JP6644661B2 - 成形体 - Google Patents

Description

本発明は、成形体に関するものである。

監視カメラのカバーや保育器のケースなどの透明性が要求される製品では、ガラスが多く用いられている。そして、さらに耐衝撃性や加工性などが要求される場合には、ガラスの代わりに、アクリルやポリカーボネートなどの合成樹脂が用いられる。

例えば、特許文献１には、アクリルやポリカーボネートなどで形成された基材と、基材に接着剤で接着された防曇フィルム（以下、単にフィルムという）とを備えたシート状物が記載されている。フィルムは、結露等で曇ることにより透明性が低下することを抑制する機能、すなわち、防曇性を有している。フィルムは、セルロースアシレートで形成されたセルロースアシレートフィルムであり、このセルロースアシレートフィルムの少なくとも一方のフィルム面に親水化処理としてのけん化処理を施すことで、けん化されたセルロースアシレートを含むけん化層を備えている。このけん化層により防曇性が発現する。フィルムの厚みは、２０μｍ〜１００μｍ程度とされている。

同様に、特許文献２には、基材とフィルムとを接着剤で接着した防曇板が記載されている。フィルムは、トリアセチルセルロースなどで形成されている。フィルムの厚みは、１９０μｍまたは２５０μｍとされている。

フィルムとしては、特許文献３に記載されるように、セルロースエステルにポリエステル化合物を添加剤として含有させたものもある。フィルムの厚みは、１０μｍ以上９０μｍ以下とされている。

特開昭６０−１０１０４２号公報 特公平５−８８７２５号公報 特開２０１３−９９８７９号公報

特許文献１，２に記載されるフィルムでは、基材から発生するガス、いわゆるアウトガスが基材とフィルムとの間に溜まる。アウトガスは、基材とフィルムとの間に気泡として存在すると透明性を損なう。また、アウトガスは、基材からのフィルムの剥がれの原因にもなる。さらに、特許文献１，２に記載されるフィルムは、基材の端部の形状に沿って加工することも、凹凸などの曲面に沿って成形することも難しいため、用途が限られている。なお、特許文献３に記載されるフィルムは、フィルムとしての用途に留まる。

そこで本発明は、アウトガスの影響を低減し、かつ透明性と加工性と成形性とにより優れた成形体を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の成形体は、熱可塑性樹脂から形成された透明な基材と、基材の表面に設けられた接着層と、接着層の基材とは反対側の表面に設けられており、厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であり、分子量７００以上５０００以下の範囲内であるエステルオリゴマーを含むセルロースアシレートで形成されたフィルムと、を備える。

また、本発明の成形体は、熱可塑性樹脂から形成された透明な基材と、基材の表面に設けられた接着層と、接着層の基材とは反対側の表面に設けられており、厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であり、糖のエステル誘導体を含むセルロースアシレートで形成されたフィルムと、を備える。

エステルオリゴマーの質量は、セルロースアシレートの質量に対し、大きくても３０％であることが好ましい。

糖のエステル誘導体の質量は、セルロースアシレートの質量に対し、大きくても１５％であることが好ましい。

フィルムは、接着層側に設けられ、セルロースアシレートで形成されたセルロースアシレート層と、接着層とは反対側に設けられ、けん化されたセルロースアシレートを含むけん化層とを有し、けん化層のアシル基量をＸとし、セルロースアシレート層のアシル基量をＹとするときに、Ｘ／Ｙで求めるアシル基割合が大きくても０．７であることが好ましい。けん化層の表面において、純水を滴下してから１５秒後の純水の接触角は、３５度以下であることが好ましい。

基材は、アクリルまたはポリカーボネートで形成されていることが好ましい。基材は、湾曲したシート状に形成されていても良い。

本発明の成形体は、アウトガスの影響を低減し、かつ透明性と加工性と成形性とにより優れる。

本発明を実施した成形体の使用態様を示す説明図である。 本発明を実施した成形体の一部の断面概略図である。 成形体の製造方法を説明するフローチャートである。 成形装置の断面概略図である。

図１において、成形体１０の一例としてのカバーは、透明性、すなわち、その先にあるものが透けて見えることが要求されるもの、例えば監視カメラ１００に用いられる。監視カメラ１００は、撮影機能を有するカメラ本体１０２と、カメラ本体１０２を支持する支持部材１０４と、カメラ本体１０２を覆うためのカバーとを備えており、このカバーが成形体１０である。この例では、成形体１０は、ドーム形状に形成されている。

図２に示すように成形体１０は、成形体本体としての基材１１と、接着層１２と、セルロースアシレートフィルム１３とを備える。成形体１０の厚みは、特に限定されず、例えば１ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲内とされる。なお、本実施形態では、成形体１０の厚みを例えば５ｍｍとしてある。セルロースアシレートフィルム１３は、特許請求の範囲に記載の「フィルム」に対応する。

基材１１は、熱可塑性樹脂から形成されている。熱可塑性樹脂としては、ポリカーボネート（以下、ＰＣと称する）またはアクリルであることが好ましい。本実施形態ではアクリルとしている。ポリカーボネートまたはアクリルを用いるのは、高い透明性をもちつつ、ガラスに比べて軽量かつ耐久性に優れ、さらに、所望の形状に形成しやすいからである。

基材１１は、透明である。透明とは、撮影可能な程度の光の透過率をもつことを意味する。ここでの光は、可視光線（波長範囲が概ね３８０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の領域）と近赤外線（波長範囲が概ね７５０ｎｍ以上２５００ｎｍ以下の領域）を含む。なお、基材１１は、無色であっても、有色（着色）であっても良い。

基材１１は、湾曲したシート状に形成されており、本実施形態ではドーム形状としている。ただし、シート状の基材１１に限られず、レンズ状の基材としても良い。また、基材の形状は、ドーム形状に限られず、所望の形状にして良い。基材１１の少なくとも一方の表面には、接着層１２が設けられている。この基材１１は湾曲した表面を有するが、図２においては、説明の便宜上、基材１１の表面を平面に描いている。基材１１の厚みは、特に限定されず、例えば１ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲内とされる。本実施形態では、基材１１の厚みを例えば２ｍｍとしてある。なお、

接着層１２は、基材１１とセルロースアシレートフィルム１３とを接着させる又は粘着させるためのものである。接着層１２の厚みは、特に限定されず、例えば１μｍ以上５０μｍ以下の範囲内とされる。なお、本実施形態では、接着層１２の厚みを例えば１５μｍとしてある。本明細書において「接着させる」とは、貼り付ける対象物同士（本実施形態においてはセルロースアシレートフィルム１３と基材１１）を一体の状態に貼り付けることを意味しており、「粘着させる」とは、接着の一種であり、被着物に貼り付けた後一定時間経過しても貼り付いている力（粘着力）の変化が小さく、必要に応じて剥離することが可能である状態に貼り付けることを意味する。

