JP6769402B2 - 電子線マイクロアナライザー及びデータ処理プログラム - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施形態に係るEPMA100の構成例を示した概略図である。EPMA(電子線マイクロアナライザー)100は、ハウジング1内に試料Sを設置して電子線を照射することにより、試料Sから発生するX線を検出して分析を行うための装置である。EPMA100には、試料ホルダ2、試料ステージ3、電子線照射部4、EDS5、WDS6、二次電子検出器7などが備えられている。
図2は、図1のEPMA100の電気的構成の一例を示したブロック図である。EPMAは、上述のEDS5及びWDS6の他に、データ処理部10、記憶部20及び表示部30などを備えている。
相分布マップ生成処理部11は、EDS5により取得したスペクトルデータに基づいて、測定領域内における試料S中の物質の相分布マップを生成する。生成された相分布マップのデータは、相分布マップ記憶部201に記憶される。
縮小処理部12は、相分布マップ記憶部201に記憶されている相分布マップのデータに基づいて、測定領域31内の各相32における代表的な画素を選択する処理を行う。縮小処理部12は、各相32における代表的な画素を選択するために、まず、相分布マップの各相32のデータを二値化する処理を行う。
X線強度マップ生成処理部14は、組成情報取得処理部13により取得した各相32の元素組成情報に基づき、検出された各元素について、WDS6のX線検出器62により検出されるX線の強度を測定することによりX線強度マップを生成する。生成されたX線強度マップは、X線強度マップ記憶部203に記憶される。
平均値算出処理部15は、X線強度マップ記憶部203に記憶されているX線強度マップに基づいて、各相32の範囲内の画素についてのピーク波長のX線強度の平均値を算出する。
平均元素濃度算出処理部16は、平均値算出処理部15により算出したピーク波長のX線強度の平均値に基づいて、各相32の平均元素濃度(元素含有量)を算出する。具体的には、平均値算出処理部15により算出したピーク波長のX線強度の平均値が、濃度が既知の場合のピーク波長のX線強度と比較されることにより、その元素の濃度が算出される。
上記実施形態では、選択された元素に対応するピーク波長にWDS6の分光波長条件を設定しておき、WDS6のX線検出器62で検出されるX線の強度を測定することによりピーク波長のX線強度マップのみを生成する場合について説明した。しかし、ピークの頂点におけるX線強度(ピーク波長のX線強度)だけでなく、ピークの裾におけるX線強度(バックグラウンド波長のX線強度)についてのX線強度マップが生成されてもよい。
2 試料ホルダ
3 試料ステージ
4 電子線照射部
5 EDS(エネルギー分散型X線分光器)
6 WDS(波長分散型X線分光器)
7 二次電子検出器
10 データ処理部
11 相分布マップ生成処理部
12 縮小処理部
13 組成情報取得処理部
14 X線強度マップ生成処理部
15 平均値算出処理部
16 平均元素濃度算出処理部
17 表示画像生成処理部
20 記憶部
30 表示部
31 測定領域
32 相
100 EPMA(電子線マイクロアナライザー)
201 相分布マップ記憶部
202 元素組成情報記憶部
203 X線強度マップ記憶部
204 平均元素濃度情報記憶部
Claims (10)
- 電子線を試料に照射してX線を発生させる電子線照射部と、
試料から発生するX線を検出して第1スペクトルデータを取得するエネルギー分散型X線分光器と、
試料から発生するX線を検出して第2スペクトルデータを取得する波長分散型X線分光器と、
試料表面上の測定領域内の各画素について取得された前記第1スペクトルデータに基づいて、前記測定領域内における試料中の物質の相分布マップを生成する相分布マップ生成処理部と、
前記相分布マップの各相に対応する前記測定領域内の代表的な画素に相当する試料上の位置について取得された前記第2スペクトルデータに基づいて、各相の元素組成情報を取得する組成情報取得処理部とを備えることを特徴とする電子線マイクロアナライザー。 - 前記組成情報取得処理部により取得した各相の元素組成情報を前記相分布マップの各相に反映させて表示画像を生成する表示画像生成処理部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の電子線マイクロアナライザー。
- 前記組成情報取得処理部により取得した各相の元素組成情報に基づき、検出された各元素について、前記波長分散型X線分光器のピーク波長条件を合わせて、前記測定領域内の各画素におけるX線強度を測定することによりX線強度マップを生成するX線強度マップ生成処理部をさらに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子線マイクロアナライザー。
- 前記X線強度マップに基づいて、各相の範囲内の画素についてのピーク波長のX線強度の平均値を算出する平均値算出処理部と、
前記平均値算出処理部により算出したピーク波長のX線強度の平均値を濃度が既知の場合のピーク波長のX線強度と比較することにより、各相の平均元素濃度を算出する平均元素濃度算出処理部とをさらに備えることを特徴とする請求項3に記載の電子線マイクロアナライザー。 - 前記X線強度マップ生成処理部は、前記組成情報取得処理部により取得した各相の元素組成情報に基づき、検出された各元素について、前記波長分散型X線分光器のピーク波長条件及びバックグラウンド波長条件を合わせて、前記測定領域内の各画素におけるピーク波長及びバックグラウンド波長のX線強度をそれぞれ測定することによりピーク波長のX線強度マップ及びバックグラウンド波長のX線強度マップを生成し、
前記平均値算出処理部は、前記ピーク波長のX線強度マップ及びバックグラウンド波長のX線強度マップに基づいて、各相の範囲内の画素についてのピーク波長及びバックグラウンド波長のX線強度の平均値をそれぞれ算出し、
