JP7105135B2 - 処理条件補正方法及び基板処理システム - Google Patents
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Description
上記一連の処理には、例えば、ウェハ上にレジスト液を塗布しレジスト膜を形成するレジスト塗布処理、レジスト膜を露光する露光処理、露光されたレジスト膜を現像する現像処理、各種熱処理等が含まれる。各種熱処理とは、露光前にレジスト膜を加熱する処理(PAB処理)や、露光後にレジスト膜内の化学反応を促進させる加熱処理(PEB処理)等である。
また、PEB処理における熱処理温度等の処理条件はレジストパターンの線幅に影響を与える。したがって、特許文献1のように撮像部による撮像結果に基づいてレジスト膜の膜厚を測定し該膜厚に基づいてレジストパターンの線幅を推定すれば、推定結果に基づいてPEB処理における上記処理条件を調整することにより、所望の線幅が得られる。
図1は、第1の実施形態にかかる基板処理システム1の内部構成の概略を示す説明図である。図2及び図3は、各々基板処理システム1の内部構成の概略を示す、正面図と背面図である。なお、本実施の形態では、基板処理システム1がウェハWに対して塗布現像処理を行う塗布現像処理システムである場合を例にして説明する。
基板処理システム1は、図1に示すように、複数枚のウェハWを収容したカセットが搬入出されるカセットステーション2と、塗布現像処理を構成する単位処理を行う各種処理装置を単位処理毎に複数備えた処理ステーション3と、を有する。そして、基板処理システム1は、カセットステーション2と、処理ステーション3と、処理ステーション3に隣接する露光装置4との間でウェハWの受け渡しを行うインターフェイスステーション5とを一体に接続した構成を有している。
レジスト膜形成装置33は、図4及び図5に示すように、内部を密閉可能な処理容器100を有している。処理容器100のウェハ搬送装置70側の側面には、ウェハWの搬入出口(図示せず)が形成され、当該搬入出口には開閉シャッタ(図示せず)が設けられている。
例えば熱処理装置40は、図6及び図7に示すように筐体130内に、ウェハWを加熱処理する加熱部131と、ウェハWを冷却処理する冷却部132を備えている。図7に示すように筐体130の冷却部132近傍の両側面には、ウェハWを搬入出するための搬入出口133が形成されている。
また、蓋体140には、該蓋体140の温度を測定する温度測定部である温度センサ143が設けられている。図の例では、温度センサ143は蓋体140の端部に設けられているが、蓋体140の中央部等に設けてもよい。
また、本発明者らが鋭意検討を重ねたところ、撮像装置210による撮像結果に基づく撮像画像のRGBデータとウェハW上のレジストパターンの線幅との間に相関があることが知見された。
図12(A)の画像I1と図12(B)の画像I2との間では色の分布が同様であり、また、図12(C)の画像I3と図12(D)の画像I3との間でも色の分布が同様である。このことから、撮像装置210を用いた撮像結果から得られる、ウェハWの表面の状態を示す撮像画像における色の情報すなわちRGBデータと、ウェハW上のレジストパターンの線幅と、に相関があることは明らかである。
そこで、処理条件補正部316は、撮像画像におけるRGBデータの変化量と処理条件の変化量との相関モデルを用い、第2の取得部313で取得された撮像結果に基づいて、異常装置A#における処理条件を補正する。
本実施形態にかかるウェハ処理では、量産用ウェハWに対する塗布現像処理が行われる(ステップS1)。この工程では、量産用ウェハWそれぞれについて、塗布現像処理の開始前と終了後とに、検査装置51、52の撮像装置210で撮像する。
その後、量産用ウェハWは、露光装置4に搬送され、所定のパターンで露光処理される。
量産工程前に、各処理装置での処理条件は適正なものに調整されている。しかし、操業を続けているうちに、ある処理装置において処理条件が不適切になる場合がある。そこで、上述の量産工程後または量産工程と並行して、装置特定部312により、第1の取得部311が取得した量産用ウェハWそれぞれについての撮像画像と一連の処理に用いられた処理装置の情報とに基づいて、推定異常装置Aの特定が行われる(ステップS2)。
具体的には、まず、第1の取得部311が取得した量産用ウェハWそれぞれについての、塗布現像処理開始前の撮像画像と、塗布現像処理終了後の撮像画像とに基づいて、推定異常ウェハWが特定される。推定異常ウェハWとは、異常な単位処理が行われたと推定される量産用ウェハWである。
(Q)塗布現像処理の終了後の撮像画像と、第2の基準画像とで差異がある場合。
また、上記(P)、(Q)における「差異がない/ある」とは、例えば、画像の各座標における画素値の差が撮像画像と基準画像との間で所定の範囲内にある/ないことをいう。
ステップS2の装置特定工程で特定された推定異常装置Aを用いて、当該装置における単位処理Aが、所定の処理条件で、検査用ウェハWに行われ、単位処理Aを行う前と後とに検査用ウェハWが撮像装置210により撮像される(ステップS3)。検査用ウェハWは例えばベアウェハである。なお、ベアウェハとは、その表面が平坦であり且つ当該その表面においてウェハの素地のみ(ウェハがシリコンウェハの場合はシリコンのみ)が露出しているものをいう。