接着層１２は、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤のいずれかひとつにより形成されていることが好ましく、これらのうちアクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤がより好ましく、本実施形態ではアクリル系粘着剤を用いている。接着層１２は、使用可能温度、すなわち耐熱温度が１５０℃以上であることが好ましい。この使用可能温度は接着加工時の温度により接着性、平滑性、着色などの有無により選択できる。接着性とは、例えば貼り付ける対象物間の接着力の程度を意味する。平滑性とは、例えば表面の凹凸の程度を意味する。なお、接着層１１の厚みは、特に限定されず、本実施形態では１５μｍとしている。また、本発明の接着剤は、接着層１１の強度の他、接着後の高温高湿の環境下における耐久性や白濁、アウトガス、成形体の透明性などの観点で適宜選択することが好ましい。

セルロースアシレートフィルム１３は、セルロースアシレートで形成されている。セルロースアシレートは、本実施形態ではセルローストリアセテート（トリアセチルセルロース、以下ＴＡＣと称する）であるが、ＴＡＣに限られず、ＴＡＣと異なる他のセルロースアシレートであっても良い。セルロースアシレートを用いることにより、虹むらが抑制され、その結果、透明性が確保される。虹むらは、光が照射された際に、フィルム面における光の反射と、入射光の各フィルム面における屈折とにより起こる光干渉現象である。セルロースアシレートフィルム１３に用いるセルロースアシレートのガラス転移点は、１５０℃以上１８０℃以下であることが好ましい。セルロースアシレートフィルム１３は、接着層１２を介して基材１１に設けられている。すなわち、セルロースアシレートフィルム１３は、接着層１２の基材１１とは反対側の表面に設けられている。

セルロースアシレートについて、詳細を以下に説明する。セルロースアシレートは、セルロースのヒドロキシ基をカルボン酸でエステル化している割合、つまりアシル基の置換度（以下、アシル基置換度と称する）が下記式（１）〜（３）の全ての条件を満足するものが特に好ましい。なお、（１）〜（３）において、ＡおよびＢはともにアシル基置換度であり、Ａにおけるアシル基はアセチル基であり、Ｂにおけるアシル基は炭素原子数が３〜２２のものである。
２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０・・・（１）
０≦Ａ≦３．０・・・（２）
０≦Ｂ≦２．９・・・（３）

セルロースを構成し、β−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位にヒドロキシ基を有している。セルロースアシレートは、このようなセルロースのヒドロキシ基の一部または全部がエステル化されて、ヒドロキシ基の水素が炭素数２以上のアシル基に置換されたポリマーである。なお、グルコース単位中のひとつのヒドロキシ基のエステル化が１００％されていると置換度は１であるので、セルロースアシレートの場合には、２位、３位および６位のヒドロキシ基がそれぞれ１００％エステル化されていると置換度は３となる。

ここで、グルコース単位で２位のアシル基置換度をＤＳ２、３位のアシル基置換度をＤＳ３、６位のアシル基置換度をＤＳ６として「ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６」で求められる全アシル基置換度は２．００〜２．９７であることが好ましく、本実施形態では２．８６である。

アシル基は１種類だけでも良いし、２種類以上であっても良い。アシル基が２種類以上であるときには、そのひとつがアセチル基であることが好ましい。２位、３位、および６位のヒドロキシ基の水素のアセチル基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位、３位、および６位におけるアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとするとき、「ＤＳＡ＋ＤＳＢ」の値は、２．２０〜２．８６であることが好ましく、２．４０〜２．８０であることが特に好ましい。ＤＳＢは１．５０以上であることが好ましく、１．７以上であることが特に好ましい。そして、ＤＳＢは、その２８％以上が６位ヒドロキシ基の置換であることが好ましいが、より好ましくは３０％以上、さらに好ましくは３１％以上、特に好ましくは３２％以上が６位ヒドロキシ基の置換であることが好ましい。また、セルロースアシレートの６位の「ＤＳＡ＋ＤＳＢ」の値が０．７５以上であることが好ましく、０．８０以上であることがより好ましく、０．８５以上であることが特に好ましい。

炭素数が２以上であるアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく、特に限定されない。例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどがあり、これらは、それぞれさらに置換された基を有していても良い。プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、プロピオニル基、ブタノイル基が特に好ましい。

セルロースアシレートフィルム１３の厚みＴ１３は、１５μｍ以上１００μｍ以下の範囲内とされる。厚みＴ１３が１５μｍ以上であることにより、１５μｍ未満である場合に比べて、成形時の破れとしわなどの発生が抑制され、厚みＴ１３が１００μｍ以下であることにより、１００μｍよりも大きい場合に比べて、基材１１の端部の形状に沿った加工のしやすさ（以下、加工性と称する）、および、ドーム形状や凹凸などの曲面への成形のしやすさ（以下、成形性と称する）に優れるからである。厚みＴ１３は、１８μｍ以上６０μｍ以下の範囲内であることがより好ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。なお、本実施形態では、厚みＴ１３を例えば４０μｍとしてある。

厚みＴ１３は、セルロースアシレートフィルム１３の透湿度と相関関係がある。具体的には、厚みＴ１３が小さいほど、透湿度が高い、すなわち、セルロースアシレートフィルム１３の透湿性が良い。アウトガスは、アクリルなどの樹脂で形成された基材１１や接着層１２に含まれる水分等が蒸発したものと考えられ、透湿性を有するセルロースアシレートフィルム１３は、このアウトガスを透過させる。日本工業規格ＪＩＳ Ｚ−０２０８に基づいて、４０℃、９０％ＲＨ（relative humidity）において透湿度を評価した場合に、セルロースアシレートフィルム１３の透湿度は、５５０g/m²・24h以上であることが好ましい。アウトガスは基材１１とセルロースアシレートフィルム１３との間に気泡および／または剥がれを発生させる原因と考えられるが、成形体１０では、アウトガスがセルロースアシレートフィルム１３を通り抜けて外部に放出されるため、上記気泡および／または剥がれの発生は抑制される。したがって、セルロースアシレートフィルム１３の厚みＴ１３が上記範囲内であることは、透湿性の観点からも好ましい。また、セルロースアシレートフィルム１３の透湿度は、セルロースアシレートの質量に対する可塑剤の質量割合と相関関係がある。質量割合については、後で詳細に説明をする。可塑剤の質量割合が小さいほど、透湿度が高い。また、可塑剤の種類についても、セルロースアシレートフィルム１３の透湿度と関連している。可塑剤としてエステルオリゴマーを含有するセルロースアシレートフィルム１３と、可塑剤として糖のエステル誘導体を含有するセルロースアシレートフィルム１３とを比較すると、フィルムの厚みが同じであり、かつ可塑剤の質量割合が同じである場合、透湿度の観点では、前者の方がより優れる。さらに、セルロースアシレートフィルム１３は、セルロースアシレートで形成しているため、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと称する）で形成する場合と比較して、透湿性により優れている。上記のように優れた透湿性をもつセルロースアシレートフィルム１３は、基材１１にきれいに貼り合わせられるため、成形体１０の意匠性を向上させる。さらに、貼り付いた状態が長期間に渡り維持されるため、成形体１０としての耐久性を向上させる。

