JP6823294B2 - エポキシ系反応性希釈剤及びそれを含むエポキシ樹脂組成物 - Google Patents

Description

本発明はエポキシ系反応性希釈剤及びそれを含むエポキシ樹脂組成物に関する。

従来、エポキシ樹脂は、硬化剤又は酸発生剤と組合わせたエポキシ樹脂組成物として、塗料、接着剤、封止剤、成形材料、注型材料など、土木・建築用、電気・電子部品用、輸送機用の材料として各種の分野で広く用いられている。そしてこれら適用分野や適用箇所に応じて様々な種類のエポキシ樹脂が採用されている。

キャスティング成形などの液状成形においては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂に代表される液状のエポキシ樹脂が採用されている。しかしこうした液状エポキシ樹脂のほとんどは粘度の高いものであり、作業性が良好とは言い難いことから、粘度の調製を目的としてエポキシ樹脂用の反応性希釈剤が広く採用されている。
このような反応性希釈剤の代表例として、ブチルグリシジルエーテルや２−エチルヘキシルグリシジルエーテルなどのアルキルグリシジルエーテル類が挙げられ、例えば電子部品向けなど、その用途への対応を図った製法なども提案されている（例えば特許文献１）。

一方、電気・電子部品材料の技術分野では、近年、各種電子機器における信号の高速化、高周波数化が進んでおり、これに伴って、低誘電率を実現する材料が求められている。
低誘電率材料の一例として、多分岐の高級アルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを含有する（メタ）アクリル系ポリマーが提案されている（特許文献２）。しかし、一般的にアクリル樹脂はエポキシ樹脂に比べ、耐熱性や密着性に劣るとされる。

特開２００２−２９３７５５号公報 特開２０１２−２４６４７７号公報

上述のアルキルグリシジルエーテル類からなる反応性希釈剤は沸点が低いために揮発性が高く、エポキシ樹脂の硬化時や樹脂の溶融成形時の加熱条件によっては、希釈剤自体が揮発してしまうという問題や、これらの反応性希釈剤をエポキシ樹脂に添加した場合、硬化物の耐熱性や硬化性が大きく低下するなどの問題があった。
一方、各種電子機器の高性能化に伴い、その構成材料には耐熱性などの従来からの要求性に加えて、より低い誘電率を実現できる点も求められるようになっている。一般にエポキシ樹脂は一分子あたりのエポキシ基の増加によって耐熱性や強度は向上するものの、反面、極性の高いエポキシ基の増加は誘電率の増加をもたらす傾向にある。
本発明は、その硬化物の耐熱性や硬化性などの物性をできるだけ低減させず、さらには、誘電率を下げる効果を付与できる、低揮発性のエポキシ樹脂用反応性希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、分岐したアルキル部位を有する単官能エポキシエステル又はエーテル化合物が、これまでの液状エポキシ化合物の中では極めて低粘度の液状化合物であり、また従来のエポキシ樹脂との相溶性にも優れることを見出し、その結果から、エポキシ化合物の反応性希釈剤として有用であること、また従来市販の反応性希釈剤（アルキルグリシジルエーテル類）と比べて低揮発性であることを見出した。そして上記分岐したアルキル部位を有する単官能エポキシ化合物とエポキシ樹脂とを配合したエポキシ樹脂組成物は、それに硬化剤や硬化触媒を配合して硬化性組成物を為し、これを硬化させて得られた硬化物において、元のエポキシ樹脂の硬化物よりも誘電率を低減できるとともに、吸水率も低い状態を維持できることを見出し、本発明を完成させた。

すなわち本発明は、第１観点として、式［１］で表される少なくとも一種のエポキシ化合物、及びエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物に関する。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、炭素原子数２乃至２７のアルキル基を表し、Ｒ^３は水素原子又は炭素原子数１乃至２５のアルキル基を表し、ただし−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基の炭素原子数の合計は１０乃至３０であり、Ｘは、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、＊−ＣＨ_２Ｏ−又は＊−ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）−を表し（ここで＊は−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基に結合する端を示す。）、Ｌは単結合、又はエーテル結合を含んでいてもよい炭素原子数１乃至８のアルキレン基を表し、Ｅは式［２］又は式［３］で表される基を表す。）

（式中、Ｒ^４乃至Ｒ^１５はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表す。）
第２観点として、前記−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基が炭素原子数１４乃至２６の基である、第１観点に記載のエポキシ樹脂組成物に関する。
第３観点として、前記−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基が炭素原子数１４乃至２０の基である、第２観点に記載のエポキシ樹脂組成物に関する。
第４観点として、前記Ｘが＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−である、第１観点乃至第３観点のうち何れか一項に記載のエポキシ樹脂組成物に関する。
第５観点として、前記Ｘが＊−ＣＨ_２Ｏ−である、第１観点乃至第３観点のうち何れか一項に記載のエポキシ樹脂組成物に関する。
第６観点として、前記Ｅが式［２］で表される基である、第１観点乃至第５観点のうち何れか一項に記載のエポキシ樹脂組成物に関する。
第７観点として、前記Ｌが、単結合又はメチレン基である、第１観点乃至第６観点のうち何れか一項に記載のエポキシ樹脂組成物に関する。
第８観点として、（ａ）第１観点乃至第７観点のうち何れか一項に記載のエポキシ樹脂組成物、及び（ｂ）硬化剤を含む、硬化性組成物に関する。
第９観点として、前記（ｂ）硬化剤が、酸無水物、アミン、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、イミダゾール類、及びポリメルカプタンからなる群から選ばれる少なくとも一種である、第８観点に記載の硬化性組成物に関する。
第１０観点として、前記（ａ）エポキシ樹脂組成物のエポキシ基１当量に対して、０．５〜１．５当量の前記（ｂ）硬化剤を含む、第８観点又は第９観点に記載の硬化性組成物に関する。
第１１観点として、（ａ）第１観点乃至第７観点のうち何れか一項に記載のエポキシ樹脂組成物、及び（ｃ１）酸発生剤及び／又は（ｃ２）塩基発生剤からなる（ｃ）硬化触媒を含む、硬化性組成物に関する。
第１２観点として、前記（ｃ）硬化触媒が（ｃ１）酸発生剤である、第１１観点に記載の硬化性組成物に関する。
第１３観点として、前記（ｃ１）酸発生剤が、光酸発生剤、及び熱酸発生剤からなる群
から選ばれる少なくとも一種である、第１２観点に記載の硬化性組成物に関する。
第１４観点として、前記（ｃ１）酸発生剤がオニウム塩である、第１３観点に記載の硬化性組成物に関する。
第１５観点として、前記（ｃ１）酸発生剤が、スルホニウム塩、又はヨードニウム塩である、第１４観点に記載の硬化性組成物に関する。
第１６観点として、前記（ａ）エポキシ樹脂組成物１００質量部に対して、前記（ｃ１）酸発生剤０．１〜２０質量部を含む、第１２観点乃至第１５観点のうち何れか一項に記載の硬化性組成物に関する。
第１７観点として、式［１］で表される少なくとも一種のエポキシ化合物の、エポキシ樹脂組成物における反応性希釈剤としての使用に関する。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、炭素原子数２乃至２７のアルキル基を表し、Ｒ^３は水素原子又は炭素原子数１乃至２５のアルキル基を表し、ただし−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基の炭素原子数の合計は１０乃至３０であり、Ｘは、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、＊−ＣＨ_２Ｏ−又は＊−ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）−を表し（ここで＊は−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基に結合する端を示す。）、Ｌは単結合、又はエーテル結合を含んでいてもよい炭素原子数１乃至８のアルキレン基を表し、Ｅは式［２］又は式［３］で表される基を表す。）

（式中、Ｒ^４乃至Ｒ^１５はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表す。）
第１８観点として、式［１ａ］で表されるエポキシ化合物に関する。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、炭素原子数２乃至２７のアルキル基を表し、Ｒ^３は水素原子又は炭素原子数１乃至２５のアルキル基を表し、ただし−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基の炭素原子数は１０乃至３０であり、Ｒ^４乃至Ｒ^６はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表し、Ｌはエーテル結合を含んでいてもよい炭素原子数１乃至８のアルキレン基を表す。）
また、上記第１観点のうち、好ましい態様の１つとして、式［１’］で表されるエポキシ化合物、及びエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物が挙げられる。

（式中、Ｒ ^１ は３，５，５−トリメチルヘキシル基を表し、Ｒ ^２ は４，４−ジメチルペンタン−２−イル基を表し、Ｒ ^３ は水素原子を表し、Ｘは、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−を表し（ここで＊は−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ Ｒ ^３ 基に結合する端を示す。）、Ｌはメチレン基を表し、Ｅは式［２’］で表される基を表す（ここで式［２’］中の＊＊はＬに結合する端を示す。）。）

（式中、Ｒ ^４ 乃至Ｒ ^６ は水素原子を表す。）
また、上記第１７観点のうち、好ましい態様の１つとして、式［１’］で表されるエポキシ化合物の、エポキシ樹脂組成物における反応性希釈剤としての使用が挙げられる。

（式中、Ｒ ^１ は３，５，５−トリメチルヘキシル基を表し、Ｒ ^２ は４，４−ジメチルペンタン−２−イル基を表し、Ｒ ^３ は水素原子を表し、Ｘは、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−を表し（ここで＊は−ＣＲ ^１ Ｒ ^２ Ｒ ^３ 基に結合する端を示す。）、Ｌはメチレン基を表し、Ｅは式［２’］で表される基を表す（ここで式［２’］中の＊＊はＬに結合する端を示す。）。）

（式中、Ｒ ^４ 乃至Ｒ ^６ は水素原子を表す。）
さらに、上記第１８観点のうち、好ましい態様の１つとして、式［１ａ’］で表されるエポキシ化合物が挙げられる。

（式中、Ｒ ^１ は３，５，５−トリメチルヘキシル基を表し、Ｒ ^２ は４，４−ジメチルペンタン−２−イル基を表し、Ｒ ^３ は水素原子を表し、Ｒ ^４ 乃至Ｒ ^６ は水素原子を表し、Ｌはメチレン基を表す。）

本発明のエポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂と反応性希釈剤として分岐したアルキル部位を有する単官能エポキシ化合物とを配合することにより、相溶性及びハンドリング性に優れる組成物とすることができるだけでなく、従来のエポキシ系反応性希釈剤を用いた組成物と比べて、高い耐熱性を有する硬化物を作製できる。また本発明のエポキシ樹脂組成物は、それに硬化剤や硬化触媒を配合して硬化性組成物を為し、これを硬化させて得られた硬化物において、前記分岐したアルキル部位を有する単官能エポキシ化合物（反応性希釈剤）を配合しない組成物から作製した硬化物と比べて、低い誘電率を有するとともに、吸水率の低い硬化物を作製することができる。
また上記分岐したアルキル部位を有する単官能エポキシ化合物は、液状エポキシ化合物の中でも極めて低粘度のエポキシ化合物（およそ１００ｍＰａ・ｓ以下）であり、また従来市販のエポキシ系反応性希釈剤と比べて低揮発性の化合物であり、他の液状エポキシ樹脂との相溶性にも優れる。さらに該エポキシ化合物を配合して作製したエポキシ硬化性組成物は、低誘電率の硬化物を作製できる。そのため、上記分岐したアルキル部位を有する単官能エポキシ化合物は、エポキシ樹脂組成物の反応性希釈剤として好適に使用することができ、そしてそれにより、エポキシ樹脂組成物におけるハンドリング性及び硬化性の向上のみならず、該組成物を用いて作製した硬化物において、耐熱性さらには低誘電特性を付与することができる。

本発明のエポキシ系反応性希釈剤及びそれを含むエポキシ樹脂組成物は、半導体封止材料、透明封止剤、電子材料用接着剤、光学用接着剤、プリント配線基板材料、層間絶縁膜材料、繊維強化プラスチック、光造形用インク、塗料用インク、撥水性コーティング材料、滑水性コーティング材料、親油性コーティング材料、自己修復性材料、生体親和性材料、複屈折制御材料、顔料分散剤、フィラー分散剤、ゴム改質剤などの各種材料の、主剤、架橋剤、希釈剤、レベリング剤、相溶化剤として好適に使用できる。

［（ａ）エポキシ樹脂組成物］
本発明は、下記式［１］で表される少なくとも一種のエポキシ化合物、及びエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物に関し、また下記式［１］で表されるエポキシ化合物のエポキシ樹脂組成物における反応性希釈剤としての使用も本発明の対象である。

