JP6470793B2 - 四価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス - Google Patents
四価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス Download PDFInfo
- Publication number
- JP6470793B2 JP6470793B2 JP2017112747A JP2017112747A JP6470793B2 JP 6470793 B2 JP6470793 B2 JP 6470793B2 JP 2017112747 A JP2017112747 A JP 2017112747A JP 2017112747 A JP2017112747 A JP 2017112747A JP 6470793 B2 JP6470793 B2 JP 6470793B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass ceramic
- glass
- use according
- lithium
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 51
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 title claims description 51
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims description 13
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 title description 95
- 239000006017 silicate glass-ceramic Substances 0.000 title description 19
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims description 115
- WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N dilithium oxido-[oxido(oxo)silyl]oxy-oxosilane Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])=O WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 33
- 239000003103 lithium disilicate glass Substances 0.000 claims description 26
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 23
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 14
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 13
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims description 8
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 claims description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 9
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 9
- 239000005548 dental material Substances 0.000 description 9
- 239000006065 metasilicate glass ceramic Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 3
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical group 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- CNLWCVNCHLKFHK-UHFFFAOYSA-N aluminum;lithium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Li+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O CNLWCVNCHLKFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011351 dental ceramic Substances 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 229910052907 leucite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006123 lithium glass Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 oxides Chemical class 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052642 spodumene Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- BPJYAXCTOHRFDQ-UHFFFAOYSA-L tetracopper;2,4,6-trioxido-1,3,5,2,4,6-trioxatriarsinane;diacetate Chemical class [Cu+2].[Cu+2].[Cu+2].[Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O.[O-][As]1O[As]([O-])O[As]([O-])O1.[O-][As]1O[As]([O-])O[As]([O-])O1 BPJYAXCTOHRFDQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C11/00—Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C13/00—Dental prostheses; Making same
- A61C13/0003—Making bridge-work, inlays, implants or the like
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C13/00—Dental prostheses; Making same
- A61C13/0003—Making bridge-work, inlays, implants or the like
- A61C13/0022—Blanks or green, unfinished dental restoration parts
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C13/00—Dental prostheses; Making same
- A61C13/08—Artificial teeth; Making same
- A61C13/081—Making teeth by casting or moulding
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C13/00—Dental prostheses; Making same
- A61C13/08—Artificial teeth; Making same
- A61C13/083—Porcelain or ceramic teeth
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C5/00—Filling or capping teeth
- A61C5/70—Tooth crowns; Making thereof
- A61C5/77—Methods or devices for making crowns
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0009—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing silica as main constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0054—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing PbO, SnO2, B2O3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0007—Compositions for glass with special properties for biologically-compatible glass
- C03C4/0021—Compositions for glass with special properties for biologically-compatible glass for dental use
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C13/00—Dental prostheses; Making same
- A61C13/08—Artificial teeth; Making same
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/802—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/802—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics
- A61K6/816—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics comprising titanium oxide
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
- A61K6/80—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth
- A61K6/802—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics
- A61K6/818—Preparations for artificial teeth, for filling teeth or for capping teeth comprising ceramics comprising zirconium oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Public Health (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Dentistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Dental Prosthetics (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Description
本発明は、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２、およびこれらの混合物から選択される四価の金属酸化物を含有し、特に、歯科で使用するのに適しており、好ましくは、歯修復物の調製に適したケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラスに関する。
ケイ酸リチウムガラスセラミックは、概して、非常に良好な機械特性を特徴とし、これが歯科分野で長く使用されてきた理由であり、主に、歯科クラウンおよび小さなブリッジの調製に使用されてきた。公知のケイ酸リチウムガラスセラミックは、通常は、主成分としてＳｉＯ２、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯまたはＫ２Ｏと、核生成剤（例えばＰ２Ｏ５）と、さらなる成分（例えば、Ｌａ２Ｏ３）とを含有する。
特許文献１は、Ｋ２Ｏを含有する二ケイ酸リチウムガラスセラミックを記載している。二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、対応する核を含有する出発ガラスを、二ケイ酸リチウムを結晶化させるために８５０〜８７０℃の温度に加熱して調製される。ガラスセラミックを使用する目的は開示されていない。