セルロースアシレートフィルム１３は、けん化層１４と、セルロースアシレート層１５とを有する２層構造とされており、セルロースアシレート層１５が基材１１側、すなわち接着層１２側となるように配されている。けん化層１４は、セルロースアシレートフィルム１３の接着層１２とは反対側の一方のフィルム面（以下、第１のフィルム面と称する）１３ａをなし、セルロースアシレート層１５は、セルロースアシレートフィルム１３の接着層１２側の他方のフィルム面（以下、第２のフィルム面と称する）１３ｂをなす。

けん化層１４は、セルロースアシレートフィルム１３に防曇性を付与するためのものである。したがって、防曇機能が不要な場合には、けん化層１４は無くても良い。防曇性には、初期防曇性と長期防曇性とがある。初期防曇性は、瞬間的な結露を防止する機能である。長期防曇性は、結露を長時間防止する機能である。本実施形態では、けん化層１４は、初期防曇性と長期防曇性との両機能を担うものである。けん化層１４は、けん化されたセルロースアシレート、この例ではけん化されたＴＡＣを含む。

セルロースアシレート層１５は、セルロースアシレート、この例ではエステルオリゴマーを含むＴＡＣで形成されている。なお、セルロースアシレート層１５は、けん化されたセルロースアシレートを非含有としている。

けん化層１４のアシル基量をＸとし、セルロースアシレート層１５のアシル基量をＹとするときに、Ｘ／Ｙで求めるアシル基の割合（以下、アシル基割合と称する）が大きくても０．７、すなわち、０．７以下であり、本実施形態では例えば０．３としている。アシル基割合が小さいほど、セルロースアシレート層１５に対するけん化層１４のアシル基が少なく、セルロースアシレートフィルム１３のけん化処理において、より多くのアシル基がけん化されて親水基になったことを意味する。

アシル基割合は、初期防曇性と関係がある。具体的には、アシル基割合が小さいほど、初期防曇性が良い。アシル基割合が０．７以下、すなわち０以上０．７以下の範囲内であることにより、０．７よりも大きい場合に比べて、優れた初期防曇性を発現する。アシル基割合は、０．０１以上０．６以下の範囲内であることがより好ましく、０．０５以上０．５以下の範囲内であることがさらに好ましい。

アシル基量Ｘとアシル基量Ｙとは、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴ−ＩＲ，Fourier Transform Infrared Spectroscopy、以下ＦＴ−ＩＲと称する）の全反射測定（ＡＴＲ，Attenuated Total Reflection）法（以下、ＡＴＲ法と称する）によって求められるアシル基のスペクトル強度として求める。具体的には、セルロースアシレートのアシル基のシグナルのスペクトル強度を、セルロース系ポリマーの共通シグナルのスペクトル強度で補正（規格化）する。本実施形態ではセルロースアシレートとしてＴＡＣを用いているのでアシル基はアセチル基であり、アセチル基のシグナルは１２１０ｃｍ^−１である。セルロース系ポリマーの共通シグナルは１０３０ｃｍ^−１とすることが好ましい。そして、補正により得られたセルロースアシレートのアシル基のシグナルのスペクトル強度を、アシル基量Ｘ、アシル基量Ｙとして求める。このように、アシル基量Ｘとアシル基量Ｙとは、アシル基の数に置き換えられる指標である。

ＦＴ−ＩＲのＡＴＲ法は、周知のように測定試料に対して光を侵入させてスペクトル強度を求める方法であり、得られるスペクトル強度は、測定試料の厳格な意味での表面のものではない。一般的なＦＴ−ＩＲのＡＴＲ法での一手法である、ダイアモンドプリズムを用い、測定角度を４５度にして実施した場合には、測定試料の表面からの光の侵入深さは約２〜３μｍである。本実施形態のけん化層１４は後述のように非常に薄いため、光の侵入深さが２μｍよりも深くなるほど、けん化層１４について求めるアシル基量としての信頼性が薄れる。そこで、セルロースアシレートフィルム１３の第１のフィルム面１３ａから深さ２μｍの範囲のスペクトル強度を、アシル基量Ｘとして求めることが好ましく、本実施形態でも光の侵入深さを２μｍに設定し、第１のフィルム面１３ａから２μｍ以下の範囲のスペクトル強度をアシル基量Ｘとしている。

同様に、セルロースアシレートフィルム１３の第２のフィルム面１３ｂから深さ２μｍの範囲のスペクトル強度を、アシル基量Ｙとして求めることが好ましく、本実施形態でもそのようにしている。けん化層が第１のフィルム面１３ａのみならず第２のフィルム面１３ｂをもなしている場合、すなわち、セルロースアシレートフィルム１３の両面にけん化層が設けられており、各けん化層の間にセルロースアシレート層が設けられている場合には、セルロースアシレートフィルム１３の厚み方向の中央でアシル基量を求め、これをアシル基量Ｙとして用いることが、簡易性の観点と、セルロースアシレートフィルム１３について求めるアシル基量としての信頼性の観点とから好ましい。第２のフィルム面１３ｂにおけるアシル基量Ｙを上記の方法で求めることが困難な場合には、セルロースアシレートフィルム１３をメチレンクロライドおよび／またはクロロホルム等に溶解し、この溶液からフィルムを形成してこのフィルムのフィルム面におけるアシル基量をＩＲで求める等、他の手法で求めても良い。

