JPH01283324A - 磁束密度の高い一方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents

磁束密度の高い一方向性電磁鋼板の製造方法

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JPH01283324A
JPH01283324A JP63112551A JP11255188A JPH01283324A JP H01283324 A JPH01283324 A JP H01283324A JP 63112551 A JP63112551 A JP 63112551A JP 11255188 A JP11255188 A JP 11255188A JP H01283324 A JPH01283324 A JP H01283324A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気機器の鐵芯として用いられる一方向性電
磁鋼板の製造に際し、基本的冶金現象として利用される
二次再結晶の発現に対して有効な析出物(一般にインヒ
ビターと呼ばれている)として新規な成分組成とそれを
前提とするプロセスに関する。
〔従来の技術〕
一方向性電磁鋼板は、鋼板面が(1101面で圧延方向
に<001>軸を有する所謂ゴス方位(ミラー指数で(
110) <001>方位と表す)を持つ結晶粒から構
成されており、軟磁性材料として変圧器および電機用の
鐵芯に使用される。
この鋼板は、磁気特性として磁化特性と鐵損特性が良好
でなければならない。
磁化特性の良否は、かけられた一定の磁場の下で鐵芯内
に誘起される磁束密度で決まり、磁束密度が高い製品(
一方向性電磁銅板)を用いると鐵芯を小型化できる。
磁束密度が高い鋼板は、結晶粒の方位を(1101<0
01>に高度に揃えることによって得られる。
鐵損は、鐵芯に所定の交流磁場を与えたときに熱エネル
ギとして消費される電力損失であり、その良否に対して
、磁束密度、板厚、鋼中の不純物量、比抵抗、結晶粒度
等が影響する。
磁束密度が高い銅j板は、電気機器の識芯を小さくでき
るととも乙こ識損も低くなるから望ましく、当該分野で
はできる限り磁束密度の高い製品を低コスI・で製造す
る方法の開発が課題となっている。
処で、一方向性電磁鋼板は、スラブを熱間圧延して得ら
れる熱延機を適切な冷間圧延と焼鈍との組合せにより最
終板厚とした鋼板を仕上焼鈍することにより、(110
1<001>方位を有する一次再結晶粒を選択成畏させ
る所謂二次再結晶によって得られる。
二次再結晶は、二次再結晶前の鋼板中に微細な析出物、
たとえばMnS 、  八nN  、MnSe、  (
AA 。
5i)N、 CuzS等が存在すること或はSn、Sb
等の粒界存在型の元素が存在するごとによって達成され
る。ごれら析出物、粒界存在型の元素は、J。
E、 May and D、Turnbull (Tr
ans、Met、Soc、AIME212(1958)
 p769/781)によって説明されているように、
仕上焼鈍工程で(110) <001>方位以外の一次
再結晶粒の成長を抑え、fllol <001>方位粒
を選択的に成長させる機能を持つ。
このような、粒成長の抑制効果は、一般にインヒビター
効果と呼ばれている。
従って、当該分野における研究開発の重点課題は、如何
なる種類の析出物或は粒界存在型の元素を用いて二次再
結晶を安定させるか、そして正確な(110) <00
1>方位粒の存在割合を高めるために、それらの適切な
存在状態を如何に達成するかにある。
特に、最近では、一種類の析出物による(110)<0
01>方位の高度な制御に限界がある処から、種々の析
出物について短所、長所を深く解明することにより幾つ
かの析出物を有機的に組合せて、より磁束密度の高い製