特許文献２は、歯科目的のための焼結可能な二ケイ酸リチウムガラスセラミックを記載しており、これも、Ｌａ２Ｏ３に加え、Ｋ２ＯまたはＮａ２Ｏを含有する。二ケイ酸リチウム結晶相は、８５０℃の温度で生成される。
同様にＬａ２Ｏ３とＫ２Ｏを含有する二ケイ酸リチウムガラスセラミックが特許文献３から公知である。二ケイ酸リチウムの形成のために熱処理を８７０℃で行う。
特許文献４は、Ｋ２Ｏを含有するケイ酸リチウムガラスセラミックを記載し、このセラミックは、メタケイ酸リチウムが主結晶相として存在する場合、例えば、ＣＡＤ／ＣＡＭプロセスを用いて非常に満足のいくように機械加工し、次いで８３０〜８５０℃の温度でさらに熱処理することによって、高強度二ケイ酸リチウムガラスセラミックに変換することができる。
特許文献５は、同様のＫ２Ｏを含有し、さらに、ＺｎＯを実質的に含まないケイ酸リチウムガラスセラミックを記載する。８３０〜８８０℃での熱処理を行い、二ケイ酸リチウムを生成する。
特許文献６は、歯修復物を生成するためのプロセス、およびこれらのプロセスで使用可能なガラスセラミックを記載する。特に、Ｌｉ２Ｏの量が少なく、概して、Ｎａ２ＯまたはＫ２Ｏのいずれかを含有する二ケイ酸リチウムガラスセラミックが存在する。
特許文献７は、Ｌｉ２Ｏに加え、Ｋ２Ｏも含有する二ケイ酸リチウムガラスセラミックに関する。しかし、望ましい二ケイ酸リチウム結晶相の生成は、８００〜１０００℃の高温が必要である。
特許文献８は、酸化ジルコニウムセラミックを覆うための二ケイ酸リチウムガラスセラミックを開示している。ガラスセラミックは、Ｎａ２Ｏを含有し、そしてこれは核を含有するガラスを８００〜９４０℃で熱処理することによって生成される。
特許文献９は、ＧｅＯ２を含有し、Ｋ２Ｏおよび少量のＳｉＯ２も含有するメタケイ酸リチウムガラスセラミックを記載する。ガラスセラミックは、主に機械加工を用いて処理されて、歯科製品を形成する。
特許文献１０は、高レベルのＺｒＯ２またはＨｆＯ２に加え、Ｋ２Ｏも含有する二ケイ酸リチウムガラスセラミックに関する。二ケイ酸リチウムの結晶化は、８００〜１０４０℃の高温で行う。
公知の二ケイ酸リチウムガラスセラミックに共通するのは、二ケイ酸リチウムを主結晶相として沈殿させるために、８００℃を超える熱処理が必要なことである。したがって、生成するのに大量のエネルギーも必要である。さらに、公知のガラスセラミックの場合、アルカリ金属酸化物（例えば、特にＫ２ＯまたはＮａ２Ｏ）とＬａ２Ｏ３が、概して、得ようとする特性を有するガラスセラミックの生成、特に、得ようとする二ケイ酸リチウム主結晶相の形成に明らかに必要な必須の構成要素として存在する。
したがって、ケイ酸リチウムガラスセラミック調製中に、二ケイ酸リチウムの結晶化をより低い温度で行うことができるようなケイ酸リチウムガラスセラミックが必要である。さらに、主に光学特性および機械特性の観点で歯修復物を調製するために必要でありかつ適切であると以前は考えられていたアルカリ金属酸化物（例えば、Ｋ２ＯまたはＮａ２Ｏ）およびＬａ２Ｏ３を含まずに上記ケイ酸リチウムガラスセラミックを調製することが可能であるべきである。
本目的は、請求項１〜１５または１８のいずれか１項に記載のケイ酸リチウムガラスセラミックによって達成される。さらに、本発明の主題は、請求項１６または１８に記載の出発ガラス、請求項１７または１８に記載の核を含むケイ酸リチウムガラス、請求項１９または２０に記載の核を含むガラスセラミックおよびケイ酸リチウムガラスを調製するためのプロセス、ならびに請求項２１または２２に記載の使用である。
本発明のケイ酸リチウムガラスセラミックは、
ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２およびこれらの混合物から選択される四価金属酸化物と、
少なくとも１２．１重量％のＬｉ２Ｏと、
０．１重量％未満のＬａ２Ｏ３と、
１．０重量％未満のＫ２Ｏと、
２．０重量％未満のＮａ２Ｏと
を含むことを特徴とする。
ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２およびこれらの混合物から選択される四価金属酸化物と、
少なくとも１２．１重量％のＬｉ２Ｏと、
０．１重量％未満のＬａ２Ｏ３と、
１．０重量％未満のＫ２Ｏと、
２．０重量％未満のＮａ２Ｏと
を含むことを特徴とする。
ガラスセラミックが、四価金属酸化物またはこれらの混合物を０．１〜１５重量％、特に、２．０〜１５．０重量％、特に好ましくは、２．０〜１１．０重量％、さらになお好ましくは、２．０〜８．０重量％の量で含むことが好ましい。
主結晶相として二ケイ酸リチウムを用いた本発明のガラスセラミックの形成は、従来のガラスセラミック、例えば、アルカリ金属酸化物、特に、Ｋ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＬａ２Ｏ３に必要であると考えられる種々の構成要素が存在しない状態で、非常に低く、そのため、特に６４０〜７４０℃の有利な結晶化温度で達成されることが特に驚くべきことである。ガラスセラミックは、光学特性と機械特性の組み合わせと、歯科材料として使用するのに非常に有利な処理特性も有する。
したがって、本発明のガラスセラミックは、好ましくは、０．５重量％未満、特に０．１重量％未満のＫ２Ｏを含む。特に好ましくは、本発明のガラスセラミックは、実質的にＫ２Ｏを含まない。
１．０重量％未満、特に０．５重量％未満、好ましくは、０．１重量％未満のＮａ２Ｏを含み、特に好ましくは、実質的にＮａ２Ｏを含まないガラスセラミックも好ましい。
さらに、実質的にＬａ２Ｏ３を含まないガラスセラミックが好ましい。
少なくとも６．１重量％のＺｒＯ２を含むケイ酸リチウムガラスセラミックを除く、ガラスセラミックも好ましい。
さらに、ケイ酸リチウムガラスセラミックであって、少なくとも８．５重量％の遷移金属酸化物を含み、上記遷移金属酸化物が、イットリウム酸化物、原子番号が４１〜７９である遷移金属の酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群から選択される、ケイ酸リチウムガラスセラミックを除く、ガラスセラミックも好ましい。
本発明のガラスセラミックは、好ましくは、５５．０〜８２．０重量％、特に、５８．０〜８０．０重量％、好ましくは、６０．０〜８０．０重量％、特に好ましくは、６７．０〜７９．０重量％のＳｉＯ２を含む。
ガラスセラミックが、１２．５〜２０．０重量％、特に、１５．０〜１７．０重量％のＬｉ２Ｏを含むことも好ましい。
ＳｉＯ２とＬｉ２Ｏとのモル比が１．７〜３．１、特に、１．７５〜３．０であることがさらに好ましい。二ケイ酸リチウムの生成がこの広い範囲で達成されることは、非常に驚くべきことである。特に、２．０未満の比率で、従来の材料は、通常は、二ケイ酸リチウムの代わりにメタケイ酸リチウムを形成する。
さらに好ましい実施形態では、ＳｉＯ２とＬｉ２Ｏとのモル比は、特に高い強度を有するガラスセラミックがこのように得られるため、少なくとも２．２、特に２．３〜２．５、好ましくは、約２．４である。
本発明のガラスセラミックは、核生成剤も含んでいてもよい。Ｐ２Ｏ５は、特に好ましくは、このために用いられる。ガラスセラミックは、好ましくは、０〜１０．０重量％、特に、０．５〜９．０重量％、好ましくは、２．５〜７．５重量％のＰ２Ｏ５を含む。し
かし、特に、０．００５〜０．５重量％の量の金属、例えば、特に、Ａｇ、Ａｕ、ＰｔおよびＰｄを核生成剤として使用することもできる。
かし、特に、０．００５〜０．５重量％の量の金属、例えば、特に、Ａｇ、Ａｕ、ＰｔおよびＰｄを核生成剤として使用することもできる。
さらに好ましい実施形態では、ガラスセラミックは、以下の成分：
成分 重量％
ＳｉＯ２ ５８．０〜７９．０
Ｌｉ２Ｏ １２．５〜２０．０
四価金属酸化物または混合物 ２．０〜１５．０
Ｐ２Ｏ５ ０〜７．０、特に、０．５〜７．０
Ａｌ２Ｏ３ ０〜６．０、特に、０．５〜３．５
の少なくとも１つ、好ましくは、すべてを含む。
成分 重量％
ＳｉＯ２ ５８．０〜７９．０
Ｌｉ２Ｏ １２．５〜２０．０
四価金属酸化物または混合物 ２．０〜１５．０
Ｐ２Ｏ５ ０〜７．０、特に、０．５〜７．０
Ａｌ２Ｏ３ ０〜６．０、特に、０．５〜３．５
の少なくとも１つ、好ましくは、すべてを含む。
本発明のガラスセラミックは、さらに、特に、二価元素の酸化物、三価元素の酸化物、五価元素のさらなる酸化物、六価元素の酸化物、溶融促進剤、着色剤、および蛍光剤から選択されるさらなる構成要素も含んでいてもよい。
二価元素の適切な酸化物は、特に、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯであり、好ましくは、ＣａＯである。
三価元素の適切な酸化物は、特に、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３およびＢｉ２Ｏ３ならびにこれらの混合物であり、好ましくは、Ａｌ２Ｏ３であり、成分としてすでに上述している。
「五価元素のさらなる酸化物」という用語は、Ｐ２Ｏ５を除く五価元素の酸化物を示す。適切な五価元素のさらなる酸化物の例は、Ｔａ２Ｏ５およびＮｂ２Ｏ５である。
六価元素の適切な酸化物の例は、ＷＯ３およびＭｏＯ３である。
少なくとも１種類の二価元素の酸化物、少なくとも１種類の三価元素の酸化物、少なくとも１種類の五価元素のさらなる酸化物、および／または少なくとも１種類の六価元素の酸化物を含むガラスセラミックが好ましい。
溶融促進剤の例は、フッ化物である。
着色剤および蛍光剤の例は、ｄ−元素およびｆ−元素の酸化物、例えば、Ｔｉ、Ｖ、Ｓｃ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｔｂ、Ｅｒ、Ｄｙ、Ｇｄ、Ｅｕ、およびＹｂの酸化物である。金属コロイド、例えば、Ａｇ、ＡｕおよびＰｄの金属コロイドを着色剤として使用してもよく、それに加え、核生成剤として作用してもよい。例えば、溶融プロセスおよび結晶化プロセス中の、対応する酸化物、塩化物またはニトレートの還元によってこれらの金属コロイドを形成することができる。金属コロイドは、ガラスセラミック中に０．００５〜０．５重量％の量で存在していてもよい。
以下で使用する「主結晶相」という用語は、他の結晶相と比較して、体積基準の割合が最も大きい結晶相を示す。
本発明のガラスセラミックは、一実施形態では、主結晶相としてメタケイ酸リチウムを有する。特に、ガラスセラミックは、ガラスセラミック全体に対し、５体積％より多く、好ましくは、１０体積％より多く、特に好ましくは、１５体積％より多いメタケイ酸リチウム結晶を含む。
さらに特に好ましい実施形態では、ガラスセラミックは、二ケイ酸リチウムを主結晶相
として有する。特に、ガラスセラミックは、ガラスセラミック全体に対し、１０体積％より多く、好ましくは、２０体積％より多く、特に好ましくは、３０体積％より多い二ケイ酸リチウム結晶を含む。
として有する。特に、ガラスセラミックは、ガラスセラミック全体に対し、１０体積％より多く、好ましくは、２０体積％より多く、特に好ましくは、３０体積％より多い二ケイ酸リチウム結晶を含む。
本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、特に良好な機械特性を特徴とし、例えば、本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミックを熱処理することによって生成することができる。しかし、特に、対応する出発ガラスの熱処理または核を含む対応するケイ酸リチウムガラスの熱処理によって生成することができる。
驚くべきことに、従来のガラスセラミックに必須であると考えられる構成要素が存在しない状態であっても、本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックが非常に良好な機械特性および光学特性と、処理特性を有することが示された。その特性の組み合わせは、歯科材料として、特に、歯修復物を調製するための材料として使用することができる。
本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、特に、ＫＩＣ値として測定される、少なくとも１．８ＭＰａ・ｍ０．５、特に、約２．０ＭＰａ・ｍ０．５より大きい破壊靱性を有する。この値は、Ｖｉｃｋｅｒｓ法を用いて決定され、Ｎｉｉｈａｒａの式を用いて算出された。
本発明は、さらに、メタケイ酸リチウムおよび／または二ケイ酸リチウム結晶を形成するために適切な核を含むケイ酸リチウムガラスに関し、ガラスは、本発明の上述のガラスセラミックの構成要素を含む。したがって、このガラスは、
ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２およびこれらの混合物から選択される四価金属酸化物と、
少なくとも１２．１重量％のＬｉ２Ｏと、
０．１重量％未満のＬａ２Ｏ３と、
１．０重量％未満のＫ２Ｏと、
２．０重量％未満のＮａ２Ｏと
を含むことを特徴とする。
ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２およびこれらの混合物から選択される四価金属酸化物と、
少なくとも１２．１重量％のＬｉ２Ｏと、
０．１重量％未満のＬａ２Ｏ３と、
１．０重量％未満のＫ２Ｏと、
２．０重量％未満のＮａ２Ｏと