＜エポキシ化合物＞
本発明のエポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ化合物は、下記式［１］で表される。

上記式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、炭素原子数２乃至２７のアルキル基を表し、Ｒ^３は水素原子又は炭素原子数１乃至２５のアルキル基を表し、ただし−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基の炭素原子数の合計は１０乃至３０であり、Ｘは、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、＊−ＣＨ_２Ｏ−又は＊−ＣＨ_２ＯＣ（＝Ｏ）−を表し（ここで＊は−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基に結合する端を示す。）、Ｌは単結合、又はエーテル結合を含んでいてもよい炭素原子数１乃至８のアルキレン基を表し、Ｅは式［２］又は式［３］で表される基を表す。

上記式中、Ｒ^４乃至Ｒ^１５はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表す。

上記Ｒ^１及びＲ^２における炭素原子数２乃至２７のアルキル基としては、直鎖構造のみならず、分岐構造、環状構造を有していてもよい。
具体的には、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基（アミル基）、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基（ラウリル基）、トリデシル基、テトラデシル基（ミリスチル基）、ペンタデシル基、ヘキサデシル基（パルミチル基）、ヘプタデシル基（マルガリル基）、オクタデシル基（ステアリル基）、ノナデシル基、イコシル基（アラキル基）、ヘンイコシル基、ドコシル基（ベヘニル基）、トリコシル基、テトラコシル基（リグノセリル基）、ペンタコシル基、ヘキサコシル基、ヘプタコシル基等の直鎖状アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｓｅｃ−イソアミル基、イソヘキシル基、テキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２−エチルペンチル基、ヘプタン−３−イル基、ヘプタン−４−イル基、４−メチルヘキサン−２−イル基、３−メチルヘキサン−３−イル基、２，３−ジメチルペンタン−２−イル基、２，４−ジメチルペンタン−２−イル基、４，４−ジメチルペンタン−２−イル基、６−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクタン−２−イル基、６−メチルヘプタン−２−イル基、６−メチルオクチル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ノナン−４−イル基、２，６−ジメチルヘプタン−３−イル基、３，６−ジメチルヘプタン−３−イル基、３−エチルヘプタン−３−イル基、３，７−ジメチルオクチル基、８−メチルノニル基、３−メチルノナン−３−イル基、４−エチルオクタン−４−イル基、９−メチルデシル基、ウンデカン−５−イル基、３−エチルノナン−３−イル基、５−エチルノナン−５−イル基、２，２，４，５，５−ペンタメチルヘキサン−４−イル基、１０−メチルウンデシル基、１１−メチルドデシル基、トリデカン−６−イル基、トリデカン−７−イル基、７−エチルウンデカン−２−イル基、３−エチルウンデカン−３−イル基、５−エチルウンデカン−５−イル基、１２−メチルトリデシル基、１３−メチルテトラデシル基、ペンタデカン−７−イル基、ペンタデカン−８−イル基、１４−メチルペンタデシル基、１５−メチルヘキサデシル基、ヘプタデカン−８−イル基、ヘプタデカン−９−イル基、３，１３−ジメチルペンタデカン−７−イル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチルウンデカン−５−イル基、１６−メチルヘプタデシル基、１７−メチルオクタデシル基、ノナデカン−９−イル基、ノナデカン−１０−イル基、２，６，１０，１４−テトラメチルペンタデカン−７−イル基、１８−メチルノナデシル基、１９−メチルイコシル基、ヘンイコサン−１０−イル基、２０−メチルヘンイコシル基、２１−メチルドコシル基、トリコサン−１１−イル基、２２−メチルトリコシル基、２３−メチルテトラコシル基、ペンタコサン−１２−イル基、ペンタコサン−１３−イル基、２，２２−ジメチルトリコサン−１１−イル基、３，２１−ジメチルトリコサン−１１−イル基、９，１５−ジメチルトリコサン−１１−イル基、２４−メチルペンタコシル基、２５−メチルヘキサコシル基、ヘプタコサン−１３−イル基等の分岐鎖状アルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、１，６−ジメチルシクロヘキシル基、メンチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、ボルニル基、イソボルニル基、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−４−イル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イル基、シクロドデシル基等の脂環式アルキル基が挙げられる。

上記Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、好ましくは炭素原子数４乃至１６のアルキル基であり、より好ましくは炭素原子数６乃至１０のアルキル基である。
中でも、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、分岐鎖状のアルキル基であることが好ましく、より好ましくは炭素原子数４乃至１６の分岐鎖状アルキル基、さらに好ましくは炭素原子数６乃至１０の分枝鎖状アルキル基である。
具体的には、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、４，４−ジメチルペンタン−２−イル基、６−メチルヘプタン−２−イル基、６−メチルオクチル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、３，７−ジメチルオクチル基であることが特に好ましい。

上記Ｒ^３における炭素原子数１乃至２５のアルキル基としては、直鎖構造のみならず、分岐構造、環状構造を有していてもよい。
このような炭素原子数１乃至２５のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基（アミル基）、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基（ラウリル基）、トリデシル基、テトラデシル基（ミリスチル基）、ペンタデシル基、ヘキサデシル基（パルミチル基）、ヘプタデシル基（マルガリル基）、オクタデシル基（ステアリル基）、ノナデシル基、イコシル基（アラキル基）、ヘンイコシル基、ドコシル基（ベヘニル基）、トリコシル基、テトラコシル基（リグノセリル基）、ペンタコシル基等の直鎖状アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｓｅｃ−イソアミル基、イソヘキシル基、テキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２−エチルペンチル基、ヘプタン−３−イル基、ヘプタン−４−イル基、４−メチルヘキサン−２−イル基、３−メチルヘキサン−３−イル基、２，３−ジメチルペンタン−２−イル基、２，４−ジメチルペンタン−２−イル基、４，４−ジメチルペンタン−２−イル基、６−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、オクタン−２−イル基、６−メチルヘプタン−２−イル基、６−メチルオクチル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ノナン−４−イル基、２，６−ジメチルヘプタン−３−イル基、３，６−ジメチルヘプタン−３−イル基、３−エチルヘプタン−３−イル基、３，７−ジメチルオクチル基、８−メチルノニル基、３−メチルノナン−３−イル基、４−エチルオクタン−４−イル基、９−メチルデシル基、ウンデカン−５−イル基、３−エチルノナン−３−イル基、５−エチルノナン−５−イル基、２，２，４，５，５−ペンタメチルヘキサン−４−イル基、１０−メチルウンデシル基、１１−メチルドデシル基、トリデカン−６−イル基、トリデカン−７−イル基、７−エチルウンデカン−２−イル基、３−エチルウンデカン−３−イル基、５−エチルウンデカン−５−イル基、１２−メチルトリデシル基、１３−メチルテトラデシル基、ペンタデカン−７−イル基、ペンタデカン−８−イル基、１４−メチルペンタデシル基、１５−メチルヘキサデシル基、ヘプタデカン−８−イル基、ヘプタデカン−９−イル基、３，１３−ジメチルペンタデカン−７−イル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチルウンデカン−５−イル基、１６−メチルヘプタデシル基、１７−メチルオクタデシル基、ノナデカン−９−イル基、ノナデカン−１０−イル基、２，６，１０，１４−テトラメチルペンタデカン−７−イル基、１８−メチルノナデシル基、１９−メチルイコシル基、ヘンイコサン−１０−イル基、２０−メチルヘンイコシル基、２１−メチルドコシル基、トリコサン−１１−イル基、２２−メチルトリコシル基、２３−メチルテトラコシル基、ペンタコサン−１２−イル基、ペンタコサン−１３−イル基、２，２２−ジメチルトリコサン−１１−イル基、３，２１−ジメチルトリコサン−１１−イル基、９，１５−ジメチルトリコサン−１１−イル基等の分岐鎖状アルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、１，６−ジメチルシクロヘキシル基、メンチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、ボルニル基、イソボルニル基、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−４−イル基、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イル基、シクロドデシル基等の脂環式アルキル基が挙げられる。
中でもＲ^３は、水素原子であることが好ましい。

上記Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３を有する基：−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基は、その炭素原子数の合計が１０乃至３０であり、好ましくは炭素原子数１４乃至２６の基であり、特に好ましくは炭素原子数１４乃至２０の基である。
上記−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基の具体例としては、３−メチルノナン−３−イル基、４−エチルオクタン−４−イル基、ウンデカン−５−イル基、３−エチルノナン−３−イル基、５−エチルノナン−５−イル基、２，２，４，５，５−ペンタメチルヘキサン−４−イル基、トリデカン−６−イル基、トリデカン−７−イル基、７−エチルウンデカン−２−イル基、３−エチルウンデカン−３−イル基、５−エチルウンデカン−５−イル基、ペンタデカン−７−イル基、ペンタデカン−８−イル基、ヘプタデカン−８−イル基、ヘプタデカン−９−イル基、３，１３−ジメチルペンタデカン−７−イル基、２，２，４，８，１０，１０−ヘキサメチルウンデカン−５−イル基、ノナデカン−９−イル基、ノナデカン−１０−イル基、２，６，１０，１４−テトラメチルペンタデカン−７−イル基、ヘンイコサン−１０−イル基、トリコサン−１１−イル基、ペンタコサン−１２−イル基、ペンタコサン−１３−イル基、２，２２−ジメチルトリコサン−１１−イル基、３，２１−ジメチルトリコサン−１１−イル基、９，１５−ジメチルトリコサン−１１−イル基、ヘプタコサン−１３−イル基、ノナコサン−１４−イル基等が挙げられる。

上記Ｘは、中でも＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−又は＊−ＣＨ_２Ｏ−基であることが好ましく、特に＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−基であることが好ましい。

上記Ｌにおけるエーテル結合を含んでいてもよい炭素原子数１乃至８のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、２−オキサテトラメチレン基、２，５−ジオキサヘプタメチレン基、２，５，８−トリオキサデカメチレン基、２−オキサ−３−メチルテトラメチレン基、２，５−ジオキサ−３，６−ジメチルヘプタメチレン基等が挙げられる。
上記Ｌとしては、好ましくはメチレン基、トリメチレン基、ヘキサメチレン基、２−オキサテトラメチレン基、より好ましくはメチレン基が挙げられる。

上記式［１］中のＥである式［２］又は式［３］で表される基はエポキシ含有基である。
式［２］又は式［３］中のＲ^４乃至Ｒ^１５における炭素原子数１乃至１０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、ペンチル基（アミル基）、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｓｅｃ−イソアミル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロへキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基等が挙げられる。
中でもＲ^４乃至Ｒ^１５は、水素原子であることが好ましい。

なお上記式［１］で表されるエポキシ化合物のうち、下記式［１ａ］で表される化合物も発明の対象とする。

式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立して、炭素原子数２乃至２７のアルキル基を表し、Ｒ^３は水素原子又は炭素原子数１乃至２５のアルキル基を表し、ただし−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基の炭素原子数は１０乃至３０であり、Ｒ^４乃至Ｒ^６はそれぞれ独立して、水素原子又は炭素原子数１乃至１０のアルキル基を表し、Ｌはエーテル結合を含んでいてもよい炭素原子数１乃至８のアルキレン基を表す。
上記Ｒ^１乃至Ｒ^６、及びＬの具体的な基は、上述したとおりである。

上記式［１］で表される化合物は、カルボン酸類やアルコール類を出発原料として、従来公知（例えば、国際公開２０１２／１２８３２５号パンフレット、特開２０１２−２５６８８号公報等に記載）のエポキシドの合成方法によって製造可能である。
例えばＸが＊−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−基を表すエステル化合物の場合には、一例として、Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｃ−ＣＯＯＨで表されるカルボン酸又はその活性化体（酸ハロゲン化物、酸無水物、酸アジド、活性エステルなど）と、ハロゲン化アリルやアリル基を有するアルコールとを反応させて不飽和結合を有するエステル化合物（中間体）を形成した後、該中間体と過酸化物とを反応させて不飽和結合をエポキシ化する方法によって製造できる。また、Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｃ−ＣＯＯＨで表されるカルボン酸とエピクロロヒドリンを反応させ、閉環する方法によっても製造可能である。一例として、Ｅが式［２］で表される基である場合の合成スキームを以下に示す。

