JP3162094B2 - 放射線画像変換パネルおよびその使用方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、輝尽性蛍光体層を有す
る放射線画像変換パネルに関し、詳しくは輝尽性蛍光体
層が水分により劣化したときにも再生使用が可能な放射
線画像変換パネルおよびその使用方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば医療の分野においては、病気の診
断にＸ線画像のような放射線画像が多く用いられてい
る。放射線画像の形成方法としては、従来、被写体を透
過したＸ線を蛍光体層（蛍光スクリーン）に照射し、こ
れにより可視光を生じさせてこの可視光を通常の写真を
撮るときと同じように、銀塩を使用したフィルムに照射
して現像する、いわゆる放射線写真法が一般的であっ
た。

【０００３】しかるに、近年、銀塩を塗布したフィルム
を使用しないで蛍光体層から直接画像を取り出す方法と
して、被写体を透過した放射線を蛍光体に吸収させ、し
かる後この蛍光体を例えば光または熱エネルギーで励起
することにより、この蛍光体に吸収されて蓄積されてい
た放射線エネルギーを蛍光として放射させ、この蛍光を
検出して画像化する方法が提案されている。例えば米国
特許第 3,859,527号明細書、特開昭55− 12144号公報に
は、輝尽性蛍光体を用い、可視光線または赤外線を輝尽
励起光として用いた放射線画像変換方法が示されてい
る。この方法は、基板上に輝尽性蛍光体層を形成した放
射線画像変換パネルを使用するものであり、この放射線
画像変換パネルの輝尽性蛍光体層に被写体を透過した放
射線を当てて、被写体の各部の放射線透過度に対応する
放射線エネルギーを蓄積させて潜像を形成し、しかる後
にこの輝尽性蛍光体層を輝尽励起光で走査することによ
って各部に蓄積された放射線エネルギーを輝尽発光とし
て放射させ、この光の強弱による光信号を例えば光電変
換し、画像再生装置により画像化するものである。この
最終的な画像はハードコピーとして再生されるか、また
はＣＲＴ上に再生される。

【０００４】このような放射線画像変換方法に用いられ
る輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルは、放
射線画像情報を蓄積した後、輝尽励起光の走査によって
蓄積エネルギーを放出するので、走査後に再度放射線画
像の蓄積を行うことができ、繰り返して使用することが
できる。しかるに、放射線画像変換パネルは、得られる
放射線画像の画質を劣化させることなく、長期間または
多数回にわたり繰り返して使用することができる耐久性
が必要とされる。この耐久性を高めるためには、放射線
画像変換パネルの輝尽性蛍光体層が、外部からの物理的
または化学的刺激から充分に保護されることが必要であ
る。特に、輝尽性蛍光体層は、水分により特性が劣化し
やすいので、水分から充分に保護されることが必要であ
る。

【０００５】しかし、従来においては、輝尽性蛍光体層
を保護するために、輝尽性蛍光体層の表面を保護層によ
り被覆する手段が提案されている。この保護層は、例え
ば特開昭59− 42500号公報に記載されているように保護
層用の塗布液を輝尽性蛍光体層上に直接塗布して形成さ
れるか、またはあらかじめ別途形成した保護層を輝尽性
蛍光体層上に接着することによって設けられている。保
護層としては、一般的には、有機高分子からなり、膜厚
が10μｍ程度の薄い層が用いられている。しかしなが
ら、常用される有機高分子からなる保護層は、ある程度
の水分および／または湿気に対して透過性を示し、その
ため輝尽性蛍光体層が水分を吸収して、放射線感度が低
下したり、放射線の照射後に輝尽励起光の照射を受ける
までの間に蓄積エネルギーの減衰 (フェーディング) が
大きく、得られる放射線画像の画質がばらついたり、劣
化する問題がある。保護層における水分の透過を防止す
るためには、保護層を厚くすることが有効である。しか
し、保護層を単に厚くするだけでは、鮮鋭性が低下す
る。そこで、特開昭62−206017号公報に記載されている
ように、低屈折率層を設けることは、鮮鋭性を低下させ
ることなしに厚い保護層を用いることが可能となる点で
好ましいものである。この低屈折率層は、保護層と支持
体とをスペーサを用いて接着剤により固定して作られて
いる。また、水分の透過をさらに有効に防止するため
に、スペーサの外側に防湿材を兼ねる充填材を設ける技
術も提案されている（特開平２− 77700号公報) 。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の技術においても、放射線画像変換パネルを長期間
にわたり繰り返して使用する場合には、水分が徐々に透
過していくために輝尽性蛍光体層が劣化し、放射線感度
等が低下する問題が依然として残っている。そこで、本
発明の目的は、輝尽性蛍光体層が水分により劣化したと
きにも容易に再生使用することができる放射線画像変換
パネルおよびその使用方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに、本発明の放射線画像変換パネルは、支持体と、こ
の支持体上に設けた輝尽性蛍光体層と、この輝尽性蛍光
体層上に設けた保護層と、支持体と保護層との間におい
て輝尽性蛍光体層の周縁を取り囲むよう設けられて当該
輝尽性蛍光体層を密閉するスペーサとを備えてなる放射
線画像変換パネルにおいて、前記支持体、保護層、スペ
ーサの少なくとも１ヶ所に、当該支持体、保護層および
スペーサにより区画された密閉空間の通気孔を設け、当
該通気孔を、硬化後の硬度が２０〜８５の接着剤を用い
て固定された脱着可能な封着部材により封着したことを
特徴とする。また、本発明の放射線画像変換パネルの使
用方法は、上記の構成の放射線画像変換パネルを使用し
た後、通気孔の封着部材を取り外して密閉空間内を乾燥
して、水分によって劣化した輝尽性蛍光体層から水分を
除去して輝尽性蛍光体層を再生し、その後、再び封着部
材により通気孔を封着して放射線画像変換パネルを繰り
返して使用することを特徴とする。

