JP6553353B2 - 基板処理方法及びその装置 - Google Patents
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Description
すなわち、従来の方法は、処理液の供給を停止する際にエア弁を閉止するが、エア弁にゴミがかんだり、閉止動作に不具合が生じたりすると、ノズル本体からわずかに処理液が流れ出すことがある。このような事態が生じると、少量であっても意図しないタイミングで処理液が基板に供給されることになり、基板が処理不良となるという問題がある。また、このような事態が装置のオペレータに認識されず処理が継続されると、不適切な処理が継続されて、次々と処理される基板が全て不良となる恐れがある。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に対して処理液を供給して所定の処理を行う基板処理方法において、流量計を備えた供給管内の処理液の流通を制御する吐出バルブを開放して、前記供給管内に処理液を流す過程と、吐出バルブを閉止して処理液の流れを停止する過程と、前記吐出バルブからの処理液の漏れを検出する過程と、処理液の漏れが検出された場合には、そのことを報知する過程と、を備え、前記処理液の漏れを検出する過程は、所定の流量値以上の処理液の流れが所定時間以上継続したことに基づいて、処理液の漏れを検出し、前記処理液の漏れを検出する過程は、前記処理液の流れを停止する過程から、前記処理液の発泡が発生しにくい所定の監視時間だけに限って行われることを特徴とするものである。
図1は、第1の実施例に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
制御部53は、処理対象である基板Wを搬入し、スピンチャック7に基板Wを載置させる。
制御部53は、電動モータ11を作動させ、処理速度で基板Wを回転させる。
制御部53は、ノズルアーム20を駆動して第1のノズル19を処理位置へ移動させ、基板Wの回転中心に第1のノズル19の先端部を向ける。そして吐出バルブ33を開放させ、流量調整弁31で予め設定されている流量でフッ化水素酸(HF)を供給させる。これにより、第1のノズル19からフッ化水素酸が供給され、基板Wの表面がエッチング処理される。
制御部53は、ステップS3においてエッチング処理のための所定時間が経過した後、吐出バルブ33を閉止させる。これにより、第1のノズル19からのフッ化水素酸の供給が停止される。
制御部53は、フッ化水素酸ついて後述する処理液の漏れ検出処理を行う。
制御部53は、ノズルアーム20を駆動して第2のノズル21を処理位置へ移動させ、基板Wの回転中心に第2のノズル21の先端部を向ける。そして吐出バルブ41を開放させ、流量調整弁39で予め設定されている流量で純水(DIW)を供給させる。これにより、第2のノズル21から純水が供給され、基板Wの表面に付着しているフッ化水素酸を洗い流す洗浄処理がなされる。なお、このステップS6はステップS4終了後直ちにステップS5と並行して行ってもよい。
制御部53は、ステップS6において洗浄処理のための所定時間が経過した後、吐出バルブ41を閉止させる。これにより、第2のノズル21からの純水の供給が停止される。
制御部53は、純水について後述する処理液の漏れ検出処理を行う。
制御部53は、ノズルアーム20を駆動して第2のノズル21を退避位置へ移動させた後、待機位置にある遮断板13を電動モータ11の回転に同期させて同方向に回転させながら、処理位置まで下降させる。なお、このステップS9はステップS7終了後直ちにステップS8と並行して行ってもよい。
制御部53は、吐出バルブ49を開放させ、流量調整弁47で予め設定されている流量でイソプロピルアルコール(IPA)を供給させる。これにより、遮断板ノズル17からイソプロピルアルコールが供給され、基板Wの表面に付着している純水がイソプロピルアルコールによって置換される。
制御部53は、ステップS10において置換処理のための所定時間が経過した後、吐出バルブ49を閉止させる。これにより、遮断板ノズル17からのイソプロピルアルコールの供給が停止される。
制御部53は、イソプロピルアルコールについて後述する処理液の漏れ検出処理を行う。
制御部53は、電動モータ11の回転数を乾燥速度にまで上昇させ、これを処理時間だけ維持させて、基板Wに付着しているイソプロピルアルコールを振り切り乾燥させる。なお、このステップS13はステップS11終了後直ちにステップS12と並行して行ってもよい。
制御部53は、遮断板13を待機位置に上昇させ、電動モータ11の回転を停止させる。
制御部53は、スピンチャック7に載置された基板Wを搬出させる。
制御部53は、流量計35の信号に基づいて演算部59が流量を求め、その流量が流量閾値TH以上であるか否かによって処理を分岐する。また、このとき同時に、制御部53は、タイマによる計時を開始する。これはすなわち、ステップS4において吐出バルブ33を閉止させてからの経過時間である。なお、流量閾値THは、例えば、流量計35が検出可能な最小流量値(保証値)とするのが好ましい。この実施例においては、具体的にはフルスケール3000ml/minの流量計を用い、その1.5%程度である45ml/minを流量閾値THとしている。
制御部53は、流量が流量閾値TH以上であった場合には、流量計35から異常信号が出力されているか否かで処理を分岐する。
