JPH02296200A - 放射線画像変換パネル - Google Patents

放射線画像変換パネル

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JPH02296200A
JPH02296200A JP11711889A JP11711889A JPH02296200A JP H02296200 A JPH02296200 A JP H02296200A JP 11711889 A JP11711889 A JP 11711889A JP 11711889 A JP11711889 A JP 11711889A JP H02296200 A JPH02296200 A JP H02296200A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネル
に関するものであり、更に詳しくは、防湿性が優れてお
り、優れた耐久性及び耐用性を有する放射線画像変換パ
ネルに関する。
〔従来の技術〕
X線画像のような放射線画像は病気診断用などに多く用
いられている。
このX線画像を得るために、ハロゲン化銀感光材料に代
わって蛍光体層から直接画像を取出すX線画像変換方法
が工夫されている。
この方法は、被写体を透過した放射線(一般にX線)を
蛍光体に吸収せしめ、しかるのち、この蛍光体を例えば
光又熱エネルギーで励起することによりこの蛍光体が上
記放射線吸収により蓄積している放射線エネルギーを蛍
光として放射せしめ、この蛍光を検出して画像化する方
法である。
具体的には、例えば、米国特許3,859,527号及
び特開昭55−12144号には輝尽性蛍光体を用い可
視光線又は赤外線を輝尽励起光とした放射線画像変換方
法が開示されている。
この方法は支持体上に輝尽性蛍光体層(以下 「輝尽層
」と略称する)を形成した放射線画像変換パネル(以下
 「変換パネル」と略称する)を使用するもので、この
変換パネルの輝尽層に被写体を透過した放射線を当てて
被写体各部の放射線透過度に対応する放射線エネルギー
を蓄積させて潜像を形成し、しかる後にこの輝尽層を輝
尽励起光で走査することによって各部の蓄積された放射
線エネルギーを放射させてこれを光に変換し、この光の
強弱による光信号により画像を得るものである。
この最終的な画像はハードコピーとして再生してもよい
し、CRT上に再生してもよい。
この放射線画像変換方法において使用される変換パネル
は、放射線画像情報を蓄積したのち輝尽励起光の走査に
よって蓄積エネルギーを放出するので、走査後に再度放
射線画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可能で
ある。
そこで、前記変換パネルは、得られる放射線画像の画質
を劣化させることなく長期間又は多数回繰り返しの使用
に耐える性能を有することが望ましい。そのためには、
前記変換パネルの輝尽層が外部からの物理的φf1激及
び化学的刺激、特に水分の侵入から十分に保護される必
要がある。
従来の変換パネルにおける外部からの水分の侵入を防止
する方法としては、変換パネルの支持体上の輝尽層面を
被覆する保護層を設ける方法がとられてきた。この保護
層は、例えば特開昭59−42500号に開示されてい
るように、保護層用塗布液を輝尽層上に直接塗布して形
成させるか、又はあらかじめ別途形成した保護層を輝尽
層上に接着する方法により形成されている。
保護層としては一般的には有機高分子からなる薄い保護
層(層厚10/7m程度)が用いられている。
しかしながら、常用される有機高分子からなる薄い保護
層はある程度の水分及び/又は湿気に対して透過性であ
り、そのため輝尽層が水分を吸収する結果、変換パネル
の放射線感度の低下又は放射線照射後に輝尽励起光照射
を受けるまでの間の蓄積エネルギーの減衰(フェーディ
ング)が大きく、得られる放射線画像の画質のばらつき
及び/又は劣化をもたらしている。
例えば、厚さIO/7mのPETの透湿度は約60g/
m2・24hrであり、1日に単位面積当たり60gも
の水分を透過する。膜厚10μm延伸ポリプロピレンで
は15g/ m” ・24hrである。