を含むことを特徴とする。
このガラスの好ましい実施形態に関して、本発明のガラスセラミックの上述の好ましい実施形態を参照する。
本発明の核を含むガラスは、対応して構成される本発明の出発ガラスの熱処理によって生成することができる。次いで、本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミックは、さらなる熱処理によって形成することができ、順にさらなる熱処理によって、本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックに変換することができるか、または、本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、好ましくは、核を含むガラスから直接形成することもできる。その結果、出発ガラス、核を含むガラス、およびメタケイ酸リチウムガラスセラミックは、高強度二ケイ酸リチウムガラスセラミックを生成するための前駆体と考えることができる。
本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスは、特に、粉末、顆粒材料、またはブランク（例えば、モノリスブランク）、例えば、平板状、立方体もしくは円柱形、または粉末圧粉体、未焼結の形態、部分的に焼結した形態、または密に焼結した形態で存在する。本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスは、これらの形態に簡単にさらに処理することができる。しかし、本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスは、例えば、インレー、オンレー、クラウン、ベニア、ファセットまたはアバットメントのような歯修復物の形態でも存在することができる。
本発明は、さらに、対応して構成される出発ガラス、本発明の核を含むガラス、または本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミックが、４５０〜９５０℃、特に、４５０〜７５０℃、好ましくは４８０〜７４０℃の範囲で少なくとも１つの熱処理に供される、本発明のガラスセラミックおよび本発明の核を含むガラスを調製するためのプロセスに関する。
したがって、本発明の出発ガラスは、
ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２およびこれらの混合物から選択される四価金属酸化物と、
少なくとも１２．１重量％のＬｉ２Ｏと、
０．１重量％未満のＬａ２Ｏ３と、
１．０重量％未満のＫ２Ｏと、
２．０重量％未満のＮａ２Ｏと
を含むことを特徴とする。
ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２およびこれらの混合物から選択される四価金属酸化物と、
少なくとも１２．１重量％のＬｉ２Ｏと、
０．１重量％未満のＬａ２Ｏ３と、
１．０重量％未満のＫ２Ｏと、
２．０重量％未満のＮａ２Ｏと
を含むことを特徴とする。
加えて、ケイ酸リチウムガラスセラミック、特に、二ケイ酸リチウムガラスセラミックを形成するために、適切な量のＳｉＯ２およびＬｉ２Ｏを含むことも好ましい。さらに、出発ガラスは、さらなる構成要素をなお含んでいてもよく、例えば、本発明のケイ酸リチウムガラスセラミックのために上に与えられる。これらすべての実施形態は、ガラスセラミックのために好ましいものとしても与えられる出発ガラスに好ましい。
本発明のプロセスでは、核を含むガラスは、通常は、出発ガラスを特に４８０〜５２０℃の温度で熱処理することによって調製される。次いで、本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、通常は、６００〜７５０℃、特に、６４０〜７４０℃でさらに熱処理することによって、好ましくは、核を含むガラスから生成される。
したがって、従来の二ケイ酸リチウムガラスセラミックよりも二ケイ酸リチウムの結晶化について、本発明ではかなり低い温度を使用する。このようにして節約されるエネルギーは、明確な利点をあらわす。驚くべきことに、従来のガラスセラミックに必須であると考えられる構成要素（例えば、Ｋ２ＯおよびＮａ２Ｏ、ならびにＬａ２Ｏ３）が存在しない状態で、この低い結晶化温度も可能である。
出発ガラスを調製するために、手順は、特に、適切な出発物質の混合物（例えば、カーボネート、酸化物、ホスフェートおよびフッ化物）を、特に１３００〜１６００℃の温度で２〜１０時間かけて溶融する。特に高い均質性を達成するために、顆粒ガラス材料を形成するために得られたガラス溶融物を水にそそぎ、次いで、得られた顆粒材料を再び溶融する。
次いで、溶融物を型にそそぎ、出発ガラスのブランク（いわゆる、固体ガラスブランクまたはモノリスブランク）を生成することができる。
顆粒材料を調製するために、溶融物を水に再び入れることも可能である。次いで、研磨および場合によりさらなる構成要素（例えば、着色剤および蛍光剤）を加えた後に、この顆粒材料をプレス加工し、ブランク（いわゆる粉末圧粉体）を形成することができる。
最後に、出発ガラスを処理し、顆粒化の後に粉末を形成することもできる。
次いで、出発ガラス（例えば、固体ガラスブランクの形態、粉末圧粉体、または粉末の形態）が、４５０〜９５０℃の範囲で少なくとも１つの熱処理に供される。第１の熱処理は、最初に、メタケイ酸リチウムおよび／または二ケイ酸リチウム結晶を形成するのに適
した核を含む本発明のガラスを調製するために４８０〜５２０℃の範囲の温度で行うことが好ましい。この第１の熱処理は、好ましくは、１０分〜１２０分、特に１０分〜３０分行われる。次いで、核を含むガラスが、好ましくは、より高い温度で、特に、５７０℃を超える温度で少なくとも１つのさらなる温度処理に供されて、メタケイ酸リチウムまたは二ケイ酸リチウムを結晶化してもよい。このさらなる熱処理は、好ましくは、１０分〜１２０分、特に、１０分〜６０分、特に好ましくは１０分〜３０分行われる。二ケイ酸リチウムを結晶化するために、さらなる熱処理は、通常は、６００〜７５０℃、特に６４０〜７４０℃で行われる。
した核を含む本発明のガラスを調製するために４８０〜５２０℃の範囲の温度で行うことが好ましい。この第１の熱処理は、好ましくは、１０分〜１２０分、特に１０分〜３０分行われる。次いで、核を含むガラスが、好ましくは、より高い温度で、特に、５７０℃を超える温度で少なくとも１つのさらなる温度処理に供されて、メタケイ酸リチウムまたは二ケイ酸リチウムを結晶化してもよい。このさらなる熱処理は、好ましくは、１０分〜１２０分、特に、１０分〜６０分、特に好ましくは１０分〜３０分行われる。二ケイ酸リチウムを結晶化するために、さらなる熱処理は、通常は、６００〜７５０℃、特に６４０〜７４０℃で行われる。
したがって、このプロセスの好ましい実施形態では、
（ａ）核を含むガラスを形成するために、出発ガラスが、４８０〜５２０℃の温度で熱処理に供され、
（ｂ）主結晶相として二ケイ酸リチウムを含むガラスセラミックを形成するために、核を含むガラスが、６４０〜７４０℃の温度で熱処理に供される。
（ａ）核を含むガラスを形成するために、出発ガラスが、４８０〜５２０℃の温度で熱処理に供され、
（ｂ）主結晶相として二ケイ酸リチウムを含むガラスセラミックを形成するために、核を含むガラスが、６４０〜７４０℃の温度で熱処理に供される。
（ａ）および（ｂ）で行われる熱処理の持続時間は、好ましくは、上に与えたとおりである。
本発明のプロセスで行われる少なくとも１つの熱処理は、本発明のガラスまたは本発明のガラスセラミックの熱プレス加工または焼結の間に行うこともできる。
歯修復物、例えば、ブリッジ、インレー、オンレー、クラウン、ベニア、ファセットまたはアバットメントは、本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスから調製することができる。したがって、本発明は、歯修復物を調製するためのその使用にも関する。ガラスセラミックまたはガラスをプレス加工または機械加工によって望ましい歯修復物に成形することが好ましい。
プレス加工は、通常は、高圧高温で行われる。プレス加工は、７００〜１２００℃の温度で行われることが好ましい。２〜１０ｂａｒの圧力でプレス加工を行うことがさらに好ましい。プレス加工中に、望ましい形状変化は、使用する材料の粘性の流れによって達成される。本発明の出発ガラス、特に、本発明の核を含むガラス、本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミック、および本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックをプレス加工に使用することができる。本発明のガラスおよびガラスセラミックを、特にブランクの形態（例えば、固体ブランク、または粉末圧粉体、例えば、未焼結の形態、部分的に焼結した形態、または密に焼結した形態）で使用することができる。
機械加工は、通常は、材料除去プロセス、特に、粉砕および／または研磨によって行われる。機械加工がＣＡＤ／ＣＡＭプロセスの一部として行われることが特に好ましい。本発明の出発ガラス、本発明の核を含むガラス、本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミック、および本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックを機械加工に使用することができる。本発明のガラスおよびガラスセラミックを、特にブランクの形態（例えば、固体ブランク、または粉末圧粉体、例えば、未焼結の形態、部分的に焼結した形態、または密に焼結した形態）で使用することができる。本発明のメタケイ酸リチウムガラスセラミックおよび本発明の二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、好ましくは機械加工に使用される。二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、より低い温度で熱処理することによって生成された完全に結晶化していない形態でも使用することができる。より簡単な機械加工、したがって、機械加工のためのより単純な装置の使用が可能であることが利点である。二ケイ酸リチウムをさらに結晶化するために、このような部分的に結晶化された材料の機械加工の後、これは、通常は、より高い温度、特に６４０〜７４０℃の温度で熱処理に供される。
一般的に、プレス加工または機械加工によって望ましい形状の歯修復物を調製した後、これは、使用される前駆体、例えば、出発ガラス、核を含むガラスまたはメタケイ酸リチウムガラスセラミックを、二ケイ酸リチウムガラスセラミックに変換するため、または二ケイ酸リチウムの結晶化を高めるため、または、例えば、使用する多孔質粉末圧粉体の多孔度を下げるために、特に、熱処理することもできる。
しかし、本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスは、例えば、セラミックおよびガラスセラミックのコーティング材料としても適している。したがって、本発明は、特に、セラミックおよびガラスセラミックをコーティングするための本発明のガラスまたは本発明のガラスセラミックの使用にも関する。
また、本発明は、セラミックおよびガラスセラミックをコーティングするためのプロセスにも関し、本発明のガラスセラミックまたは本発明のガラスはセラミックまたはガラスセラミックに適用され、高温に供される。
これは、特に、焼結によって、好ましくはプレス加工によって行うことができる。焼結しつつ、ガラスセラミックまたはガラスを、コーティングされるべき材料（例えば、セラミックまたはガラスセラミック）に通常の様式で（例えば、粉末として）適用し、次いで、高温で焼結させる。好ましいプレス加工をしつつ、本発明のガラスセラミックまたは本発明のガラスを、例えば、粉末圧粉体またはモノリスブランクの形態で、例えば、７００〜１２００℃の高温で、例えば、２〜１０ｂａｒの圧力を加えてプレス加工する。ＥＰ ２３１ ７７３号に記載される方法およびそこに開示されるプレス炉を、特にこのために使用することができる。適切な炉は、例えば、Ｉｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ、Ｌｉｅｃｈｔｅｎｓｔｅｉｎ製のＰｒｏｇｒａｍａｔ ＥＰ ５０００である。
コーティングプロセスを完了させた後、本発明のガラスセラミックは、特に良好な特性を有するため、主結晶相としての二ケイ酸リチウムとともに存在することが好ましい。
前駆体としての本発明のガラスセラミックおよび本発明のガラスの上述の特性のため、これらは、特に、歯科で使用するのに適している。したがって、本発明の主題は、歯科材料としての、特に、歯修復物を調製するため、また、歯修復物（例えば、クラウン、ブリッジおよびアバットメント）のためのコーティング材料としての本発明のガラスセラミックまたは本発明のガラスの使用でもある。