【０００８】以下、本発明の構成を具体的に説明する。
図１および図２は、本発明の放射線画像変換パネルの一
例を示し、１は輝尽性蛍光体層、２は保護層、３は支持
体、４はスペーサ、５は低屈折率層、６は通気孔、７は
封着部材である。支持体３上に輝尽性蛍光体層１が設け
られ、この輝尽性蛍光体層１上には空気層からなる低屈
折率層５を介して保護層２が設けられている。支持体３
と保護層２との間において、輝尽性蛍光体層１の周縁を
取り囲むように、スペーサ４が接着剤により固定され、
このスペーサ４により輝尽性蛍光体層１が外部空間から
密閉されている。支持体３と、保護層２と、スペーサ４
とにより区画された密閉空間の通気孔６が、保護層２の
端部に設けられていて、この通気孔６は脱着可能な封着
部材７により封着されている。

【０００９】通気孔６の数は特に制限されない。最低１
ヶ所に設けられていればよい。実用的には、１〜２ヶ所
が好ましい。通気孔６の断面積は、密閉空間 100cm³ 当
り、0.05〜1.5 cm² が好ましい。通気孔６の設ける位置
は、放射線画像の形成に支障のない位置であれば特に限
定されない。図１のように保護層２に設けるほか、図３
および図４に示すように支持体３の端部に設けてもよ
く、また図５および図６に示すようにスペーサ４の一部
に設けてもよい。

【００１０】通気孔６は脱着可能な封着部材７により封
着されるが、ここで「脱着可能」とは、封着部材７を封
着した後、適宜の時期に被封着部を破壊することなく封
着部材７を剥がすことができ、さらに再び封着部材７を
被封着部に接着することができることを意味する。具体
的には、封着部材７は、当該封着部材７を脱着可能に固
定できる接着剤を用いて被封着部に固定されている。

【００１１】そのような接着剤としては、封着部材７を
剥がすときには被封着部を破損することがなく、しかも
再度の封着時には充分な接着強度が得られるよう、硬化
後の硬度が２０〜８５の接着剤が用いられる。具体的に
は、弾性エポキシ樹脂 (硬度７０）、シリコーンゴム
(硬度５０）、シリコーン樹脂 (硬度４０）等が挙げら
れる。また、経時的な水分の透過を充分に防止する観点
から、接着剤の透湿度は３０ｇ／ｍ² ・２４ｈｒ以下が
好ましい。ここで「硬度」とは、ＪＩＳ Ａに準じて測
定されたものをいう。また、「透湿度」とは、ＪＩＳ
Ｚ ０２０８−１９７６に準じて測定されたものをいう
（以下において同様）。

【００１２】また、放射線画像の形成に支障を来さない
ようにし、かつ防湿性を充分なものとする観点から、通
気孔６の周縁から封着部材７の周縁までの最小距離、す
なわち外気が密閉空間へ進入する際の接着界面透湿距離
は１〜10mmが好ましい。封着部材７の材質は、被封着部
に適した材質を選択することが好ましく、特に被封着部
と同一の材質が好ましい。また、封着部材７の透湿度
は、防湿性の観点から、30ｇ／m²・24hr以下が好まし
い。

【００１３】保護層２は、輝尽性蛍光体層１を物理的に
または化学的に保護するために設けられるものである。
保護層２を低屈折率層５を介して設ける場合、当該保護
層２の構成材料としては、透光性がよく、シート状に成
形できるものが使用される。保護層２は、輝尽励起光お
よび輝尽発光を効率よく透過するために、広い波長範囲
で高い光透過率を示すことが望ましく、光透過率は80％
以上が好ましい。このような保護層２の材料としては、
石英、ホウケイ酸ガラス、化学的強化ガラス等の板ガラ
スや、ポリエチレンテレフタレート (ＰＥＴ) 、延伸ポ
リプロピレン (ＯＰＰ) 、ポリ塩化ビニル等の有機高分
子化合物が挙げられる。例えばホウケイ酸ガラスは 330
nm〜2.6 μｍの波長範囲で80％以上の光透過率を示し、
石英ガラスではさらに短波長においても高い光透過率を
示す。特に、高い光透過率を示し、かつ優れた防湿性を
示す点から、板ガラスが好ましい。