長期防曇性は、１５秒後接触角と関係がある。１５秒後接触角は、セルロースアシレートフィルム１３の第１のフィルム面１３ａに親水性成分が十分存在することを示す特性であり、このように第１のフィルム面１３ａに親水性成分が多い場合には、第１のフィルム面１３ａに結露した水滴が十分濡れ広がった状態を維持できるため、長期防曇性に効果を示すものと考えられる。１５秒後接触角が３５°以下である場合に特に長期防曇性が良い傾向を示す。第１のフィルム面１３ａは、１５秒後接触角が３５°以下とされており、本実施形態では例えば２５°である。１５秒後接触角は、長期防曇性と関係するが、１５秒後接触角を３５°以下とするためには上記アシル基割合が０．７以下となるように第１のフィルム面１３ａのアシル基量Ｘを制御する。１５秒後接触角は３５°以下の範囲内であることが好ましく、３０°以下の範囲内であることがより好ましく、２５°以下の範囲内であることがさらに好ましい。なお、純水を滴下してからの時間を考慮して接触角を求め、この時間が１５秒後である１５秒後接触角にすることで、長期防曇性に優れたセルロースアシレートフィルム１３が得られる。１５秒後接触角はフィルム面の水との親和性を示す特性である。水に対する接触角の測定においては、けん化層１４の表面に極わずかな厚みで膜状に形成された親水性部分（以下、親水性膜と称する）の内部へ純水がしみこんだり、親水性膜内部からフィルム成分が出てくるなどの現象が純水の滴下後の時間経過とともに生じるが、測定を滴下後１５秒にすることによりフィルム面の長期防曇性と対応する親水性を測定できることを見出した。

１５秒後接触角は、調湿（湿度調整）した後のセルロースアシレートフィルム１３について測定することが好ましく、調湿の処理条件は、温度が２３℃以上２８℃以下の範囲内であり、相対湿度が５５％以上６５％以下の範囲内である雰囲気下とすることが好ましく、調湿の時間を１時間以上とすることがより好ましい。本実施形態では温度が２５℃、相対湿度が６０％の雰囲気下で１時間調湿している。この調湿処理は、セルロースアシレートフィルム１３全体を調湿しても良いが、少なくともけん化層１４を調湿すれば足りる。

また、けん化層１４の厚みＴ１４（図２参照）を所定の範囲内にすることにより、初期防曇性と長期防曇性とをより確実に両立することができる。具体的には以下の通りである。アシル基割合と厚みＴ１４とには相関性があり、厚みＴ１４は、アシル基割合が小さくなるほど大きくなる。初期防曇性は、前述のようにアシル基割合が小さいほど良いから、厚みＴ１４が大きいほど良くなる。

また、けん化層１４の厚みＴ１４が０（ゼロ）から大きくなるに従い、１５秒後接触角は漸減するが、ある程度以上に厚みＴ１４が大きくなると漸増するようになる。この漸増は、厚みＴ１４を大きくするために後述のけん化の条件を強くすると、１５秒後接触角を低減している前述の親水性膜が減少すること、もしくは厚みＴ１４が大きすぎることにより水を保持することができる保持領域が大きくなりすぎて、水が第１のフィルム面１３ａよりも内部に入り込んでいくことが理由として考えられる。長期防曇性は前述のように１５秒後接触角が３５°以下であることでより確実に発現するから、１５秒後接触角の漸増領域において３５°と対応する厚みを上限値として、厚みＴ１４を設定することが好ましい。これにより、初期防曇性に加えて、長期防曇性がより確実に確保される。

以上のことから、厚みＴ１４は、初期防曇性と長期防曇性とをより確実に発現するために、１μｍ以上６μｍ以下の範囲内であることが好ましく、本実施形態では２μｍ以上５μｍの範囲内としている。すなわち、厚みＴ１４が１μｍ以上であることにより、１μｍ未満である場合に比べて初期防曇性がより確実になり、６μｍ以下であることにより、６μｍより大きい場合に比べて長期防曇性がより確実になる。

なお、厚みＴ１４は、本実施形態では以下の方法で求めている。セルロースアシレートフィルム１３からサンプリングした試料を、ジクロロメタンに２４時間浸漬する。この浸漬で溶け残った試料を乾燥し、乾燥した試料の厚みを３回測定した。３つの測定値の平均を、厚みＴ１４とする。

セルロースアシレートフィルム１３は、第１のフィルム面１３ａから深さ２μｍの範囲のセルロースの水酸基成分に結合したアシル基のＣ＝Ｏ（カルボキシル基）の量が、第２のフィルム面１３ｂにおけるセルロースの水酸基成分に結合したアシル基のＣ＝Ｏの量に対して７０％以下であることが好ましく、本実施形態では３０％以上７０％以下の範囲内としている。なお、例えばアシル基割合が求められない場合には、１５秒後接触角を２０°以下とし、第２のフィルム面１３ｂにおけるセルロース基の水酸基成分に結合したアシル基のＣ＝Ｏの量に対して第１のフィルム面１３ａから深さ２μｍの範囲のセルロース基の水酸基成分に結合したアシル基のＣ＝Ｏの量を７０％以下とすることでも、初期防曇性と長期防曇性とは発現する。

セルロースアシレートフィルム１３を形成するセルロースアシレートは、エステルオリゴマーまたは糖のエステル誘導体を含んでいる。これらエステルオリゴマーと糖のエステル誘導体とは、セルロースアシレートフィルム１３の可塑剤として機能する。また、本発明の成形体１０においては、セルロースアシレートフィルム１３の透湿度を高くすることによりアウトガスがセルロースアシレートフィルム１３を透過し、気泡および／または剥がれの発生が抑制される、可塑剤の種類及び／又は質量の調整によりセルロースアシレートフィルム１３の加工性及び成形性が向上し、さらに可撓性（フレキシブル性）も向上する、曲面の成形では加熱成形する場合があるがその場合でも加熱成形時の表面における可塑剤及び／又は添加剤の析出と成形温度での可塑剤及び／又は添加剤の揮散が抑えられる、けん化層１４の厚みＴ１４及び／又は接触角を小さくすることができ、かつ上記の加熱成形をしたのちに可塑剤及び／又は添加剤の表面への移行により接触角等が大きくなることを抑えるといった効果が得られる。可塑剤としては、上記２種のうち、エステルオリゴマーがより好ましい。より具体的には、分子量が４００以上１００００以下の範囲内であるエステルオリゴマーを可塑剤として含むことが好ましく、本実施形態のセルロースアシレートフィルム１３もこれを含んでいる。この分子量は、エステルオリゴマーが前述の４００未満の分子量の可塑剤と異なり分子量の分布をもつため、ＧＰＣ（Gel Permeation Chromatography、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）による重量平均分子量や数平均分子量、末端官能基量測定や浸透圧測定による数平均分子量測定法、粘度測定による粘度平均分子量などで求めることができる。本実施形態では、末端官能基としてエステルの水酸基もしくは酸基を測定することによる数平均分子量測定法により求めている。分子量が４００以上１００００以下の範囲内であるエステルオリゴマーを可塑剤として用いることにより、セルロースアシレートフィルム１３は、貼り付け対象物である例えばアクリルドームやＰＣ板などへ貼り付ける際の、貼り付けやすさや貼り直しやすさといったいわゆる取り扱い性が確実に向上する。また、可塑剤として上記のエステルオリゴマーを用いることにより、分子量が４００未満である一般的な可塑剤モノマーを用いた場合に比べて、第１のフィルム面１３ａにおける析出がより確実に抑えられ、第１のフィルム面１３ａにおける１５秒後接触角が小さくなりやすいために長期防曇性がより確実に発現する。エステルオリゴマーの分子量が大きいほど長期防曇性が良く、分子量が小さいほどセルロースアシレートとの相溶性が良いため、エステルオリゴマーの分子量は、分子量７００以上５０００以下の範囲内がより好ましく、９００以上３０００以下の範囲内がさらに好ましい。

