JP6757306B2 - 乾燥剤、乾燥剤層、封止構造体及び有機el素子 - Google Patents
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Description
で表される炭素−炭素二重結合基を有する、アルコール化合物の残基と、を有するアルコキシド化合物を提供する。
で表される炭素−炭素二重結合基を1個以上有する反応性基である。1個の残基が有する式(1)の炭素−炭素二重結合基の数は、1個であってもよい。
一実施形態に係る封止構造体は、対向配置された一対の基板と、一対の基板の外周部を、基板の間に気密空間が形成されるように封止する封止シール剤と、封止シール剤の内側で一対の基板の間に配置された、上記実施形態に係る乾燥剤又はその硬化物を含む乾燥剤層を備える。乾燥剤層は、一対の基板の間で封止シール剤の内側の気密空間を充填していてもよく、気密空間の一部、例えば基板上の所定の箇所のみに形成されていてもよい。
図1は、有機EL素子の一実施形態を示す模式断面図である。図1に示す有機EL素子1は、素子基板2と、素子基板2に対して対向配置された封止基板3と、素子基板2上に設けられた、対向配置された陽極5及び陰極6とこれらの間に設けられた有機層4とを有する積層体である発光部10と、素子基板2及び封止基板3の外周部を、素子基板2及び封止基板3の間で発光部10の周囲に気密空間が形成されるように封止する封止シール剤8と、封止シール剤8の内側で発光部10の周囲に設けられた、上記実施形態に係る乾燥剤又はその硬化物を含む乾燥剤層7とから構成される。
有機EL素子は、例えば、素子基板2又は封止基板3に乾燥剤を塗布することを含む方法によって製造することができる。
合成例1:アルミニウム 3−メチル−3−ブテニルオキシド
容量300mLのセパラブルフラスコ内に、アルミニウムイソプロポキシド(関東化学製)100gに対して、3−メチル−3−ブテン−1−オール127g(東京化成工業製)を入れ混合した。セパラブルフラスコ内の混合物を真空下で撹拌しながら加熱し、余分なアルコール(アルミニウムイソプロポキシド由来のアルコール)を除去した。得られた生成物(アルミニウム 3−メチル−3−ブテニルオキシド)は黄色透明液体であった。
3−メチル−3−ブテン−1−オールに代えて3−メチル−2−ブテン−1−オールを用いたこと以外は合成例1と同様にして、アルミニウム 3−メチル−2−ブテニルオキシドを得た。
実施例1
アルミニウム 3−メチル−3−ブテニルオキシド、ヒドロシリル基を有するメチルポリシロキサン、及び光活性化白金触媒を、質量比1:1:0.001で混合して、透明なペースト状の乾燥剤を得た。乾燥剤を脱気してから、365nmの紫外線を3000mJ/cm2の露光量で照射した。その後、乾燥剤を80℃で10分間加熱したところ、乾燥剤は透明な硬化物を形成した。
アルミニウム 3−メチル−3−ブテニルオキシドに代えてアルミニウム 3−メチル−2−ブテニルオキシドを用いたこと以外は実施例1と同様にして、透明なペースト状の乾燥剤を得た。得られた乾燥剤を実施例1と同様の条件で露光及び加熱したが、乾燥剤は黄変し、硬化しなかった。
容量300mLのセパラブルフラスコ内に、アルミニウムイソプロポキシド100gに対して、3−エチル−3−オキセタンメタノール(東京化成工業製)62g、片末端カルビトール変性シリコーン(X−22−170BX信越化学工業製)250g、及び両末端カルビトール変性シリコーン(KF600信越化学工業製)250gを入れた。フラスコ内の混合物を真空下で攪拌して、余分なアルコールを除去し、オキセタニル基及びシリコーン鎖を有するアルミニウム化合物を含む透明液体を生成させた。得られた透明液体を比較例2の乾燥剤として使用した。
ジメチルシリコーン(PDMS100−Jモメンティブ製)と酸化カルシウムとを、質量比50:50で混合して、粘度100Pa・sのペーストを得た。得られたペーストを比較例3の乾燥剤として用いた。
素子基板上に、ITO膜(膜厚140nm)をスパッタ法により形成し、これをフォトレジスト法によるエッチングで所定パターン形状にパターニングし、陽極を形成した。陽極の上面に、抵抗加熱法により、ホール注入層としての銅フタロシアニン(CuPc)膜(膜厚70μm)、ホール輸送層としてのBis[N-(1-naphthyl)-N-phenyl]benzidine(α−NPD)の膜(膜厚30nm)、発光層としてのトリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)の膜(膜厚50nm)を順に形成した。さらに、発光層の上面に7nmの膜厚で電子輸送層としてのフッ化リチウム(LiF)膜(膜厚7nm)、及び陰極としてのアルミニウム膜(膜厚150nm)を物理蒸着により形成した。
次に、露点−76℃以下の窒素で置換されたグローブボックス中で、封止基板上に、実施例1、比較例2、又は比較例3の乾燥剤をディスペンスによって塗布した。続いて、塗布された乾燥剤を囲むように紫外線硬化型樹脂からなる封止シール剤をディスペンスによって塗布した。
陽極、有機層及び陰極を積層した素子基板と封止基板とを貼り合わせた後、紫外線照射及び80℃の加熱により乾燥剤及び封止シール剤を硬化させて、発光部が設けられた気密室内に乾燥剤が充填された充填封止構造の有機EL素子を得た。
Claims (6)
- 前記ヒドロシリル基を有する化合物が、ヒドロシリル基を含むオルガノポリシロキサン鎖を有する化合物である、請求項1に記載の乾燥剤。
- 請求項1又は2に記載の乾燥剤の硬化物を含む、乾燥剤層。
- 対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板の外周部を封止する封止シール剤と、
前記封止シール剤の内側で前記一対の基板の間に設けられた、請求項3に記載の乾燥剤層と、
を備える封止構造体。 - 素子基板と、
前記素子基板に対して対向配置された封止基板と、
前記素子基板及び前記封止基板の外周部を封止する封止シール剤と、
前記封止シール剤の内側で前記素子基板上に設けられた、対向配置された一対の電極及びそれらの間に設けられた有機層を有する積層体である発光部と、
前記封止シール剤の内側で前記発光部の周囲に設けられた、請求項3に記載の乾燥剤層と、
を備える、有機EL素子。 - 前記乾燥剤層が、前記封止シール剤の内側で前記発光部周囲の気密空間を充填している、請求項5に記載の有機EL素子。
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