品を安定してかつ低コストで製造し得る技術の開発が進
められている。
析出物の種類として、N、F、Littmannは、特
公昭30−3651号公報にまた、J、E、Mayおよ
びり、Turnbullは、TransoMet、So
c、八IME 212(1958) p769/781
にMnSを、日日および叛意は、特公昭33−4710
号公報にAjl!NとMnSを、F ied lerは
、Trans、Met、Soc。
AIME 212(1961) p、1201〜120
5にVNを、今生らは、特公昭51−13469号公報
にMnSe、Sbを、J、A。
Salsgiverらは特公昭57−45818号公報
にAffiNと硫化銅を小松らは、特公昭62−452
85号公報に(AA、5i)Nを提示している。その他
に、TiS  。
CrS  、CrC、NbC,5iOz等も知られてい
る。
一方、粒界存在型の元素として、日本金属学会誌27(
1963) p、186に、斉藤達雄がAs、Sn、S
b等を提示しているが、工業生産においては、これら元
素が単独で使用される例は無く、何れも析出物と共存さ
せてその補助的効果を狙って使用される。
さらに、特徴のあるインヒビターとして、It、Gre
nobleにより合衆国特許第3.905.842号(
1975)に提示されているもの、H,Fiedler
により合衆国特許第3,905,843号(1975)
に提示されているものがある。即ち、固溶のS、B、N
を適当量だけ存在させることによって、磁束密度の高い
一方向性電磁鋼板の製造を可能にしている。
二次再結晶に効果のある析出物の選択基準は、必ずしも
明らかにされていないが、その代表他見解か、検問によ
り[鐵と鋼J 53(1967) p、1007〜10
73に述べられている。要約すると、(1)大きさは、
0,1μIn程度 (2)必要容積は、0.1vo1.%以上(3)二次再
結晶温度域で完全に)容けてしまっても、全く溶けなく
ても不可であり、適当な程度固溶すること である。
上に述べた種々の析出物は、これらの条件G°こ当ては
まる部分もあるが、全ての現象かこの条件に当てはまる
わけではない。本発明の冷間圧延以降に鋼板を窒化する
プロセスにおいては、−に記(1)は重要な意味を持た
ない。
このように、現状では、析出物の選択をする際の指導原
理は確立しておらず、試行錯誤の繰返しで新しいインヒ
ビター制御技術が探索されている。
何れにしても、高い磁束密度(+11(11<001.
>方位の高い集積度)を得るためには、析出物を微細で
均一かつ多量に、仕上焼鈍前の鋼板中に存在させること
が必要であり、析出物の制御と併せその析出物の特性に
合致する圧延、熱処理の適切な組合せにより、二次再結
晶前の性状を調整することが重要である。
〔発明が解決しようとする課題〕
現在、]二業生産されている代表的な一方向性電磁釦、
I板の製造方法として3種類あり、それぞれ長所および
短所をもっでいる。
第1の製造方法は、M、F、littmannにより特
公昭30 3651号公幸旧こ提示された、MnSをイ
ンヒビターとして用いる2凹冷延プロセスである。−次
再結晶粒は安定して発達するけれども、高い磁束密度か
得られない。
第2の製造方法は、田[」、板金らにより特公昭404
5644号公報乙こ提示された、ApN+MnSをイン
ヒビターとして用い、最終冷延を80%を超える強圧下
とする1凹冷延プロセスであり、極めて高い磁束密度か
得られるけれども、工業生産に際して製造条件の適正範
囲が狭く、高い磁性の製品の安定した生産か困難である
第3の製造方法は、今生らにより特公昭51−1346
1号公報に提示された、Mn5(および/またはMn5
e)+sbをインヒビターとして用いる2凹冷延プロセ
スであって、比較的高い磁束密度が得られるけれども、
Sb 、Seといった有害かつ高価な元素を使用し、し