【００１４】低屈折率層５を介して保護層２を設ける場
合には、保護層２の厚さは、透湿度を考慮して定められ
るが、通常は、50μｍ〜５mmであり、好ましくは 100μ
ｍ〜３mmである。また、保護層２の透湿度は、30ｇ／ｍ
² ・24hr以下、特に10ｇ／ｍ² ・24hrであることが好ま
しい。さらに、保護層２の表面に、ＭｇＦ₂ 等の反射防
止層を設けることにより、輝尽励起光および輝尽発光を
効率よく透過すると共に、鮮鋭性の低下を小さくする効
果もあり好ましい。保護層２の屈折率は特に限定されな
いが、実用的には、 1.4〜2.0 の範囲が好ましい。保護
層２は、必要に応じて２層以上の多層構成としてもよ
い。

【００１５】支持体３の材料としては、各種の高分子材
料、ガラス、セラミックス、金属等が用いられる。高分
子材料としては、セルロースアセテート、ポリエステ
ル、ポリエチレンテレフタレート、、ポリアミド、ポリ
イミド、トリアセテート、ポリカーボネート等のフィル
ムが挙げられる。金属としては、アルミニウム、鉄、
銅、クロム等の金属シートもしくは金属板、またはこれ
らの金属の酸化物の被覆層を有する金属シートもしくは
金属板が挙げられる。ガラスとしては、化学強化ガラ
ス、結晶化ガラス等が挙げられる。セラミックスとして
は、アルミナあるいはジルコニアの焼結板等が挙げられ
る。

【００１６】支持体３の透湿度は、防湿性の観点から、
保護層２の透湿度と同程度であることが好ましい。具体
的には、30ｇ／ｍ² ・24hr以下であることが好ましい。
支持体３の厚さは、その材料等によって異なるが、一般
的には80μｍ〜５mmが好ましく、取扱いの便利性から、
特に 200μｍ〜３mmが好ましい。支持体３の表面は滑面
であってもよいし、輝尽性蛍光体層１との接着性を高め
る目的で、マット面としてもよい。また、支持体３の表
面は凹凸面としてもよいし、個々に独立した微小タイル
状板を密に配置した表面構造としてもよい。また、支持
体３の表面には、輝尽性蛍光体層１との接着性を高める
ために、下引層を設けてもよいし、必要に応じて光反射
層、光吸収層等を設けてもよい。

【００１７】スペーサ４としては、輝尽性蛍光体層１を
外部雰囲気から遮断した状態で保持することができるも
のであれば特に限定されない。具体的には、ガラス、セ
ラミックス、金属、プラスチック等が用いられる。特
に、スペーサ４の材質は、支持体３の材質と同一のもの
が好ましい。スペーサ４の透湿度は、防湿性の観点か
ら、30ｇ／ｍ² ・24hr以下が好ましい。また、スペーサ
４の厚さは、輝尽性蛍光体層１の厚さ以上であって５mm
以下が好ましい。スペーサ４の幅は、主として、スペー
サ４と支持体３および保護層２との密着部分の防湿性を
考慮して決定されるものであり、具体的には１〜30mmが
好ましい。また、スペーサ４と支持体３および保護層２
との密着部分の透湿度は、30ｇ／ｍ² ・24hr以下が好ま
しい。

【００１８】スペーサ４は、例えば接着剤により支持体
３および保護層２に固定される。かかる接着剤として
は、防湿性を有するものが好ましく、具体的には、エポ
キシ系樹脂、フェノール系樹脂、シアノアクリレート系
樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ウレタン
系樹脂、アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、
オレフィン系樹脂、クロロプレン系ゴム、ニトリル系ゴ
ム等の有機高分子系接着剤や、シリコーン系接着剤、ア
ルミナ、シリカ等を主成分とする無機系接着剤等が挙げ
られる。また、スペーサ４と支持体３および保護層２と
の密着部分の接着性を高める観点から、スペーサ４と支
持体３および保護層２との接触面に下引層を設けたり、
粗面化処理を施してもよい。

【００１９】低屈折率層５は、保護層２による鮮鋭性の
低下を防止する役割を果たすものである。この低屈折率
層５は、スペーサ４により外部雰囲気から遮断された状
態で存在するものであり、この低屈折率層５を設けるこ
とにより、保護層２を実質的に厚くすることができ、防
湿性をさらに高めることができる。低屈折率層５として
は、空気層のほか、窒素、アルゴン等の不活性気体から
なる層、真空層等の屈折率が実質的に１である層、エタ
ルール（屈折率1.36) 、メタノール (屈折率1.33) 、ジ
エチルエーテル (屈折率1.35) 等の液体からなる層等で
あってもよい。また、別の態様として、ＣａＦ₂ （屈折
率1.23〜1.26) 、Ｎａ₃ ＡｌＦ₆ （屈折率1.35) 、Ｍｇ
Ｆ₂ （屈折率1.38) 、ＳｉＯ₂ （屈折率1.46) 等の物質
からなる低屈折率層を保護層２に直接積層してもよい。
低屈折率層５の厚さは、実用的には0.05μｍ〜３mmであ
る。

