機系の感光材料を用いたものが普及しはじめている。 有機系の電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾール
(PVK)に代表される光導電性樹脂、PVK−TNF
(2,4,7−トリニトロフルオレノン)に代表される
電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表さ
れる顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組合
せて用いる機能分離型の感光体などが知られており、特
に機能分離型の感光体が注目されている。この様な機能
分離型の高感度感光体を、カールソンプロセスに適用し
た場合、帯電性が低く、電荷保持性が悪い(暗減衰が大
きい)上、繰返し使用による残留電位上昇等これら特性
の劣化が大きく、画像上に濃度ムラ、カブリ、また反転
現像の場合、地汚れを生じるという欠点を有している。
体として、低価格、生産性及び無公害等の利点を有する
有機系の感光材料を用いたものが普及しはじめている。 有機系の電子写真感光体には、ポリビニルカルバゾール
(PVK)に代表される光導電性樹脂、PVK−TNF
(2,4,7−トリニトロフルオレノン)に代表される
電荷移動錯体型、フタロシアニン−バインダーに代表さ
れる顔料分散型、電荷発生物質と電荷輸送物質とを組合
せて用いる機能分離型の感光体などが知られており、特
に機能分離型の感光体が注目されている。この様な機能
分離型の高感度感光体を、カールソンプロセスに適用し
た場合、帯電性が低く、電荷保持性が悪い(暗減衰が大
きい)上、繰返し使用による残留電位上昇等これら特性
の劣化が大きく、画像上に濃度ムラ、カブリ、また反転
現像の場合、地汚れを生じるという欠点を有している。
【0003】この様な感光体の電気特性の改良、感光層
と支持体の接着性の改良、感光層の塗工性の改良、また
は、支持体の欠陥保護などのために、例えば、特開昭4
7−6341、48−3544および48−12034
号には硝酸セルロース系樹脂中間層が、特開昭48−4
7344、52−25638、58−30757、58
−63945、58−95351、58−98739お
よび60−66258号にはナイロン系樹脂中間層が、
特開昭49−69332および52−10138号には
マレイン酸系樹脂中間層が、そして特開昭58−105
155号にはポリビニルアルコール樹脂中間層がそれぞ
れ開示されている。また、中間層の電気抵抗を制御すべ
く種々の導電性添加物を樹脂中に含有させた中間層が提
案されている。例えば、特開昭51−65942号には
カーボンまたはカルコゲン系物質を硬化性樹脂に分散し
た中間層が、特開昭52−82238号には四級アンモ
ニウム塩を添加してイソシアネート系硬化剤を用いた熱
重合体中間層が、特開昭55−118045号には抵抗
調節剤を添加した樹脂中間層が、特開昭58−5855
6号にはアルミニウムまたはスズの酸化物を分散した樹
脂中間層が、特開昭58−93062号には有機金属化
合物を添加した樹脂中間層が、特開昭58−93063
、60−97363および60−111255号には導
電性粒子を分散した樹脂中間層が、特開昭59−175
57号にはマグネタイトを樹脂中に分散した層が、さら
に特開昭59−84257、59−93453および6
0−32054号にはTiO2とSnO2粉体とを分散
した樹脂中間層が又、特開昭64−68762、64−
68763、64−73352、64−73353、特
開平1−118849、特開平1−118848にはカ
ルシウム、マグネシウム、アルミニウム等のホウ化物、
窒化物、フッ化物、酸化物の粉体を分散した樹脂の中間
層が開示されている。
と支持体の接着性の改良、感光層の塗工性の改良、また
は、支持体の欠陥保護などのために、例えば、特開昭4
7−6341、48−3544および48−12034
号には硝酸セルロース系樹脂中間層が、特開昭48−4
7344、52−25638、58−30757、58
−63945、58−95351、58−98739お
よび60−66258号にはナイロン系樹脂中間層が、
特開昭49−69332および52−10138号には
マレイン酸系樹脂中間層が、そして特開昭58−105
155号にはポリビニルアルコール樹脂中間層がそれぞ
れ開示されている。また、中間層の電気抵抗を制御すべ
く種々の導電性添加物を樹脂中に含有させた中間層が提
案されている。例えば、特開昭51−65942号には
カーボンまたはカルコゲン系物質を硬化性樹脂に分散し
た中間層が、特開昭52−82238号には四級アンモ
ニウム塩を添加してイソシアネート系硬化剤を用いた熱
重合体中間層が、特開昭55−118045号には抵抗
調節剤を添加した樹脂中間層が、特開昭58−5855
6号にはアルミニウムまたはスズの酸化物を分散した樹
脂中間層が、特開昭58−93062号には有機金属化
合物を添加した樹脂中間層が、特開昭58−93063
、60−97363および60−111255号には導
電性粒子を分散した樹脂中間層が、特開昭59−175
57号にはマグネタイトを樹脂中に分散した層が、さら
に特開昭59−84257、59−93453および6
0−32054号にはTiO2とSnO2粉体とを分散
した樹脂中間層が又、特開昭64−68762、64−
68763、64−73352、64−73353、特
開平1−118849、特開平1−118848にはカ
ルシウム、マグネシウム、アルミニウム等のホウ化物、
窒化物、フッ化物、酸化物の粉体を分散した樹脂の中間
層が開示されている。
【0004】しかしながら、従来公知の電子写真用感光
体は繰り返し使用による帯電性の低下、とりわけ帯電々
位の立上りの遅れに関しては未だに不充分であり、しか
も残留電位の上昇が大きく、より一層の改良が切望され
ている。
体は繰り返し使用による帯電性の低下、とりわけ帯電々
位の立上りの遅れに関しては未だに不充分であり、しか
も残留電位の上昇が大きく、より一層の改良が切望され
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高感度であ
るとともに前露光疲労による帯電性の低下が著しく小さ
く、しかも帯電と露光の繰り返し後においても帯電電位
の立上りの遅れがなく、かつ残留電位の変化が小さい電
子写真用感光体を提供することを目的とする。
るとともに前露光疲労による帯電性の低下が著しく小さ
く、しかも帯電と露光の繰り返し後においても帯電電位
の立上りの遅れがなく、かつ残留電位の変化が小さい電
子写真用感光体を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によれば導電性基
体上に、下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次積層
してなる電子写真感光体において、該下引層中にシラン
化合物で処理された金属酸化物粒子と結着剤樹脂を含有
させたことを特徴とする電子写真感光体が提供される。
体上に、下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次積層
してなる電子写真感光体において、該下引層中にシラン
化合物で処理された金属酸化物粒子と結着剤樹脂を含有
させたことを特徴とする電子写真感光体が提供される。
【0007】本発明者らは、導電性基体上に下引層、電
荷発生層及び電荷輸送層を順次積層してなる電子写真用
感光体の下引層に着目して前記欠点を解消すべく鋭意検
討した結果、該下引層にシラン化合物で処理された前記
金属酸化物の少なくとも1種を含有させることによって
繰り返し使用後の帯電々位の立上りの遅れがなく、かつ
残留電位の上昇が小さい電子写真感光体が得られる事を
見い出し、本発明を完成するに至った。
荷発生層及び電荷輸送層を順次積層してなる電子写真用
感光体の下引層に着目して前記欠点を解消すべく鋭意検
討した結果、該下引層にシラン化合物で処理された前記
金属酸化物の少なくとも1種を含有させることによって
繰り返し使用後の帯電々位の立上りの遅れがなく、かつ
残留電位の上昇が小さい電子写真感光体が得られる事を
見い出し、本発明を完成するに至った。
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいては、前記した様に導電性基体と感光層との間にシ
ラン化合物で処理された金属酸化物粒子を結着樹脂中に
分散された状態で含有されている下引層を設ける。かか
る下引層に含有されるシラン化合物で処理されうる金属
酸化物粒子としては、表面無処理又は処理された酸化チ
タン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アル
ミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ベ
リリウム、酸化ケイ素、酸化アンチモン、酸化第2鉄、
酸化ジルコニウム等が挙げられるが、酸化チタン、酸化