前記平均元素濃度算出処理部は、前記平均値算出処理部により算出したピーク波長のX線強度の平均値からバックグラウンド波長のX線強度の平均値を差し引いた結果を濃度が既知の場合のピークの高さと比較することにより、各相の平均元素濃度を算出することを特徴とする請求項4に記載の電子線マイクロアナライザー。 - 電子線を試料に照射してX線を発生させる電子線照射部と、試料から発生するX線を検出して第1スペクトルデータを取得するエネルギー分散型X線分光器と、試料から発生するX線を検出して第2スペクトルデータを取得する波長分散型X線分光器とを備える電子線マイクロアナライザーに用いられるデータ処理プログラムであって、
試料表面上の測定領域内の各画素について取得された前記第1スペクトルデータに基づいて、前記測定領域内における試料中の物質の相分布マップを生成する相分布マップ生成処理部と、
前記相分布マップの各相に対応する前記測定領域内の代表的な画素に相当する試料上の位置について取得された前記第2スペクトルデータに基づいて、各相の元素組成情報を取得する組成情報取得処理部としてコンピュータを機能させることを特徴とするデータ処理プログラム。 - 前記組成情報取得処理部により取得した各相の元素組成情報を前記相分布マップの各相に反映させて表示画像を生成する表示画像生成処理部としてコンピュータを機能させることを特徴とする請求項6に記載のデータ処理プログラム。
- 前記組成情報取得処理部により取得した各相の元素組成情報に基づき、検出された各元素について、前記波長分散型X線分光器のピーク波長条件を合わせて、前記測定領域内の各画素におけるX線強度を測定することによりX線強度マップを生成するX線強度マップ生成処理部としてコンピュータを機能させることを特徴とする請求項6又は7に記載のデータ処理プログラム。
- 前記X線強度マップに基づいて、各相の範囲内の画素についてのピーク波長のX線強度の平均値を算出する平均値算出処理部と、
前記平均値算出処理部により算出したピーク波長のX線強度の平均値を濃度が既知の場合のピーク波長のX線強度と比較することにより、各相の平均元素濃度を算出する平均元素濃度算出処理部としてコンピュータを機能させることを特徴とする請求項8に記載のデータ処理プログラム。 - 前記X線強度マップ生成処理部は、前記組成情報取得処理部により取得した各相の元素組成情報に基づき、検出された各元素について、前記波長分散型X線分光器のピーク波長条件及びバックグラウンド波長条件を合わせて、前記測定領域内の各画素におけるピーク波長及びバックグラウンド波長のX線強度をそれぞれ測定することによりピーク波長のX線強度マップ及びバックグラウンド波長のX線強度マップを生成し、
前記平均値算出処理部は、前記ピーク波長のX線強度マップ及びバックグラウンド波長のX線強度マップに基づいて、各相の範囲内の画素についてのピーク波長及びバックグラウンド波長のX線強度の平均値をそれぞれ算出し、
前記平均元素濃度算出処理部は、前記平均値算出処理部により算出したピーク波長のX線強度の平均値からバックグラウンド波長のX線強度の平均値を差し引いた結果を濃度が既知の場合のピークの高さと比較することにより、各相の平均元素濃度を算出することを特徴とする請求項9に記載のデータ処理プログラム。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017128850A JP6769402B2 (ja) | 2017-06-30 | 2017-06-30 | 電子線マイクロアナライザー及びデータ処理プログラム |
CN201810239416.7A CN109216142B (zh) | 2017-06-30 | 2018-03-22 | 电子探针显微分析仪及存储介质 |
US15/991,034 US10410825B2 (en) | 2017-06-30 | 2018-05-29 | Electron probe microanalyzer and storage medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017128850A JP6769402B2 (ja) | 2017-06-30 | 2017-06-30 | 電子線マイクロアナライザー及びデータ処理プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019012019A JP2019012019A (ja) | 2019-01-24 |
JP6769402B2 true JP6769402B2 (ja) | 2020-10-14 |
Family
ID=64739055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017128850A Active JP6769402B2 (ja) | 2017-06-30 | 2017-06-30 | 電子線マイクロアナライザー及びデータ処理プログラム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10410825B2 (ja) |
JP (1) | JP6769402B2 (ja) |
CN (1) | CN109216142B (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6931681B2 (ja) | 2019-07-24 | 2021-09-08 | 日本電子株式会社 | 分析装置 |
JP2021032584A (ja) * | 2019-08-19 | 2021-03-01 | 株式会社島津製作所 | 電子線マイクロアナライザ |