次いで、ステップS3で取得された撮像結果との比較のため、前述の同種別処理装置A*を用いて、単位処理Aが、所定の処理条件で、検査用ウェハWに行われ、単位処理を行う前と後とに検査用ウェハWが撮像装置210により撮像される(ステップS4)。この比較用撮像工程は、異常判定用撮像工程の前に行われてもよい。
なお、ステップS3で用いられる推定異常装置AとステップS4で用いられる同種別処理装置A*は同種の異なる処理装置であるのに対し、ステップS3で用いられる他種処理装置BとステップS4で用いられる他種処理装置Bは同じ処理装置である。
その後、異常判定用撮像工程で取得された撮像結果に基づいて、推定異常装置Aにおける、実際の異常の有無が判定される(ステップS5)。
(T)推定異常装置Aによる単位処理A及び他種処理装置Bによる単位処理B後の検査用ウェハWの撮像画像と、同種別処理装置A*による単位処理A及び他種処理装置Bによる単位処理B後の検査用ウェハWの撮像画像とで差異がある場合。
ステップS6では、実際に異常があると判定された推定異常装置Aである異常装置A#について、異常用撮像工程での撮像結果に基づいて、単位処理Aの処理条件が処理条件補正部316により補正される。
そして、異常装置A#を用いて、単位処理Aが、補正後の処理条件で、新たな検査用ウェハWに行われ、単位処理Aを行う前と後とに検査用ウェハWが撮像装置210により撮像され、撮像結果に基づいて、処理条件の補正が適切か否か判定される(ステップS7)。
(T)同種別処理装置A*による単位処理A及び他種処理装置Bによる単位処理B後の検査用ウェハWの撮像画像と、補正後の処理条件での異常装置A#による単位処理A及び他種処理装置Bによる単位処理B後の検査用ウェハWの撮像画像とで差異がない場合。
図14は、第2の実施形態にかかる基板処理システム1aの内部構成の概略を示す説明図である。図15は、基板処理システム1aの内部構成の概略を示す、正面図である。
このように、ベアウェハを再利用する場合においても、当該ベアウェハの表面に層状膜が残っていないので、処理条件の適切な補正を行うことができる。
(1)基板処理システムにおける処理条件を補正する方法であって、
前記基板処理システムは、
基板に対する層状膜の形成及び除去がそれぞれ1回以上またはいずれか一方が複数回実行される一連の処理を行い、
前記一連の処理を構成する単位処理を行う処理装置を、前記単位処理毎に複数備え、
さらに、前記基板を撮像する撮像装置を備え、
当該方法は、
基板それぞれについて、前記一連の処理の開始前と終了後とに、当該基板を前記撮像装置で撮像する監視用撮像工程と、
前記監視用撮像工程での撮像結果と、前記一連の処理に用いられた前記処理装置の情報とに基づいて、異常があると推定される前記処理装置を特定する装置特定工程と、
前記装置特定工程で特定された前記処理装置を用いて、当該処理装置における前記単位処理を、所定の処理条件で検査用基板に行い、前記単位処理を行う前と後に、当該検査用基板を前記撮像装置で撮像する異常判定用撮像工程と、
前記異常判定用撮像工程での撮像結果に基づいて、前記装置特定工程で特定された前記処理装置における、実際の異常の有無を判定する異常有無判定工程と、
前記異常有無判定工程で実際に異常があると判定された前記処理装置について、前記異常判定用撮像工程での撮像結果に基づいて、当該処理装置における前記単位処理の処理条件を補正する処理条件補正工程とを有する、処理条件補正方法。
前記(1)では、一連の処理の開始前と終了後のみを撮像を行い、その撮像結果に基づいて、異常があると推定される処理装置を特定する。また、当該特定された処理装置を用いて当該特定された処理装置における単位処理を所定の処理条件で検査用基板に行い、検査用基板の撮像の撮像結果に基づいて、上記特定された処理装置における実際の異常の有無を判定する。そして、上記検査用基板の撮像結果に基づいて、実際に異常があると判定された処理装置について、単位処理の処理条件を補正する。したがって、撮像装置の数が少ない基板処理システムにおいて、処理条件を適切に補正することができる。また、撮像装置を用いる回数が少ないため、撮像装置を利用するための待機時間が生じず、生産性が損なわれることがない。
前記異常有無判定工程は、前記異常判定用撮像工程での撮像結果と、前記比較用撮像工程での撮像結果とに基づいて、前記実際の異常の有無を判定する、前記(1)または(2)に記載の処理条件補正方法。
基板に対する層状膜の形成及び除去を、それぞれ1回以上またはいずれか一方を複数回行う一連の処理を行うものであり、
前記一連の処理を構成する単位処理を行う処理装置を、前記単位処理毎に複数備え、
さらに、前記基板を撮像する撮像装置と、
基板それぞれについて、前記一連の処理の開始前と終了後との前記撮像装置による撮像結果を取得する第1の取得部と、
前記第1の取得部で取得された撮像結果と、前記一連の処理に用いられた前記処理装置の情報とに基づいて、異常があると推定される前記処理装置を特定する装置特定部と、
前記装置特定部で特定された前記処理装置を用いて、当該処理装置における前記単位処理を、所定の処理条件で検査用基板に行い、前記単位処理を行う前と後の当該検査用基板の前記撮像装置による撮像結果を取得する第2の取得部と、
前記第2の取得部で取得された撮像結果に基づいて、前記装置特定部で特定された前記処理装置における、実際の異常の有無を判定する異常有無判定部と、
前記異常有無判定工程で実際に異常があると判定された前記処理装置について、第2の取得部で取得された撮像結果に基づいて、当該処理装置における前記単位処理の処理条件を補正する処理条件補正部と、を有する、基板処理システム。
30 現像処理装置
31 下層膜形成装置