スズが好ましく使用される。また、これらの金属酸化物
の一種又は二種以上の複合金属酸化物も使用できる。
おいては、前記した様に導電性基体と感光層との間にシ
ラン化合物で処理された金属酸化物粒子を結着樹脂中に
分散された状態で含有されている下引層を設ける。かか
る下引層に含有されるシラン化合物で処理されうる金属
酸化物粒子としては、表面無処理又は処理された酸化チ
タン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アル
ミニウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ベ
リリウム、酸化ケイ素、酸化アンチモン、酸化第2鉄、
酸化ジルコニウム等が挙げられるが、酸化チタン、酸化
スズが好ましく使用される。また、これらの金属酸化物
の一種又は二種以上の複合金属酸化物も使用できる。
【0009】このような複合金属酸化物としては、例え
ば、TiO2−ZnO、TiO2−SiO2、TiO2
−SnO2、TiO2−MgO、TiO2−ZrO2、
ZrO−ZrO2、ZnO−Sb2O3、SnO2−V
2O5、SnO2−CuO、SnO2−Sb2O4など
が挙げられる。これらの化合物たとえばTiO2−Zn
Oを得るには、TiCl4を水に溶かした液と、ZnC
l2を水に溶かした溶液をまぜ、尿素を加えて撹拌し、
その後溶液を95〜98℃に加熱し、得られた共沈殿物
を濾過し、蒸留水で良く洗浄した後、沈殿を乾燥後40
0〜600℃で数時間焼成する方法等を採用すればよい
。
ば、TiO2−ZnO、TiO2−SiO2、TiO2
−SnO2、TiO2−MgO、TiO2−ZrO2、
ZrO−ZrO2、ZnO−Sb2O3、SnO2−V
2O5、SnO2−CuO、SnO2−Sb2O4など
が挙げられる。これらの化合物たとえばTiO2−Zn
Oを得るには、TiCl4を水に溶かした液と、ZnC
l2を水に溶かした溶液をまぜ、尿素を加えて撹拌し、
その後溶液を95〜98℃に加熱し、得られた共沈殿物
を濾過し、蒸留水で良く洗浄した後、沈殿を乾燥後40
0〜600℃で数時間焼成する方法等を採用すればよい
。
【0010】これら金属酸化物粉体は好ましくは平均粒
径1.0μm以下の粉粒体であり、酸化物の結晶系は特
に限定されるものではない。又、下引層に所望される導
電性能を得るために、粉体に比抵抗の異なるものを2種
以上を適宜選択して使用することができる。
径1.0μm以下の粉粒体であり、酸化物の結晶系は特
に限定されるものではない。又、下引層に所望される導
電性能を得るために、粉体に比抵抗の異なるものを2種
以上を適宜選択して使用することができる。
【0011】本発明の電子写真感光体のもう1つの特徴
は前記金属酸化物をシラン化合物で処理することにより
金属酸化物に撥水性を付与すると同時に、結着剤樹脂中
への分散性、又は、相溶性を高める事により、下引層用
塗工液の分散安定性および塗膜の均一性を高め、併せて
導電性能を期待される効果まで高めることにある。
は前記金属酸化物をシラン化合物で処理することにより
金属酸化物に撥水性を付与すると同時に、結着剤樹脂中
への分散性、又は、相溶性を高める事により、下引層用
塗工液の分散安定性および塗膜の均一性を高め、併せて
導電性能を期待される効果まで高めることにある。
【0012】本発明で使用するシラン化合物は、使用す
る樹脂との相溶性を考慮して適宜選択使用することがで
きるが、たとえば以下に示すような化合物が挙げられる
。メチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジ
メチルジクロロシラン、n−ブチルジメチルクロロシラ
ン、ジメチルオクタデシルクロロシラン、フェニルトリ
クロロシラン等のクロロシラン類:テトラメトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメト
キシシラン、オクチルトリメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、イソブチ
ルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン類:ヘキ
サメチルジシランザン、1,1,3,3,5,5−ヘキ
サメチルシクロトリシラザン、オクタメチルシクロテト
ラシラザン等のシラザン類、又、N,O−(ビストリメ
チルシリル)アセトアミド、N,N′−ビス(トリメチ
ルシリル)−N,メチル−N−トリメチルシリルトリフ
ルオロアセトアミド、ウレア、tert−ブチルジメチ
ルクロロシラン、N−トリメチルシリルイミダゾール、
トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート等の
特殊シリル化剤; C4F9CH2CH2Si(OCH2
)3、 C8F17CH2CH2Si(
OCH3)3、 C8F17CH2CH
2Si(CH3)(OCH3)2、 C
7F15COOCH2CH2CH2Si(OCH3)3
、 C7F15COSCH2CH2CH
2Si(OCH3)3、 C7F15C
ONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3、
C7F15CONHCH2CH2CH2S
i(OCH3)3、 C8F17SO2
NHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3、
C8F17SO2NCH2CH2CH2Si
(OCH3)3、
| C
H2CH2CH3 C8F17CH2C
H2SCH2CH2Si(OCH3)3、
C10F21CH2CH2SCH2CH2Si(O
CH3)3、 C7F15CONHCH
2CH2NCH2CH2CH2Si(OCH3)3、
|
COC7F15
C8F17SO2NHCH2CH2NCH
2CH2CH2Si(OCH3)3、
|
SO2C8F17 等のフッ素含有シラン化合物。
る樹脂との相溶性を考慮して適宜選択使用することがで
きるが、たとえば以下に示すような化合物が挙げられる
。メチルトリクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジ
メチルジクロロシラン、n−ブチルジメチルクロロシラ
ン、ジメチルオクタデシルクロロシラン、フェニルトリ
クロロシラン等のクロロシラン類:テトラメトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメト
キシシラン、オクチルトリメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエ
トキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、イソブチ
ルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン類:ヘキ
サメチルジシランザン、1,1,3,3,5,5−ヘキ
サメチルシクロトリシラザン、オクタメチルシクロテト
ラシラザン等のシラザン類、又、N,O−(ビストリメ
チルシリル)アセトアミド、N,N′−ビス(トリメチ
ルシリル)−N,メチル−N−トリメチルシリルトリフ
ルオロアセトアミド、ウレア、tert−ブチルジメチ
ルクロロシラン、N−トリメチルシリルイミダゾール、
トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート等の
特殊シリル化剤; C4F9CH2CH2Si(OCH2
)3、 C8F17CH2CH2Si(
OCH3)3、 C8F17CH2CH
2Si(CH3)(OCH3)2、 C
7F15COOCH2CH2CH2Si(OCH3)3
、 C7F15COSCH2CH2CH
2Si(OCH3)3、 C7F15C
ONHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3、
C7F15CONHCH2CH2CH2S
i(OCH3)3、 C8F17SO2
NHCH2CH2CH2Si(OC2H5)3、
C8F17SO2NCH2CH2CH2Si
(OCH3)3、
| C
H2CH2CH3 C8F17CH2C
H2SCH2CH2Si(OCH3)3、
C10F21CH2CH2SCH2CH2Si(O
CH3)3、 C7F15CONHCH
2CH2NCH2CH2CH2Si(OCH3)3、
|
COC7F15
C8F17SO2NHCH2CH2NCH
2CH2CH2Si(OCH3)3、
|
SO2C8F17 等のフッ素含有シラン化合物。
【0013】かかるシラン化合物を用いて金属酸化物の
表面を処理する方法としては、乾式処理法や湿式処理法
が採られる。乾式処理法は、ヘンシェルミキサーのよう
な高速撹拌可能な機械の中に、金属酸化物粒子を仕込み
高速撹拌しながらシラン化合物をそのまま或いはその希
釈液をゆっくり滴下又はスプレー処理する方法である。 湿式処理法は、金属酸化物粒子を溶液中で処理し、その