さらに、可塑剤として用いるエステルオリゴマーは、ジカルボン酸とジオールとのエステル結合が含まれる繰り返し単位をもち繰り返し単位が数個〜１００個程度の比較的分子量が低い化合物であり、脂肪族エステルオリゴマーであることが好ましい。セルロースアシレートの可塑剤としての作用がより確実だからである。

上記のジカルボン酸は、炭素数が２以上１０以下の範囲内である脂肪族ジカルボン酸であることがより好ましい。上記のジオールは、炭素数が２以上１０以下の範囲内である脂肪族ジオールであることがより好ましい。これは、脂肪族ジカルボン酸と脂肪族ジオールとを用いることで、セルロースアシレートフィルム１３に柔軟性を付与することができ、後述の１５秒後接触角の低減を阻害する分解物が生成しにくいからである。脂肪族カルボン酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。脂肪族ジオールとしては、エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、１，４−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。エステルオリゴマーの末端水酸基や酸基をモノカルボン酸やモノアルコールなどにより封止することも好ましい。これらのうち、アジピン酸とエチレングリコールとのエステルを繰り返し単位とするオリゴマー、コハク酸とエチレングリコールとのエステルを繰り返し単位とするオリゴマー、テレフタル酸とエチレングリコールとのエステル及びフタル酸とエチレングリコールとのエステルとを繰り返し単位とするオリゴマーなどが好ましい。本実施形態ではエステルとしてアジピン酸とエタンジオールによるエステルオリゴマー（末端水酸基定量法による数平均分子量が約１０００である）を用いている。

エステルオリゴマーの質量は、セルロースアシレートの質量に対して、大きくても３０％、すなわち、３０％以下であることが好ましい。すなわち、セルロースアシレートフィルム１３におけるセルロースアシレート（けん化層１４におけるけん化されたセルロースアシレートも含む）の質量をＭＡとし、セルロースアシレートフィルム１３におけるエステルオリゴマーの質量をＭＢとするときに、セルロースアシレートフィルム１３は、（ＭＢ／ＭＡ）×１００で求める質量割合（単位；％）が３０％以下である。この質量割合が３０％以下であることにより、３０％よりも大きい場合に比べて、エステルオリゴマーの析出が抑えられ、加熱成形時のエステルオリゴマーの析出を抑制することができ、かつ、成形体１０としてのけん化層１４の接触角が大きくなることを抑制することができる。セルロースアシレートフィルム１３におけるこの質量割合は、４％以上３０％以下であることがより好ましく、１０％以上２５％以下であることがさらに好ましい。

糖のエステル誘導体について、詳細を以下に説明する。糖のエステル誘導体は、単糖のエステル誘導体と多糖のエステル誘導体とのいずれでも良い。セルロースアシレートフィルム１３はこれら両者を含んでも良い。

上記単糖、多糖類構造中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化するのに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は１種類でも良いし、２種以上の混合であっても良い。糖としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース等の単糖類、ラクトース、スクロース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースあるいはケストース、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなどの多糖類が挙げられる。好ましくはグルコース、フルクトース、スクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、更に好ましくは、スクロース、グルコースである。また、多糖類としてオリゴ糖を用いることもでき、オリゴ糖としては、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造されるものであり、オリゴ糖としては、例えば、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖が挙げられる。

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、等の脂環族モノカルボン酸等を挙げることができる。

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができ、特に安息香酸、ナフチル酸が好ましい。

糖のエステル誘導体の質量は、セルロースアシレートの質量に対して、大きくても１５％、すなわち１５％以下であることが好ましい。すなわち、セルロースアシレートフィルム１３におけるセルロースアシレート（けん化層１４におけるけん化されたセルロースアシレートも含む）の質量をＭＡとし、セルロースアシレートフィルム１３における糖のエステル誘導体の質量をＭＣとするときに、セルロースアシレートフィルム１３は、（ＭＣ／ＭＡ）×１００で求める質量割合（単位；％）が１５％以下である。この質量割合が１５％以下であることにより、１５％よりも大きい場合に比べて、糖のエステル誘導体の析出が抑えられ、加熱成形時の糖のエステル誘導体の析出を抑制することができ、かつ、成形体１０としてのけん化層１４の接触角が大きくなることを抑制することができる。セルロースアシレートフィルム１３におけるこの質量割合は、４％以上１５％以下であることがより好ましく、６％以上１５％以下であることがさらに好ましい。

セルロースアシレートフィルム１３には、セルロースアシレートおよび上記可塑剤の他に、紫外線吸収剤、劣化防止剤等の各種添加剤、および／または、例えばセルロースアシレートフィルム１３同士の貼り付きを防止するための微粒子が含まれていても良い。

セルロースアシレートフィルム１３は、第２のフィルム面１３ｂに、例えば、接着層１２を設けて使用に供される。なお、この例のセルロースアシレートフィルム１３は、けん化層１４がセルロースアシレートフィルム１３の第１のフィルム面１３ａをなしているが、これに限られない。すなわち、けん化層１４は、第１のフィルム面１３ａに加えて、第２のフィルム面１３ｂなすように設けられていても良い。この場合には、接着層１２は、第１のフィルム面１３ａをなすけん化層と、第２のフィルム面１３ｂをなすけん化層とのいずれか一方に重ねた態様に設けられる。