【００２０】低屈折率層５により鮮鋭性の低下を充分に
防止するためには、低屈折率層５は輝尽性蛍光体層１と
密着していることが必要であり、低屈折率層５が空気等
の気体層、真空層、液体層である場合はそのままで密着
状態が得られるが、ＣａＦ₂ 等からなる低屈折率層を保
護層２に直接積層する場合には、当該低屈折率層と輝尽
性蛍光体層１とを接着剤等により密着させることが好ま
しい。

【００２１】輝尽性蛍光体層１は、例えば真空蒸着法、
スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法
等の気相堆積法、あるいは輝尽性蛍光体粉末を高分子バ
インダー中に分散した塗布液を塗布することにより形成
することができる。放射線感度、画像の鮮鋭性の観点か
らは、気相堆積法がより好ましい。

【００２２】ここで「輝尽性蛍光体」とは、最初の光ま
たは高エネルギー放射線が照射された後に、光的、熱
的、機械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽励起）
により、最初の光または高エネルギー放射線の照射量に
対応した輝尽発光を示す蛍光体をいうが、実用的な面か
らは、波長が 500nm以上の輝尽励起光によって輝尽発光
を示す蛍光体が好ましい。

【００２３】輝尽性蛍光体層を構成する輝尽性蛍光体と
しては、以下のものを用いることができる。 （１）特開昭48− 80487号公報に記載の ＢａＳＯ₄ ：Ａ_x で表される蛍光体。(ただし、Ａは、Ｄｙ，Ｔｂ，Ｔｍ
の少なくとも１種を表し、ｘは 0.001≦ｘ＜１モル％を
満たす数を表す。） （２）特開昭48− 80489号公報に記載の ＳｒＳＯ₄ ：Ａ_x で表される蛍光体。（ただし、Ａは、Ｄｙ，Ｔｂ, Ｔｍ
の少なくとも１種を表し、ｘは 0.001≦ｘ＜１モル％を
満たす数を表す。） （３）特開昭53− 39277号公報に記載の Ｌｉ₂ Ｂ₄ Ｏ₇ ：Ｃｕ，Ａｇ 等の蛍光体。

【００２４】（４）特開昭54− 47883号公報に記載の Ｌｉ₂ Ｏ・（Ｂ₂ Ｏ₂ ) _x ：Ｃｕ Ｌｉ₂ Ｏ・（Ｂ₂ Ｏ₂ ) _x ：Ｃｕ，Ａｇ 等の蛍光体。（ただし、ｘは２＜ｘ≦３を満たす数を表
す。） （５）米国特許第 3,859,527号明細書に記載の ＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ Ｌａ₂ Ｏ₂ Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ （Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ｍｎ，Ｘ で表される蛍光体。（ただし、Ｘはハロゲンを表す。） （６）特開昭55− 12142号公報に記載の ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ 等の蛍光体。

【００２５】（７）同55− 12142号公報に記載の一般式
が ＢａＯ・ｘＡｌ₂ Ｏ₃ ：Ｅｕ で表されるアルミン酸バリウム蛍光体。（ただし、ｘは
0.8≦ｘ≦10を満たす数を表す。) （８）同55− 12142号公報に記載の一般式が Ｍ^IIＯ・ｘＳｉＯ₂ ：Ａ で表されるアルカリ土類金属ケイ酸塩系蛍光体。（ただ
し、Ｍ^IIは、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ，Ｃｄ, Ｂａを表
し、Ａは、Ｃｅ，Ｔｂ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｐｂ，Ｔｌ，Ｂ
ｉ，Ｍｎの少なくとも１種を表し、ｘは、 0.5≦ｘ＜2.
5 を満たす数を表す。) （９）特開昭55− 12143号公報に記載の一般式が （Ｂａ_1-x-y Ｍｇ_x Ｃａ_y ）ＦＸ：ｅＥｕ²⁺ で表される蛍光体。（ただし、Ｘは、Ｂｒ，Ｃｌの少な
くとも１種を表し、ｘ，ｙ，ｅは、それぞれ、 0＜ｘ＋
ｙ≦0.6 、ｘ・ｙ≠０、10^-6≦ｅ≦５×10^-2を満たす数
を表す。)