かも2回冷延法である処から製造コストが高い。
上記3種類の製造方法には、共通ずる次の問題がある。
即ち、これら製造方法においては、何れも析出物を微細
かつ均一に析出させるために、析出物を一旦固溶させる
。そのために、スラブ加熱温度が必然的に高くなる。
因みに、第1の製造方法においては、スラブ加熱温度は
1260℃以−トであり、第2の製造方法においては、
特開昭48−51852号公報に開示されているように
、素材のSi含有量によるか、Si:3%の場合で13
50℃である。第3の製造方法においても、特開昭51
−20716号公報に開示されているように、スラブ加
熱温度は1230℃以上てあり、高い磁束密度か得られ
た実施例によれば1320℃といった極めて高い/精度
である。
このように、スラブを高温に加熱して析出物を固溶さ・
已、その後の熱間圧延中或ば熱処理中に析出させる。
スラブ加熱温度が高くなると、加熱のためのエネルギ消
費か多くなるとともに、ノロの発生による歩留りの低下
といった問題がある他加熱炉の補修コス)・の増大、設
備稼働率の低下といった問題を惹起する。さらに、特公
昭57−41526号公報に開示されているように、ス
ラブの加熱温度が高いごとに起因して線状の二次再結晶
不良部が発生するため、連続鋳造スラブを使用できない
という問題がある。
JJilえて、1−゛記コスト面の問題以−ヒに重要な
問題は、鐵)員を低下せしめるべくsi含有量を多く、
製品板厚を)Nくするといった11段を採ると、前記綿
状の二次再結晶不良部か多発し、高温スラブ加熱法を前
提とするプロセスでは、将来の鐵損特性1i+IIJこ
希望か持てないことである。
かかる問題を解決すべく、特公昭61−60896号公
報に、鋼中のS含有量を少なくすることによって、二次
再結晶を極めて安定させ、高Si化、薄手化を可能なら
しめるプロセスが提案された。しかしながら、このプロ
セスにも工業生産において、磁束密度を高い水準で安定
させることが困難であるという問題がある。
一方、)1.Grenobleにより合衆国特許第3,
905,842号に提示された方法或はH,Fiedl
erにより合衆国特許第3 、905 、843号に提
示された方法があるが、これらの技術には本質的な矛盾
があり、工業生産されていない。即ち、この技術ではイ
ンヒビターとして固溶Sを主体としているから、固溶S
を確保するためにMn含有量を低くし、MnSを形成さ
せないことが必須の要件である。具体的には、Mn/S
≦2.1が必須の要件となる。処で、広べ知られている
ように、固溶Sは材料の靭性に極めて悪影響を持つ。従
って、Si含有量が多く、割れ易い一方向性電磁鋼板に
あっては、このような固溶Sのある状態で材料を冷間圧
延することは、工業生産では極めて困難である。
前述のように、低コストで、高い磁束密度を有し、将来
、低鐵損の可能性の高い高Si、薄手製品の製造を可能
ならしめるためには、インヒビター設計を再構築する必
要がある。さらに、安定して磁束密度の高い製品を得る
ためには、製造条件による不安定性を除く必要がある。
即ち、1つの製造条件、たとえば冷延圧下率を指定した
とき、高いGti束密度を有する製品を得るための他の
条件、たとえば熱延板焼鈍における冷却条件、脱炭焼鈍
温度等の条件の許容範囲が狭くなることは、電磁鋼板の
製造上不利でありまた、歩留りの低下にも結び付く。こ
れらの条件の許容範囲を広くするCとが、安定した工業
生産のためには重要である。
本発明は、これらの問題を解決することを、発明におけ
る技術的課題としている。
〔課題を解決するだめの手段〕
本発明の特徴とする処は、重量で、Si  :1.5〜
4.8%、酸可溶性Aβ: 0.012〜0.050%
、5またはSeの1種又は2種を合計量で0.012%
以下、N : 0.0010〜0.0120%、Mn 