又、前述のような薄い保護層を有する従来の変換パネル
においては、保護層の表面硬度が小さいために搬送時に
おける搬送ローラ等の機械部分との接触により保護層表
面に傷を生じt;す、又薄い保護層では耐衝撃性が不十
分なため輝尽層中に亀裂、折れを生じやすく、得られる
放射線画像の画質が繰返し使用していくうちに劣化する
という問題点がある。
このような変換パネルは、耐湿性を更に向上させるため
、支持体、輝尽層及び保護層からなる積層体の周縁部を
封止して製造される。その封止の方法としては、例えば
有機高分子溶液中に変換パネルの周縁部のみを浸漬する
か、又は周縁部に有機高分子溶液を塗布して高分子膜を
形成してシールする方法、周縁部をシール剤により封止
し、シール剤を固定部剤により外側から固定する方法(
特開昭61−237099号)、周縁部が保護層の延長
部分により被覆された状態でシールする方法(特開昭6
1237100号)などが用いられている。
このような従来技術の変換パネルは、通常の雰囲気中で
使用する場合には充分に外部からの水分の侵入を防止す
ることはできるものの、過酷な温度、湿度条件下で使用
する場合や水分に弱い蛍光体を用いる場合には依然とし
て外部からの水分の侵入による蛍光体の劣化が問題とな
る。
又前記のシール材により封止した変換パネルでは、保護
層を通して侵入してくる水分により、やはり蛍光体が劣
化するという問題は解・消されていない。
このような欠点を排除するために、従来の保護層より厚
めの防湿効果の大きい保護層体を用い、支持体と保護層
体の間に輝尽層を囲んでスペーサを接着、挟在させるこ
と (特願昭63−141522号)が提案され、更に
進んで前記スペーサの外側に防湿材を兼ねる充填材を充
填して防湿効果を高める方法(特願昭63−14152
3号)が提示されている。
上記方法は外部衝撃からの防護、防湿の効果が大きいが
、スペーサと保護層体、支持体との接合間隙への防湿材
の浸透、延展が不充分のときは防湿効果が落ち、又浸透
、延展を俟たず予めスペーサ接合面に防湿材を塗る場合
には、気泡が入り易くかつ取れにくい欠点があり完壁な
接合には意外に工数を要する。又防湿材の選択を誤ると
、その乾燥収縮もしくは湿度による膨張、収縮による保
護層体、支持体に歪応力による呻割れ或は破損を起すこ
とがある。
又動もすると防湿材が垂れて、治具に付着するとか使用
寸法規準に不適合となる等の即題が起ることがある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の変換パネルにおいては外部からの水分の侵入によ
り蛍光体の劣化が生じ、その結果、放射線に対する感度
の低下、又は潜像退行性の劣化が生じるという問題点が
あり、特にこの問題点は高温、高湿度の雰囲気中で変換
パネルを使用した場合に顕著に発現する。
そこで本発明は、外部からの水分の侵入が充分に防止さ
れ、又歪応力による破損を回避した、更に生産容易であ
り、優れた耐久性及び耐用性を有する変換パネルを提供
することを目的とする。
〔問題点を解決するだめの手段〕
支持体上に、輝尽性蛍光体層及び保護層体を順次有し、
支持体と保護層体間にスペーサを設ける放射線画像変換
パネルにおいて、 前記スペーサが、前記輝尽性蛍光体層の周縁をとり囲ん
で内、外側2重に設けられており、前記2重のスペーサ
のいづれの厚みも少くとも前記輝尽性蛍光体層以上の厚
さであり、更に前記内、外側2重のスペーサ、支持体及
び保護層体により形成される空隙部が防湿材により充填
されていることを特徴とする放射線画像変換パネルによ
って本発明の目的は解決される。
以下、本発明の変換パネルの構成を添付図面に基づいて
説明する。第1図及び第3図は本発明の変換パネルの1
例を示す垂直断面側面図である。
第2図は第1図に示す変換パネルの水平断面平面図を表
す(ただし、保護層体及び支持体は省略している)。第
1図〜第3図中において、1は保護層体、2は輝尽層、
3は支持体、4は内側スペーサ、5は外側スペーサ、6
は防湿材を表し、第3図中の7は低屈折率層を表す。
6は防湿材兼間隙を埋める充填材であり、内、外スペー
サ間に密に充填され、又スペーサ間の防湿材は接合時押
出されてスペーサと支持体、保護層体との接合面間に浸