後乾燥させる方法であり、シラン化合物は水溶液でも良
いし、アルコール性溶液を使用しても良い。
表面を処理する方法としては、乾式処理法や湿式処理法
が採られる。乾式処理法は、ヘンシェルミキサーのよう
な高速撹拌可能な機械の中に、金属酸化物粒子を仕込み
高速撹拌しながらシラン化合物をそのまま或いはその希
釈液をゆっくり滴下又はスプレー処理する方法である。 湿式処理法は、金属酸化物粒子を溶液中で処理し、その
後乾燥させる方法であり、シラン化合物は水溶液でも良
いし、アルコール性溶液を使用しても良い。
【0014】インテグラルブレンド法は、上記2つの方
法と異なり間接的に処理する方法で、有機樹脂中にシラ
ン化合物を分散させておき、ついで金属酸化物を添加・
混合する方法である。このほかにも、金属酸化物粒子を
結着剤樹脂中に分散させる際にシラン化合物を添加して
分散を行なう方法がある。
法と異なり間接的に処理する方法で、有機樹脂中にシラ
ン化合物を分散させておき、ついで金属酸化物を添加・
混合する方法である。このほかにも、金属酸化物粒子を
結着剤樹脂中に分散させる際にシラン化合物を添加して
分散を行なう方法がある。
【0015】但し、後の2つの方法は、シラン化合物と
結着剤樹脂とが反応の可能性がある場合、好ましくなく
、先の2つの方法、つまり、あらかじめ金属酸化物にシ
ラン化合物を処理させる方法が有効である。シラン化合
物の使用量は、金属酸化物100重量部に対して0.0
1〜30重量部、好ましくは0.1〜10重量部である
。
結着剤樹脂とが反応の可能性がある場合、好ましくなく
、先の2つの方法、つまり、あらかじめ金属酸化物にシ
ラン化合物を処理させる方法が有効である。シラン化合
物の使用量は、金属酸化物100重量部に対して0.0
1〜30重量部、好ましくは0.1〜10重量部である
。
【0016】下引層に使用する樹脂としては、ポリアミ
ド、ポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等
の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂例えば、活性水素(−O
H基、−NH2基、−NH基等の水素)を複数個含有す
る化合物とイソシアネート基を複数個含有する化合物及
び/又はエポキシ基を複数個含有する化合物とを熱重合
させた熱硬化性樹脂等も使用できる。
ド、ポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等
の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂例えば、活性水素(−O
H基、−NH2基、−NH基等の水素)を複数個含有す
る化合物とイソシアネート基を複数個含有する化合物及
び/又はエポキシ基を複数個含有する化合物とを熱重合
させた熱硬化性樹脂等も使用できる。
【0017】この場合活性水素を複数個含有する化合物
としては、例えば、ポリビニルブチラール、フェノキシ
樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポ
リブチレングリコール、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト基等の活性水素を含有するアクリル系樹脂等があげら
れる。イソシアネート基を複数個含有する化合物として
は、たとえば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネ
ート等とこれらのプレポリマー等があげられ、エポキシ
基を複数有する化合物としては、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂等があげられる。
としては、例えば、ポリビニルブチラール、フェノキシ
樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポ
リブチレングリコール、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト基等の活性水素を含有するアクリル系樹脂等があげら
れる。イソシアネート基を複数個含有する化合物として
は、たとえば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチ
レンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネ
ート等とこれらのプレポリマー等があげられ、エポキシ
基を複数有する化合物としては、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂等があげられる。
【0018】またオイルフリーアルキド樹脂とアミノ樹
脂、例えば、ブチル化メラミン樹脂等を熱重合させた熱
硬化性樹脂、さらにまた、不飽和結合を有するポリウレ
タン、不飽和ポリエステルーとの不飽和結合を有する樹
脂、チオキサントン系化合物、メチルベンジルフォルメ
ート等の光重合開光剤との組合せ等の光硬化性樹脂も結
着剤樹脂として使用できる。前記金属酸化物と結着剤樹
脂の使用割合は重量比で1/1〜95/5、好ましくは
3/2〜10/1である。
脂、例えば、ブチル化メラミン樹脂等を熱重合させた熱
硬化性樹脂、さらにまた、不飽和結合を有するポリウレ
タン、不飽和ポリエステルーとの不飽和結合を有する樹
脂、チオキサントン系化合物、メチルベンジルフォルメ
ート等の光重合開光剤との組合せ等の光硬化性樹脂も結
着剤樹脂として使用できる。前記金属酸化物と結着剤樹
脂の使用割合は重量比で1/1〜95/5、好ましくは
3/2〜10/1である。
【0019】金属酸化物と結着剤樹脂の使用割合が1/
1未満では効果が小さく、また95/5を越えると下引
き層内に気泡が残留すめため電荷発生層と電荷移動層の
塗膜に欠陥を生じるので好ましくない。また、下引層の
膜厚は0.3〜30μm、好ましくは0.5〜20μm
となるのが適当である。下引層の膜厚が0.3μm未満
では効果の発現性が小さく、30μmを越えると残留電
位の蓄積を生じるので望ましくない。
1未満では効果が小さく、また95/5を越えると下引
き層内に気泡が残留すめため電荷発生層と電荷移動層の
塗膜に欠陥を生じるので好ましくない。また、下引層の
膜厚は0.3〜30μm、好ましくは0.5〜20μm
となるのが適当である。下引層の膜厚が0.3μm未満
では効果の発現性が小さく、30μmを越えると残留電
位の蓄積を生じるので望ましくない。
【0020】本発明ではシラン化合物で処理された金属
酸化物とは別に、下引層の電気抵抗の調節や白色度の向
上、コストダウン等を図るために、白色粉体を混ぜる事
も有効である。白色粉体としては、無処理の酸化チタン
、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸バリウム、硫酸
カルシウム等が挙げられる。
酸化物とは別に、下引層の電気抵抗の調節や白色度の向
上、コストダウン等を図るために、白色粉体を混ぜる事
も有効である。白色粉体としては、無処理の酸化チタン
、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸バリウム、硫酸
カルシウム等が挙げられる。
【0021】下引層は、シラン化合物で処理された金属
酸化物、結着剤樹脂を常法により例えば、ボールミル、
サンドミル、アトライター等を用いて分散させた必要に
応じて硬化(架橋)に必要な薬剤、溶剤、添加剤、硬化
促進剤等を加えて、常法により例えば、ブレード塗工、
浸漬塗工法等により基体上に形成される、塗布後は、乾
燥や加熱、光、等の硬化処理により乾燥ないし硬化させ
る。こうして形成された下引層の上に、場合によっては
、基板側からのフリーキャリヤの注入を防ぐために、樹
脂層又は白色顔料粉末を分散した樹脂層をさらに設ける
事ができる。
酸化物、結着剤樹脂を常法により例えば、ボールミル、
サンドミル、アトライター等を用いて分散させた必要に
応じて硬化(架橋)に必要な薬剤、溶剤、添加剤、硬化
促進剤等を加えて、常法により例えば、ブレード塗工、
浸漬塗工法等により基体上に形成される、塗布後は、乾
燥や加熱、光、等の硬化処理により乾燥ないし硬化させ
る。こうして形成された下引層の上に、場合によっては
、基板側からのフリーキャリヤの注入を防ぐために、樹
脂層又は白色顔料粉末を分散した樹脂層をさらに設ける
事ができる。
【0022】次に、本発明の電子写真感光体の構成につ
いて更に詳しく説明する。導電性基体としては、体積抵
抗1010Ωcm以下の導電性を示すもの、例えば、ア
ルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金
、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金
属酸化物を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム
状もしくは円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの
、あるいは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケ
ル、ステンレス等の板およびそれらをD.I.,I.I
.,押出し、引抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上
げ、研摩等で表面処理した管、導電性粉体をプラスチッ
クに分散成型してなる円筒又は板状の基体等を使用する
ことができる。
いて更に詳しく説明する。導電性基体としては、体積抵
抗1010Ωcm以下の導電性を示すもの、例えば、ア
ルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金
、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金
属酸化物を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム
状もしくは円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの
、あるいは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケ
ル、ステンレス等の板およびそれらをD.I.,I.I
.,押出し、引抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上
げ、研摩等で表面処理した管、導電性粉体をプラスチッ
クに分散成型してなる円筒又は板状の基体等を使用する
ことができる。
【0023】次に、電荷発生層について説明する。電荷
発生層は、電荷発生物質を主材料とした層で、必要に応
じてバインダー樹脂を用いることもある。バインダー樹
脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル
、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリ
コーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン
、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド
などが用いられる。
発生層は、電荷発生物質を主材料とした層で、必要に応
じてバインダー樹脂を用いることもある。バインダー樹
脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル
、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリ
コーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン
、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド
などが用いられる。
【0024】電荷発生物質としては、例えば、シーアイ
ピグメントブルー25〔カラーインデックス(CI)2
1180〕、シーアイピグメントレッド41(CI
21200)、シーアイアシッドレッド52(CI
45100)、シーアイベーシックレッド3(CI
45210)、さらに、ポリフィリン骨格を有するフタ
ロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクアリック
塩顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭5
3−95033号公報に記載)、スチルスチルベン骨格
を有するアゾ顔料(特開昭53−138229号公報に
記載)、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特
開昭53−132547号公報に記載)、ジベンゾチオ
フェン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−21728
号公報に記載)、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔
料(特開昭54−12742号公報に記載)、フルオレ
ノン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−22834号
公報に記載)、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料(
特開昭54−17733号公報に記載)、ジスチリルオ
キサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−2
129号公報に記載)、ジスチリルカルバゾール骨格を
有するアゾ顔料(特開昭54−17734号公報に記載
)、カルバゾール骨格を有するトリアゾ顔料(特開昭5
7−195767号公報、同57−195768号公報
に記載)等、さらに、シーアイピグメントブルー16(
CI 74100)等のフタロシアニン系顔料、シー
アイバットブラウン5(CI 73410)、シーア
イバットダイ(CI 73030)等のインジゴ系顔
料、アルゴスカーレットB(バイオレット社製)、イン
ダスレンスカーレットR(バイエル社製)等のペリレン
系顔料等の有機顔料を使用することができる。
ピグメントブルー25〔カラーインデックス(CI)2
1180〕、シーアイピグメントレッド41(CI
21200)、シーアイアシッドレッド52(CI
45100)、シーアイベーシックレッド3(CI
45210)、さらに、ポリフィリン骨格を有するフタ
ロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクアリック
塩顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭5
3−95033号公報に記載)、スチルスチルベン骨格
を有するアゾ顔料(特開昭53−138229号公報に
記載)、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特
開昭53−132547号公報に記載)、ジベンゾチオ
フェン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−21728
号公報に記載)、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔
料(特開昭54−12742号公報に記載)、フルオレ
ノン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−22834号
公報に記載)、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料(
特開昭54−17733号公報に記載)、ジスチリルオ
キサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−2
129号公報に記載)、ジスチリルカルバゾール骨格を
有するアゾ顔料(特開昭54−17734号公報に記載
)、カルバゾール骨格を有するトリアゾ顔料(特開昭5
7−195767号公報、同57−195768号公報
に記載)等、さらに、シーアイピグメントブルー16(
CI 74100)等のフタロシアニン系顔料、シー
アイバットブラウン5(CI 73410)、シーア
イバットダイ(CI 73030)等のインジゴ系顔
料、アルゴスカーレットB(バイオレット社製)、イン
ダスレンスカーレットR(バイエル社製)等のペリレン
系顔料等の有機顔料を使用することができる。
【0025】これら電荷発生物質の中でも特にアゾ顔料
が好適であり、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスア
ゾ顔料あるいはトリスアゾ顔料が最も好ましい。アゾ顔
料の具体例を表1に示す。
が好適であり、更にアゾ顔料の中でも以下に示すジスア
ゾ顔料あるいはトリスアゾ顔料が最も好ましい。アゾ顔
料の具体例を表1に示す。
【0026】
【表1−(1)】
【0027】
【表1−(2)】
【0028】
【表1−(3)】
【0029】
【表1−(4)】
【0030】
【表1−(5)】
【0031】
【表1−(6)】
【0032】
【表1−(7)】
【0033】
【表1−(8)】
【0034】
【表1−(9)】
【0035】
【表1−(10)】
【0036】
【表1−(11)】
【0037】
【表1−(12)】
【0038】
【表1−(13)】
【0039】
【表1−(14)】
【0040】
【表1−(15)】
【0041】これらの電荷発生物質は単独で、あるいは
2種以上併用して用いられる。バインダー樹脂は、電荷
発生物質100重量部に対して0〜100重量部用いる
のが適当であり、好ましくは0〜50重量部である。