【００２６】（１０）特開昭55− 12144号公報に記載の
一般式が ＬｎＯＸ：ｘＡ で表される蛍光体。（ただし、Ｌｎは、Ｌａ，Ｙ，Ｇ
ｄ，Ｌｕの少なくとも１種を表し、Ｘは、Ｃｌ，Ｂｒの
少なくとも１種を表し、Ａは、Ｃｅ，Ｔｂの少なくとも
１種を表し、ｘは０＜ｘ＜0.1 を満たす数を表す。) （１１）特開昭55− 12145号公報に記載の一般式が （Ｂａ_1-x （Ｍ^II）_x ）ＦＸ：ｙＡ で表される蛍光体。（ただし、Ｍ^IIは、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓ
ｒ，Ｚｎ，Ｃｄの少なくとも１種を表し、Ｘは、Ｃｌ，
Ｂｒ，Ｉの少なくとも１種を表し、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，
Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒの少
なくとも１種を表し、ｘ，ｙは、０≦ｘ≦0.6 、０≦ｙ
≦0.2 を満たす数を表す。) （１２）特開昭55− 84389号公報に記載の一般式が ＢａＦＸ：ｘＣｅ，ｙＡ で表される蛍光体。（ただし、Ｘは、Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉの
少なくとも１種を表し、Ａは、Ｉｎ，Ｔｌ，Ｇｄ，Ｓ
ｍ，Ｚｒの少なくとも１種を表し、ｘ，ｙは、０＜ｘ≦
２×10^-1、０＜ｙ≦５×10^-2を満たす数を表す。)

【００２７】（１３）特開昭55−160078号公報に記載の
一般式が Ｍ^IIＦＸ・ｘＡ：ｙＬｎ で表される希土類元素付活２価金属フルオロハライド蛍
光体。（ただし、Ｍ^IIは、Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ，Ｓｒ，Ｚ
ｎ，Ｃｄの少なくとも１種を表し、Ａは、ＢｅＯ，Ｍｇ
Ｏ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，ＺｎＯ，Ａｌ₂ Ｏ₃ ，Ｙ
₂ Ｏ₃ ，Ｌａ₂ Ｏ₃ ，Ｉｎ₂ Ｏ₃ ，ＳｉＯ₂ ，Ｔｉ
Ｏ₂ ，ＺｒＯ₂ ，ＧｅＯ₂ ，ＳｎＯ₂ ，Ｎｂ₂ Ｏ₅ ，Ｔ
ａ₂ Ｏ₅ ，ＴｈＯ₂ の少なくとも１種を表し、Ｌｎは、
Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙ
ｂ，Ｅｒ，Ｓｍ，Ｇｄの少なくとも１種を表し、Ｘは、
Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉの少なくとも１種を表し、ｘ，ｙは、５
×10^-5≦ｘ≦0.5 、０＜ｙ≦0.2 を満たす数を表す。) （１４）同55−160078号公報に記載の一般式が ＺｎＳ：Ａ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａ、 ＣｄＳ：Ａ、 ＺｎＳ：Ａ，Ｘ、 ＣｄＳ：Ａ，Ｘ で表される蛍光体。（ただし、Ａは、Ｃｕ，Ａｇ，Ａ
ｕ，Ｍｎのいずれかを表し、Ｘは、ハロゲンを表す。） （１５）特開昭59− 38278号公報に記載の下記一般式 ｘＭ₃ （ＰＯ₄ ）₂ ・ＮＸ₂ ：ｙＡ Ｍ₃ （ＰＯ₄ ）₂ ・ｙＡ で表される蛍光体。（式中、Ｍ，Ｎは、それぞれ、Ｍ
ｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄの少なくとも１種を
表し、Ｘは、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉの少なくとも１種を表
し、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈ
ｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｓｂ，Ｔｌ，Ｍｎ，Ｓｎの少な
くとも１種を表し、ｘ，ｙは、０＜ｘ≦６、０≦ｙ≦１
を満たす数を表す。）

【００２８】（１６）特開昭59−155487号公報に記載の
下記一般式 ｎＲｅＸ₃ ・ｍＡＸ' ₂ ：ｘＥｕ ｎＲｅＸ₃ ・ｍＡＸ' ₂ ：ｘＥｕ，ｙＳｍ で表される蛍光体。（式中、Ｒｅは、Ｌａ，Ｇｄ，Ｙ，
Ｌｕの少なくとも１種を表し、Ａは、Ｂａ，Ｓｒ，Ｃａ
の少なくとも１種のアルカリ土類金属を表し、Ｘ，Ｘ’
は、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒの少なくとも１種を表し、ｘ，ｙ
は、１×10^-4＜ｘ＜３×10^-1、１×10^-4＜ｙ＜１×10^-1
を満たす数を表し、ｎ／ｍは、１×10^-3＜ｎ／ｍ＜７×
10^-1を満たす数を表す。) （１７）特開昭61− 72087号公報に記載の一般式 Ｍ^I Ｘ・ａＭ^IIＸ' ₂ ・ｂＭ^III Ｘ''₃ ：ｃＡ で表されるアルカリハライド蛍光体。（ただし、Ｍ
^I は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓの少なくとも１種の
アルカリ金属を表し、Ｍ^IIは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓ
ｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｃｕ，Ｎｉの少なくとも１種の
２価の金属を表し、Ｍ^III は、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，
Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈ
ｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎの少な
くとも１種の３価の金属を表し、Ｘ，Ｘ' , Ｘ''は、
Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉの少なくとも１種のハロゲンを表
し、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈ
ｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｇｄ，Ｌｕ，Ｓｍ，Ｙ，Ｔｌ，
Ｎａ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｍｇの少なくとも１種の金属を表
し、ａ，ｂ，ｃは、０≦ａ＜0.5 、０≦ｂ＜0.5 、０＜
ｃ≦0.2 を満たす数を表す。)