透、延展し防湿接着層を形成し、防湿材はスペーサと協
同して外部との通気を厳重に遮断する。
内、外側スペーサは輝尽層2の周縁に沿って設けられて
おり、輝尽層2の周縁と内側のスペーサ4は接触してい
ても、離れていてもよい。本発明の変換パネルには、第
3図で示すように保護層体lと輝尽層2との間に低屈折
率層7を有していてもよい。低屈折率層7を有するもの
は厚い保護層体lを用いても画像の鮮鋭性が低下せず、
又厚い保護層体lを用いているために保護層体lの面を
通しての水分の侵入による低下もなく好ましい。
本発明の変換パネルにおいて保護層体を形成するものと
しては、透光性がよく、シート状に成形できるものを用
いることができる。更に、保護層体は輝尽励起光及び輝
尽発光を効率よく透過するために、広い波長範囲で高い
光透過率を示すものが好ましく、この透過率が80%以
上のものが更に好ましい。
このようなものとしては、例えば、石英、硼珪酸ガラス
、化学的強化ガラスなどの板ガラスや、PET、OPP
、ポリ塩化ビニルなどの有機高分子化合物を挙げること
ができる。ここで例えば、硼珪酸ガラスは330nm〜
2.6μmの波長範囲で80%以上の光透過率を示し、
石英ガラスでは更に短波長においても高い光透過率を示
す。
保護層体を形成するものとしては、光透過率とともに防
湿性が優れていることから板ガラスか好ましい。
保護層体の厚さは、実用上は10μm〜3mmであり、
良好な防湿性を得るためには100μm以上が好ましい
。この保護層体の厚さが200μm以上の場合には耐久
性、耐用性に優れた変換パネルを得ることができ好まし
い。尚、保護層体の厚さは、防湿性の点から保護層体の
透湿係数が5 X 10−2g−m/m2・24hr以
下、好ましくは2 X 10−2g−m/ m” ・2
4hrとなるようにすることが好ましい。透湿係数は力
・ノブ法(JI520208)によって測定したデータ
から計算によって求めた。
又、保護層体の表面に、MgF、等の反射防止層を設け
ると、輝尽励起光及び輝尽発光を効率よく透過するとと
もに、鮮鋭性の低下を小さくする効果もあり好ましい。
保護層体の屈折率は特に制限されないが、実用上は1.
4〜2.0の範囲が一般的である。
保護層体は、必要に応じて2層以上を設けることができ
る。
本発明の変換パネルにおいては、支持体と保護層体の間
に輝尽層の周縁に沿って内外2重のスペーサとその間に
防湿材を充填することを最大の特徴とするものである。
本発明においては、スペーサは単材に限られるものでは
なく、例えばヤング率を異にする素材をサンドイッチ状
に接合した構成にしてもよい。具体的には高ヤング率材
を中に挟んで両側に低ヤング率材を接合し変換パネル面
に直角な複合壁を形成して、高ヤング率材に主としてス
ペーサ機能と防湿機能、低ヤング率材に歪応力の緩衝に
振出ててもよい。
又内、外側スペーサは同村、同構成でもよいし、又異っ
ていてもよい。
内、外側スペーサの材質は防湿性であれば特に制限され
ないが、スペーサは保護層体を支持して支持体と保護層
体を一定間隔に保つと同時に、内側スペーサは微量水分
の輝尽層側への最終侵入の防止を目的とし、外側スペー
サは、外部雰囲気からの水分の侵入を未然に防止するこ
とを目的とするところから、内側スペーサの透湿係数は
外側スペーサの透湿係数よりも低いことが好ましい。
スペーサの透湿係数は、40°C190%RHにおいて
5 X 10−2g−m/ m” ・24hr以下、更
に好ましくは2X IQ−”g−m/ m2・24hr
以下、特にl X 10−”g−m/m2・24hr以
下が好ましい。最も好ましくは透湿係数が実質上0の材
質、例えばガラス、金属等である。
スペーサの素材としては、例えばガラス、セラミックス
、金属、高分子材料などの7−トを加工したものが好ま
しく用いられる。
ここでガラスを用いたものとしては、化学強化ガラス、
結晶化ガラスなどを挙げることができる。
セラミックスを用いたものとしては、アルミナ、ジルコ
ニアなどの焼結板などを挙げることができる。金属を用
いたものとしては、アルミニウム、鉄、銅、クロムなど
の金属シートもしくは金属板もしくは前記金属シートも