/ (S + Se)≧4.0、B : 0.0005
〜0.0080%、残部二Feおよび不可避的不純物か
らなるスラブを、熱間圧延し、1回または、中間焼鈍を
挟む2回以上の冷間圧延工程によって最終板厚とし、次
いで、湿水素雰囲気中で脱炭焼鈍し、焼鈍分離剤を塗布
した後二次再結晶と鋼の純化を目的とする仕上焼鈍を行
い、さらに、最終冷延後から仕上焼鈍における二次再結
晶開始までの間に鋼板の窒化処理を行うことを特徴とす
る磁束密度の高い一方向性電磁鋼板の製造方法にあり、
更に、前記スラブを熱間圧延前に1200℃未満の温度
に加熱すること、及び最終板厚を0.10〜0.23+
+nに特定するところに特徴を有する。
以下に、本発明の詳細な説明する。
本発明者等は、溶鋼中のSを一定量以下に少なくしかつ
、固溶Sを少なくする条件下で、適当量のA7!とNお
よびBを含有せしめた素材を、熱間圧延して熱延板とし
た後、1回または2回の冷間圧延工程で最終板厚とする
プロセスとするとともに、最終冷延から仕上焼鈍におけ
る二次再結晶開始までの間に鋼板の窒化処理を行うよう
にすることにより、広い冷延圧下率範囲に互り安定して
磁束密度の高い電磁鋼板を製造することに成功した。
次に、本発明を特徴づける構成要件について説明する。
Si含有量が過度に多くなると、製品(ストリップ)の
長さ方向に線状の二次再結晶不良が多発し、安定した生
産を不可能にする。この傾向は、特にSi含有量が3.
2%を超える高Si範囲でまた、最終板厚が0.23+
+m (9m1d)以下の薄手製品において顕著となる
。このような問題をよりよく解決するための要件の1つ
としてS+Seの含有量を規定しなければならない。
即ち、線状の二次再結晶不良部が全く発生しないように
するためには、S+Se量上限値上限値012%としな
ければならない。この限定範囲内にあっても、可及的に
低S+Seとする方がよい。本発明のプロセスにおいて
は、従来、有効であるとされていたSまたはSe含有量
ではむしろ磁束密度は劣化し、SまたはSe含有量が少
ないものほど良好な磁束密度を有する製品を得ることが
できる。
しかしながら、現在の工業的な電磁鋼溶製技術でコスト
を過度に高くすることなく低くし得るS含有量は、重量
で、0.0005%か一般的である。
一方、本発明においては、製造コストを低くずべく、熱
間圧延および冷間圧延過程で材料の割れを皆無にするこ
とを狙っており、固溶Sによる材料の靭性劣化に起因す
る材料の割れを防くために、Mn / (S + Se
)≧4として鋼中に存在する微量のS 、Seを可及的
にMnS  、MnSeとして固着するようにしている
第1図に、C: 0.053%、Si:3.35%、P
;0.030%、Al:o、030%、N : 0.0
075%、B;0.0039%、を含有し、さらに、M
n:0.4%および0.12%を含む溶鋼にS含有量を
変化させた50kgインゴットを1360℃および11
50’Cに加熱し、熱間圧延して得られた熱延板端部の
割れの状況を示す。Mn/S≧4で急激に割れが減少し
、特にMnSを固溶させない1150℃の低い加熱温度
とじた材料は、殆ど割れか発生していない。
また、Mnの含有量は、S含有量との関係において、上
述の如く、Mn / (S + Se)≧4.0で、熱
延板の耳割れを防止するという観点からは十分であるが
、Mn含有量の上限は、0.45%が好ましい。0.4
5%を超えると、製品にフォルステライト皮膜欠陥か出
る。
次に、Bの添加効果について説明する。
C: 0.053%、Si : 3.27%、M n 
: 0.15%、S : 0.007%、P : 0.
025%、Ai : 0.027%、N : 0.00
80%、B : 0.0002%および0.0095%
、残部二Feおよび不可避的不純物からなる50kgイ
ンゴットを、1150℃に加熱した後熱間圧延して2.