【００２９】（１８）特開昭60− 84381号公報に記載の
一般式 Ｍ^IIＸ₂ ・ａＭ^IIＸ'₂：ｘＥｕ²⁺ で表される二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロ
ゲン化物蛍光体。（ただし、Ｍ^IIは、Ｂａ，Ｓｒ，Ｃａ
の少なくとも１種のアルカリ土類金属であり、Ｘおよび
Ｘ’は、Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉの少なくとも１種のハロゲンで
あって、かつＸ≠Ｘ’であり、ａ, ｘは、 0.1≦ａ≦1
0.0、０＜ｘ≦0.2 を満たす数を表す。) （１９）特開昭63− 27588号公報に記載の一般式 ＭＸ₂ ・ａＭＸ' ₂ ：ｂＥｕ²⁺ で表される二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロ
ゲン化物蛍光体。（ただし、Ｍは、Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａの
少なくとも１種のアルカリ土類金属であり、Ｘおよび
Ｘ’は、Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉの少なくとも１種のハロゲンで
あって、かつＸ≠Ｘ’であり、ａ, ｂは、 0.5≦ａ≦1.
8 、10^-4≦ｂ≦10^-2を満たす数を表す。) （２０）第51回応用物理学会学術講演会講演予稿集 (1990年秋季) 1086頁に記載されている一般式 ＢａＸ₂ ：Ｅｕ（Ｘはハロゲン） で表される二価ユーロピウム賦活ハロゲン化バリウム蛍
光体。

【００３０】以上の中でも、特に、アルカリハライド蛍
光体は、真空蒸着、スパッタリング法等によって輝尽性
蛍光体層を形成するのが容易である点で好ましい。ただ
し、本発明においては、以上の蛍光体に限定されず、放
射線を照射した後、輝尽励起光を照射した場合に輝尽蛍
光を示す蛍光体であればその他の蛍光体をも用いること
ができる。

【００３１】本発明においては、輝尽性蛍光体層１は、
前記の輝尽性蛍光体の少なくとも１種類を含む１つもし
くは２つ以上の層からなる輝尽性蛍光体層群であっても
よい。また、それぞれの輝尽性蛍光体層に含まれる輝尽
性蛍光体は同一であってもよく、異なっていてもよい。

【００３２】輝尽性蛍光体層１の層厚は、放射線感度を
高める観点から、バインダーを用いない場合には、10〜
1000μｍであることが好ましく、特に20〜800 μｍであ
ることが好ましい。また、バインダーを用いる場合に
は、20〜1000μｍであることが好ましく、特に50〜500
μｍであることが好ましい。

【００３３】次に、本発明の使用方法について説明す
る。本発明の使用方法においては、放射線画像変換パネ
ルの使用後、適宜の時期において、通気孔６の封着部材
７を取り外して密閉空間内を乾燥した後、再び当該封着
部材７により通気孔６を封着して放射線画像変換パネル
を再生させて繰り返して使用する。密閉空間内の乾燥
は、温度40〜100 ℃で、 0.1〜３時間にわたり加熱乾燥
するのが好ましい。また、水分を確実に除去するために
減圧下で加熱乾燥するのが好ましい。減圧して乾燥した
場合は、乾燥後密閉空間内に低屈折率層５を構成する乾
燥空気等を充填して大気圧と同圧にし、その後直ちに通
気孔６を封着部材７により封着するのが好ましい。密閉
空間内に充填する乾燥空気は、含水量が50ppm 以下が好
ましく、特に20ppm 以下が好ましい。

【００３４】図７は本発明の放射線画像変換パネルを用
いて構成された放射線画像変換装置の概略を示し、８は
放射線発生装置、９は被写体、１０は放射線画像変換パ
ネル、１１は輝尽励起光源、１２は放射線画像変換パネ
ル１０より放射された輝尽発光を検出する光電変換装
置、１３は光電変換装置１２で検出された信号を画像と
して再生する再生装置、１４は再生装置１３により再生
された画像を表示する表示装置、１５は輝尽励起光と輝
尽発光とを分離し、輝尽発光のみを透過させるフィルタ
ーである。図７の放射線画像変換装置においては、放射
線発生装置８からの放射線Ｒは被写体９を通して放射線
画像変換パネル１０に入射する。この入射した放射線Ｒ
Ｉは放射線画像変換パネル１０の輝尽性蛍光体層１に吸
収され、そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄
積像が形成される。次に、この蓄積像を輝尽励起光源１
１からの輝尽励起光で励起して輝尽発光として放射させ
る。放射される輝尽発光の強弱は、蓄積された放射線エ
ネルギー量に比例するので、この光信号を例えば光電子
増倍管等の光電変換装置１２で光電変換し、再生装置１
３によって画像として再生し、表示装置１４によって表
示することにより、被写体９の放射線透過像を観察する
ことができる。