また、上記式［１］においてＸが＊−ＣＨ_２−Ｏ−基を表すエーテル化合物の場合には、例えば、Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｃ−ＣＨ_２ＯＨで表されるアルコールと、ハロゲン化アリルと反応させて不飽和結合を有するエーテル化合物（中間体）を形成した後、該中間体と過酸化物とを反応させて不飽和結合をエポキシ化する方法によって製造できる。

上記Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｃ−ＣＯＯＨにて表されるカルボン酸及びＲ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｃ−ＣＨ_２ＯＨにて表されるアルコールは市販品を使用し得、例えば、上記Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｃ−ＣＯＯＨで表される化合物としては、日産化学工業（株）製 ファインオキソコール（登録商標）イソパルミチン酸、同イソステアリン酸、同イソステアリン酸Ｎ、同イソステアリン酸Ｔ、及び同イソアラキン酸が挙げられる。また上記Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｃ−ＣＨ_２ＯＨで表される化合物としては、日産化学工業（株）製 ファインオキソコール（登録商標）１６００、同１８０、同１８０Ｎ、同１８０Ｔ、及び同２０００等が挙げられる。

＜エポキシ樹脂＞
本発明のエポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ樹脂は、一般に分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ化合物を指し、本発明においては特に限定されることなく市販品を含め種々のエポキシ樹脂を使用可能である。
本発明のエポキシ樹脂組成物には、取り扱い作業上の観点から、好ましくは液状のエポキシ樹脂を使用することが望ましい。なお該エポキシ樹脂が固体であったり、粘度が非常に高い場合、取り扱い作業上の便宜を図るため溶剤に溶解したり、或いは後述するように、エポキシ樹脂組成物の調製時に硬化反応が進まない程度に加熱することができる。但し溶剤の添加は、溶剤の蒸発により硬化物の密度低下や細孔の生成により強度低下、耐水性の低下を生ずる虞がある。このため、該エポキシ樹脂自体が常温、常圧下で液状のものを採用することが好ましい。

本発明で使用可能なエポキシ樹脂としては、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−へキサンジオールジグリシジルエーテル、（ポリ）エチレングリコールジグリシジルエーテル、（ポリ）プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、１，２−エポキシ−４−（エポキシエチル）シクロヘキサン、グリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリジグリシジルエーテル、２，６−ジグリシジルフェニルグリシジルエーテル、１，１，３−トリス（４−グリシジルオキシフェニル）プロパン、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステル、４，４’−メチレンビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン）、３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、テトラグリシジル−１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールヘキサフルオロアセトンジグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、トリス−（３，４−エポキシブチル）イソシアヌレート、トリス−（４，５−エポキシペンチル）イソシアヌレート、トリス−（５，６−エポキシヘキシル）イソシアヌレート、トリス−（７，８−エポキシオクチル）イソシアヌレート、トリス（２−グリシジルオキシエチル）イソシアヌレート、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルＮ’’−（２，３−ジプロピオニルオキシプロピル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，３−ジプロピオニルオキシプロピル）Ｎ’’−グリシジルイソシアヌレート、トリス（２，２−ビス（グリシジルオキシメチル）ブチル）３，３’，３’’−（２，４，６−トリオキソ−１，３，５−トリアジン−１，３，５−トリイル）トリプロパノエート、ソルビトールポリグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジル、ｏ−フタル酸ジグリシジル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、１，２，７，８−ジエポキシオクタン、１，６−ジメチロールパーフルオロヘキサンジグリシジルエーテル、４−（スピロ［３，４−エポキシシクロヘキサン−１，５’−［１，３］ジオキサン］−２’−イル）−１，２−エポキシシクロヘキサン、１，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメトキシ）エタン、４，５−エポキシ−２−メチルシクロヘキサンカルボン酸４’，５’−エポキシ−２’−メチルシクロヘキシルメチル、エチレングリコールビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これらのエポキシ樹脂は単独で又は二種以上の混合物として使用することが出来る。

なお上記エポキシ樹脂の一例として、以下の市販品を挙げることができる。
固体エポキシ樹脂としては、ＴＥＰＩＣ（登録商標）−Ｇ、同Ｓ、同Ｌ、同ＨＰ［何れも日産化学工業（株）製］等が挙げられる。
また、液状エポキシ樹脂としては、ＴＥＰＩＣ（登録商標）−ＰＡＳ Ｂ２２、同ＰＡＳ Ｂ２６、同ＰＡＳ Ｂ２６Ｌ、同ＶＬ、同ＵＣ、同ＦＬ［何れも日産化学工業（株）製］、ｊＥＲ（登録商標）８２８、同ＹＸ８０００［何れも三菱化学（株）製］、リカレジン（登録商標）ＤＭＥ１００［新日本理化（株）製］、セロキサイド２０２１Ｐ［（株）ダイセル製］等が挙げられる。

本発明のエポキシ樹脂組成物において、式［１］で表されるエポキシ化合物と、エポキシ樹脂との配合割合は、質量比で、式［１］で表されるエポキシ化合物：エポキシ樹脂＝３：９７〜６０：４０の範囲とすることが好ましく、５：９５〜４０：６０の範囲とすることがより好ましい。式［１］で表されるエポキシ化合物の配合量を上記割合以上とすることで、十分な粘度低下効果が得られ、また得られる樹脂組成物において十分な誘電率の低減につながる。また式［１］で表されるエポキシ化合物の配合量を上記割合以下とすることで、架橋密度の低下を抑え、後に得られる硬化物の耐熱性や機械的物性を維持することがてきる。

本発明のエポキシ樹脂組成物は上記式［１］で表されるエポキシ化合物及び上記エポキシ樹脂を混合することにより製造し得、該混合は均一に混合できれば、特に限定されるものではないが、例えばミキサーや混練機を使用し、また粘度を考慮して、必要に応じて加熱下で実施され得、例えば１０〜１５０℃の温度で０．５〜１０時間程度混合することにより調製し得る。

［（ｂ）硬化剤及びそれを含む硬化性組成物］
本発明は、上述のエポキシ樹脂組成物、及び（ｂ）硬化剤を含む硬化性組成物を対象とする。本硬化性組成物には、（ｂ）硬化剤に加えて、硬化促進剤を併用することができる。

硬化剤としては、酸無水物、アミン、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、イミダゾール類、又はポリメルカプタンを用いることができる。これらの中でも、特に酸無水物及びアミンが好ましい。これら硬化剤は、固体であっても溶剤に溶解することによって使用することができる。しかし、溶剤の蒸発により硬化物の密度低下や細孔の生成により強度低下、耐水性の低下を生ずるため、硬化剤自体が常温、常圧下で液状のものが好ましい。
硬化剤は、（ａ）エポキシ樹脂組成物、すなわち、前述の式［１］で表されるエポキシ化合物及びエポキシ樹脂の全体における、エポキシ基１当量に対して０．５〜１．５当量、好ましくは０．８〜１．２当量の割合で含有することができる。エポキシ化合物に対する硬化剤の当量は、エポキシ基に対する硬化剤の硬化性基の当量比で示される。

酸無水物としては一分子中に複数のカルボキシル基を有する化合物の無水物が好ましい。これらの酸無水物としては、例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビストリメリテート、グリセロールトリストリメリテート、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、クロレンド酸無水物等が挙げられる。
これらの中でも常温、常圧で液状であるメチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物（メチルナジック酸無水物、無水メチルハイミック酸）、水素化メチルナジック酸無水物、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸とヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物が好ましい。これら液状の酸無水物は粘度が２５℃での測定で１０〜１，０００ｍＰａ・ｓ程度である。酸無水物基において、１つの酸無水物基は１当量として計算される。

アミンとしては、例えば、ピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン、トリエチレンジアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ベンジルジメチルアミン、２−（ジメチルアミノメチル）フェノール、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、ジ（１−メチル−２−アミノシクロヘキシル）メタン、メンタンジアミン、イソホロンジアミン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、キシレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。これらの中でも、液状であるジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジエチルアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、ビス（１−メチル−２−アミノシクロヘキシル）メタン、メンタンジアミン、イソホロンジアミン、ジアミノジシクロヘキシルメタン等を好ましく用いることができる。

フェノール樹脂としては、例えば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂等が挙げられる。

ポリアミド樹脂は、ダイマー酸とポリアミンの縮合により生成するもので、分子中に一級アミンと二級アミンを有するポリアミドアミンである。

イミダゾール類としては、例えば、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、エポキシイミダゾールアダクト等が挙げられる。

ポリメルカプタンは、例えば、ポリプロピレングリコール鎖の末端にメルカプタン基が存在するものや、ポリエチレングリコール鎖の末端にメルカプタン基が存在するものであり、液状のものが好ましい。

また、本発明の硬化性組成物から硬化物を得る際、適宜、硬化促進剤（硬化助剤ともいう）が併用されてもよい。
硬化促進剤としては、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等の有機リン化合物；エチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムＯ，Ｏ−ジエチルホスホロジチオエート等の第４級ホスホニウム塩；１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンとオクチル酸との塩、オクチル酸亜鉛、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第４級アンモニウム塩などが挙げられる。また前述の硬化剤として挙げた２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール等のイミダゾール類や、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ベンジルジメチルアミン等のアミン類も他の種類の硬化剤に対する硬化促進剤として用いることができる。
これらの硬化促進剤は、硬化剤１質量部に対して、０．００１〜０．１質量部の割合で用いることができる。

本発明では、上記式［１］で表されるエポキシ化合物及びエポキシ樹脂とを含むエポキシ樹脂組成物に、上記（ｂ）硬化剤と所望により硬化促進剤とを混合することにより、硬化性組成物が得られる。
これら成分の混合は、均一に混合できれば特に限定されるものではないが、例えば反応フラスコと撹拌羽根若しくはミキサー等を用いて、或いは混練機を使用することが好ましく、例えば自転公転式撹拌機による十分な撹拌下にて行うことが好ましい。
混合は粘度を考慮して必要に応じて加熱下で行われ、１０〜１００℃の温度で０．５〜１時間行われる。エポキシ樹脂組成物の粘度が高く、均一な混合が速やかに進行しない場合は、硬化反応が進まない程度に加熱を行うことで粘度が低減化し、操作性が向上する。
また、前述したように、エポキシ化合物として溶剤に溶解したエポキシ化合物を用いたり、硬化剤に溶剤が含まれる場合、得られる硬化性組成物においても前記溶剤が含まれ得るが、該溶剤はその蒸発によって硬化物の種々の性能低下を生ずる要因となり得るため、硬化性組成物の調製中に或いは調製後に、減圧又は加熱処理することによって、硬化物を形成する前に硬化性組成物から溶剤を除去することが好ましい。

得られた硬化性組成物は、例えば液状封止材として用いるための適切な粘度を有する。本発明の硬化性組成物は、任意の粘度に調整が可能であり、キャスティング法、ポッティング法、ディスペンサー法、印刷法等によりＬＥＤ等の透明封止材として用いるために、その任意箇所に部分的封止ができる。硬化性組成物を上述の方法で液状のまま直接、ＬＥＤ等に実装した後、乾燥し、硬化することによりエポキシ樹脂硬化物が得られる。

上記硬化性組成物から得られる硬化物は、該硬化性組成物を基材に塗布、もしくは離型剤を塗布した注型板に注ぎ込んで、１００〜１２０℃の温度で予備硬化し、そして１２０〜２００℃の温度で本硬化（後硬化）することにより得られる。
加熱時間は、１〜１２時間、例えば予備硬化及び本硬化ともにそれぞれ２〜５時間程度である。
本発明の硬化性組成物から得られる塗膜の厚みは、硬化物の用途に応じて、０．０１μｍ〜１０ｍｍ程度の範囲から選択できる。

［（ｃ）硬化触媒及びそれを含む硬化性組成物］
本発明は、上述のエポキシ樹脂組成物、及び（ｃ）硬化触媒を含む硬化性組成物も対象とする。（ｃ）硬化触媒は、（ｃ１）酸発生剤及び／又は（ｃ２）塩基発生剤からなる。

＜（ｃ１）酸発生剤＞
（ｃ１）酸発生剤としては、光酸発生剤又は熱酸発生剤を用いることができ、これらは、光照射又は加熱により直接又は間接的に酸（ルイス酸あるいはブレンステッド酸）を生成するものであれば特に限定されない。