図３に示すように、成形体１０は、フィルム材２０を製造するフィルム材製造工程と、フィルム材２０と基材用素材２２とを一体に成形して成形体１０にする成形工程とにより製造される。この成形工程において、フィルム材２０は成形体１０のセルロースアシレートフィルム１３とされ、基材用素材２２は成形体１０の基材１１とされる。

フィルム材製造工程について、以下に説明する。フィルム材２０は、この例では、溶液製膜方法により製造される。具体的には、セルロースアシレートとしてＴＡＣを含むポリマー溶液（以下、ドープと称する）を支持体へ流延して流延膜を形成し、支持体から流延膜を剥がして乾燥することに製造される。セルロースアシレートフィルム１３に防曇機能が不要な場合には、成形工程において、このフィルム材（以下、けん化処理前のフィルム材と称する）が後述する成形装置５０に供される。本実施形態では、セルロースアシレートフィルム１３に防曇性を付与するために、このけん化処理前のフィルム材の一方のフィルム面にけん化液としてのアルカリ溶液を塗布し、塗布されたフィルム材を加熱し、水で洗浄することにより、けん化処理したフィルム材を製造している。したがって、本実施形態では、成形工程において、このけん化処理したフィルム材が、フィルム材２０として後述する成形装置５０に供される。けん化液にはイソプロピルアルコールを含有させることが好ましく、本実施形態でもそのようにしている。けん化層１４は、塗布と加熱とによるけん化処理によってセルロースアシレートがけん化され、層状に形成された領域である。セルロースアシレート層１５は、フィルム材２０のうち、けん化されなかった非けん化部分、すなわちけん化層１４を除く残部である。したがって、前述のアシル基量Ｙは、けん化処理前のフィルム材の厚み方向における任意の２μｍの範囲のアシル基量に等しい。

図４に示す成形装置５０は、フィルム材２０と基材用素材２２とを一体に成形して成形体１０にするためのものである。成形装置５０は、チャンバ５１と、ヒータ５２と、テーブル５３と、移動機構５４と、真空ポンプ５５と、コンプレッサ５６と、制御部５７とを備え、真空圧空成形をするための装置の一例である。ただし、成形方法は、真空圧空成形に限られず、例えば、真空成形、圧空成形、フィルムインサート成形、インモールド成形などの手法を用いても良い。これらの成形方法のうち、真空圧空成形、真空成形、および圧空成形の場合は、基材用素材２２として、予めインジェクション成形などで所望の形状に形成したものが成形装置５０に供される。なお、本実施形態では、ドーム形状をした基材用素材２２が成形装置５０に供されるが、図４においては、説明の便宜上、基材用素材２２を平板形状に描いている。フィルムインサート成形およびインモールド成形の場合は、基材用素材として、基材１１を形成するための熱可塑性樹脂が成形装置５０に供される。成形装置５０としては、本実施形態では、市販の装置、例えば布施真空社製ＴＯＭ（Three dimension Overlay Method）成形機（商品名；ＮＧＦ（Next Generation Forming）成形機）を用いる。

チャンバ５１は、上チャンバ５１ａと下チャンバ５１ｂとで構成されており、上チャンバ５１ａが、図４における上下方向、すなわち、上チャンバ５１ａと下チャンバ５１ｂとの距離を増減する方向に移動自在とされている。上チャンバ５１ａを降下させ、上チャンバ５１ａと下チャンバ５１ｂとを密着させることにより、チャンバ５１内が気密状態とされる。上チャンバ５１ａには、フィルム材２０を加熱するためのヒータ５２が設けられている。下チャンバ５１ｂには、基材用素材２２を載せるためのテーブル５３が設けられている。

ヒータ５２は、例えば遠赤外線（波長範囲が概ね４μｍ以上１０００μｍ以下の領域）を発し、フィルム材２０を加熱する。テーブル５３は、下チャンバ５１ｂに対し、図４における上下方向に移動自在とされている。移動機構５４は、上チャンバ５１ａとテーブル５３とを、それぞれ図４における上下方向に移動する。真空ポンプ５５は、上チャンバ５１ａに設けられた排気孔５８と下チャンバ５１ｂに設けられた排気孔５９とに接続されており、チャンバ５１内が気密状態である場合に各排気孔５８，５９から空気を排出し、チャンバ５１内を真空状態にする。コンプレッサ５６は、上チャンバ５１ａに設けられた排気孔５８と接続されており、この排気孔５８を通して、上チャンバ５１ａ内に圧縮空気を噴出する。これら移動機構５４、ヒータ５２、真空ポンプ５５、およびコンプレッサ５６は、制御部５７により制御される。なお、成形装置５０にはフィルム材２０の温度を測定するための温度計（図示せず）が設けられており、制御部５７は、温度計の温度に基づきヒータ５２による発熱量を制御する。温度計としては、例えば、フィルム材２０の表面の温度を非接触で測定する非接触式温度計が用いられる。

上記の成形装置５０を用いて成形体１１を製造する手順について説明する。予め、フィルム材２０の一方の表面に接着層１２を設ける。本実施形態では、フィルム材２０のうち、セルロースアシレート層１５側の表面に接着層１２を設けている。この接着層１２は、本実施形態では、市販の接着剤、例えば綜研化学（株）社製アクリル粘着シートを用いることにより形成した。このフィルム材２０を、接着層１２を下チャンバ５１ｂに向けて、上チャンバ５１ａと下チャンバ５１ｂとの間にセットする。なお、フィルム材２０にけん化層１４を保護するための保護材（図示無し）が設けられている場合は、この保護材を剥がした状態でセットする。保護材の素材は、特に限定されないが、ポリエチレン、ポリプロピレン、ＰＥＴのうちいずれかひとつが好ましい。

次に、テーブル５３に基材用素材２２をセットする。上チャンバ５１ａを降下させ、上チャンバ５１ａと下チャンバ５１ｂとの間にフィルム材２０を挟んだ状態で、チャンバ５１内を気密状態にする。そして、真空ポンプ５５を作動させ、チャンバ５１内を真空状態にする。

上記真空状態でヒータ５２を点灯し、フィルム材２０を加熱する。この加熱によりフィルム材２０は自重で垂れ下がるが、上チャンバ５１ａ内の真空度と下チャンバ５１ｂ内の真空度とを調節することにより、フィルム材２０がほぼ水平状態とされる。この間、温度計（図示せず）によりフィルム材２０の温度を測定する。