しくは金属板の表面を前記金属の酸化物で被覆したもの
が挙げられる。
高分子材料を用いたものとしては、セルロースアセテー
ト、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
アミ ド、ポリイミ ド、トリアセテート、ポリカーボ
ネートなどのフィルムが挙げられる。
スペーサ材は、シート状の部材を用いる場合には第5図
に示されるような形状に加工された後、輝尽層を包囲す
るように配置される。第5図はスペーサの加工形状の一
例を示す図である。第5図の(a)は角枠状に刺抜いた
ものであり、継目がないので防湿性か特に優れており、
(b)はL字形のスペーサ材を2つ組合せたものであり
、(C)は棒状のシートを4枚組合せたものである。こ
のスペーサ材と支持体又は保護層体との接着には、接着
の用に供しうる防湿材を選び接着剤として用いることが
好ましい。
本発明に係る防湿材としては、40°C190%R11
での透湿係数がt、ox 10−’g Hm/ m2−
24krr以下、更に5 x 10−2g−m/ m2
・24hr以下が好ましく、特に2 X 10 ”g−
m/ m2・24hr以下が好ましい。
本発明に使用される防湿材の素材としては、エポキシ系
樹脂、フェノール系樹脂、シアノアクリレート系樹脂、
酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系
樹脂、アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ポ
リオレフィン系樹脂、クロロプレン系ゴム、ニトリル系
ゴム等の有機高分子系接着剤や、シリコーン系接着剤等
が挙げられる。これら接着剤は加熱硬化型の樹脂でもよ
いし、二液を混合することにより重、縮合又は架橋反応
して硬化する樹脂や、X線、σ線、β線、γ線、高エネ
ルギー中性子線、電子線、紫外線などの電磁波又は粒子
線を照射することによりその電磁波又は粒子線のエネル
ギーを吸収して硬化する放射線硬化型樹脂などが挙げら
れ、半導体や電子部品の封正に用いられるエポキシ系樹
脂やシリコーン系樹脂は耐湿性が優れているので好まし
く、特にエポキン系接着剤は透湿度が低く好適である。
保護層体−スペーサー支持体間は密着状態であることが
好ましい。密着接合にはスペーサ間の防湿材の押出し延
展によるが押出延展量の補充、接合のだめの補助付着に
用いる接着剤としては前記防湿材の素材もしくは同様の
ものが挙げられる。
接合部分の防湿接着層の透湿係数(g−m/ m2・2
4hr)は1.OX 10−’以下、更に5 X to
−”以下、特に2 X 10−2以下が好ましい。
又密着部分の接着剤厚みは薄いほど好ましく、300μ
m以下、更には100μm以下、特に50μm以下が好
ましい。
前記防湿材を形成する素材の粘度が低い場合には、防湿
材素材がスペーサと保護層体、支持体との接合間隙に浸
透、延展し良好な接着剤の作用を顕す。防湿材素材の硬
化前の粘度(25°C)は、50゜ooocp以下、更
に20 、0OOCP以下が好ましい。
防湿材を2重のスペーサ、保護層体及び支持体の作る空
隙に閉込める構成は接合間隙に浸透、延展させるに恰好
の構成である。
スペーサ及び防湿材の厚さは、いずれも輝尽層の厚さ以
上であれば特に制限されない。
スペーサ及び防湿材の幅は広いほど防湿性が高くなるた
めに好ましいが、実用的には1〜30mmであり、好ま
しくは2〜10mmである。幅があまり狭すぎると防湿
性が低下するばかりか、ピンホールなどの欠陥によって
防湿性が著しく低下することがあり、幅があまり広すぎ
ると変換パネルの有効利用面積が減少するために好まし
くない。
本発明の変換パネルにおいては、第3図に示すように輝
尽層と保護層体の間に低屈折率層を設けた構成にするこ
ともできる。
この低屈折率層は、保護層体よりも屈折率の低い材質か
らなり、この層が存在することにより、保護層体を厚く
しても鮮鋭性の低下を小さくすることができる。低屈折
率層を構成するものとしては、保護層体よりも低屈折率
のものであれば特に制限されない。
このように低屈折率層を設ける場合には、前記のスペー
サ及び防湿材の厚さを輝尽層の厚さと同じか、それより