0鶴の熱延板とした。次いで、1120°cx3分間の
熱延板焼鈍を施した後0.2 mmの最終板厚に冷間圧
延し、810℃8830’C1850℃1870℃18
90℃8910℃の各温度で脱炭焼鈍を施した後、窒化
フェロマンガンを含有し向0を主成分とする焼鈍分離剤
を塗布した後仕上焼鈍を施した。その結果を、第2図に
示す。
第2図から明らかな如く、脱炭焼鈍温度を高くすると製
品の磁束密度は高くなるけれども、S含有量の少ないも
のは、細粒が発生し易くかつBeの最高値が低い。
一方、S含有量が多過ぎると、脱炭焼鈍温度によっては
高いBB値の製品が得られない。S含有量の適正な範囲
は、0.0005〜0.0080%である。
このBの効果は、Nが適当量台まれる場合に意味がある
。恐らく、BNとして効果を持つと考えられる。N <
 0.001%では効果がなく、N >O,O]、20
%ではブリスターと呼ばれる鋼板の脹れが発生ずる。
次に、八〇はNと結合して八ENとなるが、本発明にお
いては、後工程即ち最終冷間圧延以降の工程で鋼を窒化
することによりAffを含む化合物を形成せしめること
を必須としているから、フリーのAPが一定量以上必要
である。そのためには、0.012〜0.050%必要
である。
スラブ加熱温度については、従来技術におけるように、
インヒビターを固溶させる高温スラブ加熱でもまた、従
来、無理であると考えられていた普通銅皿の低温スラブ
加熱でも二次再結晶は生しる。しかしながら、第1図に
示すように、熱延板の側縁部の割れを少なくできること
、スラブ加熱のためのエネルギ消費量を少なくするごと
ができること、ノロ(鋼滓)の発生がなく炉の補修の頻
度、程度を著しく軽減できること等の理由から、120
0℃以下の低温スラブ加熱が好ましい。
冷間圧延に際しては、最も高い磁束密度を有する製品を
得るために、短時間の熱延板焼鈍を材料に施す。磁気特
性が若干劣ることを我慢するならば、コストを低下せし
めるべく、熱延板焼鈍を省略することもできる。
また、最終製品の結晶粒を小さくするために、中間焼鈍
を挟む2回以上の冷間圧延工程を採ることもできる。
また、第3の発明において最終板厚を0.10〜0.2
311としたのは、次の理由による。たとえば、特開昭
57−41326号公報に開示されているように、板厚
を減少させると、渦流損か減少するけれども、ヒステリ
シス損は増大し、両者の妥協点として鉄損の低い特定板
厚範囲が存在する。0.10〜0.23mmの範囲であ
る。
本発明では、二次再結晶が安定し高い磁束密度を有する
製品が得られる冷間圧延圧下率範囲が、高い圧下率側ま
で許容できるから、このような薄手の製品を製造するに
際し、極めて有利である。
例えば、板厚0.15mmの薄手高磁束密度の製品を低
コストの一回冷延で得るためには、B無添加材でハ板厚
1.5mmの熱延板が必要となる。しがし、工業生産規
模で1.5鶴厚までの熱延を行なうことは、生産性の低
下、制御の困難さから極めて不利である。
実施例3から明らかなようにB添加材では最終冷延率9
3%の製品まで、高い磁束密度が得られるから、板厚2
.0+nの熱延板からでも高磁束密度が一回冷延で得ら
れ安定した工業生産を行なう上で有利である。
最終冷延後の材料は、湿水素或は湿水素、窒素混合雰囲
気ガス中で脱炭焼鈍される。
このときの温度は、特に拘らないが、800〜900℃
の範囲内が好ましい。また、そのときの雰囲気の露点は
、水素、窒素の混合比によるが、+30℃以上とするこ
とが望ましい。
次いで、焼鈍分離剤を塗布し、高温(通常1100〜1
200℃)長時間の仕上焼鈍を行う。本発明においては