最後に、所望な場合に調整される特性を有する歯科材料を生成するために、本発明のガラスおよびガラスセラミックを、他のガラスおよびガラスセラミックと混合することもできる。したがって、本発明のガラスまたは本発明のガラスセラミックを、少なくとも１種類の他のガラスおよび／または他のガラスセラミックと組み合わせて含む組成物、特に歯科材料は、さらに、本発明の主題をあらわす。したがって、本発明のガラスまたは本発明のガラスセラミックを、特に、無機−無機コンポジットの主要な構成要素として、または、複数の他のガラスおよび／またはガラスセラミックと組み合わせて使用することができ、コンポジットまたは組み合わせを、特に歯科材料として使用することができる。組み合わせまたはコンポジットは、特に好ましくは、焼結したブランクの形態で存在していてもよい。無機−無機コンポジットおよび組み合わせを調製するための他のガラスおよびガラスセラミックの例は、ＤＥ ４３ １４ ８１７号、ＤＥ ４４ ２３ ７９３号、ＤＥ
４４ ２３ ７９４号、ＤＥ ４４ ２８ ８３９号、ＤＥ １９６ ４７ ７３９号、ＤＥ １９７ ２５ ５５３号、ＤＥ １９７ ２５ ５５５号、ＤＥ １００ ３１
４３１号およびＤＥ １０ ２００７ ０１１ ３３７号に開示される。これらのガラスおよびガラスセラミックは、シリケート、ボレート、ホスフェートまたはアルミノシリ
ケートの群に属する。好ましいガラスおよびガラスセラミックは、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ型（立方晶または正方晶のリューサイト結晶）、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ型、アルカリ−シリケート型、アルカリ−亜鉛−シリケート型、シリコホスフェート型、ＳｉＯ２−ＺｒＯ２型および／またはリチウム−アルミノシリケート型（スポジュメン結晶）である。このようなガラスまたはガラスセラミックと本発明のガラスおよび／またはガラスセラミックとを混合することにより、例えば、熱膨張係数を、所望な場合、６・１０−６Ｋ−１〜２０・１０−６Ｋ−１の広範囲に調整することができる。
４４ ２３ ７９４号、ＤＥ ４４ ２８ ８３９号、ＤＥ １９６ ４７ ７３９号、ＤＥ １９７ ２５ ５５３号、ＤＥ １９７ ２５ ５５５号、ＤＥ １００ ３１
４３１号およびＤＥ １０ ２００７ ０１１ ３３７号に開示される。これらのガラスおよびガラスセラミックは、シリケート、ボレート、ホスフェートまたはアルミノシリ
ケートの群に属する。好ましいガラスおよびガラスセラミックは、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−Ｋ２Ｏ型（立方晶または正方晶のリューサイト結晶）、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ｎａ２Ｏ型、アルカリ−シリケート型、アルカリ−亜鉛−シリケート型、シリコホスフェート型、ＳｉＯ２−ＺｒＯ２型および／またはリチウム−アルミノシリケート型（スポジュメン結晶）である。このようなガラスまたはガラスセラミックと本発明のガラスおよび／またはガラスセラミックとを混合することにより、例えば、熱膨張係数を、所望な場合、６・１０−６Ｋ−１〜２０・１０−６Ｋ−１の広範囲に調整することができる。
実施例により、本発明を以下にさらに詳細に説明する。
（実施例１〜１４−組成物および結晶相）
表Ｉに与えた組成を有する本発明の合計１４種類のガラスおよびガラスセラミックを、対応する出発ガラスを溶融した後、制御された核生成および結晶化のための熱処理によって調製した。
表Ｉに与えた組成を有する本発明の合計１４種類のガラスおよびガラスセラミックを、対応する出発ガラスを溶融した後、制御された核生成および結晶化のための熱処理によって調製した。
このために、１００〜２００ｇの重さの出発ガラスを、第１に従来の原材料から１４００〜１５００℃で溶融させ、この溶融は、気泡または縞を形成することなく非常に簡単に可能であった。出発ガラスを水にそそぐことによって、ガラスフリットを調製し、次いで、第２の時間に、均質化のために１４５０〜１５５０℃で１〜３時間かけて溶融させた。
実施例１〜６および８〜１４の場合には、次いで、ガラスモノリスを生成するために、得られたガラス溶融物を、あらかじめ加熱しておいた型にそそいだ。
実施例７の場合には、得られたガラス溶融物を１４００℃まで冷却し、水にそそぐことによって微粒子顆粒材料に変換した。顆粒材料を乾燥し、粒径が９０μｍ未満の粉末に粉砕した。この粉末を水で湿らせ、プレス加工し、プレス加工圧２０ＭＰａで粉末圧粉体を形成した。
次いで、ガラスモノリス（実施例１〜６および８〜１４）および粉末圧粉体（実施例７）を、本発明のガラスおよびガラスセラミックを熱処理することによって変換した。制御された核化および制御された結晶化に使用する熱処理を表Ｉに記載する。以下の意味を適用する。
ＴＮおよびｔＮ 核化に使用する温度および時間
ＴＣおよびｔＣ 二ケイ酸リチウムまたはメタケイ酸リチウムの結晶化に使用する温度および時間
ＬＳ メタケイ酸リチウム。
ＴＮおよびｔＮ 核化に使用する温度および時間
ＴＣおよびｔＣ 二ケイ酸リチウムまたはメタケイ酸リチウムの結晶化に使用する温度および時間
ＬＳ メタケイ酸リチウム。
４８０〜５２０℃の範囲での第１の熱処理が、核を含むケイ酸リチウムガラスの形成を生じ、これらのガラスは、Ｘ線回折試験によって確立されたように、６４０〜７４０℃でのさらなる熱処理に起因して、二ケイ酸リチウムまたはメタケイ酸リチウムを主結晶相として含むガラスセラミックにすでに結晶化したことが見られ得る。
生成されたケイ酸リチウムガラスセラミックは、ＣＡＤ／ＣＡＭプロセスまたは熱プレス加工で種々の歯修復物の形態に非常に満足のいくように機械加工することができ、必要な場合、修復物は、ベニアも伴った。
生成された二ケイ酸リチウムガラスセラミックは、例えば、所望な場合、歯修復物を覆うために、特に、歯修復物へのコーティングとして熱プレス加工によって適用することもできた。
（実施例１５−粉末圧粉体による処理）
実施例１および１１のガラスセラミックを粉砕し、平均粒径が９０μｍ未満の粉末にした。
実施例１および１１のガラスセラミックを粉砕し、平均粒径が９０μｍ未満の粉末にした。
第１の変形例では、プレス加工補助剤を用いてか、または用いずに、得られた粉末をプレス加工して粉末圧粉体を得て、これを８００〜１１００℃の温度で部分的に焼結するか、または密に焼結し、次いで、機械加工または熱プレス加工によってさらに処理し、歯修復物を形成した。
第２の変形例では、プレス加工補助剤を用いてか、または用いずに、得られた粉末をプレス加工して粉末圧粉体を得て、次いで、これを機械加工によって、または熱プレス加工によってさらに処理し、歯修復物を形成した。特に、次いで、機械加工の後に得られた歯修復物を９００〜１１００℃の温度で密に焼結した。
両変形例では、特に、クラウン、キャップ、部分的なクラウン、およびインレー、ならびに歯科用セラミックおよび歯科用ガラスセラミックのコーティングを調製した。
（実施例１６−核を含むガラスの熱プレス加工）
酸化物またはカーボネートの形態で対応する原材料をＴｕｒｂｕｌａミキサーで３０分間混合し、次いで、白金るつぼでこの混合物を１４５０℃で１２０分溶融することによって、実施例７の組成物を含むガラスを調製した。微粒子顆粒ガラス材料を得るために、溶融物を水にそそいだ。特に高い均質性を有するガラス溶融物を得るために、この顆粒ガラス材料を１５３０℃で１５０分かけて再び溶融した。温度を３０分かけて１５００℃まで下げ、次いで、直径が１２．５ｍｍの円柱形ガラスブランクを、あらかじめ加熱しておいた分離可能な鋼鉄型またはグラファイト型にそそいだ。次いで、得られたガラス円柱形を５００℃で核化し、応力を緩和した。
酸化物またはカーボネートの形態で対応する原材料をＴｕｒｂｕｌａミキサーで３０分間混合し、次いで、白金るつぼでこの混合物を１４５０℃で１２０分溶融することによって、実施例７の組成物を含むガラスを調製した。微粒子顆粒ガラス材料を得るために、溶融物を水にそそいだ。特に高い均質性を有するガラス溶融物を得るために、この顆粒ガラス材料を１５３０℃で１５０分かけて再び溶融した。温度を３０分かけて１５００℃まで下げ、次いで、直径が１２．５ｍｍの円柱形ガラスブランクを、あらかじめ加熱しておいた分離可能な鋼鉄型またはグラファイト型にそそいだ。次いで、得られたガラス円柱形を５００℃で核化し、応力を緩和した。
核化したガラス円柱形を、ＥＰ６００プレス炉（Ｉｖｏｃｌａｒ Ｖｉｖａｄｅｎｔ ＡＧ）を用い、プレス加工温度９７０℃、およびプレス加工時間６分で熱プレス加工することによって処理し、歯修復物、例えば、インレー、オンレー、ベニア、部分的なクラウン、クラウン、積層材料および積層体を形成した。それぞれの場合に、二ケイ酸リチウムを主結晶相として検出した。
本発明の好ましい実施形態によれば、例えば、以下が提供される。
（項目１）
ＺｒＯ ２ 、ＴｉＯ ２ 、ＣｅＯ ２ 、ＧｅＯ ２ 、ＳｎＯ ２ およびこれらの混合物から選択される四価金属酸化物と、
少なくとも１２．１重量％のＬｉ ２ Ｏと、
０．１重量％未満のＬａ ２ Ｏ ３ と、
１．０重量％未満のＫ ２ Ｏと、
２．０重量％未満のＮａ ２ Ｏと
を含む、ケイ酸リチウムガラスセラミック。
（項目２）
少なくとも６．１重量％のＺｒＯ ２ を含むケイ酸リチウムガラスセラミックが除かれる、項目１に記載のガラスセラミック。
（項目３）
少なくとも８．５重量％の遷移金属酸化物を含み、該遷移金属酸化物が、イットリウム酸化物、原子番号が４１〜７９である遷移金属の酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群から選択されるガラスセラミックが除かれる、項目１または２に記載のガラスセラミック。
（項目４）
０．５重量％未満、特に、０．１重量％未満のＫ ２ Ｏを含み、好ましくは、実質的にＫ ２ Ｏを含まない、項目１〜３のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目５）
１．０重量％未満、特に、０．５重量％未満、好ましくは、０．１重量％未満のＮａ ２ Ｏを含み、実質的にＮａ ２ Ｏを含まない、項目１〜４のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目６）
実質的にＬａ ２ Ｏ ３ を含まない、項目１〜５のいずれか１項に記載のガラスセラミック。（項目７）
上記四価金属酸化物またはこれらの混合物を、０．１〜１５重量％、特に、２．０〜１５．０重量％、好ましくは、２．０〜８．０重量％の量で含む、項目１〜６のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目８）
主結晶相としてメタケイ酸リチウムを有し、特に、５体積％より多く、好ましくは、１０体積％より多く、特に好ましくは、１５体積％より多いメタケイ酸リチウム結晶を有する、項目１〜７のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目９）
主結晶相として二ケイ酸リチウムを有し、特に、１０体積％より多く、好ましくは、２０体積％より多く、特に好ましくは、３０体積％より多い二ケイ酸リチウム結晶を有する、項目１〜７のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目１０）
５５．０〜８２．０重量％、特に、５８．０〜８０．０重量％、好ましくは、６０．０〜８０．０重量％、特に好ましくは、６７．０〜７９．０重量％のＳｉＯ ２ を含む、項目１〜９のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目１１）
１２．５〜２０．０重量％、特に、１５．０〜１７．０重量％のＬｉ ２ Ｏを含む、項目１〜１０のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目１２）
０〜１０．０重量％、特に、０．５〜９．０重量％、好ましくは、２．５〜７．５重量％のＰ ２ Ｏ ５ を含む、項目１〜１１のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目１３）
以下の成分：
成分 重量％
ＳｉＯ ２ ５８．０〜７９．０
Ｌｉ ２ Ｏ １２．５〜２０．０
四価金属酸化物または混合物 ２．０〜１５．０
Ｐ ２ Ｏ ５ ０〜７．０、特に、０．５〜７．０
Ａｌ ２ Ｏ ３ ０〜６．０、特に、０．５〜３．５
の少なくとも１つ、好ましくは、すべてを含む、項目１〜１２のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目１４）
主結晶相として二ケイ酸リチウムを有し、Ｋ ＩＣ 値として測定される、少なくとも１．９ＭＰａ・ｍ ０．５ 、特に、２．３ＭＰａ・ｍ ０．５ より大きい破壊靱性を有する、項目１〜１３のいずれか１項に記載のケイ酸リチウムガラスセラミック。
（項目１５）
ＳｉＯ ２ およびＬｉ ２ Ｏを１．７〜３．１、特に、１．７５〜３．０のモル比、または少なくとも２．２、特に、２．３〜２．５、好ましくは約２．４のモル比で含む、項目１〜１３のいずれか１項に記載のケイ酸リチウムガラスセラミック。
（項目１６）
項目１〜７、１０〜１３または１５のいずれか１項に記載のガラスセラミックの成分を含む、出発ガラス。
（項目１７）
ケイ酸リチウムガラスであって、メタケイ酸リチウムおよび／または二ケイ酸リチウムの結晶を形成するのに適した核を含み、該ガラスが、項目１〜７、１０〜１３または１５のいずれか１項に記載のガラスセラミックの成分を含む、ケイ酸リチウムガラス。