フィルム材２０が所定の温度（例えば、１９０℃）となると、下チャンバ５１ｂ内のテーブル５３を上昇させる。これにより、テーブル５３上の基材用素材２２がフィルム材２０に覆われる。この状態で、上チャンバ５１ａ内を大気圧状態とすることで、フィルム材２０が基材用素材２２に押し付けられる。さらに、コンプレッサ５６を作動させ、上チャンバ５１ａ内に圧縮空気を噴出することにより、基材用素材２２にフィルム材２０が密着する。これにより、フィルム材２０の成形、および基材用素材２２への貼り合わせが行われる。その後、上チャンバ５１ａおよび下チャンバ５１ｂ内を大気圧状態にし、上チャンバ５１ａを上昇させ、成形体１０を取り出す。なお、板状の成形体を製造する場合も、上記の手順で行われる。

［実施例１］〜［実施例１４］
溶液製膜方法によりドープから１４種のフィルム材２０をつくり、これら１４種のフィルム材２０と平板形状をした基材用素材とをそれぞれ一体に成形して１４種の成形体を製造し、実施例１〜１４とした。

ドープは、下記の処方からなる組成物を密閉容器に投入し、常圧下で４０℃に保温しながら攪拌することにより完全に溶解させることでつくった。ＴＡＣの原料はリンターである。微粒子は、Ｒ９７２（日本アエロジル（株）製）である。この微粒子は、ジクロロメタンとメタノールとの混合物である溶剤にＴＡＣを溶解した溶液に、予め混合して分散した。そして、この分散液を、上記の密閉容器に投入して、下記処方の組成物とした。静置後、ろ紙（Ｎｏ．６３、アドバンテック東洋（株）製）を使用してこの液を３０℃に保持した状態で濾過し、脱泡操作を施した後、ドープを得た。

第１成分 １００質量部
第２成分 表１の「量」欄に示す質量部
ジクロロメタン ６３５質量部
メタノール １２５質量部
微粒子 １．３質量部

表１に示すように、第１成分は、セルロースアシレートである。表１には、「第１成分」の「物質」欄に「ＣＡ」と記載している。このセルロースアシレートは、すべてのアシル基がアセチル基であり、粘度平均重合度が３２０である。セルロースアシレートのアシル基置換度は表１の「アシル基置換度」欄に示す。

第２成分は、可塑剤であり、表１の「第２成分」の「物質」欄に示すＡ〜Ｃである。Ａは、アジピン酸とエチレングリコールとのエステルを繰り返し単位とするオリゴマー（末端官能基定量法による分子量は１０００）である。Ｂは、テレフタル酸とエチレングリコールとのエステルおよびフタル酸とエチレングリコールとのエステルとを繰り返し単位とするオリゴマー（末端官能基定量法による分子量は７００）である。Ｃは、糖のエステル誘導体のスクロースの安息香酸エステル（第１工業化学製モノペットＳＢ）である。

３０℃に温度調整されたドープを、支持体上に流延した。支持体は、ステンレス製の無端のベルトである。流延膜に対して、形成直後から１００℃の温風をあてて乾燥し、形成してから１２０秒後に、１５０Ｎ／ｍの剥離張力で流延膜を支持体から剥離し、けん化処理前のフィルム材を形成した。剥離位置における支持体の温度は１０℃とした。剥離時おける流延膜の残留溶媒量は１００質量％であった。

剥離したけん化処理前のフィルム材を、搬送路に配した多数のロールにより長手方向における張力を１００Ｎ／ｍにした状態で搬送しながら、乾燥した。乾燥は、８０℃に設定された第１乾燥ゾーンを５分間搬送させた後、さらに１２０℃に設定された第２乾燥ゾーンで１０分間搬送させることにより、行った。乾燥後、けん化処理前のフィルム材をロール状に巻き取ることにより、フィルムロールを得た。けん化処理前のフィルム材の幅は１．５ｍ、フィルムロールにおける巻長は２０００ｍであった。巻き取り時のけん化処理前のフィルム材の残留溶媒量は０．３％であった。

得られたフィルム材をけん化することにより、１４種のフィルム材２０を製造し、フィルムＡ〜Ｎとした。けん化の処理時間や処理温度は適宜変更した。フィルムＡ〜Ｎは、具体的には以下の方法で製造した。けん化処理前のフィルム材をフィルムロールから巻き出して搬送し、搬送路に設けた塗布装置により、けん化処理前のフィルム材の一方のフィルム面にけん化液を塗布した。けん化液の処方は以下である。なお、下記の処方において、％は質量での百分率である。
水酸化カリウム（ＫＯＨ） ３．３％
イソプロピルアルコール ８８％
水 ３％
プロピレングリコール ５％
界面活性剤 ０．０４％

けん化液が塗布されたフィルム材を、搬送路に設けてある加熱室に案内して、搬送しながら加熱し、その後、水が収容されている水槽に送って水で洗浄した。このようにして得られた長尺の各フィルム材２０について、厚みと、１５秒後接触角と、アシル基割合と、透湿度とを、それぞれ求めた。１５秒後接触角と、アシル基割合との各求め方は前述の通りである。厚みは、接触式厚み計を用いて幅方向０．５ｍｍ間隔で測定した値の平均値である。透湿度は、日本工業規格ＪＩＳ Ｚ−０２０８に基づいて評価した。なお、透湿度は、４０℃、９０％ＲＨにおいて評価した。これらの結果は表１に示す。

得られた各フィルム材２０（フィルムＡ〜Ｎ）と基材用素材とを、成形装置５０を用いて一体に成形し、１４種の成形体を製造した。ガラス転移点が１５０℃のＰＣにより形成し、一辺の長さが１００ｍｍ、厚み（高さ）が５ｍｍの平板形状をした市販のＰＣ板（タキロン（株）製ＰＣ１６００）を基材用素材とした。基材用素材について、表２には、「基材」の「物質」欄に「ＰＣ」と記載し、「形状」欄に「板」と記載している。成形温度は１９０℃とした。

得られた各成形体につき、虹むらと、アウトガスの影響の有無および程度と、接触角と、加工性とを以下の評価方法および基準で評価した。各評価結果については表２に示す。

（１）虹むら
基材側から成形体に蛍光灯の光を照射し、目視により観察し、以下の基準で評価した。
合格；色むらが確認されなかった。
不合格；色むらが確認された。

（２）アウトガスの影響の有無および程度
成形体を８０℃、８５％ＲＨの空気中で２４時間保管し、気泡と剥がれを目視により観察し、以下の基準に基づいて、アウトガスの影響の有無および程度として評価した。２，３が合格である。評価結果は、「アウトガス」欄に示す。
３；気泡および剥がれは発生しなかった。
２；気泡および／または剥がれは発生したものの、気泡および／または剥がれが発生した面積は、貼り合わせた部分の総面積の２０％以下であった。
１；気泡および／または剥がれが発生した面積が、貼り合わせた部分の総面積の２０％を超えた。