光酸発生剤の具体例としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩等のオニウム塩、メタロセン錯体化合物、鉄アレーン錯体化合物、ジスルホン系化合物、スルホン酸誘導体化合物、トリアジン系化合物、アセトフェノン誘導体化合物、ジアゾメタン系化合物、などを挙げることができる。

上記オニウム塩のうち、ヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウム、４，４’−ジクロロジフェニルヨードニウム、４，４’−ジメトキシジフェニルヨードニウム、４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルヨードニウム、４−メチルフェニル（４−（２−メチルプロピル）フェニル）ヨードニウム、３，３’−ジニトロフェニルヨードニウム、４−（１−エトキシカルボニルエトキシ）フェニル（２，４，６−トリメチルフェニル）ヨードニウム、４−メトキシフェニル（フェニル）ヨードニウム等のヨードニウムの、クロリド、ブロミド、メシレート、トシレート、トリフルオロメタンスルホネート、テトラフルオロボレート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネートなどのジアリールヨードニウム塩が挙げられる。

上記スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウム、トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（４−メトキシフェニル）スルホニウム、トリス（４−メチルフェニル）スルホニウム、トリス（４−メトキシフェニル）スルホニウム、トリス（４−エトキシフェニル）スルホニウム、ジフェニル（４−（フェニルチオ）フェニル）スルホニウム、トリス（４−（フェニルチオ）フェニル）スルホニウム等のスルホニウムの、クロリド、ブロミド、トリフルオロメタンスルホネート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネートなどのトリアリールスルホニウム塩が挙げられる。

上記ホスホニウム塩としては、例えば、テトラフェニルホスホニウム、エチルトリフェニルホスホニウム、テトラ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウム、エチルトリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスホニウム、ベンジルトリフェニルホスホニウム等のホスホニウムの、クロリド、ブロミド、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネートなどのアリールホスホニウム塩が挙げられる。

上記セレニウム塩としては、トリフェニルセレニウムヘキサフルオロホスフェートなどのトリアリールセレニウム塩が挙げられる。

上記鉄アレーン錯体化合物としては、例えば、ビス（η^５−シクロペンタジエニル）（η^６−イソプロピルベンゼン）鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。

これらの光酸発生剤は単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。

熱酸発生剤としては、スルホニウム塩及びホスホニウム塩が挙げられ、これらの例示化合物としては、上述の光酸発生剤において各種オニウム塩の例示として挙げた化合物を挙げることができる。また、ベンジル（４−ヒドロキシフェニル）（メチル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等を好適に用いることができる。
これらの熱酸発生剤は単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。

これらの中でも、（ｃ１）酸発生剤として、スルホニウム塩化合物又はヨードニウム塩化合物が好ましく、例えば強酸性を示すヘキサフルオロホスフェートやヘキサフルオロアンチモネート等のアニオン種を有する化合物が好ましい。
（ｃ１）酸発生剤は、（ａ）エポキシ樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜２０質量部、好ましくは０．１〜１０質量部、さらに好ましくは０．５〜１０質量部の割合で含有することができる。

＜（ｃ２）塩基発生剤＞
（ｃ２）塩基発生剤としては、光塩基発生剤又は熱塩基発生剤を用いることができ、これらは、光照射又は加熱により直接又は間接的に塩基（ルイス塩基あるいはブレンステッド塩基）を生成するものであれば特に限定されない。

光塩基発生剤としては、例えば、９−アントリルメチル＝Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバメート等のアルキルアミン系光塩基発生剤；９−アントリル＝Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルバメート、１−（９，１０−アントラキノン−２−イル）エチル＝Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルバメート、ジシクロヘキシルアンモニウム＝２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオネート、９−アントリル＝Ｎ−シクロヘキシルカルバメート、１−（９，１０−アントラキノン−２−イル）エチル＝Ｎ−シクロヘキシルカルバメート、シクロヘキシルアンモニウム＝２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオネート、（Ｅ）−Ｎ−シクロヘキシル−３−（２−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド等のシクロアルキルアミン系光塩基発生剤；９−アントリルメチル＝ピペリジン−１−カルボキシレート、（Ｅ）−１−ピペリジノ−３−（２−ヒドロキシフェニル）−２−プロペン−１−オン、（２−ニトロフェニル）メチル＝４−ヒドロキシピペリジン−１−カルボキシレート、（２−ニトロフェニル）メチル＝４−（メタクリロイルオキシ）ピペリジン−１−カルボキシレート等のピペリジン系光塩基発生剤；グアニジニウム＝２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオネート、１，２−ジイソプロピル−３−（ビス（ジメチルアミノ）メチレン）グアニジニウム＝２−（３−ベンゾイルフェニル）プロピオネート、１，２−ジシクロヘキシル−４，４，５，５−テトラメチルビグアニジウム＝ｎ−ブチルトリフェニルボラート、１，５，７−トリアザビシクロ［４．４．０］デカ−５−エニウム＝２−（９−オキソキサンテン−２−イル）プロピオネート等のグアニジン系光塩基発生剤；１−（９，１０−アントラキノン−２−イル）エチル＝イミダゾール−１−カルボキシレート等のイミダゾール系光塩基発生剤等が挙げられる。
これら光塩基発生剤は、一種を単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
また、光塩基発生剤は市販品として入手可能であり、例えば、和光純薬工業（株）製の光塩基発生剤ＷＰＢＧシリーズ（ＷＰＢＧ−０１８、同０２７、同０８２、同１４０、同２６６、同３００など）等を好適に用いることができる。

熱塩基発生剤としては、例えば、１−メチル−１−（４−ビフェニリル）エチルカルバメート、２−シアノ−１，１−ジメチルエチルカルバメート等のカルバメート類；尿素、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’−メチル尿素等の尿素類；トリクロロ酢酸グアニジン、フェニルスルホニル酢酸グアニジン、フェニルプロピオール酸グアニジン等のグアニジン類；１，４−ジヒドロニコチンアミド等のジヒドロピリジン類；Ｎ−（イソプロポキシカルボニル）−２，６−ジメチルピペリジン、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２，６−ジメチルピペリジン、Ｎ−（ベンジルオキシカルボニル）−２，６−ジメチルピペリジン等のジメチルピペリジン類；フェニルスルホニル酢酸テトラメチルアンモニウム、フェニルプロピオール酸テトラメチルアンモニウム等の四級化アンモニウム塩；ジシアンジアミドなどが挙げられる。また、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）の塩である、Ｕ−ＣＡＴ（登録商標）ＳＡ８１０、同ＳＡ８３１、同ＳＡ８４１、同ＳＡ８５１［以上、サンアプロ（株）製］等が挙げられる。
これら熱塩基発生剤は、一種を単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。

（ｃ２）塩基発生剤は、（ａ）エポキシ樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜２０質量部、好ましくは０．１〜１０質量部、さらに好ましくは０．５〜１０質量部の割合で含有することができる。

本発明では、上記式［１］で表されるエポキシ化合物及びエポキシ樹脂とを含むエポキシ樹脂組成物に、上記（ｃ）硬化触媒を混合することにより、硬化性組成物が得られる。該硬化性組成物を得るための混合の操作条件は前述したとおりである。

本発明では、前記エポキシ樹脂組成物と（ｃ）硬化触媒を含む硬化性組成物を基板上に塗布し、光照射或いは加熱することにより硬化することができる。また光照射の前後にさらに加熱することもできる。

本発明の硬化性組成物を基板上に塗布する方法としては、例えば、フローコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法などを挙げることができる。

本発明の硬化性組成物から形成される塗膜の厚みは、硬化物の用途に応じて、０．０１μｍ〜１０ｍｍ程度の範囲から選択でき、例えば、フォトレジストに用いる場合は０．０５〜１０μｍ（特に０．１〜５μｍ）程度とすることができ、プリント配線基板に用いる場合は１０μｍ〜５ｍｍ（特に１００μｍ〜１ｍｍ）程度とすることができ、光学薄膜に用いる場合は０．１〜１００μｍ（特に０．３〜５０μｍ）程度とすることができる。

（ｃ）硬化触媒を含有する硬化性組成物において、光酸発生剤又は光塩基発生剤を用いる場合の照射又は露光する光としては、例えば、ガンマー線、Ｘ線、紫外線、可視光線などが挙げられ、通常、可視光線又は紫外線、特に紫外線が用いられる場合が多い。
光の波長は、例えば、１５０〜８００ｎｍ、好ましくは１５０〜６００ｎｍ、さらに好ましくは２００〜４００ｎｍ、特に３００〜４００ｎｍ程度である。
露光量は、塗膜の厚みにより異なるが、例えば、２〜２０，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５〜５，０００ｍＪ／ｃｍ^２程度とすることができる。
光源としては、露光する光線の種類に応じて選択でき、例えば、紫外線の場合は低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、重水素ランプ、ハロゲンランプ、レーザー光（ヘリウム−カドミウムレーザー、エキシマレーザーなど）、ＵＶ−ＬＥＤなどを用いることができる。このような光照射により、前記組成物の硬化反応が進行する。

（ｃ）硬化触媒を含有する硬化性組成物において、熱酸発生剤又は熱塩基発生剤を用いる場合や、光酸発生剤又は光塩基発生剤を用い光照射後に必要により行われる塗膜の加熱は、例えば、室温（およそ２３℃）〜２５０℃程度で行われる。加熱時間は、３秒以上（例えば、３秒〜５時間程度）の範囲から選択でき、例えば、５秒〜２時間程度である。

さらに、パターンや画像を形成する場合（例えば、プリント配線基板などを製造する場合）、基材上に形成した塗膜をパターン露光してもよい。このパターン露光は、レーザー光の走査により行ってもよく、フォトマスクを介して光照射することにより行ってもよい。このようなパターン露光により生成した非照射領域（未露光部）を現像液で現像（又は溶解）することによりパターン又は画像を形成できる。

現像液としては、アルカリ水溶液や有機溶剤を用いることができる。
アルカリ水溶液としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液；水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、コリン等の水酸化四級アンモニウムの水溶液；エタノールアミン、プロピルアミン、エチレンジアミン等のアミン水溶液などを挙げることができる。

前記アルカリ現像液は、１０質量％以下の水溶液であることが一般的で、好ましくは０．１〜３質量％の水溶液などが用いられる。さらに上記現像液にアルコール類や界面活性剤を添加して使用することもでき、これらの添加量はそれぞれ、現像液１００質量部に対して、好ましくは０．０５〜１０質量部である。具体的には、０．１〜２．３８質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液等を用いることができる。

また、現像液としての有機溶剤は、一般的な有機溶剤を用いることが可能であり、例えば、トルエン等の芳香族炭化水素類；乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエステル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等のアミド類；アセトニトリル等のニトリル類；アセトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノール、エタノール、２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のアルコール類などが挙げられる。これらは、単独で又は二種以上の混合物として用いることができる。
中でも、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）等を好ましく使用することができる。

［溶剤］
上記のエポキシ樹脂組成物及び（ｂ）硬化剤を含む硬化性組成物、並びに、エポキシ樹脂組成物及び（ｃ）硬化触媒を含む硬化性組成物は、必要により溶剤を含むことができる。
本発明の（ａ）エポキシ樹脂組成物において、式［１］で表されるエポキシ化合物は反応性希釈剤としての役割を果たし、ここに前述の（ｂ）硬化剤或いは（ｃ）硬化触媒を混合して本発明の硬化性組成物は得られることから、溶剤を用いる必要性は基本的に少ないものの、必要により溶剤を添加することは可能である。
例えば、前述の（ｂ）硬化剤が固体である場合と同様に、（ｃ）硬化触媒が固体であり、硬化触媒を炭酸プロピレン等の溶剤に溶解し液状エポキシ樹脂と混合して硬化性組成物を製造することができる。また、（ａ）エポキシ樹脂組成物に酸発生剤等を溶解させる場合でも、得られる硬化性組成物の粘度調整のために一般的な溶剤を添加してもよい。

溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類；ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル等のヒドロキシエステル類；メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート等のエーテルエステル類；メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等のアルコール類；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等のエーテル類などが挙げられる。

本発明の硬化性組成物において溶剤を配合した場合の固形分の割合は、１〜１００質量％、又は５〜１００質量％、又は５０〜１００質量％、又は８０〜１００質量％とすることができる。固形分とは、硬化性組成物より溶剤を除去した残りの成分の割合である。