も厚くすることが必要である。スペーサ及び防湿材の厚
さが輝尽層の厚さと同じであっても、輝尽層と保護層体
を接着剤などにより密着させなければ保護層体と輝尽層
との間に低屈折率層を設けることができる。
この低屈折率層は、例えば、CaF2(屈折率l、23
〜1.26)、Na5kQFa (屈折率1.35)、
MgFz (屈折率1.38)、SiOx (屈折率1
.46)などからなる層;エタノール(屈折率1.36
)、メタノール(屈折率1.33.)及びジエチルエー
テル(屈折率1.35)などの液体からなる層;又は空
気、窒素、アルゴンなどの気体からなる層及び真空層な
どの屈折率が実質的に1である層;にすることができる
変換パネルの低屈折率層としては、気体層又は真空層で
あることが、鮮鋭性の低下を防止する効果が高いことか
ら好ましい。
低屈折率層の厚さは0.05μm〜3mmまでが実用的
である。
本発明の変換パネルにおいては、低屈折率層に鮮鋭性の
低下を小さくするという効果を充分に付与するためには
、低屈折率層が輝尽層と密着状態にあることが好ましい
。したがって、低屈折率層が液体層、気体層及び真空層
の場合にはそのままでよいが、低屈折率層を上記のCa
F2. Na、A12F。
MgF2. Sin、などで保護層体の表面に形成した
場合などには、輝尽層と低屈折率層を例えば接着剤など
により密着させる。この場合には接着剤の屈折率は輝尽
層の屈折率に近似したものであることが好ましい。
本発明の変換パネルにおいては、保護層体は支持体の役
割を兼ねることもできる。その場合には本発明でいう支
持体は実質的に輝尽層を支持する機能を発揮しなくても
よい。
本発明の変換パネルにおいて輝尽層を構成する輝尽性蛍
光体は、最初の光もしくは高エネルギー放射線が照射さ
れた後に、売約、熱的、機械的、化学的又は電気的等の
刺激(輝尽励起)により、最初の光もしくは高エネルギ
ー放射線の照射量に対応した輝尽発光を示す蛍光体であ
るが、実用的な面からは500nm以上の励起光によっ
て輝尽発光を示す蛍光体が好ましいものである。このよ
うな輝尽性蛍光体としては、例えば特開昭48−804
87号に記載されているBa5O,: Ax、特開昭4
8−80489号に記載されている5rSO,: Ax
、特開昭53−39277号に記載されているLi2B
、07 : Cu、 Ag等、特開昭54−47883
号に記載されているLi、(1(B、0.)x : C
u及びLi2O・(BzOz)x : Cu、 Ag等
、米国特許3,859.527号のSrS : Ce、
 Sm、 SrS : Eu、 Sm、 LazOlS
 : Eu。
Sm及び(Zn、 Cd)S : Mn、 Xで示され
る蛍光体が挙げられる。
又、特開昭55−12142号に記載されているZnS
 :Cu、 Pb蛍光体、一般式Ba(l xAQ20
. : Euで示されるアルミン酸バリウム蛍光体、及
び一般式、M’O・xsio2: Aで示されるアルカ
リ土類金属珪酸塩系蛍光体が挙げられる。又、特開昭5
5−12143号に記載されている一般式、 (Bad−1−r vg、ca、) FX : Eu”
で示されるアルカリ土類弗化ハロゲン化物蛍光体、特開
昭55−12144号に記載されている一般式、LnO
X  :  xA で示される蛍光体、特開昭55−12145号に記載さ
れている一般式、 (Bad−、M’ 、)FX : yAで示される蛍光
体、特開昭55−84389号に記載されている一般式
、 BaFX : xCe、 yA で示される蛍光体、特開昭55−160078号に記載
されている一般式、 M  FX−xA : yLn で示される希土類元素付活2価金属フルオルノ1ライド
蛍光体、一般式、ZnS : A%CdS : A、 
(Zn。
Cd)S  : A、 ZnS : A、 X及びCd
S:A、Xで示される蛍光体、特開昭59−38278
号に記載されている下記いずれかの一般式、 XM、(PO,)2 ・NX、 : yAux(pot
)z : yA で示される蛍光体、下記のいずれかの一般式、nReX
、 ・mAX2・xEu nReX、 φmAX2: xEu、 ySmで示され
る蛍光体、及び特開昭61−72087号に記載されて