2種以上併用して用いられる。バインダー樹脂は、電荷
発生物質100重量部に対して0〜100重量部用いる
のが適当であり、好ましくは0〜50重量部である。
【0042】電荷発生層は、電荷発生物質を必要ならば
バインダー樹脂とともに、テトラヒドロフラン、シクロ
ヘキサノン、ジオキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用
いてボールミル、アトライター、サンドミルなどにより
分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより形
成できる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビー
ドコート法などを用いて行なうことができる。電荷発生
層の膜厚は、0.01〜5μm程度が適当であり、好ま
しくは0.1〜2μmである。
バインダー樹脂とともに、テトラヒドロフラン、シクロ
ヘキサノン、ジオキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用
いてボールミル、アトライター、サンドミルなどにより
分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより形
成できる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビー
ドコート法などを用いて行なうことができる。電荷発生
層の膜厚は、0.01〜5μm程度が適当であり、好ま
しくは0.1〜2μmである。
【0043】電荷輸送層は、電荷輸送物質および必要に
応じて用いられるバインダー樹脂よりなる。以上の物質
を適当な溶剤に溶解ないし分散してこれを塗布乾燥する
ことにより電荷輸送層を形成することができる。電荷輸
送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
応じて用いられるバインダー樹脂よりなる。以上の物質
を適当な溶剤に溶解ないし分散してこれを塗布乾燥する
ことにより電荷輸送層を形成することができる。電荷輸
送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
【0044】正孔輸送物質としては、ポリ−N−ビニル
カルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリ
ルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホル
ムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレ
ン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、
オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフ
ェニルアミン誘導体、9−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)アントラセン、1,1−ビス−(4−ジベンジルア
ミノフェニル)プロパン、スチリルアントラセン、スチ
リルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニル
スチルベン誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
カルバゾールおよびその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリ
ルエチルグルタメートおよびその誘導体、ピレン−ホル
ムアルデヒド縮合物およびその誘導体、ポリビニルピレ
ン、ポリビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、
オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフ
ェニルアミン誘導体、9−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)アントラセン、1,1−ビス−(4−ジベンジルア
ミノフェニル)プロパン、スチリルアントラセン、スチ
リルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニル
スチルベン誘導体等の電子供与性物質が挙げられる。
【0045】電子輸送物質としては、たとえば、クロル
アニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノンジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−
フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フ
ルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン
、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8
−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェ
ン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフ
ェノン−5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が
挙げられる。これらの電荷輸送物質は、単独又は2種以
上混合して用いられる。
アニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノンジメタン、2,4,7−トリニトロ−9−
フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フ
ルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロキサントン
、2,4,8−トリニトロチオキサントン、2,6,8
−トリニトロ−4H−インデノ〔1,2−b〕チオフェ
ン−4−オン、1,3,7−トリニトロジベンゾチオフ
ェノン−5,5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が
挙げられる。これらの電荷輸送物質は、単独又は2種以
上混合して用いられる。
【0046】また、本発明において必要に応じて用いら
れるバインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン
−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共
重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレ
ート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セ
ルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコ
ーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂
、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または
熱硬化性樹脂が挙げられる。溶剤としては、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、トルエン、モノクロルベンゼン
、ジクロルエタン、塩化メチレンなどが用いられる。
れるバインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン
−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共
重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレ
ート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セ
ルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコ
ーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂
、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または
熱硬化性樹脂が挙げられる。溶剤としては、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、トルエン、モノクロルベンゼン
、ジクロルエタン、塩化メチレンなどが用いられる。
【0047】電荷輸送層の厚さは5〜100μm程度が
適当である。また、本発明において電荷輸送層中に可塑
剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、
ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の
樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用
でき、その使用量は、バインダー樹脂に対して0〜30
重量%程度が適当である。レベリング剤としては、ジメ
チルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイ
ルなどのシリコーンオイル類が使用され、その使用量は
バインダー樹脂に対して、0〜1重量%程度が適当であ
る。なお、本発明において、感光層の上にさらに絶縁層
や保護層を設けることも可能である。
適当である。また、本発明において電荷輸送層中に可塑
剤やレベリング剤を添加してもよい。可塑剤としては、
ジブチルフタレート、ジオクチルフタレートなど一般の
樹脂の可塑剤として使用されているものがそのまま使用
でき、その使用量は、バインダー樹脂に対して0〜30
重量%程度が適当である。レベリング剤としては、ジメ
チルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイ
ルなどのシリコーンオイル類が使用され、その使用量は
バインダー樹脂に対して、0〜1重量%程度が適当であ
る。なお、本発明において、感光層の上にさらに絶縁層
や保護層を設けることも可能である。
【0048】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。 実施例1 50ccの硬質ガラス瓶に容積の1/2量の0.5cm
φPSZボールと、オクチルトリメトキシシランで処理
された酸化チタン(T805日本アエロジル社製)6g
と、オイルフリーアルキド樹脂(ベッコライトM640
1−50、固形分濃度50重量%:大日本インキ化学(
株)製)3.1gとブチル化メラミン樹脂(スーパーベ
ッカミンG821−60、固形分濃度60重量%:大日
本インキ化学(株)製)1.7gおよびメチルエチルケ
トン4.8gとを入れて、30時間ミリングし、下引層
塗工液とした。 上記下引層用塗工液を電気メッキにより作成されたニッ
ケルシート上にブレートで塗工し、20分間乾燥硬化し
て厚さ約12μmの下引層を形成した。次に下記構造式
〔化1〕のジスアゾ顔料
3部
する。 実施例1 50ccの硬質ガラス瓶に容積の1/2量の0.5cm
φPSZボールと、オクチルトリメトキシシランで処理
された酸化チタン(T805日本アエロジル社製)6g
と、オイルフリーアルキド樹脂(ベッコライトM640
1−50、固形分濃度50重量%:大日本インキ化学(
株)製)3.1gとブチル化メラミン樹脂(スーパーベ
ッカミンG821−60、固形分濃度60重量%:大日
本インキ化学(株)製)1.7gおよびメチルエチルケ
トン4.8gとを入れて、30時間ミリングし、下引層
塗工液とした。 上記下引層用塗工液を電気メッキにより作成されたニッ
ケルシート上にブレートで塗工し、20分間乾燥硬化し
て厚さ約12μmの下引層を形成した。次に下記構造式
〔化1〕のジスアゾ顔料
3部
【化1】
とポリビニルブチラール(商品名:XYHL,ユニオン
カーバイドプラスチック(株))0.3部及びメチルエ
チルケトン60部をボールミルで120時間分散し、希
釈液として、シクロヘキサノン90部とメチルエチルケ
トン150部をこの分散液に加えて電荷発生層用塗工液
とした。この塗工液を上記下引層上にドクターブレード
で塗工し、120℃で20分間加熱乾燥して膜厚0.3
μmの電荷発生層を形成した。 つぎに、前記電荷発生層上に
カーバイドプラスチック(株))0.3部及びメチルエ
チルケトン60部をボールミルで120時間分散し、希
釈液として、シクロヘキサノン90部とメチルエチルケ
トン150部をこの分散液に加えて電荷発生層用塗工液
とした。この塗工液を上記下引層上にドクターブレード
で塗工し、120℃で20分間加熱乾燥して膜厚0.3
μmの電荷発生層を形成した。 つぎに、前記電荷発生層上に
【化2】
ポリカーボネート樹脂(帝人化成社製、パンライトC−
1400) 20部シリコーンオイル
0.004部塩化メチレン
173部よりなる電荷輸送層
形成液をブレード塗布し、130℃20分間乾燥して膜
厚約20μmの電荷輸送層を形成し、実施例1の電子写
真感光体を作成した。
1400) 20部シリコーンオイル
0.004部塩化メチレン
173部よりなる電荷輸送層
形成液をブレード塗布し、130℃20分間乾燥して膜
厚約20μmの電荷輸送層を形成し、実施例1の電子写
真感光体を作成した。
【0049】実施例2
実施例1において、酸化チタン粉末をメチルトリメトキ
シシランで処理された酸化スズ粉末に代えた以外は実施
例1と同様にして実施例2の電子写真感光体を作成した
。
シシランで処理された酸化スズ粉末に代えた以外は実施
例1と同様にして実施例2の電子写真感光体を作成した
。
【0050】実施例3
実施例2において、酸化スズ粉末を酸化カルシウム粉末
に代えた以外は、実施例1と同様にして実施例3の電子
写真感光体を作成した。
に代えた以外は、実施例1と同様にして実施例3の電子
写真感光体を作成した。
【0051】実施例4
実施例1において、オクチルトリメトキシシランで処理
された酸化チタンに代えて、C7F15CO2(CH2
)3Si(OCH3)3で処理された酸化スズ粉末を用
いた以外は実施例1と同様にして実施例4の電子写真感
光体を作成した。
された酸化チタンに代えて、C7F15CO2(CH2
)3Si(OCH3)3で処理された酸化スズ粉末を用
いた以外は実施例1と同様にして実施例4の電子写真感
光体を作成した。
【0052】実施例5
実施例1において、オクチルトリメトキシシランで処理
された酸化チタンに代えて、C8F17SO2N(CH
2CH2CH3)(CH2)3Si(OCH3)3で処
理された酸化スズ粉末を用いた以外は実施例1と同様に
して実施例5の電子写真感光体を作成した。
された酸化チタンに代えて、C8F17SO2N(CH
2CH2CH3)(CH2)3Si(OCH3)3で処
理された酸化スズ粉末を用いた以外は実施例1と同様に
して実施例5の電子写真感光体を作成した。
【0053】実施例6
実施例1において、オクチルトリメトキシシランで処理
された酸化チタンに代えて、C7F15CO2(CH2
)3Si(OCH3)3で処理された酸化チタン粉末を
用いた以外は実施例1と同様にして実施例6の電子写真
感光体を作成した。
された酸化チタンに代えて、C7F15CO2(CH2
)3Si(OCH3)3で処理された酸化チタン粉末を
用いた以外は実施例1と同様にして実施例6の電子写真
感光体を作成した。
【0054】実施例7
実施例1において、オクチルトリメトキシシランで処理
された酸化チタンに代えて、C8F17SO2N(CH
2CH2CH3)(CH2)3Si(OCH3)3で処
理された酸化チタン粉末を用いた以外は実施例1と同様
にして実施例7の電子写真感光体を作成した。
された酸化チタンに代えて、C8F17SO2N(CH
2CH2CH3)(CH2)3Si(OCH3)3で処
理された酸化チタン粉末を用いた以外は実施例1と同様
にして実施例7の電子写真感光体を作成した。
【0055】実施例8
デシルトリメトキシシランで処理された酸化チタン6g
と、固形分濃度9重量%のブチラール樹脂(BL−1
セキスイ化学社製)のメチルエチルケトン溶液9.5g
とを、実施例1と同様の分散方法で、24時間ミリング
し、次にトリレンジイソシアネートの7重量%メチルエ
チルケトン溶液3.6gを加えて、約5分振とう撹拌し
、下引層塗工液とした。 上記塗工液を実施例1と同様のニッケルシート上にブレ
ード塗工し、120℃30分間乾燥硬化して、厚さ約2
μmの下引層を形成した。次にこの下引層上に電荷発生
層塗工液及び電荷移動層塗工液を下記のものに代えた以
外は、実施例1と同様の方法で電子写真感光体を作成し
た。 〔電荷発生層塗工液〕 15cmφのガラスポット中に容積の1/2量の1cm
φアルミナ焼結ボールとポリエステル樹脂(東洋紡社製
、バイロン200)の2.7重量%シクロヘキサノン溶
液300gと前記アゾ顔料No.39とを投入して72
時間ミリングした。さらに500gのメチルエチルケト
ンを追加投入してさらに24時間ミリングして電荷発生
層塗工溶液とした。 〔電荷移動層塗工液〕
と、固形分濃度9重量%のブチラール樹脂(BL−1
セキスイ化学社製)のメチルエチルケトン溶液9.5g
とを、実施例1と同様の分散方法で、24時間ミリング
し、次にトリレンジイソシアネートの7重量%メチルエ
チルケトン溶液3.6gを加えて、約5分振とう撹拌し
、下引層塗工液とした。 上記塗工液を実施例1と同様のニッケルシート上にブレ
ード塗工し、120℃30分間乾燥硬化して、厚さ約2
μmの下引層を形成した。次にこの下引層上に電荷発生