［その他硬化性モノマー］
上記本発明の硬化性組成物には、粘度調整や硬化性の向上を目的として、エポキシ樹脂以外のカチオン硬化性モノマーとして、ビニル基含有化合物、オキセタニル基含有化合物等を配合してもよい。

ビニル基含有化合物としては、ビニル基を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル（ＨＥＶＥ）、ジエチレングリコールモノビニルエーテル（ＤＥＧＶ）、２−ヒドロキシブチルビニルエーテル（ＨＢＶＥ）、トリエチレングリコールジビニルエーテル等のビニルエーテル化合物などが挙げられる。また、α位及び／又はβ位にアルキル基、アリル基等の置換基を有するビニル化合物も使用することができる。また、エポキシ基及び／又はオキセタニル基等の環状エーテル基を含むビニルエーテル化合物を使用することができ、例えば、オキシノルボルネンジビニルエーテル、３、３−ジメタノールオキセタンジビニルエーテル等が挙げられる。
また、ビニル基と（メタ）アクリル基を有する化合物を使用することができ、例えば、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニルオキシエトキシ）エチル等が挙げられる。
これらビニル基含有化合物は、単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。

オキセタニル基含有化合物としては、オキセタニル基を有する化合物であれば特に限定されず、３−エチル−３−（ヒドロキシメチル）オキセタン（ＯＸＡ）、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン（ＰＯＸ）、ビス（（３−エチル−３−オキセタニル）メチル）エーテル（ＤＯＸ）、１，４−ビス（（（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ）メチル）ベンゼン（ＸＤＯ）、３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン（ＥＨＯＸ）、３−エチル−３−（（３−トリエトキシシリルプロポキシ）メチル）オキセタン（ＴＥＳＯＸ）、オキセタニルシルセスキオキサン（ＯＸ−ＳＱ）、フェノールノボラックオキセタン（ＰＮＯＸ−１００９）等のオキセタン化合物などが挙げられる。
また、オキセタニル基と（メタ）アクリル基を有する化合物を使用することができ、例えば、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらのオキセタニル基含有化合物は、単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。

［その他成分］
上記のエポキシ樹脂組成物及び（ｂ）硬化剤を含む硬化性組成物、並びに、エポキシ樹脂組成物及び（ｃ）硬化触媒を含む硬化性組成物は、必要に応じて慣用の添加剤を含んでいてもよい。このような添加剤としては、例えば、顔料、着色剤、増粘剤、酸発生剤、消泡剤、レベリング剤、塗布性改良剤、潤滑剤、安定剤（酸化防止剤、熱安定剤、耐光安定剤など）、可塑剤、界面活性剤、密着促進剤、溶解促進剤、充填剤、帯電防止剤、硬化剤などが挙げられる。これらの添加剤は単独で又は二種以上組み合わせてもよい。

例えば本発明の硬化性組成物には、塗布性を向上させる目的で界面活性剤を添加してもよい。このような界面活性剤は、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤などが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。前記界面活性剤は、単独で又は二種類以上を組み合わせて用いることができる。
これらの界面活性剤の中で、塗布性改善効果の高さからフッ素系界面活性剤が好ましい。フッ素系界面活性剤の具体例としては、例えば、エフトップ（登録商標）ＥＦ−３０１、同ＥＦ−３０３、同ＥＦ−３５２［何れも三菱マテリアル電子化成（株）製］、メガファック（登録商標）Ｆ−１７１、同Ｆ−１７３、同Ｆ−４８２、同Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同ＢＬ−２０［何れもＤＩＣ（株）製］、フロラードＦＣ−４３０、同ＦＣ−４３１［何れもスリーエムジャパン（株）製］、アサヒガード（登録商標）ＡＧ−７１０［旭硝子（株）製］、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６［何れもＡＧＣセイミケミカル（株）製］等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明の硬化性組成物における界面活性剤の添加量は、該硬化性組成物の固形分（溶剤を除いた全成分）の質量に基づいて、０．０１〜５質量％、好ましくは０．０１〜３質量％、より好ましくは０．０１〜２質量％である。

また本発明の硬化性組成物には、現像後の基板との密着性を向上させる目的で、密着促進剤を添加することができる。これらの密着促進剤としては、例えば、クロロトリメチルシラン、トリクロロ（ビニル）シラン、クロロ（ジメチル）（ビニル）シラン、クロロ（メチル）（ジフェニル）シラン、クロロ（クロロメチル）（ジメチル）シラン等のクロロシラン類；メトキシトリメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジエトキシジメチルシラン、エトキシ（ジメチル）（ビニル）シラン、ジメトキシジフェニルシラン、トリエトキシ（フェニル）シラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシ（３−（Ｎ−ピペリジニル）プロピル）シラン等のアルコキシシラン類；ヘキサメチルジシラザン、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチルシリル）ウレア、ジメチル（トリメチルシリル）アミン、トリメチルシリルイミダゾール等のシラザン類；イミダゾール、インダゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、メルカプトイミダゾール、メルカプトピリミジン２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、ウラゾール、チオウラシル等の含窒素ヘテロ環化合物；１，１−ジメチルウレア、１，３−ジメチルウレア等の尿素類又はチオ尿素類などを挙げることができる。これら密着促進剤は、単独で又は二種類以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の硬化性組成物における密着促進剤の添加量は、該硬化性組成物の固形分（溶剤を除いた全成分）の質量に基づいて、通常２０質量％以下、好ましくは０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．０５〜５質量％である。

さらに本発明の硬化性組成物は、増感剤を含んでいてもよい。使用できる増感剤としては、アントラセン、フェノチアゼン、ぺリレン、チオキサントン、ベンゾフェノンチオキサントン等が挙げられる。更に、増感色素としては、チオピリリウム塩系色素、メロシアニン系色素、キノリン系色素、スチリルキノリン系色素、ケトクマリン系色素、チオキサンテン系色素、キサンテン系色素、オキソノール系色素、シアニン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム塩系色素等が例示される。特に好ましいのは、アントラセン系の増感剤であり、カチオン硬化触媒（感放射性カチオン重合開始剤）と併用する事により、感度が飛躍的に向上すると共に、ラジカル重合開始機能も有しており、例えば、カチオン硬化システムとラジカル硬化システムを併用するハイブリッドタイプを採用する場合には、触媒種をシンプルにできる。具体的なアントラセンの化合物としては、ジブトキシアントラセン、ジプロポキシアントラキノン等が有効である。
また、硬化触媒として塩基発生剤を用いる場合の増感剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、アントラキノン類、キサントン類、チオキサントン類、ケタール類、３級アミン類等を挙げることができる。
本発明の硬化性組成物における増感剤の添加量は、該硬化性組成物の固形分（溶剤を除いた全成分）の質量に基づいて、０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０１〜１０質量％である。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例において、試料の調製及び物性の分析に用いた装置及び条件は、以下のとおりである。

（１）^１Ｈ ＮＭＲスペクトル（３００ＭＨｚ）
装置：（株）ＪＥＯＬ ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製 ＪＮＭ−ＥＣＸ３００
基準：テトラメチルシラン（０．００ｐｐｍ）
（２）^１Ｈ ＮＭＲスペクトル（４００ＭＨｚ）
装置：Ｖａｒｉａｎ社製 ＩＮＯＶＡ−４００
基準：テトラメチルシラン（０．００ｐｐｍ）
（３）ＧＣ（ガスクロマトグラフ）
装置：（株）島津製作所製 ＧＣ−２０１０ Ｐｌｕｓ
検出器：ＦＩＤ
カラム：アジレント・テクノロジー（株）製 Ａｇｉｌｅｎｔ Ｊ＆Ｗ ＧＣカラム ＨＰ−５（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）
注入量：１．０μＬ
注入口温度：２５０℃
カラム温度：４０℃（５分間）、２０℃／分で３００℃まで昇温、３００℃（１２分間）
（４）ＧＣ−ＭＳ（ガスクロマトグラフ質量分析）
装置：（株）島津製作所製 ＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０ Ｕｌｔｒａ
カラム：アジレント・テクノロジー（株）製 Ａｇｉｌｅｎｔ Ｊ＆Ｗ ＧＣカラム ＨＰ−５（長さ３０ｍ、内径０．３２ｍｍ、膜厚０．２５μｍ）
注入量：２．０μＬ
注入口温度：２５０℃
カラム温度：４０℃（５分間）、２０℃／分で３００℃まで昇温、３００℃（１２分間）
（５）粘度
装置：東機産業（株）製 ＴＶＥ−２２Ｌ、ＴＶＥ−２５Ｈ
（６）融点
装置：ＮＥＴＺＳＣＨ社製 ＤＳＣ ２０４ Ｆ１ Ｐｈｏｅｎｉｘ
（７）エポキシ当量
装置：京都電子工業（株）製 電位差自動滴定装置ＡＴ−５１０
（８）５％重量減少温度（Ｔｄ５_％）
装置：（株）リガク製 Ｔｈｅｒｍｏ ｐｌｕｓ ＥＶＯ／ＴＧ−ＤＴＡ ＴＧ８１２０
（９）比誘電率
装置：キーサイト・テクノロジーズ社製 Ｅ４９８０Ａ プレシジョンＬＣＲメータ
サンプルホルダー：（株）東陽テクニカ製 １２９６２型室温サンプルホルダー
（１０）ガラス転移点（Ｔｇ）
装置：ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製 熱機械測定装置 Ｑ４００
変形モード：膨張
荷重：０．０５Ｎ
昇温速度：５℃／分
（１１）撹拌脱泡
装置：（株）シンキー製 自転・公転ミキサー あわとり練太郎（登録商標）ＡＲＥ−３１０
（１２）オーブン
装置：ヤマト科学（株）製 送風低温恒温器ＤＮＦ４００
（１３）ホットプレート
装置：ヤマト科学（株）製 送風低温恒温器ＤＮＦ４００
（１４）ＵＶ露光
装置：アイグラフィックス（株）製 ＵＳ５−０２０１
ランプ：アイグラフィックス（株）製 Ｈ０２−Ｌ４１

また、略記号は以下の意味を表す。
ＩＡＡ：５，９−ジメチル−２−（１，５−ジメチルヘキシル）デカン酸［日産化学工業（株）製 ファインオキソコール（登録商標）イソアラキン酸］
ＩＰＡ：２−ヘキシルデカン酸［日産化学工業（株）製 ファインオキソコール（登録商標）イソパルミチン酸］
ＩＳＡ：２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸［日産化学工業（株）製 ファインオキソコール（登録商標）イソステアリン酸］
ＩＳＡＮ：８−メチル−２−（４−メチルヘキシル）デカン酸［日産化学工業（株）製 ファインオキソコール（登録商標）イソステアリン酸Ｎ］
ＩＳＡＴ：２−オクチルデカン酸［日産化学工業（株）製 ファインオキソコール（登録商標）イソステアリン酸Ｔ］
ＩＳＯＬ：２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン−１−オール［日産化学工業（株）製 ファインオキソコール（登録商標）１８０］
ＰＡ：パルミチン酸［東京化成工業（株）製］
ωＩＰＡ：１４−メチルペンタデカン酸［Ａｌｄｒｉｃｈ社製］
ωＩＳＡ：１６−メチルヘプタデカン酸［Ａｌｄｒｉｃｈ社製］
ＡｌｌＢｒ：アリルブロミド［関東化学（株）製］
ＣＨＭＡ：３−シクロヘキセニルメタノ−ル［Ａｌｄｒｉｃｈ社製］
ＥＣＨ：エピクロロヒドリン［東京化成工業（株）製］
ＥＧＭＡＥ：エチレングリコールモノアリルエ−テル［東京化成工業（株）製］
ＯＥＯ：７−オクテン−１−オール［（株）クラレ製、純度９５％］
ＰＥＯ：４−ペンテン−１−オール［東京化成工業（株）製］
ＤＭＡＰ：４−ジメチルアミノピリジン［和光純薬工業（株）製］
ＥＤＣ：１−エチル−３−（３−（ジメチルアミノ）プロピル）カルボジイミド塩酸塩［東京化成工業（株）製］
ＴＭＡＣ：塩化テトラメチルアンモニウム［東京化成工業（株）製］
ｍＣＰＢＡ：ｍ−クロロ過安息香酸［和光純薬工業（株）製、純度７０％］
ＢＧＥ：ブチルグリシジルエーテル［東京化成工業（株）製］
ＥＨＧＥ：２−エチルヘキシル＝グリシジル＝エーテル［東京化成工業（株）製］
ＳＧＥｓ：ステアリン酸グリシジル［東京化成工業（株）製］
ＢＰＡ：ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂［三菱化学（株）製 ｊＥＲ（登録商標）８２８］
ＣＥＬ：３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル［（株）ダイセル製 セロキサイド２０２１Ｐ］
ＴＥＰＩＣ：トリグリシジルイソシアヌレート［日産化学工業（株）製 ＴＥＰＩＣ（登録商標）−Ｌ］
ＤＯＸ：ビス（（３−エチル−３−オキセタニル）メチル）エーテル［東亞合成（株）製 アロンオキセタン（登録商標）ＯＸＴ−２２１］
ＭＨ７００：４−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸／ヘキサヒドロ無水フタル酸混合物（モル比７０：３０）［新日本理化（株）製 リカシッド（登録商標）ＭＨ−７００］
ＰＸ４ＥＴ：テトラブチルホスホニウムＯ，Ｏ−ジエチルホスホロジチオエート［日本化学工業（株）製 ヒシコーリン（登録商標）ＰＸ−４ＥＴ］
Ｃ１０１Ａ：ジフェニル（４−（フェニルチオ）フェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（Ｖ）／５０質量％プロピレンカーボネート溶液［サンアプロ（株）製 ＣＰＩ（登録商標）−１０１Ａ］
ＳＩ１００：ベンジル（４−ヒドロキシフェニル）（メチル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート（Ｖ）［三新化学工業（株）製 サンエイドＳＩ−１００］
２ＥＨＡ：２−エチルヘキサン酸［純正化学（株）製］
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン

［実施例１］２−ヘキシルデカン酸グリシジル（ＩＰＧＥｓ）の製造
反応フラスコに、ＩＰＡ ３０．０ｇ（１１７ｍｍｏｌ）、ＡｌｌＢｒ １７．０ｇ（１４１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１９．４ｇ（１４０ｍｍｏｌ）及びＮＭＰ ３００ｇを仕込んだ。これを７０℃で１時間撹拌した。反応液をろ過し、不溶物を除去した。このろ液にトルエン２６０ｇを加え、水３００ｇで洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、２−ヘキシルデカン酸アリル（ＩＰＡＥｓ）３３．６ｇを無色透明液体として得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝５．９６〜５．８６（ｍ，１Ｈ），５．３４〜５．２０（ｍ，２Ｈ），４．５９〜４．５７（ｍ，２Ｈ），２．３２（ｍ，１Ｈ），１．５６〜１．２６（ｍ，２４Ｈ），０．８８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝２９７（Ｍ＋１）
反応フラスコに、上記ＩＰＡＥｓ ３３．２ｇ（１１２ｍｍｏｌ）及びクロロホルム７４０ｇを仕込んだ。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ ５５．２ｇ（正味２２４ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で４日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液３００ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、目的物である２−ヘキシルデカン酸グリシジル（ＩＰＧＥｓ）３０．７ｇを無色透明液体として得た。得られたＩＰＧＥｓの、粘度は１１ｍＰａ・ｓ（２５℃）、ＪＩＳ Ｋ７２３６：２００９に準じて測定したエポキシ当量は３１５であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．４３〜４．３８（ｍ，１Ｈ），３．９６〜３．９０（ｍ，１Ｈ），３．２１〜３．１８（ｍ，１Ｈ），２．８５〜２．８２（ｍ，１Ｈ），２．６５〜２．６３（ｍ，１Ｈ），２．４１〜２．３５（ｍ，１Ｈ），１．６０〜０．８５（ｍ，３０Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３１３（Ｍ＋１）

［実施例２］２−オクチルデカン酸グリシジル（ＩＳＴＧＥｓ）の製造
反応フラスコに、ＩＳＡＴ ３０．０ｇ（１０５ｍｍｏｌ）、ＡｌｌＢｒ １５．２ｇ（１２６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１７．４ｇ（１２６ｍｍｏｌ）及びＮＭＰ ３００ｇを仕込んだ。これを７０℃で３時間撹拌した。反応液をろ過し、不溶物を除去した。このろ液にトルエン２６０ｇを加え、水３００ｇで洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、２−オクチルデカン酸アリル（ＩＳＴＡＥｓ）３３．３ｇを無色透明液体として得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝５．９７〜５．８６（ｍ，１Ｈ），５．３５〜５．２１（ｍ，２Ｈ），４．６０〜４．５７（ｍ，２Ｈ），２．３５（ｍ，１Ｈ），１．５７〜１．２５（ｍ，２８Ｈ），０．８８（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３２５（Ｍ＋１）
反応フラスコに、上記ＩＳＴＡＥｓ ３２．９ｇ（１０１ｍｍｏｌ）及びクロロホルム７４０ｇを仕込んだ。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ ６２．４ｇ（正味２５３ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で４日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液３００ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、目的物である２−オクチルデカン酸グリシジル（ＩＳＴＧＥｓ）３０．０ｇを無色透明液体として得た。得られたＩＳＴＧＥｓの、粘度は１４ｍＰａ・ｓ（２５℃）、エポキシ当量は３４１であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．４３〜４．３８（ｍ，１Ｈ），３．９６〜３．９０（ｍ，１Ｈ），３．２０（ｍ，１Ｈ），２．８５〜２．８２（ｍ，１Ｈ），２．６５〜２．６３（ｍ，１Ｈ），２．３８（ｍ，１Ｈ），１．５７〜０．８５（ｍ，３４Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３４１（Ｍ＋１）

［実施例３］８−メチル−２−（４−メチルヘキシル）デカン酸グリシジル（ＩＳＮＧＥｓ）の製造
反応フラスコに、ＩＳＡＮ ３０．０ｇ（１０５ｍｍｏｌ）、ＡｌｌＢｒ １５．２ｇ（１２６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１７．４ｇ（１２６ｍｍｏｌ）及びＮＭＰ ３００ｇを仕込んだ。これを７０℃で３．５時間撹拌した。反応液をろ過し、不溶物を除去した。このろ液にトルエン２６０ｇを加え、水３００ｇで洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、８−メチル−２−（４−メチルヘキシル）デカン酸アリル（ＩＳＮＡＥｓ）３３．９ｇを無色透明液体として得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝５．９９〜５．８６（ｍ，１Ｈ），５．３５〜５．２１（ｍ，２Ｈ），４．５８（ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ，２Ｈ），２．３６（ｍ，１Ｈ），１．５８〜０．７１（ｍ，３４Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３２５（Ｍ＋１）
反応フラスコに、上記ＩＳＮＡＥｓ ３３．４ｇ（１０３ｍｍｏｌ）及びクロロホルム７４０ｇを仕込んだ。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ ４８．３ｇ（正味２５３ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で５日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液３００ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、目的物である８−メチル−２−（４−メチルヘキシル）デカン酸グリシジル（ＩＳＮＧＥｓ）２８．４ｇを無色透明液体として得た。得られたＩＳＮＧＥｓの、粘度は１８ｍＰａ・ｓ（２５℃）、エポキシ当量は３４０であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．４１（ｍ，１Ｈ），３．９６〜３．８９（ｍ，１Ｈ），３．２２〜３．１８（ｍ，１Ｈ），２．８５〜２．８３（ｍ，１Ｈ），２．６６〜２．６４（ｍ，１Ｈ），２．５４〜２．３３（ｍ，１Ｈ），１．６０〜０．７２（ｍ，３４Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３４１（Ｍ＋１）

［実施例４］２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸グリシジル（ＩＳＧＥｓ）の製造
反応フラスコに、ＩＳＡ ２８．４ｇ（１００ｍｍｏｌ）、ＥＣＨ ６２．５ｇ（６７６ｍｍｏｌ）及びＴＭＡＣ ０．３ｇ（２．７ｍｍｏｌ）を仕込んだ。これを１００℃で２時間撹拌した後、室温（およそ２３℃）まで冷却した。ここへ、４８質量％水酸化ナトリウム水溶液２５．０ｇ（ｍｍｏｌ）を加え、室温（およそ２３℃）で２４時間撹拌した。この反応液に、１０質量％リン酸二水素ナトリウム水溶液２０ｍＬを加えて水酸化ナトリウムを中和した。この有機層を、水で洗浄した後、ＥＣＨを留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０（体積比））で精製することで、目的物である２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸グリシジル（ＩＳＧＥｓ）３０．０ｇを無色透明液体として得た。得られたＩＳＧＥｓの、粘度は４１ｍＰａ・ｓ（２５℃）、エポキシ当量は３３４であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．４５〜４．３４（ｍ，１Ｈ），４．３９〜３．９４（ｍ，１Ｈ），３．２０（ｍ，１Ｈ），２．８６〜２．８３（ｍ，１Ｈ），２．６６〜２．６５（ｍ，１Ｈ），２．１９（ｍ，１Ｈ），１．７５〜０．８８（ｍ，３４Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３４１（Ｍ＋１）

［実施例５］５，９−ジメチル−２−（１，５−ジメチルヘキシル）デカン酸グリシジル（ＩＡＧＥｓ）の製造
反応フラスコに、ＩＡＡ ３０．０ｇ（９６ｍｍｏｌ）、ＡｌｌＢｒ １３．９ｇ（１１５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム２１．０ｇ（１５２ｍｍｏｌ）及びＮＭＰ ３００ｇを仕込んだ。これを７０℃で１時間撹拌した。反応液をろ過し、不溶物を除去した。このろ液にトルエン２６０ｇを加え、水３００ｇで洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、５，９−ジメチル−２−（１，５−ジメチルヘキシル）デカン酸アリル（ＩＡＡＥｓ）３３．０ｇを無色透明液体として得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝５．９７〜５．８６（ｍ，１Ｈ），５．３５〜５．２１（ｍ，２Ｈ），４．５８（ｍ，２Ｈ），２．３６（ｍ，１Ｈ），１．５６〜０．７３（ｍ，３８Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３５３（Ｍ＋１）
反応フラスコに、上記ＩＡＡＥｓ ３２．６ｇ（９３ｍｍｏｌ）及びクロロホルム７４０ｇを仕込んだ。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ ５２．４ｇ（正味２１３ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で６日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液３００ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、目的物である５，９−ジメチル−２−（１，５−ジメチルヘキシル）デカン酸グリシジル（ＩＡＧＥｓ）２８．４ｇを無色透明液体として得た。得られたＩＡＧＥｓの、粘度は３２ｍＰａ・ｓ（２５℃）、エポキシ当量は３７１であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．４０（ｍ，１Ｈ），３．９５（ｍ，１Ｈ），３．１９（ｍ，１Ｈ），２．８５〜２．８２（ｍ，１Ｈ），２．６４（ｍ，１Ｈ），２．３５（ｍ，１Ｈ），０．８７〜０．７５（ｍ，３８Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３６９（Ｍ＋１）

［実施例６］２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸４，５−エポキシペンチル（ＩＳＥＰＥｓ）の製造
反応フラスコに、ＩＳＡ ３０．０ｇ（１０５ｍｍｏｌ）、ＰＥＯ １０．０ｇ（１１６ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン８００ｇを仕込んだ。この溶液へ、ＤＭＡＰ １５．４ｇ（１２６ｍｍｏｌ）及びＥＤＣ ２４．２ｇ（１２６ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で３日間撹拌した。この反応液を、１Ｎ塩酸及び５質量％食塩水で洗浄した後、溶媒を留去することで、２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸５−ペンテニル（ＩＳＰＥｓ）の粗物を得た。
得られた粗物を、クロロホルム４４０ｇに溶解させた。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ １２．７ｇ（正味５２ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で５日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液３００ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（溶媒グラジエント、ヘキサン：酢酸エチル＝９９：１から９５：５（体積比））で精製することで、目的物である２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸４，５−エポキシペンチル（ＩＳＥＰＥｓ）１３．１ｇを無色透明液体として得た。得られたＩＳＥＰＥｓの、粘度は４４ｍＰａ・ｓ（２５℃）、エポキシ当量は３６６であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．１１（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），２．９５（ｍ，１Ｈ），２．７６〜２．７９（ｍ，１Ｈ），２．４８〜２．５０（ｍ，１Ｈ），２．１３（ｍ，１Ｈ），１．８４〜０．８８（ｍ，３８Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３６９（Ｍ＋１）