いる下記一般式、 M’X−aM”X、’ ・bM”X3” : cAで示
されるアルカリハライド蛍光体及び特開昭61−228
400号に記載されている一般式、M X : xBi
、で示されるビスマス付活アルカリハライド蛍光体等が
挙げられる。特にアルカリハライド蛍光体は、蒸着、ス
パッタリング等の方法で輝尽層を形成しやすく好ましい
しかし、本発明の変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体
は、前述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照
射した後輝尽励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍
光体であればいかなる蛍光体であ、2つでもよい。本発
明の変換パネルは、外部からの水分の侵入を防止できる
ので、例えば蛍光体としてアルカリ土類フルオルハライ
ド蛍光体、アルカリハライド蛍光体などの水分により劣
化し易いものも用いることができる。
本発明の変換パネルにおける輝尽層は、前記の輝尽性蛍
光体の少なくとも一種類を含むlもしくは2以上の輝尽
層から成る輝尽層群であってもよい。又、それぞれの輝
尽層に含まれる輝尽性蛍光体は同一であってもよいが異
なっていてもよい。
輝尽層の形成方法としては、特開昭56−12600号
に記載の塗布法を適用することができ、又蒸着などの気
相堆積法などを適用することができる。
気相堆積法で形成された輝尽層は、塗布法で形成された
輝尽層よりも蛍光体の充填密度が高くなり、放射線感度
が高くなる。
変換パネルの輝尽層の層厚は、目的とする変換パネルの
放射線に対する感度、輝尽性蛍光体の種類等によって異
なるが、結着剤を含有しない場合10−1000μmの
範囲、更に好ましくは30〜800μmの範囲から選ば
れるのが好ましく、結着剤を含有する場合で20〜10
00μmの範囲、更に好ましくは50〜500μmの範
囲から選ばれるのが好ましい。
本発明において使用される支持体としては各種高分子材
料、ガラス、セラミックス、金属等が挙げられる。
高分子材料としては例えばセルロースアセテート、ポリ
エステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、
ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネートなどの
フィルムが挙げられる。金属としては、アルミニウム、
鉄、銅、クロム等の金属シートもしくは金属板又は該金
属酸化物の被覆層を有する金属シート又は金属板が挙げ
られる。
ガラスとしては化学的強化ガラス及び結晶化ガラスなど
が挙げられる。又セラミックスとしてはアルミナ及びジ
ルコニアの焼結板などが挙げられる。
又、これら支持体の層厚は用いる支持体の材質等によっ
て異なるが、一般的には80μm〜5mmであり、取り
扱いが容易であるという点から、好ましくは200μm
〜3m1lである。この支持体の層厚は、防湿性の点か
らその透湿係数が5 X 10−”g−m/ m2・2
4hr以下になるような厚さであることか好ましく、更
には2 X 10−2g−m/ m2−24hr以下に
なるような厚さであることか好ましい。
これら支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽層と
の接着性を向上させる目的でマット面としてもよい。又
、支持体の表面は凹凸面としてもよいし、個々に独立し
た微小タイル状板を密に配置した表面構造としてもよい
更に、これら支持体上には、輝尽層との接着性を向上さ
せる目的で輝尽層が設けられる面に下弓層を設けてもよ
いし、必要に応じて光反射層、光吸収層等を設けてもよ
い。
本発明の変換パネルにおいて、保護層体、支持体、スペ
ーサ及び防湿材の熱膨張係数は互に近似していることが
好ましい。その差が大きいと環境の温度変化に伴って変
形し或は内部応力を生じ、変換パネルの機械強度の低下
や接合部の31割れや破損を招く。前記構成部材間の線
熱膨張係数の差の最大値は200x 10−’/ °c
以下更に100 X 10−’/ °C!以下が好まし