【００３５】

【実施例】以下、本発明の実施例を具体的に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。 実施例１ 以下の工程に従って、図１および図２に示す構成の放射
線画像変換パネルを作製した。厚さが１mmで大きさが 4
00mm×500mm の結晶化ガラス板からなる支持体上に、Ｒ
ｂＢｒ（輝尽性蛍光体）を蒸着して厚さが300μｍの輝
尽性蛍光体層を形成した。保護層として、厚さが１mmの
ホウケイ酸ガラス板を用い、この保護層にあらかじめ、
10mm角の通気孔を設けた。前記支持体と前記保護層との
間において輝尽性蛍光体層の周縁を取り囲むように、ガ
ラスからなる厚さ１mmのスペーサをエポキシ系接着剤に
より固定した。これを１×10^-2mmHgの減圧下において、
温度80℃で２時間にわたり加熱乾燥した後、含水量20pp
m の乾燥Ｎ₂ （窒素）ガスで置換した。次いで、通気孔
を、保護層と同じ材質で厚さが１mmで20mm角のホウケイ
酸ガラス板からなる封着部材により弾性エポキシ系接着
剤（硬度50）により封着し、輝尽性蛍光体層の密閉空間
を形成した。封着部材と通気孔の周縁部との最小接着幅
は５mmとした。

【００３６】このようにして得られた放射線画像変換パ
ネルを、温度60℃、相対湿度85％の環境条件下に放置し
て強制劣化させ、下記の方法により経時的な感度低下率
およびフェーディング低下率を求めた。また、支持体上
の輝尽性蛍光体層を保護層およびスペーサにより封着、
密閉（封止）して本発明により放射線画像変換パネルを
製造した場合の封止前後での感度低下率およびフェーデ
ィング低下率を調べ、放射線画像変換パネル製造時の性
能劣化を評価した。なお、封止前のプレートの性能は水
分の影響を除去するため、真空中で評価し、基準とし
た。

【００３７】感度低下率：Ｐ 管電圧80ｋＶ_P のＸ線を10ｍＲ照射し、ｔ秒後に半導体
レーザ光（ 780ｎｍ、20ｍＷ）で輝尽励起し、輝尽性蛍
光体層から放射される輝尽発光を光検出器（光電子増倍
管）で光電変換し、得られた電気信号の大きさを放射線
画像変換パネルの感度Ｓst（sec ）とした。Ｘ線照射か
ら５秒後における、封着前の放射線画像変換パネルの感
度Ｓ₀（₅ sec ）、封着後の強制劣化試験前の放射線画
像変換パネルの感度Ｓst（₅ sec ）および強制劣化試験
後の放射線画像変換パネルの感度Ｓ₆₀（₅ sec ）から感
度低下率（Ｐ）を下記数１および数２により求めた。

【００３８】製造時の感度低下率（Ｐｍ）：

【数１】

【００３９】強制劣化による感度低下率（Ｐｒ）：

【数２】

【００４０】フェーディング低下率：Ｑ Ｘ線を照射してからレーザ光で信号を読取るまでの間に
おける蓄積エネルギーの減衰率、すなわちフェーディン
グ：Ｆは、下記数３により求められる。

【００４１】

【数３】

【００４２】ただし、Ｓ（₁₂₀ sec ）はＸ線照射から 1
20秒後の感度、Ｓ（₅ sec ）は５秒後の感度を表す。封
止前の放射線画像変換パネルのフェーディングＦ₀ 、封
止後の強制劣化試験前のフェーディングＦstおよび強制
劣化試験後のフェーディングＦ₆₀から下記数４および数
５によりフェーディング低下率（Ｑ）を求めた。

【００４３】製造時のフェーディング低下率（Ｑｍ）：

【数４】

【００４４】強制劣化によるフェーディング低下率（Ｑ
ｒ）：

【数５】

【００４５】さらに、放射線画像変換パネルの作製後90
日を経過した時に、通気孔の封着部材を剥がして、１×
10^-2mmHgの減圧下において、温度80℃で２時間にわたり
加熱乾燥した後、含水量20ppm の乾燥Ｎ₂ (窒素) ガス
で置換し、次いで、剥がした封着部材により通気孔を再
度封着して、放射線画像変換パネルを再生した。この再
生後の放射線画像変換パネルについて上記と同様にして
感度低下率およびフェーディング低下率を調べた。

【００４６】さらに、作製後 180日を経過した時に、上
記と同様にして放射線画像変換パネルを再生し、上記と
同様にして感度低下率およびフェーディング低下率を調
べた。

【００４７】実施例２ 通気孔を支持体に設け、封着部材として支持体と同じ材
質である結晶化ガラス板を用いた以外は実施例１と同様
にして図３および図４に示す構成の放射線画像変換パネ
ルを作製した。この放射線画像変換パネルについて実施
例１と同様にして感度低下率およびフェーディング低下
率を調べた。

【００４８】実施例３ 通気孔をスペーサの一部に設け、その幅を10mmとし、封
着部材としてスペーサと同じ材質であるガラス (厚さ１
mm，幅 3.0mm, 長さ 400mm) を用いた以外は実施例１と
同様にして図５および図６に示す構成の放射線画像変換
パネルを作製した。この放射線画像変換パネルについて
実施例１と同様にして感度低下率およびフェーディング
低下率を調べた。