（３）接触角
１５秒後接触角を前述のとおり求め、これを接触角の評価とした。上記のように、接触角が３５°以下である場合に特に長期防曇性が良い傾向を示す。

（４）加工性
セルロースアシレートフィルムのＰＣ板への加工のしやすさについて、以下の基準で評価し、これを加工性の評価とした。３，４が合格である。
４；ＰＣ板の端部に沿って変形した。
３；ＰＣ板の端部で一部浮きが生じるものの、折り曲げ加工が可能である。
２；折り曲げ加工は可能であるが、ＰＣ板の端部で浮きが生じる。
１；折り曲げ加工が不可能であり、ＰＣ板の端部で浮きが生じる。

［比較例１］〜［比較例４］
第１成分の物質、第２成分の物質および量、厚みなどを変えて、溶液製膜方法によりドープからフィルムＷ〜Ｙを製造した。ポリエチレンテレフタレートにより形成した市販の光学用途ポリエチレンテレフタレートフィルムをフィルムＺとした。表１には、「第１成分」の「物質」欄に「ＰＥＴ」と記載している。フィルムＷ〜Ｚについて、厚みと、１５秒後接触角と、アシル基割合と、透湿度とを、それぞれ求めた。これらの結果は表１に示す。ただし、フィルムＺは、アシル基を持たないから、表１の「アシル基置換度」欄と「アシル基割合」欄とには「−」と記載している。表１の「第２成分」の「物質」欄に示す「Ｄ」は、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびビフェニルジフェニルフォスフェート（ＢＤＰ）である。実施例１〜１４と同様に、フィルムＷ〜Ｚと平板形状をした基材用素材とを、成形装置５０を用いて一体に成形し、４種類の成形体を製造し、比較例１〜４とした。

得られた各成形体につき、虹むらと、アウトガスの影響の有無および程度と、接触角と、加工性とを、実施例と同じ方法および基準で評価した。各評価結果については表２に示す。

［実施例２１］〜［実施例２６］
フィルムＡ〜Ｅ，Ｊと基材用素材２２とを、成形装置５０を用いて一体に成形し、６種の成形体１０を製造し、実施例２１〜２６とした。ガラス転移点が１００℃のアクリルであるポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）により形成し、径が１００ｍｍ、厚みが２ｍｍのドーム形状をしたアクリルドームをつくり、これを基材用素材２２とした。表３には、「基材」の「物質」欄に「アクリル」と記載し、「形状」欄に「ドーム」と記載し、「径」欄に「１００」と記載している。成形温度は１９０℃とした。なお、「径」とは、外径である。

得られた各成形体１０につき、前述の実施例１〜１４と同様の方法および基準により、虹むらと、アウトガスの影響の有無および程度と、接触角と、成形性との評価を実施した。各評価結果については表３に示す。

（５）成形性
セルロースアシレートフィルムのアクリルドームへの成形のしやすさについて、以下の基準で評価し、これを成形性の評価とした。３〜５が合格である。
５；浮きは発生しなかった。
４；アクリルドームの端部でごくわずかに浮きが発生したものの、端部以外では浮きは発生しなかった。
３；アクリルドームの端部で浮きが発生したものの、端部以外では浮きは発生しなかった。
２；アクリルドームの端部から中央部まで浮きが発生した。
１；貼り合わせた部分の全体にしわが発生した。

［比較例１１］及び［比較例１２］
フィルムＸ，Ｙと基材用素材２２と、成形装置５０を用いて一体に成形し、２種類の成形体を製造し、比較例１１，１２とした。

得られた各成形体につき、虹むらと、アウトガスの影響の有無および程度と、接触角と、成形性とを、実施例２１〜２６と同じ方法および基準で評価した。各評価結果については表３に示す。

１０ 成形体
１１ 基材
１２ 接着層
１３ セルロースアシレートフィルム
１３ａ 第１のフィルム面
１３ｂ 第２のフィルム面
１４ けん化層
１５ セルロースアシレート層
２０ フィルム材
２２ 基材用素材
５０ 成形装置
５１ チャンバ
５１ａ 上チャンバ
５１ｂ 下チャンバ
５２ ヒータ
５３ テーブル
５４ 移動機構
５５ 真空ポンプ
５６ コンプレッサ
５７ 制御部
５８ 排気孔
５９ 排気孔
１００ 監視カメラ
１０２ カメラ本体
１０４ 支持部材
Ｔ１３ セルロースアシレートフィルムの厚み
Ｔ１４ けん化層の厚み

Claims (8)

1. 熱可塑性樹脂から形成された透明な基材と、
   前記基材の表面に設けられた接着層と、
   前記接着層の前記基材とは反対側の表面に設けられており、厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であり、分子量７００以上５０００以下の範囲内であるエステルオリゴマーを含むセルロースアシレートで形成されたフィルムと、
   を備える成形体。
2. 熱可塑性樹脂から形成された透明な基材と、
   前記基材の表面に設けられた接着層と、
   前記接着層の前記基材とは反対側の表面に設けられており、厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下の範囲内であり、糖のエステル誘導体を含むセルロースアシレートで形成されたフィルムと、
   を備える成形体。
3. 前記エステルオリゴマーの質量は、前記セルロースアシレートの質量に対し、大きくても３０％である請求項１に記載の成形体。
4. 前記糖のエステル誘導体の質量は、前記セルロースアシレートの質量に対し、大きくても１５％である請求項２に記載の成形体。
5. 前記フィルムは、
   前記接着層側に設けられ、前記セルロースアシレートで形成されたセルロースアシレート層と、
   前記接着層とは反対側に設けられ、けん化された前記セルロースアシレートを含むけん化層とを有し、
   前記けん化層のアシル基量をＸとし、前記セルロースアシレート層のアシル基量をＹとするときに、Ｘ／Ｙで求めるアシル基割合が大きくても０．７である請求項１から４のいずれか１項に記載の成形体。
6. 前記けん化層の表面において、純水を滴下してから１５秒後の前記純水の接触角は、３５度以下である請求項５に記載の成形体。
7. 前記基材は、アクリルまたはポリカーボネートで形成されている請求項１から６のいずれか１項に記載の成形体。
8. 前記基材は、湾曲したシート状に形成されている請求項１から７のいずれか１項に記載の成形体。

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