（項目１８）
上記ガラスおよび上記ガラスセラミックが、粉末、顆粒材料、ブランクまたは歯修復物の形態で存在する、項目１〜１５のいずれか１項に記載のガラスセラミックまたは項目１６または１７に記載のガラス。
（項目１９）
項目１〜１５もしくは１８のいずれか１項に記載のガラスセラミック、または項目１７もしくは１８に記載のガラスを調製するプロセスであって、項目１６もしくは１８に記載の出発ガラス、項目１７もしくは１８に記載の核を含むガラス、または項目８、１０〜１５もしくは１８のいずれか１項に記載の主結晶相としてメタケイ酸リチウムを含むガラスセラミックが、４５０〜９５０℃、特に、４５０〜７５０℃、好ましくは、４８０〜７４０℃の範囲で少なくとも１つの熱処理に供される、プロセス。
（項目２０）
（ａ）上記核を含むガラスを形成するために、上記出発ガラスが、４８０〜５２０℃の温度で熱処理に供され、
（ｂ）上記主結晶相として二ケイ酸リチウムを含むガラスセラミックを形成するために、該核を含むガラスが、６４０〜７４０℃の温度で熱処理に供される、項目１９に記載のプロセス。
（項目２１）
歯科材料としての、特に、歯修復物をコーティングするための歯科材料としての、好ましくは、歯修復物を調製するための歯科材料としての、項目１〜１５もしくは１８のいずれか１項に記載のガラスセラミックの使用、または項目１６〜１８のいずれか１項に記載のガラスの使用。
（項目２２）
プレス加工または機械加工によって上記ガラスセラミックまたは上記ガラスが、望ましい歯修復物、特に、ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、部分的なクラウン、クラウン、ファセットまたはアバットメントに成形される、項目２１に記載の歯修復物を調製するための使用。
（項目１）
ＺｒＯ ２ 、ＴｉＯ ２ 、ＣｅＯ ２ 、ＧｅＯ ２ 、ＳｎＯ ２ およびこれらの混合物から選択される四価金属酸化物と、
少なくとも１２．１重量％のＬｉ ２ Ｏと、
０．１重量％未満のＬａ ２ Ｏ ３ と、
１．０重量％未満のＫ ２ Ｏと、
２．０重量％未満のＮａ ２ Ｏと
を含む、ケイ酸リチウムガラスセラミック。
（項目２）
少なくとも６．１重量％のＺｒＯ ２ を含むケイ酸リチウムガラスセラミックが除かれる、項目１に記載のガラスセラミック。
（項目３）
少なくとも８．５重量％の遷移金属酸化物を含み、該遷移金属酸化物が、イットリウム酸化物、原子番号が４１〜７９である遷移金属の酸化物、およびこれらの酸化物の混合物からなる群から選択されるガラスセラミックが除かれる、項目１または２に記載のガラスセラミック。
（項目４）
０．５重量％未満、特に、０．１重量％未満のＫ ２ Ｏを含み、好ましくは、実質的にＫ ２ Ｏを含まない、項目１〜３のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目５）
１．０重量％未満、特に、０．５重量％未満、好ましくは、０．１重量％未満のＮａ ２ Ｏを含み、実質的にＮａ ２ Ｏを含まない、項目１〜４のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目６）
実質的にＬａ ２ Ｏ ３ を含まない、項目１〜５のいずれか１項に記載のガラスセラミック。（項目７）
上記四価金属酸化物またはこれらの混合物を、０．１〜１５重量％、特に、２．０〜１５．０重量％、好ましくは、２．０〜８．０重量％の量で含む、項目１〜６のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目８）
主結晶相としてメタケイ酸リチウムを有し、特に、５体積％より多く、好ましくは、１０体積％より多く、特に好ましくは、１５体積％より多いメタケイ酸リチウム結晶を有する、項目１〜７のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目９）
主結晶相として二ケイ酸リチウムを有し、特に、１０体積％より多く、好ましくは、２０体積％より多く、特に好ましくは、３０体積％より多い二ケイ酸リチウム結晶を有する、項目１〜７のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目１０）
５５．０〜８２．０重量％、特に、５８．０〜８０．０重量％、好ましくは、６０．０〜８０．０重量％、特に好ましくは、６７．０〜７９．０重量％のＳｉＯ ２ を含む、項目１〜９のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目１１）
１２．５〜２０．０重量％、特に、１５．０〜１７．０重量％のＬｉ ２ Ｏを含む、項目１〜１０のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目１２）
０〜１０．０重量％、特に、０．５〜９．０重量％、好ましくは、２．５〜７．５重量％のＰ ２ Ｏ ５ を含む、項目１〜１１のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目１３）
以下の成分：
成分 重量％
ＳｉＯ ２ ５８．０〜７９．０
Ｌｉ ２ Ｏ １２．５〜２０．０
四価金属酸化物または混合物 ２．０〜１５．０
Ｐ ２ Ｏ ５ ０〜７．０、特に、０．５〜７．０
Ａｌ ２ Ｏ ３ ０〜６．０、特に、０．５〜３．５
の少なくとも１つ、好ましくは、すべてを含む、項目１〜１２のいずれか１項に記載のガラスセラミック。
（項目１４）
主結晶相として二ケイ酸リチウムを有し、Ｋ ＩＣ 値として測定される、少なくとも１．９ＭＰａ・ｍ ０．５ 、特に、２．３ＭＰａ・ｍ ０．５ より大きい破壊靱性を有する、項目１〜１３のいずれか１項に記載のケイ酸リチウムガラスセラミック。
（項目１５）
ＳｉＯ ２ およびＬｉ ２ Ｏを１．７〜３．１、特に、１．７５〜３．０のモル比、または少なくとも２．２、特に、２．３〜２．５、好ましくは約２．４のモル比で含む、項目１〜１３のいずれか１項に記載のケイ酸リチウムガラスセラミック。
（項目１６）
項目１〜７、１０〜１３または１５のいずれか１項に記載のガラスセラミックの成分を含む、出発ガラス。
（項目１７）
ケイ酸リチウムガラスであって、メタケイ酸リチウムおよび／または二ケイ酸リチウムの結晶を形成するのに適した核を含み、該ガラスが、項目１〜７、１０〜１３または１５のいずれか１項に記載のガラスセラミックの成分を含む、ケイ酸リチウムガラス。
（項目１８）
上記ガラスおよび上記ガラスセラミックが、粉末、顆粒材料、ブランクまたは歯修復物の形態で存在する、項目１〜１５のいずれか１項に記載のガラスセラミックまたは項目１６または１７に記載のガラス。
（項目１９）
項目１〜１５もしくは１８のいずれか１項に記載のガラスセラミック、または項目１７もしくは１８に記載のガラスを調製するプロセスであって、項目１６もしくは１８に記載の出発ガラス、項目１７もしくは１８に記載の核を含むガラス、または項目８、１０〜１５もしくは１８のいずれか１項に記載の主結晶相としてメタケイ酸リチウムを含むガラスセラミックが、４５０〜９５０℃、特に、４５０〜７５０℃、好ましくは、４８０〜７４０℃の範囲で少なくとも１つの熱処理に供される、プロセス。
（項目２０）
（ａ）上記核を含むガラスを形成するために、上記出発ガラスが、４８０〜５２０℃の温度で熱処理に供され、
（ｂ）上記主結晶相として二ケイ酸リチウムを含むガラスセラミックを形成するために、該核を含むガラスが、６４０〜７４０℃の温度で熱処理に供される、項目１９に記載のプロセス。
（項目２１）
歯科材料としての、特に、歯修復物をコーティングするための歯科材料としての、好ましくは、歯修復物を調製するための歯科材料としての、項目１〜１５もしくは１８のいずれか１項に記載のガラスセラミックの使用、または項目１６〜１８のいずれか１項に記載のガラスの使用。
（項目２２）
プレス加工または機械加工によって上記ガラスセラミックまたは上記ガラスが、望ましい歯修復物、特に、ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、部分的なクラウン、クラウン、ファセットまたはアバットメントに成形される、項目２１に記載の歯修復物を調製するための使用。
Claims (17)
- ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＣｅＯ２、ＧｅＯ２、ＳｎＯ２およびこれらの混合物から選択される四価金属酸化物と、
５５．０〜７９．０質量％のＳｉＯ２と、
少なくとも１２．１質量％のＬｉ２Ｏと、
０．１質量％未満のＬａ２Ｏ３と、
１．０質量％未満のＫ２Ｏと、
２．０質量％未満のＮａ２Ｏと
を含むケイ酸リチウムガラスセラミックの、歯修復物の調製のための使用であって、
ここで、該ガラスセラミックが、プレス加工または機械加工によって望ましい歯修復物に成形され、
ここで、該ガラスセラミックが、メタケイ酸リチウムまたは二ケイ酸リチウムを主結晶相として有する、
使用。 - 前記ガラスセラミックが、実質的にＫ２Ｏを含まない、請求項１に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、実質的にＮａ２Ｏを含まない、請求項１または２に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、実質的にＬａ２Ｏ３を含まない、請求項１〜３のいずれか１項に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、前記四価金属酸化物またはこれらの混合物を、０．１〜１５．０質量％の量で含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、５８．０〜７９．０質量％のＳｉＯ２を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、１２．１〜２０．０質量％のＬｉ２Ｏを含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、０〜１０．０質量％のＰ２Ｏ５を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、以下の成分：
成分 質量％
ＳｉＯ２ ５８．０〜７９．０
Ｌｉ２Ｏ １２．５〜２０．０
四価金属酸化物または混合物 ２．０〜１５．０
Ｐ２Ｏ５ ０〜７．０
Ａｌ２Ｏ３ ０〜６．０
の少なくとも１つを含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の使用。 - 前記ガラスセラミックが、ＳｉＯ２およびＬｉ２Ｏを１．７〜３．１のモル比で含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、主結晶相としてメタケイ酸リチウムを有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、５体積％より多いメタケイ酸リチウム結晶を有する、請求項１１に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、主結晶相として二ケイ酸リチウムを有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、１０体積％より多い二ケイ酸リチウム結晶を有する、請求項１３に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、ＫＩＣ値として測定される、少なくとも１．９ＭＰａ・ｍ０．５の破壊靱性を有する、請求項１３または１４のいずれか１項に記載の使用。
- 前記ガラスセラミックが、粉末、顆粒材料、またはブランクの形態で存在する、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の使用。
- 前記歯修復物は、ブリッジ、インレー、オンレー、ベニア、部分的なクラウン、クラウン、ファセットまたはアバットメントである、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP11185338.8 | 2011-10-14 | ||
| EP11185338 | 2011-10-14 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014535092A Division JP6158192B2 (ja) | 2011-10-14 | 2012-10-11 | 四価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017200588A JP2017200588A (ja) | 2017-11-09 |
| JP6470793B2 true JP6470793B2 (ja) | 2019-02-13 |
Family
ID=47008625
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014535092A Active JP6158192B2 (ja) | 2011-10-14 | 2012-10-11 | 四価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