［実施例７］２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸７，８−エポキシオクチル（ＩＳＥＯＥｓ）の製造
反応フラスコに、ＩＳＡ ３０．０ｇ（１０５ｍｍｏｌ）、ＯＥＯ １５．７ｇ（正味１１６ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン８００ｇを仕込んだ。この溶液へ、ＤＭＡＰ １５．４ｇ（１２６ｍｍｏｌ）及びＥＤＣ ２４．２ｇ（１２６ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で４日間撹拌した。この反応液を、１Ｎ塩酸及び５質量％食塩水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸７−オクテニル（ＩＳＯＥｓ）３３．８ｇを無色透明液体として得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝５．８７〜５．７３（ｍ，１Ｈ），５．０２〜４．９２（ｍ，２Ｈ），４．０９〜４．０３（ｍ，２Ｈ），２．１１〜０．８２（ｍ，４５Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３９５（Ｍ＋１）
反応フラスコに、上記ＩＳＯＥｓ ３３．３ｇ（８４ｍｍｏｌ）及びクロロホルム７４０ｇを仕込んだ。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ ２７．１ｇ（正味１１０ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で２日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液３００ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（溶媒グラジエント、ヘキサン：酢酸エチル＝９９：１から９５：５（体積比））で精製することで、目的物である２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸７，８−エポキシオクチル（ＩＳＥＯＥｓ）２０．８ｇを無色透明液体として得た。得られたＩＳＥＯＥｓの、粘度は５１ｍＰａ・ｓ（２５℃）、エポキシ当量は４０８であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．０７〜４．０３（ｍ，２Ｈ），２．９０（ｍ，１Ｈ），２．７６〜２．７３（ｍ，１Ｈ），２．４７〜２．４５（ｍ，１Ｈ），２．１１（ｍ，１Ｈ），１．６３〜０．８８（ｍ，４４Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝４１１（Ｍ＋１）

［実施例８］２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸２−グリシジルオキシエチル（ＩＳＧＥＥｓ）の製造
反応フラスコに、ＩＳＡ ３０．０ｇ（１０５ｍｍｏｌ）、ＥＧＭＡＥ １１．９ｇ（１１７ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン４００ｇを仕込んだ。この溶液へ、ＤＭＡＰ １５．５ｇ（１２７ｍｍｏｌ）及びＥＤＣ ２４．３ｇ（１２７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で４日間撹拌した。この反応液を、１Ｎ塩酸及び５質量％食塩水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（溶媒グラジエント、ヘキサン：酢酸エチル＝９９：１から９５：５（体積比））で精製することで、２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸２−アリルオキシエチル（ＩＳＡＥＥｓ）１９．１ｇを無色透明液体として得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝５．９４〜５．８７（ｍ，１Ｈ），５．３１〜５．１２（ｍ，２Ｈ），４．３１〜４．１７（ｍ，２Ｈ），４．０３（ｍ，２Ｈ），３．６５〜３．６３（ｍ，２Ｈ），２．２１〜２．１６（ｍ，１Ｈ），１．８５〜０．８３（ｍ，３４Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３６９（Ｍ＋１）
反応フラスコに、上記ＩＳＡＥＥｓ １９．０ｇ（５２ｍｍｏｌ）及びクロロホルム４４０ｇを仕込んだ。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ １５．６ｇ（正味６３ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で５日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液２００ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０（体積比））で精製することで、目的物である２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸２−グリシジルオキシエチル（ＩＳＧＥＥｓ）１６．９ｇを無色透明液体として得た。得られたＩＳＧＥＥｓの、粘度は４７ｍＰａ・ｓ（２５℃）、エポキシ当量は３８２であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．２４（ｍ，２Ｈ），３．８１〜３．７１（ｍ，３Ｈ），３．４７〜３．４１（ｍ，１Ｈ），３．１４（ｍ，１Ｈ），２．７９（ｍ，１Ｈ），２．６２（ｍ，１Ｈ），２．１７（ｍ，１Ｈ），１．８６〜０．８９（ｍ，３４Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３８５（Ｍ＋１）

［合成例１］２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（ＩＳＥＣＨＥｓ）の製造
反応フラスコに、ＩＳＡ ３０．０ｇ（１０５ｍｍｏｌ）、ＣＨＭＡ １３．０ｇ（１１６ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン８００ｇを仕込んだ。この溶液へ、ＤＭＡＰ １５．４ｇ（１２６ｍｍｏｌ）及びＥＤＣ ２４．２ｇ（１２６ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で２日間撹拌した。この反応液を、１Ｎ塩酸及び５質量％食塩水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０（体積比））で精製することで、２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸３−シクロヘキセニルメチル（ＩＳＣＨＥｓ）３０．０ｇを無色透明液体として得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝５．６７（ｍ，２Ｈ），４．０１〜３．９７（ｍ，２Ｈ），２．１５〜０．８８（ｍ，４２Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３７９（Ｍ＋１）
反応フラスコに、上記ＩＳＣＨＥｓ ２９．５ｇ（７８ｍｍｏｌ）及びクロロホルム７４０ｇを仕込んだ。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ ２３．１ｇ（正味９４ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で１７時間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液３００ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、目的物である２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクタン酸３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（ＩＳＥＣＨＥｓ）２８．４ｇを無色透明液体として得た。得られたＩＳＥＣＨＥｓの、粘度は９２ｍＰａ・ｓ（２５℃）、エポキシ当量は４１３であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝３．８７〜３．８３（ｍ，２Ｈ），３．１７〜３．１４（ｍ，２Ｈ），２．２０〜０．８８（ｍ，４２Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３９５（Ｍ＋１）

［合成例２］２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクチル＝グリシジル＝エーテル（ＩＳＧＥ）の製造
反応フラスコに、ＩＳＯＬ ３０．０ｇ（１１１ｍｍｏｌ）、ＡｌｌＢｒ ２４．２ｇ（２００ｍｍｏｌ）、水素化ナトリウム１１．３ｇ（４７１ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ２７０ｇを仕込んだ。これを７０℃で２９時間撹拌した。この反応液を水６００ｇで洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクチル＝アリル＝エーテル（ＩＳＡＥ）３３．４ｇを無色透明液体として得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝５．９７〜５．８７（ｍ，１Ｈ），５．３０〜５．２４（ｍ，１Ｈ），５．１８〜５．１４（ｍ，１Ｈ），３．９６〜３．３７（ｍ，１Ｈ），３．３７〜３．２２（ｍ，２Ｈ），１．８２〜１．７１（ｍ，１Ｈ），１．５６〜０．８３（ｍ，３６Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３１１（Ｍ＋１）
反応フラスコに、上記ＩＳＡＥ ３３．１ｇ（１０７ｍｍｏｌ）及びクロロホルム４４０ｇを仕込んだ。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ ５２．５ｇ（正味２１３ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で３日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液３００ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０（体積比））で精製することで、目的物である２−（４，４−ジメチルペンタン−２−イル）−５，７，７−トリメチルオクチル＝グリシジル＝エーテル（ＩＳＧＥ）３０．５ｇを無色透明液体として得た。得られたＩＳＧＥＥｓの、粘度は１８ｍＰａ・ｓ（２５℃）、エポキシ当量は３６６であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝３．６７〜３．６４（ｍ，１Ｈ），３．４１〜３．２３（ｍ，３Ｈ），３．１３（ｍ，１Ｈ），２．８０〜２．７７（ｍ，１Ｈ），２．６１〜２．５９（ｍ，１Ｈ），１．８０〜０．８２（ｍ，３５Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３２７（Ｍ＋１）

［合成例３］パルミチン酸グリシジル（ＰＧＥｓ）の製造
反応フラスコに、ＰＡ ３０．０ｇ（９６ｍｍｏｌ）、ＡｌｌＢｒ １７．０ｇ（１４１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１９．３ｇ（１４０ｍｍｏｌ）及びＮＭＰ ３００ｇを仕込んだ。これを７０℃で１時間撹拌した。反応液をろ過し、不溶物を除去した。このろ液にトルエン２６０ｇを加え、水３００ｇで洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０（体積比））で精製することで、パルミチン酸アリル（ＰＡＥｓ）３４．４ｇを白色固体として得た。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝５．９６〜５．８９（ｍ，１Ｈ），５．３４〜５．２２（ｍ，２Ｈ），４．５９〜４．５７（ｍ，２Ｈ），２．３３（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），１．６５〜１．６１（ｍ，２Ｈ），１．３２〜１．２５（ｍ，２４Ｈ），０．８８（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，３Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝２９７（Ｍ＋１）
反応フラスコに、上記ＰＡＥｓ ３４．１ｇ（１１５ｍｍｏｌ）及びクロロホルム４４０ｇを仕込んだ。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ ５６．６ｇ（正味２３０ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で４日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液３００ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０（体積比））で精製することで、目的物であるパルミチン酸グリシジル（ＰＧＥｓ）２９．８ｇを白色固体として得た。得られたＰＧＥｓの、融点は４７℃、エポキシ当量は３０９であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．４４〜４．４０（ｍ，１Ｈ），３．９４〜３．８９（ｍ，１Ｈ），３．２３〜３．１９（ｍ，１Ｈ），２．８６〜２．８４（ｍ，１Ｈ），２．６６〜２．６４（ｍ，１Ｈ），２．３５（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），１．６６〜１．６２（ｍ，２Ｈ），１．３３〜１．２５（ｍ，２４Ｈ），０．９０〜０．８６（ｍ，３Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３１３（Ｍ＋１）

［合成例４］１４−メチルペンタデカン酸グリシジル（ωＩＰＧＥｓ）の製造
反応フラスコに、ωＩＰＡ ２９５ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）、ＡｌｌＢｒ １６７ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１９１ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）及びＮＭＰ ５ｇを仕込んだ。これを７０℃で４時間撹拌した。反応液をろ過し、不溶物を除去した。このろ液にトルエン２６ｇを加え、水３０ｇで洗浄した後、溶媒を留去することで、１４−メチルペンタデカン酸アリル（ωＩＰＡＥｓ）の粗物を得た。
得られた粗物を、クロロホルム７ｇに溶解させた。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ ５３６ｍｇ（正味２．２ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で２日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液１０ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、目的物である１４−メチルペンタデカン酸グリシジル（ωＩＰＧＥｓ）２５８ｍｇを白色固体として得た。得られたωＩＰＧＥｓの、融点は３９℃、エポキシ当量は３１６であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．４４〜４．４０（ｍ，１Ｈ），３．９３〜３．８９（ｍ，１Ｈ），３．２３〜３．１９（ｍ，１Ｈ），２．８６〜２．８４（ｍ，１Ｈ），２．６６〜２．６４（ｍ，１Ｈ），２．３７〜２．３３（ｍ，２Ｈ），１．６５〜１．１４（ｍ，２３Ｈ），０．８７〜０．８５（ｍ，６Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３１３（Ｍ＋１）

［合成例５］１６−メチルヘプタデカン酸グリシジル（ωＩＳＧＥｓ）の製造
反応フラスコに、ωＩＳＡ ２７５ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、ＡｌｌＢｒ １４０ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１６０ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）及びＮＭＰ ５ｇを仕込んだ。これを７０℃で２時間撹拌した。反応液をろ過し、不溶物を除去した。このろ液にトルエン２６ｇを加え、水３０ｇで洗浄した後、溶媒を留去することで、１４−メチルペンタデカン酸アリル（ωＩＳＡＥｓ）の粗物を得た。
得られた粗物を、クロロホルム７ｇに溶解させた。この溶液へ、ｍＣＰＢＡ ８６１ｍｇ（正味３．５ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加え、室温（およそ２３℃）で２日間撹拌した。この反応液に、１０質量％チオ硫酸ナトリウム水溶液１０ｍＬを加えてｍＣＰＢＡを分解した。この有機層を、５質量％重曹水溶液及び水で洗浄した後、溶媒を留去した。得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５（体積比））で精製することで、目的物である１６−メチルヘプタデカン酸グリシジル（ωＩＳＧＥｓ）２３５ｍｇを白色固体として得た。得られたωＩＳＧＥｓの、融点は４７℃、エポキシ当量は３３４であった。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ＝４．４４〜４．４０（ｍ，１Ｈ），３．９４〜３．８９（ｍ，１Ｈ），３．２２〜３．２０（ｍ，１Ｈ），２．８６〜２．８４（ｍ，１Ｈ），２．６６〜２．６４（ｍ，１Ｈ），２．３７〜２．３３（ｍ，２Ｈ），１．６５〜１．１４（ｍ，２７Ｈ），０．８７〜０．８５（ｍ，６Ｈ）（ｐｐｍ）
ＧＣ−ＭＳ（ＣＩ）：ｍ／ｚ＝３４１（Ｍ＋１）