い。
又本発明の変換パネルの形状としては、読取装置の仕様
に応じ、外側スペーサ外面に切揃える必要はなく、保護
層体及び/又は支持体は任意に噴出していてもよい。
次に本発明の変換パネルの製造方法を、その−例を掲げ
て説明する。
まず、蒸着法などの気相堆積法により支持体上に輝尽層
を形成したのち、第2図に示すようにして輝尽層を包囲
するように内、外側スペーサの接合面を支持体上に接着
剤で付着させ、防湿材を内、外スペーサ間に充填する。
この際接合面積を勘案し、その分余計に充填する。次に
他の接合面(支持体の接着部分との反対部分)を保護層
体と付着させる。その後、接合加圧、必要ならば加温し
て接合を完成し第1図に示すような変換パネルが得られ
る。
本発明の変換パネルは、第4図に概略的に示される放射
線画像変換方法に用いられる。
すなわち、放射線発生装置41からの放射線は、被写体
42を通して変換パネル43に入射する。
この入射した放射線はパネル43の輝尽層に吸収され、
そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像が形
成される。
次にこの蓄積像を輝尽励起光源44からの輝尽励起光で
励起して輝尽発光の強弱は蓄積された放射線エネルギー
量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍管等
の光電変換装置45で光電変換し、画像再生装置46に
よって画像として再生し画像表示装置47によって表示
することにより、被写体の放射線透過像を観察すること
ができる。
〔実施例〕
次に本発明を実施例によって説明する。
実施例1〜8 1 mm厚の結晶化ガラス支持体に、蒸着装置でアルカ
リハライド蛍光体(RbBr : 0.0006T12
)を300μmの厚さになるように蒸着して輝尽層を形
成した。次いで、第1図及び第2図で示すように輝尽層
と同じ厚さの内、外側スペーサ材を合成ゴム系接着剤に
より仮接着させた。次に内、外側スペーサ間に防湿材を
充填して保護層体を接合し所定の硬化条件で防湿材を硬
化させた。用いた内、外スペーサ及び防湿材を表1に示
す。
次に、変換パネルについて、防湿性及び鮮鋭性を評価し
た。防湿性の結果を表1に示す。
防湿性は、気温40°C1相対湿度97%の条件下に変
換パネルを80日間放置して強制劣化させたのちの感度
低下率及びフェーディング低下率から評価した。試験方
法は下記の通りである。
感度低下率P 強制劣化試験前の変換パネルに、管電圧80kVpのX
線を10mR照射後、5秒問おいて半導体レーザ光(7
80nm、20mW)で輝尽励起し、輝尽発光を光電子
増倍管で光電変換し、得られた電気信号の大きさから劣
化試験前の変換パネルの感度S+++5ttelを求め
た。又、同様にして劣化試験後の変換パネル感度S、。
。、63.を求めた。
得られた各感度から次式; により感度低下率を求めた。
7エーデイング低下率Q 強制劣化試験前の変換パネルの7エーデイング二F、7
(X線を照射してからレーザ光で信号を読み取るまでの
間における蓄積エネルギーの減衰率)を下記の方法で求
めた。まず、管電圧80kVpのX線を1On+R照射
後、5秒問おいて半導体レーザ光(780nm、 20
mW)で輝尽励起し、輝尽発光を光電子増倍管で光電変
換して得られた電気信号の大きさから感度S+1iSt
sclを求めた。同様にして、X線照射後120秒問お
いて輝尽励起して得られた電気信号の大きさから感度S
+r、1□0.。、、を求めた。得られた各感度から次
式; により劣化試験前のフ二一ディングF、を求めた。
同様にして強制劣化試験後の変換パネルのフエにより求
めた。
このようにして碍られたF、□とF、。とから次式 ;
により7エーデイング低下率を求めた。
鮮鋭性 鮮鋭性は強制劣化試験前の変換パネルについて変調伝達
関数(MTF)を求めて評価した。
実施例9 ポリウレタン系接着剤を用いて保護層と輝尽層とを接着
したほかは実施例1と同様にして、変換パネルを得た。
この変換パネルについて実施例1〜8と同様の試験を行
った。結果を表1に示す。
実施例1O 輝尽層を下記の方法で形成したほかは実施例1と同様に