層塗工液及び電荷移動層塗工液を下記のものに代えた以
外は、実施例1と同様の方法で電子写真感光体を作成し
た。 〔電荷発生層塗工液〕 15cmφのガラスポット中に容積の1/2量の1cm
φアルミナ焼結ボールとポリエステル樹脂(東洋紡社製
、バイロン200)の2.7重量%シクロヘキサノン溶
液300gと前記アゾ顔料No.39とを投入して72
時間ミリングした。さらに500gのメチルエチルケト
ンを追加投入してさらに24時間ミリングして電荷発生
層塗工溶液とした。 〔電荷移動層塗工液〕
【化3】
ポリカーボネート(商品名パンライトC1400:帝人
化成(株)) 10部シリコーン油(商
品名 KF50:信越シリコーン(株))
0.0002部THF
80部
化成(株)) 10部シリコーン油(商
品名 KF50:信越シリコーン(株))
0.0002部THF
80部
【0056】比較例1
実施例1において、下引層を設けない以外は実施例1と
同様にして比較例1の電子写真感光体を作成した。
同様にして比較例1の電子写真感光体を作成した。
【0057】比較例2
実施例1において、酸化チタン粉末をシラン化合物で処
理しない酸化チタン微粉末(タイペークR680石原産
業社製)に代えた以外は実施例1と同様にして比較例2
の電子写真感光体を作成した。
理しない酸化チタン微粉末(タイペークR680石原産
業社製)に代えた以外は実施例1と同様にして比較例2
の電子写真感光体を作成した。
【0058】比較例3
実施例2において、メチルトリメトキシシランで処理さ
れた酸化スズ粉末をシラン化合物で処理しない酸化スズ
粉末に代えた以外は、実施例2と同様して、比較例3の
電子写真感光体とした。
れた酸化スズ粉末をシラン化合物で処理しない酸化スズ
粉末に代えた以外は、実施例2と同様して、比較例3の
電子写真感光体とした。
【0059】比較例4
実施例3において、メチルトリメトキシシランで処理さ
れた酸化カルシウム粉末をシラン化合物で処理しない酸
化カルシウム粉末に代えた以外は、実施例3と同様にし
て比較例4の電子写真感光体とした。
れた酸化カルシウム粉末をシラン化合物で処理しない酸
化カルシウム粉末に代えた以外は、実施例3と同様にし
て比較例4の電子写真感光体とした。
【0060】比較例5
実施例8において、デシルトリメトキシシランで処理さ
れた酸化チタン粉末をシラン化合物で処理しない酸化チ
タンに代えた以外は、実施例8と同様にして比較例5の
電子写真感光体を作成した。
れた酸化チタン粉末をシラン化合物で処理しない酸化チ
タンに代えた以外は、実施例8と同様にして比較例5の
電子写真感光体を作成した。
【0061】これらの感光体の感光体特性を川口電機社
製エレクトロスタティックペーパーアナライザーSP−
428を用い、次の条件で測定した。 帯 電 20sec(印加電圧 −6KV)暗減衰
20sec 露 光 30sec(露光強度 5lux)帯電2
sec後の値をV1、露光30sec後の電圧をV30
、表面電位−800Vの電位を1/2に低下するために
必要な露光量をE1/2とした。疲労条件は感光体に流
れ、電流が−9.6μAになる様且つ感光体の表面電位
が−800Vになる様印加電圧と光量で調節しながら1
5分間疲労させた。その後初期特性と同一の条件で感光
体の疲労後特性を測定した。その結果を表2に示す。
製エレクトロスタティックペーパーアナライザーSP−
428を用い、次の条件で測定した。 帯 電 20sec(印加電圧 −6KV)暗減衰
20sec 露 光 30sec(露光強度 5lux)帯電2
sec後の値をV1、露光30sec後の電圧をV30
、表面電位−800Vの電位を1/2に低下するために
必要な露光量をE1/2とした。疲労条件は感光体に流
れ、電流が−9.6μAになる様且つ感光体の表面電位
が−800Vになる様印加電圧と光量で調節しながら1
5分間疲労させた。その後初期特性と同一の条件で感光
体の疲労後特性を測定した。その結果を表2に示す。
【0062】
【表2】
【0063】
【発明の効果】本発明の電子写真用感光体は、前記構成
からなり、下引層中にシラン化合物で処理された金属酸
化物の少なくとも1種を含有させたことから、高感度で
あるとともに前露光疲労による帯電性の低下が著しく小
さく、しかも帯電と露光の繰り返し後においても帯電特
性が劣化しない、かつ残留電位の上昇が少なく、顕著な
作用効果を有する。また、本発明の電子写真用感光体に
よれば、レーザープリンター等の可干渉性の光を用いた
露光においても、光干渉により異常画像の発生を防止す
ることができる。
からなり、下引層中にシラン化合物で処理された金属酸
化物の少なくとも1種を含有させたことから、高感度で
あるとともに前露光疲労による帯電性の低下が著しく小
さく、しかも帯電と露光の繰り返し後においても帯電特
性が劣化しない、かつ残留電位の上昇が少なく、顕著な
作用効果を有する。また、本発明の電子写真用感光体に
よれば、レーザープリンター等の可干渉性の光を用いた
露光においても、光干渉により異常画像の発生を防止す
ることができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 導電性基体上に下引層、電荷発生層及
び電荷輸送層を順次積層してなる電子写真用感光体にお
いて、該下引層中にシラン化合物で表面処理された金属
酸化物粒子と結着樹脂を含有させたことを特徴とする電
子写真用感光体。 - 【請求項2】 シラン化合物がフッ素含有シラン化合
物である請求項1の電子写真用感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11263191A JPH04229872A (ja) | 1990-11-06 | 1991-04-17 | 電子写真用感光体 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30055290 | 1990-11-06 | ||
JP2-300552 | 1990-11-06 | ||
JP11263191A JPH04229872A (ja) | 1990-11-06 | 1991-04-17 | 電子写真用感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04229872A true JPH04229872A (ja) | 1992-08-19 |
Family
ID=26451745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11263191A Pending JPH04229872A (ja) | 1990-11-06 | 1991-04-17 | 電子写真用感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04229872A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5958638A (en) * | 1997-06-23 | 1999-09-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoconductor and method of producing same |
US6472113B2 (en) * | 2000-04-18 | 2002-10-29 | Konica Corporation | Electrophotoreceptor, image forming apparatus and processing cartridge |
JP2007079174A (ja) * | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体の製造方法 |
US7693454B2 (en) | 2006-03-14 | 2010-04-06 | Kyocera Mita Corporation | Image forming apparatus |
JP2010180079A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 無機微粒子、有機感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
CN101968612A (zh) * | 2009-07-27 | 2011-02-09 | 夏普株式会社 | 电子照相感光体和包含所述电子照相感光体的成像装置 |
US8338065B2 (en) | 2009-10-02 | 2012-12-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus provided with the same |
US8465890B2 (en) | 2010-08-30 | 2013-06-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoconductor and image forming apparatus including the same, and coating solution for undercoat layer formation in electrophotographic photoconductor |