、最終冷間圧延以降仕上焼鈍での二次再結晶発現前まで
の過程で鋼を窒化することにより二次再結晶に必要なイ
ンヒビターを作り込む点に特徴がある。その際、最も好
ましい実施態様は、仕上焼鈍の昇温過程で鋼を窒化する
方法である。これを達成するために、焼鈍分離剤中に窒
化能のある化合物、たとえば、MnN 、 CrN等を
適当量添加するか或ばN113等窒化能のある気体を雰
囲気ガス中に添加する必要がある。
その他の実施態様として、脱炭焼鈍工程の均熱過程以降
において、NH3等窒化能のあるガスを含有するガスを
雰囲気として鋼板(ストリップ)を処理するか或は脱炭
焼鈍後、Nト13等窒化能のあるガスを含有するガスを
雰囲気とする熱処理炉で鋼板を窒化する方法がある。
また、上に述べた方法を組合せて実施してもよい。
二次再結晶を完了した鋼板は、水素雰囲気中で純化焼鈍
される。
〔実施例〕
実施例1 重量%で、C: 0.055%、Si  :3.50%
、P:0.031%、Afi :0.026%、N :
 0.0077%、B:(a)0.0003%、(b)
0.0015%、(c)0.0060%、および、(d
)0.0100%を含有した溶鋼を鋳造したスラブを1
195℃に加熱後、熱延し、2.3mmの熱延板を得た
。次いで1150℃×1分間の熱延板焼鈍を施した後0
.2311の板厚に冷延し、830℃で2分間、湿水素
窒素混合気中で脱炭焼鈍をした。この時の雰囲気露点は
55℃であった。更に、窒化フェロマンガンを重量で4
%添加した触0からなる焼鈍分離剤を塗布し、10℃/
hrの昇温速度で1200℃に加熱し、20時間保持す
る仕上焼鈍を施した。
この時の雰囲気は、1200℃までの昇温過程ではN2
ニア5%、N2:25%1200℃の保定中は、N2:
100%とした。
得られた製品の磁束密度は次の通りであった。
この結果から明らかに、適正なりの成分範囲が存在する
実施例2 重量で、C: 0.050%、S i  : 3.30
%、Mn:0.150%、P:0.025%、S:0.
006%、Aβ−0,028%、N : 0.0075
%、Cr  :0.120%、残部:Feおよび不可避
的不純物からなる電磁鋼スラブ(A)と、前記成分系に
Bを0.0030%添力uした電磁鋼スラブl)を、1
150℃に加熱した後、熱間圧延してそれぞれ板厚1.
6.2.0.2.5.2.8 。
3.5++mの熱延板を得た。
これらに、1120°cx2分間の焼鈍を施し、1回の
冷間圧延で板厚0.29mmの最終板厚とした。次いで
、850℃X150秒間の脱炭焼鈍を、露点+60℃の
湿水素窒素混合ガス中で施した後、)IgO中にTlO
2:3重量%とフェロ窒化マンガン:5重量%を添加し
た焼鈍分離剤を塗布した。
この材料に、10℃/hrの昇温速度で1200℃に加
熱し、20時間保持する仕上焼鈍を施した。このときの
雰囲気は、昇温中はNz:25%、N2・ニア5%の混
合ガス、1200℃に保定中はN2 :100%のガス
であった。
このときの結果を、第3図に示す。
第3図から明らかな如く、材料(A)では、熱延板の厚
さ2.5.2.8mmのもののみが高磁束密度を示した
のに対し、材料CB)では、熱延板の厚さ2.0 、2
.5 、2.8 、3.5顛のもので高磁束密度を示し
、冷延時の圧下率を変動させても製品の磁気特性が高い
水準で安定している。
実施例3 実施例2におけると同一の成分系および厚さの熱延板を
得、これらに1120’c x 2分間の焼鈍を施した
後、1回の冷間圧延で0.2(bm厚さの最終板厚とし
た。
この材料に、850 ’CX90秒間の脱炭焼鈍を、湿
水素、窒素雰囲気中で施し、次いで焼鈍分離剤を塗布し