【００４９】実施例４ 保護層に延伸ポリプロピレン（厚さ１mm）を用い、封着
部材として、保護層と同じ材質である延伸ポリプロピレ
ンを用い、シリコーンゴム（硬度50)を用いた以外は実
施例１と同様にして放射線画像変換パネルを作製した。
この放射線画像変換パネルについて実施例１と同様にし
て感度低下率およびフェーディング低下率を調べた。

【００５０】比較例１ 保護層として、通気孔を設けていない厚さ10μｍのポリ
エチレンテレフタレートを用い、スペーサとの固定に塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂を用いた以外は、実
施例１と同様にして比較用の放射線画像変換パネルを作
製した。この放射線画像変換パネルについて、再生を行
わなかった以外は実施例１と同様にして感度低下率およ
びフェーディング低下率を調べた。

【００５１】比較例２ 保護層として、通気孔を設けていない厚さ１mmのホウケ
イ酸ガラス板を用いた以外は、実施例１と同様にして比
較用の放射線画像変換パネルを作製した。この放射線画
像変換パネルについて、再生を行わなかった以外は実施
例１と同様にして感度低下率およびフェーディング低下
率を調べた。

【００５２】比較例３ 保護層および封着部材として厚さ10μｍのポリエチレン
テレフタレートシートを用い、封着部材を通気孔に封着
するための接着剤として塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体樹脂（硬度90）を用いた以外は実施例１と同様にして
比較用の放射線画像変換パネルを作製した。この放射線
画像変換パネルについて、再生を行わなかった以外は実
施例１と同様にして感度低下率およびフェーディング低
下率を調べた。

【００５３】比較例４ 封着部材を通気孔に封着するための接着剤としてエポキ
シ系接着剤（硬度 100）を用いた以外は実施例１と同様
にして比較用の放射線画像変換パネルを作製した。この
放射線画像変換パネルについて実施例１と同様にして感
度低下率およびフェーディング低下率を調べた。なお、
この放射線画像変換パネルでは、封着部材の接着強度が
大きすぎるため、封着部材を剥がすことはできなかっ
た。以上の結果をまとめて後記表１および表２に示す。

【００５４】

【表１】

【００５５】

【表２】

【００５６】表２より、実施例の放射線画像変換パネル
によれば、輝尽性蛍光体層が水分により劣化しても、感
度低下率およびフェーディング低下率が小さな初期の状
態に容易に再生して使用することができる。

【００５７】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の放
射線画像変換パネルによれば、輝尽性蛍光体層が水分に
よって劣化したときには、当該水分を容易に除去して輝
尽性蛍光体層を元の良好な状態に再生することができ
る。本発明の放射線画像変換パネルの使用方法によれ
ば、放射線画像変換パネルの使用寿命が格段に長くな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の放射線画像変換パネルの一例を示す縦
断断面図である。

【図２】本発明の放射線画像変換パネルの一例を示す平
面図である。

【図３】本発明の放射線画像変換パネルの他の例を示す
縦断断面図である。

【図４】本発明の放射線画像変換パネルの他の例を示す
平面図である。

【図５】本発明の放射線画像変換パネルのさらに他の例
を示す縦断断面図である。

【図６】本発明の放射線画像変換パネルのさらに他の例
を示す平面図である。

【図７】本発明の放射線画像変換パネルを用いて構成さ
れた放射線画像変換装置の概略を示す説明図である。

【符号の説明】

１ 輝尽性蛍光体層 ２ 保護層 ３ 支持体 ４ スペーサ ５ 低屈折率層 ６ 通気孔 ７ 封着部材 ８ 放射線発生装置 ９ 被写体 １０ 放射線画像変換パネル １１ 輝尽励起光源 １２ 光電変換装置 １３ 再生装置 １４ 表示装置 １５ フィルター

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体と、この支持体上に設けた輝尽性
   蛍光体層と、この輝尽性蛍光体層上に設けた保護層と、
   支持体と保護層との間において輝尽性蛍光体層の周縁を
   取り囲むよう設けられて当該輝尽性蛍光体層を密閉する
   スペーサとを備えてなる放射線画像変換パネルにおい
   て、 前記支持体、保護層、スペーサの少なくとも１ヶ所に、
   当該支持体、保護層およびスペーサにより区画された密
   閉空間の通気孔を設け、 当該通気孔を、硬化後の硬度が２０〜８５の接着剤を用
   いて固定された脱着可能な封着部材により封着したこと
   を特徴とする放射線画像変換パネル。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の放射線画像変換パネル
   を使用した後、通気孔の封着部材を取り外して密閉空間
   内を乾燥して、水分によって劣化した輝尽性蛍光体層か
   ら水分を除去して輝尽性蛍光体層を再生し、その後、再
   び封着部材により通気孔を封着して放射線画像変換パネ
   ルを繰り返して使用することを特徴とする放射線画像変
   換パネルの使用方法。