32 中間層膜形成装置
33 レジスト膜形成装置
40 熱処理装置
210 撮像装置
300 制御部
311 第1の取得部
312 装置特定部
313 第2の取得部
315 異常有無判定部
316 処理条件補正部
W ウェハ
Claims (7)
- 基板処理システムにおける処理条件を補正する方法であって、
前記基板処理システムは、
基板に対する層状膜の形成及び除去がそれぞれ1回以上またはいずれか一方が複数回実行される一連の処理を行い、
前記一連の処理を構成する単位処理を行う処理装置を、前記単位処理毎に複数備え、
さらに、前記基板を撮像する撮像装置を備え、
当該方法は、
基板それぞれについて、前記一連の処理の開始前と終了後とに、当該基板を前記撮像装置で撮像する監視用撮像工程と、
前記監視用撮像工程での撮像結果と、前記一連の処理に用いられた前記処理装置の情報とに基づいて、異常があると推定される前記処理装置を特定する装置特定工程と、
前記装置特定工程で特定された前記処理装置を用いて、当該処理装置における前記単位処理を、所定の処理条件で検査用基板に行い、前記単位処理を行う前と後に、当該検査用基板を前記撮像装置で撮像する異常判定用撮像工程と、
前記装置特定工程で特定された前記処理装置と同じ前記単位処理を行う別の前記処理装置を用いて、当該処理装置における前記単位処理を、所定の処理条件で検査用基板に行い、当該単位処理を行う前と後とに、当該検査用基板を前記撮像装置で撮像する比較用撮像工程と、
前記異常判定用撮像工程での撮像結果と、前記比較用撮像工程での撮像結果とに基づいて、前記装置特定工程で特定された前記処理装置における、実際の異常の有無を判定する異常有無判定工程と、
前記異常有無判定工程で実際に異常があると判定された前記処理装置について、前記異常判定用撮像工程での撮像結果に基づいて、当該処理装置における前記単位処理の処理条件を補正する処理条件補正工程とを有する、処理条件補正方法。 - 前記異常有無判定工程で、実際に異常があると判定された前記処理装置を用いて、当該処理装置における前記単位処理を、補正後の前記処理条件で、検査用基板に行い、当該検査用基板を前記撮像装置で撮像し、撮像結果に基づいて、前記処理条件補正工程での補正の適否を判定する補正適否判定工程を有する、請求項1に記載の処理条件補正方法。
- 前記検査用基板は、ベアウェハである、請求項1または2に記載の処理条件補正方法。
- 前記ベアウェハは、前記基板処理システム内に収容されている、請求項3に記載の処理条件補正方法。
- 前記ベアウェハに形成した前記層状膜は、前記撮像装置による撮像後に剥離装置により剥離される、請求項3または4に記載の処理条件補正方法。
- 前記剥離後の前記ベアウェハは、前記撮像装置により撮像される、請求項5に記載の処理条件補正方法。
- 基板を処理する基板処理システムであって、
基板に対する層状膜の形成及び除去を、それぞれ1回以上またはいずれか一方を複数回行う一連の処理を行うものであり、
前記一連の処理を構成する単位処理を行う処理装置を、前記単位処理毎に複数備え、
さらに、前記基板を撮像する撮像装置と、
基板それぞれについて、前記一連の処理の開始前と終了後との前記撮像装置による撮像結果を取得する第1の取得部と、
前記第1の取得部で取得された撮像結果と、前記一連の処理に用いられた前記処理装置の情報とに基づいて、異常があると推定される前記処理装置を特定する装置特定部と、
前記装置特定部で特定された前記処理装置を用いて、当該処理装置における前記単位処理を、所定の処理条件で検査用基板に行い、前記単位処理を行う前と後の当該検査用基板の前記撮像装置による撮像結果を取得する第2の取得部と、
前記装置特定部で特定された前記処理装置と同じ前記単位処理を行う別の前記処理装置を用いて、当該処理装置における前記単位処理を、所定の処理条件で検査用基板に行い、当該単位処理を行う前と後の当該検査用基板の前記撮像装置による撮像結果を取得する第3の取得部と、
前記第2の取得部で取得された撮像結果と、前記第3の取得部で取得された撮像結果とに基づいて、前記装置特定部で特定された前記処理装置における、実際の異常の有無を判定する異常有無判定部と、
前記異常有無判定部で実際に異常があると判定された前記処理装置について、第2の取得部で取得された撮像結果に基づいて、当該処理装置における前記単位処理の処理条件を補正する処理条件補正部と、を有する、基板処理システム。
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Citations (5)
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---|---|---|---|---|
JP2012104593A (ja) | 2010-11-09 | 2012-05-31 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板の搬送方法 |
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JP2005308615A (ja) * | 2004-04-23 | 2005-11-04 | Olympus Corp | 表面欠陥検査装置 |
KR100755372B1 (ko) * | 2006-08-25 | 2007-09-04 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 검사방법 |