して変換パネルを得た。
輝尽層の形成方法は次のとおりである。まず、平均粒子
径2μmのBaFBr : Eu蛍光体8重量部及びポ
リビニルブチラール(結着剤)1重量部を溶剤(シクロ
ヘキサノン)を用いて混合分散して塗布液とした。次に
、この塗布液を水平に置いた実施例1と同様の支持体上
に均一に塗布し、−昼夜放置して輝尽層を形成した。
得られた変換パネルについて実施例1〜8と同様の試験
を行った。結果を表1に示す。
実施例11 スペーサ及び防湿材の厚さを表1に示すとおり、輝尽層
の厚さよりも厚くしたほかは実施例2と同様にして変換
パネルを得た。この変換パネルについて実施例1〜8と
同様の試験を行った。結果を表1に示す。
実施例12 スペーサの厚さを表1に示すとおり、輝尽層の厚さより
も厚くしたほかは実施例6と同様にして変換パネルを得
た。この変換パネルについて実施例1〜8と同様の試験
を行った。結果を表1に示す。
比較例(1)及び(2) 実施例1及び6において、スペーサを設けず防湿材のみ
を用いたほかは同様にして変換パネルを得た。この変換
パネルについて実施例1〜8と同様の試験を行った。結
果を表1に示す。
比較例(3) 実施例10と同様に、BaFBr : Euを蛍光体と
して用い、塗布法により300μm厚の輝尽層を形成し
、保護層体として厚さIOpmのポリエチレンテレフタ
レートを用い、スペーサ及び防湿材を用いることなく変
換パネルを得た。この変換パネルについて実施例1〜8
と同様の試験を行った。結果を表1に示す。
比較例(4) RbBr : 0.0006TQを蛍光体として用い、
実施例1と同様の支持体上に塗布法により輝尽層を形成
し、更に保護層体として厚さ10μmのポリエチレンテ
レフタレートを用い、スペーサ及び防湿材を用いること
なく変換パネルを得た。この変換パネルについて実施例
1〜8と同様の試験を行った。
表1より、実施例1−12の本発明の変換パネルは高温
、高湿度下に長期間おかれても初期の特性劣化が少なく
、耐久性が優れていた。これに対して比較例(1)〜(
4)の変換パネルでは水分の侵入によって蛍光体が劣化
し、変換パネルの初期特性は著しく劣化した。尚、実施
例9の変換パネルは輝尽層と保護層体とを接着剤により
接着したので厚い保護層体を用いたことによる画像の鮮
鋭性の低下が見られた。実施例1〜8の変換パネルでは
、輝尽層と保護層体とは接しているが、光学的に不連続
な面が存在しているので鮮鋭性の低下は見られなかった
〔発明の効果〕
本発明の画像変換パネルは優れた防湿性を有しており、
高温、高湿度雰囲気中で長期間に亘って使用した場合に
もその初期性能を維持し、優れた耐久性及び耐用性を示
すものである。
【図面の簡単な説明】
it図及び第3図は、本発明の変換パネルの垂直断面側
面図であり、第2図は第1図で示される変換パネルの水
平断面図であり、第4図は変換パネルを用いる放射線画
像変換方法の説明図であり、第5図はスペーサの加工形
状の一例を示す図である。 l・・・保護層体、 2・・・輝尽層、 3・・・支持体、 4・・・内側スペーサ、 5・・・外側スペーサー 6・・・防湿材、 7・・・低屈折率層

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 支持体上に、輝尽性蛍光体層及び保護層体を順次有し、
    支持体と保護層体間にスペーサを設ける放射線画像変換
    パネルにおいて、 前記スペーサが、前記輝尽性蛍光体層の周縁をとり囲ん
    で内、外側2重に設けられており、前記2重のスペーサ
    のいづれの厚みも少くとも輝尽性蛍光体層以上の厚さで
    あり、更に前記内、外側2重のスペーサ、支持体及び保
    護層体により形成される空隙部が防湿材により充填され
    ていることを特徴とする放射線画像変換パネル。
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CN102683364A (zh) * 2011-03-08 2012-09-19 索尼公司 辐射成像装置及其制造方法
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