CN110954447B (zh) * | 2019-12-11 | 2022-07-29 | 中国建材检验认证集团股份有限公司 | 物理混合物中组分体积掺量的定量测定方法、装置及*** |
CN110954448A (zh) * | 2019-12-11 | 2020-04-03 | 中国建材检验认证集团股份有限公司 | 定量测定物理混合物的组成及其含量的方法、装置和*** |
JP7144475B2 (ja) * | 2020-03-30 | 2022-09-29 | 日本電子株式会社 | 分析方法および分析装置 |
EP4016062B1 (en) * | 2020-12-18 | 2023-08-23 | Bruker Nano GmbH | Method of processing an edx/xrf map and a corresponding image processing device |
CN115356363B (zh) * | 2022-08-01 | 2023-06-20 | 河南理工大学 | 一种基于宽离子束抛光-扫描电镜的孔隙结构表征方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0247542A (ja) * | 1988-08-09 | 1990-02-16 | Jeol Ltd | X線分光器を用いた定量分析方法 |
JP2839681B2 (ja) * | 1990-09-25 | 1998-12-16 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡等における信号モニタ装置 |
JP3607023B2 (ja) * | 1996-05-10 | 2005-01-05 | 株式会社堀場製作所 | X線定量分析装置および方法 |
JP3379638B2 (ja) * | 1998-12-09 | 2003-02-24 | 株式会社島津製作所 | 電子プローブマイクロアナライザーのステージ駆動方法 |
JP2001229866A (ja) * | 2000-02-10 | 2001-08-24 | Shimadzu Corp | 自動スティグマ調整装置 |
JP2005140581A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Shimadzu Corp | X線分析装置 |
JP4874697B2 (ja) * | 2006-04-14 | 2012-02-15 | 日本電子株式会社 | 電子プローブx線分析装置及びその動作方法 |
JP2008122267A (ja) * | 2006-11-14 | 2008-05-29 | Jeol Ltd | 試料分析方法及び試料分析装置 |
JP5235447B2 (ja) * | 2008-02-22 | 2013-07-10 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | X線分析装置及びx線分析方法 |
US8155270B2 (en) * | 2008-08-04 | 2012-04-10 | Thermo Electron Scientific Instruments Llc | Synergistic energy-dispersive and wavelength-dispersive X-ray spectrometry |
JP5373368B2 (ja) | 2008-10-30 | 2013-12-18 | 日本電子株式会社 | 電子線を用いるx線分析装置 |
JP2011227056A (ja) | 2010-03-30 | 2011-11-10 | Jfe Steel Corp | 元素マッピング方法、元素マッピング装置、及び鉄鋼製品の製造方法 |
CN103698350B (zh) * | 2013-12-26 | 2016-03-30 | 北京师范大学 | 一种x射线双谱仪 |
JP6242291B2 (ja) * | 2014-05-21 | 2017-12-06 | 日本電子株式会社 | 相分析装置、相分析方法、および表面分析装置 |
JP6868468B2 (ja) * | 2017-05-29 | 2021-05-12 | 日本電子株式会社 | 画像処理装置、表面分析装置、および画像処理方法 |
-
2017
- 2017-06-30 JP JP2017128850A patent/JP6769402B2/ja active Active
-
2018
- 2018-03-22 CN CN201810239416.7A patent/CN109216142B/zh active Active
- 2018-05-29 US US15/991,034 patent/US10410825B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN109216142A (zh) | 2019-01-15 |
JP2019012019A (ja) | 2019-01-24 |
US10410825B2 (en) | 2019-09-10 |
US20190006146A1 (en) | 2019-01-03 |
CN109216142B (zh) | 2020-06-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191017 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200630 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200825 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200907 |
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