US8568946B2 (en) | 2009-03-19 | 2013-10-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoreceptor and image formation device comprising same |
CN103922607A (zh) * | 2014-04-18 | 2014-07-16 | 深圳市金怡凯科技有限公司 | 防污处理剂及使用该防污处理剂进行玻璃表面处理的方法 |
DE102015111021A1 (de) | 2014-07-09 | 2016-01-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Elektrophotographisches photosensitives Element, Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements, Prozesskartusche und elektrophotographischer Apparat |
-
1991
- 1991-04-17 JP JP11263191A patent/JPH04229872A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5958638A (en) * | 1997-06-23 | 1999-09-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoconductor and method of producing same |
US6472113B2 (en) * | 2000-04-18 | 2002-10-29 | Konica Corporation | Electrophotoreceptor, image forming apparatus and processing cartridge |
JP2007079174A (ja) * | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体の製造方法 |
US7693454B2 (en) | 2006-03-14 | 2010-04-06 | Kyocera Mita Corporation | Image forming apparatus |
JP2010180079A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 無機微粒子、有機感光体、画像形成装置及びプロセスカートリッジ |
US8568946B2 (en) | 2009-03-19 | 2013-10-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoreceptor and image formation device comprising same |
CN101968612A (zh) * | 2009-07-27 | 2011-02-09 | 夏普株式会社 | 电子照相感光体和包含所述电子照相感光体的成像装置 |
US8709690B2 (en) | 2009-07-27 | 2014-04-29 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus including the same |
US8338065B2 (en) | 2009-10-02 | 2012-12-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus provided with the same |
US8465890B2 (en) | 2010-08-30 | 2013-06-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoconductor and image forming apparatus including the same, and coating solution for undercoat layer formation in electrophotographic photoconductor |
CN103922607A (zh) * | 2014-04-18 | 2014-07-16 | 深圳市金怡凯科技有限公司 | 防污处理剂及使用该防污处理剂进行玻璃表面处理的方法 |
DE102015111021A1 (de) | 2014-07-09 | 2016-01-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Elektrophotographisches photosensitives Element, Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen photosensitiven Elements, Prozesskartusche und elektrophotographischer Apparat |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0580572A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH04229872A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH04172362A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH01233458A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH01118848A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH0313960A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH05204180A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH04356056A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH03209262A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH01118849A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH04303846A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH03209261A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0313957A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JP3336420B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0313959A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH07128878A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
JPS61117558A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH03136062A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH02296252A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH03136063A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH02226163A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH0313958A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH0282256A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH02298952A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPH03245157A (ja) | 電子写真用感光体 |