た後、実施例2におけると同一の条件で仕上焼鈍を施し
た。
その結果を、第4図に示す。
第4図から明らかな如く、材料(A)では、熱延板の厚
さが1.6.2.Ou+のちののみが高い磁束密度を示
したのに対し、材料CB)では、熱延板の厚さ1.6 
、2.0 、2.5 、2.8鶴のものについて高い磁
束密度を示した。
実施例4 C: 0.055%、S i  : 3.28%、Mn
  :0.15%、S : o、oo6%、P : 0
.025%、Aβ: 0.027%、N : 0.00
77%に、B : 0.0003%と0.0020%、
を添力11したスラブを1150℃に加熱後、熱間圧延
し、2、6+uの熱延板を得た。スケールを落した後、
1、8 **まで冷間圧延し、次いで1100“CX2
分間の焼鈍を施した。この後酸洗し、0.15++m厚
に冷延し、840℃×70秒の脱炭焼鈍を行なった。こ
の鋼板に、MgO中に、重量で3%のフェロ窒化マンガ
ンを添加した焼鈍分離剤を塗布して、1200℃まで8
℃/hの昇温速度で加熱後20時間の焼鈍を施した。
この昇温過程の雰囲気はN250%とN250%の混合
カスを使用し、1200′Cの均熱時は11゜100%
とした。
得られた、成品の磁気特性、及び結晶粒径は、以下のと
おりである。
実施例5 重量%で、C: 0.052%、S i  : 3.3
0%、Mn;0.14%、P : 0.033%、/M
! :0.027%、N:0.0075%、B : 0
.0020%残部Feおよび不可避的不純物からなる溶
鋼にSを(a) 0.004%、(b)0.010%、
(c)  0.018%添加して得たスラブを1195
℃に加熱後、熱延し2. O**厚さの熱延板を得た。
これに1120℃X2分間+900℃X1分間の熱延板
焼鈍を施し酸洗した後、0.20m1の板厚まで冷間圧
延した。次いで850℃X100秒間の脱炭焼鈍を湿水
素中で施し、hgoに?InNを重量%て3%添加した
焼鈍分離剤を塗布した後、1200℃×20時間の仕上
焼鈍を施した。この仕上焼鈍の雰囲気ガスは昇温過程で
はN2:25%、H□ ニア5%の混合ガスであり、1
200℃の均熱時はN2:100%であった。磁束密度
は下表の通りであった。
実施例6 重量で、C: 0.045%、S i  : 3.50
%、Mn:0.16%、P : 0.035%1,11
:0.028%、N:0.0080910. B : 
0.0025%、残部Feおよび不可避的不純物からな
る溶鋼に、Seを(a) 0.0050%。
(b) 0.0100%、 (c) 0.0200%添
加して得られた鋼スラブをll50゛cに加熱した後、
熱間圧延し2.0Hj〃さの熱延板を得た。これに、1
150℃×2分間+900“CX2分間の熱延板焼鈍を
施した後急冷し、次いで酸洗した後、0.20mmの最
終板厚まで冷間圧延した。
引き続き、830℃×90秒間の脱炭焼鈍を鋼板に施し
、MgOに、重量で5%のフェロ窒化マンガンを添加し
た焼鈍分離剤を塗布した。
次いで、鋼板に、10℃/hrの昇温速度で1200℃
に加熱し、20時間保持する仕」二焼鈍を施した。
このときの雰囲気は、1200℃までの昇温過程ではN
2:25%、Hzニア5%の混合ガス、1200’Cの
均熱時はN2 :100%のガスであった。
得られた製品の磁気特性は、次の如くであった。
この結果から明らかな如く、Se含有量が多過ぎると、
高磁束密度の製品が得られない。
実施例7 重量で、C: 0.048%、S i  : 3.30
%、Mn;0.145%、S : 0.008%、7B
 :0.030%、N;0、0075%、B : 0.