KR100814410B1 (ko) * | 2007-01-16 | 2008-03-18 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자가 형성된 기판의 결함 검출방법 |
JP5127328B2 (ja) * | 2007-07-11 | 2013-01-23 | オムロンレーザーフロント株式会社 | ホトマスクの白欠陥修正方法 |
JP5156452B2 (ja) * | 2008-03-27 | 2013-03-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 欠陥分類方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び欠陥分類装置 |
US8941809B2 (en) * | 2008-12-22 | 2015-01-27 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
JP5421597B2 (ja) * | 2009-01-14 | 2014-02-19 | 三菱電機株式会社 | 画像監視装置 |
JP5338757B2 (ja) * | 2010-07-09 | 2013-11-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
JP5479253B2 (ja) * | 2010-07-16 | 2014-04-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
KR101885392B1 (ko) * | 2010-10-26 | 2018-08-03 | 가부시키가이샤 니콘 | 검사 장치, 검사 방법, 노광 방법, 및 반도체 디바이스의 제조 방법 |
JP2012114409A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-06-14 | Tokyo Electron Ltd | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び基板洗浄用記憶媒体 |
US20130005056A1 (en) * | 2011-06-30 | 2013-01-03 | Semes Co., Ltd. | Method and apparatus for processing wafer edge portion |
TWI550686B (zh) * | 2011-11-04 | 2016-09-21 | 東京威力科創股份有限公司 | 基板處理系統、基板運送方法及電腦記憶媒體 |
JP5993625B2 (ja) * | 2012-06-15 | 2016-09-14 | 株式会社Screenホールディングス | 基板反転装置、および、基板処理装置 |
TWI614586B (zh) * | 2012-12-20 | 2018-02-11 | Nikon Corp | 評估方法及裝置、加工方法、以及曝光系統 |
JP6209546B2 (ja) * | 2015-02-06 | 2017-10-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム、欠陥検査方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP6244329B2 (ja) * | 2015-05-12 | 2017-12-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の検査方法、基板処理システム及びコンピュータ記憶媒体 |
US10261521B2 (en) * | 2015-06-16 | 2019-04-16 | Tokyo Electron Limited | Processing apparatus, processing method, and storage medium |
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JP6611652B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2019-11-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置の管理方法、及び基板処理システム |
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JP2015159261A (ja) | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
JP2014195122A (ja) | 2014-06-17 | 2014-10-09 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、異常処理部判定方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
WO2018142840A1 (ja) | 2017-02-01 | 2018-08-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム |
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