| JP2017112747A Active JP6470793B2 (ja) | 2011-10-14 | 2017-06-07 | 四価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014535092A Active JP6158192B2 (ja) | 2011-10-14 | 2012-10-11 | 四価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
Country Status (15)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US9695082B2 (ja) |
| EP (1) | EP2765976B1 (ja) |
| JP (2) | JP6158192B2 (ja) |
| KR (2) | KR20160130513A (ja) |
| CN (2) | CN108996911A (ja) |
| BR (1) | BR112014008576A2 (ja) |
| CA (1) | CA2851408C (ja) |
| DE (1) | DE112012004256A5 (ja) |
| DK (1) | DK2765976T3 (ja) |
| ES (1) | ES2566555T3 (ja) |
| HU (1) | HUE027255T2 (ja) |
| MX (1) | MX350429B (ja) |
| PL (1) | PL2765976T3 (ja) |
| RU (1) | RU2633485C2 (ja) |
| WO (1) | WO2013053866A2 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10336913C9 (de) | 2003-08-07 | 2019-02-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Verwendung eines Lithiumsilicatmaterials |
| EP2377830B1 (de) | 2010-04-16 | 2016-04-13 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit Übergangsmetalloxid |
| DE102013104561A1 (de) * | 2013-05-03 | 2014-11-06 | Degudent Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Rohlings sowie Rohling |
| SE538261C2 (sv) * | 2013-10-18 | 2016-04-19 | Harryson Consulting GmbH | Ett glaskeramiskt pulver, metod för tillverkning av och metod för beredning av kompakterade och sintrade kroppar från ett glaskeramiskt pulver och kropp tillverkad därav |
| EP3168199B1 (de) * | 2015-11-11 | 2022-04-13 | Ivoclar Vivadent AG | Verfahren zur herstellung von gläsern und glaskeramiken mit sio2 als hauptkristallphase |
| JP6993093B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2022-01-13 | 株式会社松風 | Ａｌ２Ｏ３未含有のケイ酸リチウムガラス組成物 |
| US20190256407A1 (en) | 2016-06-24 | 2019-08-22 | Corning Incorporated | Zirconia-toughened glass ceramics |
| CN106668947A (zh) * | 2017-01-01 | 2017-05-17 | 广州锋尚电器有限公司 | 激光3d打印制备石墨烯增强仿生牙齿材料的方法 |
| JP7166128B2 (ja) * | 2017-10-02 | 2022-11-07 | 株式会社松風 | 高い遮蔽性を有する高強度ケイ酸リチウムガラス組成物 |
| DE102018104839A1 (de) | 2018-03-02 | 2019-09-05 | Friedmar Hütter | Ohrimplantat |
| EP3696150A1 (de) | 2019-02-14 | 2020-08-19 | Ivoclar Vivadent AG | Fluoreszierende glaskeramiken und gläser mit gehalt an europium |
| EP3696149A1 (de) | 2019-02-14 | 2020-08-19 | Ivoclar Vivadent AG | Fluoreszierende glaskeramiken und gläser mit gehalt an cer und zinn |
| CN110981204B (zh) * | 2019-12-27 | 2022-09-02 | 深圳爱尔创口腔技术有限公司 | 一种荧光硅酸锂玻璃材料及其制备方法与应用 |
| CN113185118B (zh) * | 2021-04-16 | 2022-09-06 | 泰山玻璃纤维邹城有限公司 | 一种直接纱飞丝后玻璃纤维纱卷tex的控制方法 |
| EP4201900A3 (de) | 2021-12-23 | 2023-07-05 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-glaskeramik mit gehalt an zinn |
| CN114315158B (zh) * | 2021-12-24 | 2024-05-17 | 晋城市光机电产业协调服务中心(晋城市光机电产业研究院) | 陶瓷玻璃、强化陶瓷玻璃制品及其制备方法 |
| CN116354605A (zh) * | 2023-03-01 | 2023-06-30 | 深圳玉汝成口腔材料有限公司 | 牙科玻璃陶瓷及其制备方法 |
| CN116409935A (zh) * | 2023-04-19 | 2023-07-11 | 福州瑞克布朗医药科技有限公司 | 二硅酸锂玻璃陶瓷及其制备方法和牙科修复体 |
Family Cites Families (105)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE513836A (ja) | 1951-08-30 | |||
| BE526937A (ja) * | 1953-03-05 | 1954-09-03 | ||
| US2971853A (en) * | 1953-03-05 | 1961-02-14 | Corning Glass Works | Ceramic body and method of making it |
| US3006775A (en) | 1959-09-23 | 1961-10-31 | Gen Electric | Ceramic material and method of making the same |
| US3022180A (en) | 1959-09-23 | 1962-02-20 | Gen Electric | Ceramic material and method of making the same |
| BE638175A (ja) | 1962-10-03 | |||
| US3252778A (en) | 1964-02-26 | 1966-05-24 | Goodman Philip | Method of making a high strength semicrystalline article |
| GB1374605A (en) | 1971-05-24 | 1974-11-20 | Pilkington Brothers Ltd | Method of manufacturing glass ceramic material |
| US3816704A (en) | 1972-03-20 | 1974-06-11 | Gen Electric | Surface heating apparatus |
| US3977857A (en) | 1973-10-29 | 1976-08-31 | Westinghouse Electric Corporation | Metal bonding glass-ceramic compositions having improved hardness |
| DE2451121A1 (de) | 1973-10-31 | 1975-05-07 | Gen Electric | Verfahren zum herstellen von glaskeramiken |
| GB1495022A (en) | 1975-06-11 | 1977-12-14 | Atomic Energy Authority Uk | Glassceramic fibres |
| US4155888A (en) | 1978-04-17 | 1979-05-22 | A. E. Staley Manufacturing Company | Water-absorbent starches |
| US4189325A (en) | 1979-01-09 | 1980-02-19 | The Board of Regents, State of Florida, University of Florida | Glass-ceramic dental restorations |
| US4414282A (en) | 1982-04-19 | 1983-11-08 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Glass ceramic seals to inconel |
| US4473653A (en) | 1982-08-16 | 1984-09-25 | Rudoi Boris L | Ballistic-resistant glass-ceramic and method of preparation |
| US4515634A (en) * | 1983-10-17 | 1985-05-07 | Johnson & Johnson Dental Products Company | Castable glass-ceramic composition useful as dental restorative |
| US4480044A (en) * | 1984-02-01 | 1984-10-30 | Corning Glass Works | High expansion glass-ceramic articles |
| US4671770A (en) | 1984-04-03 | 1987-06-09 | Denpac Corp. | High strength porcelain dental prosthetic device |
| CH668699A5 (de) | 1986-01-17 | 1989-01-31 | Sonja Wohlwend Erne | Verfahren zum herstellen von zahnersatzteilen. |
| JPS63139050A (ja) | 1986-11-28 | 1988-06-10 | 住友化学工業株式会社 | ジルコニア質セラミツクス |
| JPH0815669B2 (ja) | 1988-07-06 | 1996-02-21 | 日本電装株式会社 | 抵抗溶接用制御装置 |
| JPH02196048A (ja) | 1989-01-23 | 1990-08-02 | Itochu Shoji Kk | 感光性ガラス |
| JP2764771B2 (ja) | 1991-10-01 | 1998-06-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| US5219799A (en) | 1991-10-07 | 1993-06-15 | Corning Incorporated | Lithium disilicate-containing glass-ceramics some of which are self-glazing |
| US5176961A (en) | 1991-10-07 | 1993-01-05 | Corning Incorporated | Colored, textured glass-ceramic articles |
| DE4303458C1 (de) | 1993-02-08 | 1994-01-27 | Hinterberger Dr Karl | Brennofen |