流量が流量閾値TH以上であって、かつ、その流量計35から異常信号が出力されていない場合には、制御部53は、タイマの計測時間が監視時間TMを経過したか否かによって処理を分岐する。監視時間TMは、例えば、5〜20秒の範囲が好ましい。この時間は、吐出バルブの動作時間と、次の基板Wが処理されるまでの時間、供給管内での泡の発生のしやすさ(泡が発生するまでの時間)などを勘案して決定すればよい。
制御部53は、流量が流量閾値TH以上であって、かつ、その時間が監視時間TM以上継続し、流量計35から異常信号が出力されていない場合には、報知部57を作動させてオペレータにフッ化水素酸の漏れが生じていることを知らせる。
1 … 処理部
3 … 処理液供給系
5 … 制御系
7 … スピンチャック
9 … 飛散防止カップ
17 … 遮断板ノズル
19 … 第1のノズル
21 … 第2のノズル
23,25,27 … 供給管
31,39,47 … 流量調整弁
33,41,49 … 吐出バルブ
35,43,51 … 流量計
53 … 制御部
TH … 流量閾値
TM … 監視時間
Claims (11)
- 基板に対して処理液を供給して所定の処理を行う基板処理方法において、
流量計を備えた供給管内の処理液の流通を制御する吐出バルブを開放して、前記供給管内に処理液を流す過程と、
吐出バルブを閉止して処理液の流れを停止する過程と、
前記吐出バルブからの処理液の漏れを検出する過程と、
処理液の漏れが検出された場合には、そのことを報知する過程と、
を備え、
前記処理液の漏れを検出する過程は、所定の流量値以上の処理液の流れが所定時間以上継続したことに基づいて、処理液の漏れを検出し、
前記処理液の漏れを検出する過程は、前記処理液の流れを停止する過程から、前記処理液の発泡が発生しにくい所定の監視時間だけに限って行われることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1に記載の基板処理方法において、
前記処理液を流す過程は、基板の処理時に前記供給管の先端に備えられたノズルから前記基板に対して処理液を供給する過程であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1に記載の基板処理方法において、
前記処理液を流す過程は、前記流量計の下流側において前記供給管から分岐した分岐配管に処理液を流す過程であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1に記載の基板処理方法において、
前記処理液を流す過程は、前記供給管の先端に備えられたノズルを待機させるための待機ポット、ノズルからプリディスペンスをするためのプリディスペンスポットまたは基板を処理するための飛散防止カップに対して処理液を流す過程であることを特徴とする基板処理方法。 - 請求項3に記載の基板処理方法において、
前記処理液を流す過程は、前記流量計の下流側において前記供給管から分岐した分岐配管が前記供給管に流路接続される位置よりも下流側の前記供給管中の処理液を前記分岐配管に流す過程と、
前記流量計の上流から供給される処理液を前記分岐配管に流す過程と、
を含むことを特徴とする基板処理方法。 - 請求項1から5のいずれかに記載の基板処理方法において、
前記流量計は、超音波流量計であることを特徴とする基板処理方法。 - 基板に対して処理液を供給して所定の処理を行う基板処理装置において、
基板を処理する処理部と、
前記処理部の基板に対して処理液を供給する供給管と、
前記供給管に設けられ、前記供給管の処理液の流通を制御する吐出バルブと、
前記供給管における処理液の流量を測定する流量計と、
前記吐出バルブを開放させて処理液を前記供給管に流した後に前記吐出バルブを閉止させて処理液の流れを停止させ、前記流量計からの流量に応じた信号に基づいて、処理液の漏れが検出された場合には、そのことを報知する制御手段と、
を備え、
前記制御手段は、所定の流量値以上の処理液の流れが所定時間以上継続したことに基づいて、処理液の漏れを検出し、
前記処理液の漏れの検出は、前記処理液の流れを停止した時点から、前記処理液の発泡が発生しにくい所定の監視時間だけに限って行われることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7に記載の基板処理装置において、
前記流量計は、超音波流量計であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項8に記載の基板処理装置において、
前記超音波流量計は、自己診断に基づき異常がある場合には異常信号を発生する機能を備え、
前記制御手段は、前記超音波流量計が異常信号を出力している場合には、処理液の漏れが検出された場合であっても、そのことを報知しないことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7から9のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記流量計の下流側において前記供給管から分岐した分岐配管をさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項7から10のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記供給管の先端に備えられたノズルを待機させるための待機ポット、ノズルからプリディスペンスをするためのプリディスペンスポットまたは基板を処理するための飛散防止カップの少なくともいずれかをさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。
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