0024%、残部Feおよび不可避的不純物からなるス
ラブを1100℃で加熱後熱延し、2.311厚の熱延
板を得た。
この熱延板に(1)熱延板焼鈍なし、(2)900°c
x6分の熱延板焼鈍、(3)1130°cx2分+90
0℃×1分の熱延板焼鈍後急冷却を、それぞれ施した。
これを0.30mm厚まで1回で冷延し、840℃×1
80秒の脱炭焼鈍を湿水素、窒素混合気中で行ない、M
gOに重量で5%のフェロ窒化マンガンを添加した。焼
鈍分離剤を塗布した後、1200℃×20時間の仕上焼
鈍を施した。この昇温過程の昇温速度は15℃/hrで
あり、雰囲気ガスは窒素:25%、水素;75%の混合
ガスを用いた。また、1200℃の均熱時の雰囲気ガス
は水素100%であった。
磁気特性は以下のとおりであった。
〔発明の効果〕
本発明は、以上述べたように構成しかつ、作用せしめる
ようにしたから、磁気特性の極めて優れた一方向性電磁
鋼板を−採り得る冷延圧下率範囲等、製造条件の自由度
を大きくし得るから安定した生産を可能にする格別の効
果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、Mn/Sと熱延板端部割れ深さの関係を示す
図、 第2図は、B添加量と脱炭焼鈍温度の関係が、製品の磁
束密度(BIl)に及ぼす影響を示す図、第3図は、B
を添加しない方向性電磁鋼素材(A)と、Bを0.00
30%添加した方向性型1鋼素材(B)について、熱延
板と板厚と製品の磁束密度(Bll(T))の関係を示
す図、 第4図は、Bを添加しない方向性電磁鋼素材・(A)と
、Bを0.0030%添加した方向性電磁鋼素材(B)
について、最終板厚を0.2(bmとしたときの、熱延
板の厚さ(ゲージ)と製品の磁束密度(Be(T))の
関係を示す図である。 手続補正書(自発) 昭和63年7り/7日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)重量で、Si:1.5〜4.8%、酸可溶性Al:
    0.012〜0.050%、SまたはSeの1種又は2
    種を合計量で0.012%以下、N:0.0010〜0
    .0120%、Mn/(S+Se)≧4.0、B:0.
    0005〜0.0080%、残部:Feおよび不可避的
    不純物からなるスラブを、熱間圧延し、1回または、中
    間焼鈍を挟む2回以上の冷間圧延工程によって最終板厚
    とし、次いで、湿水素雰囲気中で脱炭焼鈍し、焼鈍分離
    剤を塗布した後二次再結晶と鋼の純化を目的とする仕上
    焼鈍を行い、さらに、最終冷延後から仕上焼鈍における
    二次再結晶開始までの間に鋼板の窒化処理を行うことを
    特徴とする磁束密度の高い一方向性電磁鋼板の製造方法
    。 2)重量で、Si:1.5〜4.8%、酸可溶性Al:
    0.012〜0.050%、SまたはSeの1種又は2
    種を合計量で0.012%以下、N:0.0010〜0
    .0120%、Mn/(S+Se)≧4.0、B:0.
    0005〜0.0080%、残部:Feおよび不可避的
    不純物からなるスラブを、1200℃未満の温度に加熱
    した後熱間圧延し、1回または、中間焼鈍を挟む2回以
    上の冷間圧延工程によって最終板厚とし、次いで、湿水
    素雰囲気中で脱炭焼鈍し、焼鈍分離剤を塗布した後二次
    再結晶と鋼の純化を目的とする仕上焼鈍を行い、さらに
    、最終冷延後から仕上焼鈍における二次再結晶開始まで
    の間に鋼板の窒化処理を行うことを特徴とする磁束密度
    の高い一方向性電磁鋼板の製造方法。 3)最終板厚が0.10〜0.23mmである、請求項
    1又は2記載の方法。
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