| DE4314817A1 (de) | 1993-04-30 | 1994-11-03 | Ivoclar Ag | Opaleszierendes Glas |
| JP2516553B2 (ja) | 1993-05-19 | 1996-07-24 | 株式会社オハラ | 磁気ディスク用結晶化ガラスおよびその製造方法 |
| SE501333C2 (sv) | 1993-05-27 | 1995-01-16 | Sandvik Ab | Metod för framställning av keramiska tandrestaurationer |
| GB9319450D0 (en) | 1993-09-21 | 1995-03-08 | Gec Alsthom Ltd | Transparent glass ceramic |
| EP0678489A1 (de) | 1994-04-19 | 1995-10-25 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Alumina-Sinterprodukt und Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE4414391C2 (de) | 1994-04-26 | 2001-02-01 | Steag Rtp Systems Gmbh | Verfahren für wellenvektorselektive Pyrometrie in Schnellheizsystemen |
| US5507981A (en) | 1994-05-31 | 1996-04-16 | Tel Ventures, Inc. | Method for molding dental restorations |
| US6485849B2 (en) | 1994-05-31 | 2002-11-26 | Tec Ventures, Inc. | Method for molding dental restorations and related apparatus |
| US6818573B2 (en) * | 1994-05-31 | 2004-11-16 | Tec Ventures, Inc. | Method for molding dental restorations and related apparatus |
| DE4423794C1 (de) | 1994-07-01 | 1996-02-08 | Ivoclar Ag | Zr0¶2¶-haltige Glaskeramik, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
| DE4423793C1 (de) | 1994-07-01 | 1996-02-22 | Ivoclar Ag | Leucithaltige Phosphosilikat-Glaskeramik, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE4428839C2 (de) | 1994-08-01 | 1997-01-23 | Ivoclar Ag | Alkali-Zink-Silicat-Glaskeramiken und -Gläser und Verfahren zur Herstellung der Glaskeramiken |
| DE19511396A1 (de) | 1995-03-28 | 1996-10-02 | Arnold Wohlwend | Verfahren zur Herstellung eines prothetischen Zahninlays bzw. einer prothetischen Zahnkrone |
| DE69623240T2 (de) | 1995-06-21 | 2003-03-27 | Ngk Insulators Ltd | Magnetplattenträger, magnetische platte und verfahren zur herstellung des magnetplattenträgers |
| US5691256A (en) | 1995-12-28 | 1997-11-25 | Yamamura Glass Co., Ltd. | Glass composition for magnetic disk substrates and magnetic disk substrate |
| DE19647739C2 (de) | 1996-09-05 | 2001-03-01 | Ivoclar Ag Schaan | Sinterbare Lithiumdisilikat-Glaskeramik sowie Glas |
| EP0827941B1 (de) | 1996-09-05 | 1999-11-03 | Ivoclar Ag | Sinterbare Lithiumdisilikat-Glaskeramik |
| US5968856A (en) | 1996-09-05 | 1999-10-19 | Ivoclar Ag | Sinterable lithium disilicate glass ceramic |
| JP3140702B2 (ja) | 1996-12-20 | 2001-03-05 | 日本碍子株式会社 | 磁気ディスク基板用結晶化ガラス、磁気ディスク基板および磁気ディスク |
| DE19700141A1 (de) | 1997-01-04 | 1998-07-09 | Gero Hochtemperaturoefen Gmbh | Brennofen für die Hochtemperaturbehandlung von Materialien mit niedrigem dielektrischem Verlustfaktor |
| JPH10323354A (ja) | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Noritake Co Ltd | 歯科用結晶化陶材フレームコア及びその製造方法 |
| US6121175A (en) | 1997-06-12 | 2000-09-19 | Ivoclar Ag | Alkali silicate glass |
| DE19725555A1 (de) | 1997-06-12 | 1998-12-24 | Ivoclar Ag | Transluzente Apatit-Glaskeramik |
| DE19725553A1 (de) | 1997-06-12 | 1998-12-24 | Ivoclar Ag | Chemisch stabile transluzente Apatit-Glaskeramik |
| JP3426926B2 (ja) | 1997-08-29 | 2003-07-14 | 京セラ株式会社 | 配線基板およびその実装構造 |
| ATE234049T1 (de) | 1997-10-31 | 2003-03-15 | Dcs Forschungs & Entwicklungs | Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines zahnersatzteiles |
| US6420288B2 (en) | 1997-11-10 | 2002-07-16 | Ivoclar Ag | Process for the preparation of shaped translucent lithium disilicate glass ceramic products |
| DE19750794A1 (de) | 1997-11-10 | 1999-06-17 | Ivoclar Ag | Verfahren zur Herstellung von geformten transluzenten Lithiumdisilikat-Glaskeramik-Produkten |
| DE19853513A1 (de) | 1997-11-21 | 1999-05-27 | Omega Engineering | Kombination aus Pyrometer und Multimeter |
| US6252202B1 (en) | 1998-02-10 | 2001-06-26 | Jeneric/Pentron, Inc. | Furnace for heat treatment of dental materials |
| US6383645B1 (en) | 1998-03-23 | 2002-05-07 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic substrate for an information storage medium |
| US5938959A (en) | 1998-04-07 | 1999-08-17 | Testrite Baparoma International Llc | Oven with automatically movable shelf |
| US6802894B2 (en) | 1998-12-11 | 2004-10-12 | Jeneric/Pentron Incorporated | Lithium disilicate glass-ceramics |
| US20050127544A1 (en) | 1998-06-12 | 2005-06-16 | Dmitri Brodkin | High-strength dental restorations |
| US6517623B1 (en) | 1998-12-11 | 2003-02-11 | Jeneric/Pentron, Inc. | Lithium disilicate glass ceramics |
| US7655586B1 (en) | 2003-05-29 | 2010-02-02 | Pentron Ceramics, Inc. | Dental restorations using nanocrystalline materials and methods of manufacture |
| JP2000143290A (ja) | 1998-11-09 | 2000-05-23 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板、磁気ディスクおよび結晶化ガラスの製造方法 |
| WO2000034196A2 (en) | 1998-12-11 | 2000-06-15 | Jeneric/Pentron Incorporated | Pressable lithium disilicate glass ceramics |
| DE19904523B4 (de) | 1999-02-04 | 2012-03-15 | 3M Espe Ag | Verfahren zum dimensionstreuen Sintern von Keramik und keramisches Zahnersatzteil |
| DE19916336C2 (de) | 1999-04-12 | 2001-03-01 | Edenta Ag, Au | Rotierendes Werkzeug zur spanabhebenden Bearbeitung von Werkstücken |
| JP4337176B2 (ja) | 1999-07-06 | 2009-09-30 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成 |
| JP2001019485A (ja) | 1999-07-06 | 2001-01-23 | Minolta Co Ltd | ガラス組成 |
| US6157004A (en) | 1999-09-29 | 2000-12-05 | Peacock Limited L.C. | Electric heating or preheating furnace particularly for lining cylinders and/or for firing metal-ceramic |
| ES2243341T5 (es) | 1999-12-07 | 2013-08-22 | Ce.Novation Gmbh | Procedimiento para fabricar una prótesis dental cerámica |
| EP1249156A4 (en) | 1999-12-28 | 2004-11-17 | Corning Inc | HYBRID METHOD FOR BURNING CERAMIC PRODUCTS |
| JP2001288027A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-10-16 | Tec Ventures Inc | 歯科修復物の形成方法及び関連の装置 |
| DE10021528A1 (de) | 2000-05-03 | 2001-11-22 | Pueschner Gmbh & Co Kg | Mikrowellenofen zum Aufheizen von Brenngut |