［実施例９、比較例１］ビスＡ型エポキシ樹脂との相溶性及び揮発性
表１に記載の各エポキシ化合物（反応性希釈剤）について、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂であるＢＰＡとの相溶性を評価した。
各エポキシ化合物を、その濃度が１０質量％となるようにＢＰＡと混合し、エポキシ樹脂組成物を調製した。これを室温（およそ２３℃）で５分間撹拌した後、目視で混合状態を確認し、以下の基準に従って評価した。また、相溶したものについては、該組成物の２５℃における粘度を測定した。結果を表１に併せて示す。
さらに、揮発性の評価として、各エポキシ化合物の５％重量減少温度（Ｔｄ_５％）を表１に併せて示す。
［相溶性評価基準］
Ａ：均一に相溶し透明
Ｂ：わずかに白濁している
Ｃ：不溶物があり固液が分離している

表１に示すように、本発明に用いるエポキシ化合物（反応性希釈剤）は、汎用のエポキシ樹脂であるＢＰＡに対し相溶した。また、ＢＰＡがおよそ１２，０００ｍＰａ・ｓの粘度を有するのに対し、ＢＰＡにエポキシ化合物を１０質量％となるように混合した本発明の樹脂組成物は、その粘度が２，０００〜６，２００ｍＰａ・ｓまで低下した。さらに、本発明に用いるエポキシ化合物は、５％重量減少温度が非常に高く、低揮発性であることが確認された。
一方、−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基の炭素原子数が同程度であっても、Ｒ^１及びＲ^２がそれぞれ炭素原子数２以上のアルキル基ではないエポキシ化合物は、ＢＰＡに対し相溶しなかった。また、Ｒ^１及びＲ^２がそれぞれ炭素原子数２以上のアルキル基であっても、−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基の炭素原子数が７のエポキシ化合物は、５％重量減少温度が非常に低く揮発性が高かった。
以上より、本発明に用いるエポキシ化合物が優れた反応性希釈剤として使用できることが示唆された。

［実施例１０〜１７、比較例２〜４］硬化物の作製
表２に記載のエポキシ樹脂組成物１００質量部に、硬化剤としてＭＨ７００をエポキシ化合物のエポキシ基と等モル量、及び硬化促進剤としてＰＸ４ＥＴ １質量部を加えた。この混合物を、減圧下、室温（およそ２３℃）で３０分間撹拌することで脱泡し、硬化性組成物１乃至１１を調製した。
各組成物を、厚さ３ｍｍのコの字型のシリコーンゴム製スペーサーとともに、予めオプツール（登録商標）ＤＳＸ［ダイキン工業（株）製］で離型処理したガラス基板２枚で挟み込んだ。これを、１００℃のオーブンで２時間加熱（予備硬化）し、その後１５０℃まで昇温して５時間加熱（本硬化）した。徐冷した後、ガラス基板を取り去り、厚さ３ｍｍの各硬化物を得た。
得られた硬化物について、吸水率、比誘電率及びガラス転移点（Ｔｇ）を評価した。なお、各物性値は以下の手順で測定した。結果を表２に併せて示す。

［吸水率］
ＪＩＳ Ｋ−６９１１：２００６に準じて測定した。具体的には、まず、前処理として、オイルバスで５０℃に保ったガラス容器中で試験片を２４時間乾燥した。この試験片をデシケーター内で２０℃まで冷却し、その質量（Ｗ_１［ｇ］）を量った。次に、この試験片を沸騰した蒸留水中に１００時間浸漬してから取り出し、２０℃の流水中で３０分間冷却して水分を拭き取った後、直ちに吸水後の質量（Ｗ_２［ｇ］）を量った。これらの値から、以下の式によって吸水率を算出した。
吸水率［％］＝（Ｗ_２−Ｗ_１）÷Ｗ_１×１００

［比誘電率］
ホルダーの電極間に挟み込んだ試験片に、１Ｖ、１ＭＨｚの電圧を印加した際の静電容量Ｃｐを測定し、同条件で測定した空気の静電容量Ｃ_０で除して、比誘電率ε_ｒを算出した。また、反応性希釈剤を添加しない組成物から得られた硬化物の比誘電率ε_ｒ０に対する低減率を、以下の式によって算出した。
低減率［％］＝（ε_ｒ０−ε_ｒ）÷ε_ｒ０×１００

［ガラス転移点］
試験片のＴＭＡを測定し、得られたＴＭＡ曲線の前後の曲線に接線を引き、この接線の交点からＴｇを求めた。

表２に示すように、本発明のエポキシ樹脂組成物（実施例１０〜１７）は、反応性希釈剤を含まない場合（比較例４）に比べ、大幅に比誘電率が低減することが確認された。一方、従来公知の反応性希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物は、比誘電率の低減率が低かった（比較例２，３）。

［実施例１８〜２１、比較例５］硬化物の作製
表３に記載のエポキシ樹脂組成物１００質量部に、硬化剤としてＭＨ７００をエポキシ化合物のエポキシ基と等モル量を加えた。この混合物を、９０℃で３０分間撹拌し混合した後、室温（およそ２３℃）まで冷却した。ここへ硬化促進剤としてＰＸ４ＥＴ １質量部を加えた。この混合物を、室温（およそ２３℃）で５分間撹拌することで脱泡し、硬化性組成物１２乃至１６を調製した。
得られた各組成物を使用した以外は実施例１０と同様にして、厚さ３ｍｍの硬化物を作製し、評価した。結果を表３に併せて示す。

表３に示すように、本発明のエポキシ樹脂組成物（実施例１８〜２１）は、反応性希釈剤を含まない場合（比較例５）に比べ、大幅に比誘電率及び吸水率が低減することが確認された。

［実施例２２，２３、比較例６〜８］熱カチオン硬化物の作製
表４に記載のエポキシ樹脂組成物１００質量部に、熱酸発生剤として予め炭酸プロピレン１質量部に溶解させたＳＩ１００ １質量部を加えた。この混合物を、撹拌脱泡（２，０００ｒｐｍ、４分間、さらに１，０００ｒｐｍ、４分間）し、硬化性組成物１７乃至２１を調製した。
各組成物を、厚さ２００μｍのシリコーンゴム製スペーサーとともに、予めオプツール（登録商標）ＤＳＸ［ダイキン工業（株）製］で離型処理したガラス基板２枚で挟み込んだ。これを、１００℃のホットプレートで１時間加熱（予備硬化）し、その後１５０℃まで昇温して１時間加熱（本硬化）した。徐冷した後、ガラス基板を取り去り、厚さ２００μｍの各硬化物を得た。
得られた硬化物について、実施例１０と同様にして比誘電率を評価した。結果を表４に併せて示す。

表４に示すように、本発明のエポキシ樹脂組成物（実施例２２，２３）は、反応性希釈剤を含まない場合（比較例８）に比べ、大幅に比誘電率が低減することが確認された。一方、従来公知の反応性希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物は、比誘電率の低減率が低かった（比較例６，７）。

［実施例２４，２５、比較例９〜１１］光カチオン硬化物の作製
表５に記載のエポキシ樹脂組成物１００質量部に、光酸発生剤としてＣ１０１Ａ １質量部（有効成分換算）を加えた。この混合物を、撹拌脱泡（２，０００ｒｐｍ、４分間、さらに１，０００ｒｐｍ、４分間）し、硬化性組成物２２乃至２６を調製した。
各組成物を、厚さ２００μｍのシリコーンゴム製スペーサーとともに、予めオプツール（登録商標）ＤＳＸ［ダイキン工業（株）製］で離型処理した石英ガラス基板２枚で挟み込んだ。この挟み込んだ組成物を、空気雰囲気下、照度２０ｍＷ／ｃｍ^２（波長３６５ｎｍ）で１５０秒間ＵＶ露光し、さらに１００℃のホットプレートで１時間加熱（ポストキュア）した。徐冷した後、石英ガラス基板を取り去り、厚さ２００μｍの各硬化物を得た。
得られた硬化物について、実施例１０と同様にして比誘電率を評価した。結果を表５に併せて示す。

表５に示すように、本発明のエポキシ樹脂組成物（実施例２４，２５）は、反応性希釈剤を含まない場合（比較例１１）に比べ、大幅に比誘電率が低減することが確認された。一方、従来公知の反応性希釈剤を含むエポキシ樹脂組成物は、比誘電率の低減率が低かった（比較例９，１０）。

［参考例１〜３］反応性評価
ＩＳＧＥｓ、ＩＳＥＣＨＥｓ及びＩＳＧＥについて、表６に記載の量の２ＥＨＡ及びキシレンを混合し、１４０℃で８時間撹拌した。各反応混合物のエポキシ基の転化率をＧＣにより測定した。結果を表６に示す。

表６に示すように、エポキシ部位としては、３，４−エポキシシクロヘキシル基（前記式［３］で表される基を含む場合）よりもエポキシエチル基（前記式［２］で表される基を含む場合）の方がより反応性が高く（参考例１，２）、また前記式［１］のＸとしては、エーテル結合よりもエステル結合の方が反応性が高い（参考例１，３）ことが確認された。

Claims (12)

1. 式［１’］で表されるエポキシ化合物、及びエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物。
   

   

   （式中、Ｒ^１ は３，５，５−トリメチルヘキシル基を表し、Ｒ^２は４，４−ジメチルペンタン−２−イル基を表し、Ｒ^３は水素原子を表し、Ｘは、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−を表し（ここで＊は−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基に結合する端を示す。）、Ｌはメチレン基を表し、Ｅは式［２’］で表される基を表す（ここで式［２’］中の＊＊はＬに結合する端を示す。）。）
   

   

   （式中、Ｒ^４乃至Ｒ ^６ は水素原子を表す。）
2. （ａ）請求項１に記載のエポキシ樹脂組成物、及び（ｂ）硬化剤を含む、硬化性組成物。
3. 前記（ｂ）硬化剤が、酸無水物、アミン、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、イミダゾール類、及びポリメルカプタンからなる群から選ばれる少なくとも一種である、請求項２に記載の硬化性組成物。
4. 前記（ａ）エポキシ樹脂組成物のエポキシ基１当量に対して、０．５〜１．５当量の前記（ｂ）硬化剤を含む、請求項２又は請求項３に記載の硬化性組成物。
5. （ａ）請求項１に記載のエポキシ樹脂組成物、及び（ｃ１）酸発生剤及び／又は（ｃ２）塩基発生剤からなる（ｃ）硬化触媒を含む、硬化性組成物。
6. 前記（ｃ）硬化触媒が（ｃ１）酸発生剤である、請求項５に記載の硬化性組成物。
7. 前記（ｃ１）酸発生剤が、光酸発生剤、及び熱酸発生剤からなる群から選ばれる少なくとも一種である、請求項６に記載の硬化性組成物。
8. 前記（ｃ１）酸発生剤がオニウム塩である、請求項７に記載の硬化性組成物。
9. 前記（ｃ１）酸発生剤が、スルホニウム塩、又はヨードニウム塩である、請求項８に記載の硬化性組成物。
10. 前記（ａ）エポキシ樹脂組成物１００質量部に対して、前記（ｃ１）酸発生剤０．１〜２０質量部を含む、請求項６乃至請求項９のうち何れか一項に記載の硬化性組成物。
11. 式［１’］で表されるエポキシ化合物の、エポキシ樹脂組成物における反応性希釈剤としての使用。
    

    

    （式中、Ｒ^１ は３，５，５−トリメチルヘキシル基を表し、Ｒ^２は４，４−ジメチルペンタン−２−イル基を表し、Ｒ^３は水素原子を表し、Ｘは、＊−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−を表し（ここで＊は−ＣＲ^１Ｒ^２Ｒ^３基に結合する端を示す。）、Ｌはメチレン基を表し、Ｅは式［２’］で表される基を表す（ここで式［２’］中の＊＊はＬに結合する端を示す。）。）
    

    

    （式中、Ｒ^４乃至Ｒ ^６ は水素原子を表す。）
12. 式［１ａ’］で表されるエポキシ化合物。
    

    

    （式中、Ｒ^１ は３，５，５−トリメチルヘキシル基を表し、Ｒ^２は４，４−ジメチルペンタン−２−イル基を表し、Ｒ^３は水素原子を表し、Ｒ ^４乃至Ｒ^６ は水素原子を表し、Ｌはメチレン基を表す。）