| CN1125789C (zh) | 2000-05-16 | 2003-10-29 | 湖北新华光信息材料股份有限公司 | 一种高强度磁盘基板用微晶玻璃及其制造方法 |
| US6626986B2 (en) | 2000-06-28 | 2003-09-30 | Ivoclar Vivadent Ag | Low-temperature-sintering potassium-zinc-silicate glass |
| US6620747B2 (en) | 2000-06-28 | 2003-09-16 | Ivoclar Vivadent Ag | Low temperature-sintering apatite glass ceramic |
| DE10031431B4 (de) | 2000-06-28 | 2008-03-13 | Ivoclar Vivadent Ag | Tiefsinterndes Kalium-Zink-Silicat-Glas und dessen Verwendung |
| EP1356008B9 (en) | 2000-10-06 | 2012-08-15 | 3M Innovative Properties Company | Agglomerate abrasive grain and a method of making the same |
| RU2169712C1 (ru) * | 2000-10-26 | 2001-06-27 | Халилев Владимир Девлетович | Высокопрочный ситалл и способ его получения |
| US6441346B1 (en) | 2001-09-04 | 2002-08-27 | Jeneric/Pentron, Inc. | Burn-out furnace |
| DE10303124B3 (de) | 2003-01-27 | 2004-10-28 | BEGO Bremer Goldschlägerei Wilh. Herbst GmbH & Co. | Vorrichtung und Verfahren zur Durchführung eines Schmelz- und Gießvorgangs |
| JP2005062832A (ja) | 2003-07-28 | 2005-03-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | マイクロレンズ及びマイクロレンズアレイ |
| US7955159B2 (en) * | 2003-08-07 | 2011-06-07 | Ivoclar Vivadent Ag | Machining of ceramic materials |
| US8444756B2 (en) | 2003-08-07 | 2013-05-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithium silicate materials |
| DE10336913C9 (de) | 2003-08-07 | 2019-02-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Verwendung eines Lithiumsilicatmaterials |
| DE102004026433A1 (de) * | 2004-05-29 | 2005-12-22 | Schott Ag | Nanoglaspulver und deren Verwendung |
| US20070023971A1 (en) | 2004-09-01 | 2007-02-01 | Subrata Saha | Method of microwave processing ceramics and microwave hybrid heating system for same |
| EP2261184B8 (en) | 2005-02-08 | 2017-05-31 | Ivoclar Vivadent AG | Lithium silicate glass ceramic |
| ES2489523T3 (es) | 2005-02-08 | 2014-09-02 | Ivoclar Vivadent Ag | Material vitrocerámico de silicato de litio |
| DE102005023106A1 (de) | 2005-05-13 | 2006-11-16 | Sirona Dental Systems Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Zahnersatzteils, Zahnersatzteil, Bauteil und Rohling hierzu |
| DE102005023105B4 (de) | 2005-05-13 | 2012-09-06 | Sirona Dental Systems Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Zahnersatzteils und ein derart hergestelltes Zahnersatzteil |
| DE102005026269A1 (de) | 2005-06-08 | 2006-12-14 | Ivoclar Vivadent Ag | Dentalglaskeramiken |
| WO2007028787A1 (de) | 2005-09-05 | 2007-03-15 | Ivoclar Vivadent Ag | Keramischer zahnersatz und verfahren zu dessen herstellung |
| EP1968476A1 (en) | 2005-12-29 | 2008-09-17 | 3M Innovative Properties Company | Abrasive tool including agglomerate particles and an elastomer, and related methods |
| DE202007008520U1 (de) | 2007-02-21 | 2008-07-03 | Dekema Dental-Keramiköfen GmbH | Brenngutträger |
| DE102007011337A1 (de) * | 2007-03-06 | 2008-09-11 | Hermsdorfer Institut Für Technische Keramik E.V. | Verblendkeramik für dentale Restaurationen aus yttriumstabilisiertem Zirkoniumdioxid und Verfahren zur Verblendung von dentalen Restaurationen aus yttriumstabilisiertem Zirkoniumdioxid |
| US9241879B2 (en) | 2008-04-11 | 2016-01-26 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances |
| US7892995B2 (en) | 2008-04-11 | 2011-02-22 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic and method for fabrication of dental appliances |
| US20090258778A1 (en) | 2008-04-11 | 2009-10-15 | James R., Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances |
| US20100083706A1 (en) | 2008-04-11 | 2010-04-08 | James R., Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances |
| DE202009019061U1 (de) | 2009-12-23 | 2016-02-23 | Degudent Gmbh | Lithiummetasilicat-Glaskeramik und deren Verwendung |
| EP2377830B1 (de) | 2010-04-16 | 2016-04-13 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit Übergangsmetalloxid |
| US20120148988A1 (en) | 2010-12-14 | 2012-06-14 | James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. | Indirect restoration technology |
| US9260342B2 (en) | 2011-04-20 | 2016-02-16 | Straumann Holding Ag | Process for preparing a glass-ceramic body |
-
2012
- 2012-10-11 RU RU2014119249A patent/RU2633485C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2012-10-11 MX MX2014004511A patent/MX350429B/es active IP Right Grant
- 2012-10-11 PL PL12770152T patent/PL2765976T3/pl unknown
- 2012-10-11 EP EP12770152.2A patent/EP2765976B1/de active Active
- 2012-10-11 KR KR1020167030026A patent/KR20160130513A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-10-11 CN CN201810965971.8A patent/CN108996911A/zh active Pending
- 2012-10-11 CA CA2851408A patent/CA2851408C/en active Active
- 2012-10-11 KR KR1020147012089A patent/KR20140075778A/ko active Search and Examination
- 2012-10-11 ES ES12770152.2T patent/ES2566555T3/es active Active
- 2012-10-11 DE DE112012004256.5T patent/DE112012004256A5/de not_active Withdrawn
- 2012-10-11 JP JP2014535092A patent/JP6158192B2/ja active Active
- 2012-10-11 CN CN201280049641.5A patent/CN103945819A/zh active Pending
- 2012-10-11 US US14/001,185 patent/US9695082B2/en active Active
- 2012-10-11 WO PCT/EP2012/070222 patent/WO2013053866A2/de active Application Filing
- 2012-10-11 DK DK12770152.2T patent/DK2765976T3/en active
- 2012-10-11 BR BR112014008576A patent/BR112014008576A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2012-10-11 HU HUE12770152A patent/HUE027255T2/en unknown
-
2017
- 2017-01-11 US US15/403,714 patent/US10160687B2/en active Active
- 2017-06-07 JP JP2017112747A patent/JP6470793B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2765976A2 (de) | 2014-08-20 |
| DK2765976T3 (en) | 2016-05-17 |
| DE112012004256A5 (de) | 2014-08-28 |
| CN108996911A (zh) | 2018-12-14 |
| US10160687B2 (en) | 2018-12-25 |
| BR112014008576A2 (pt) | 2017-04-18 |
| CA2851408C (en) | 2017-08-01 |
| US9695082B2 (en) | 2017-07-04 |
| WO2013053866A3 (de) | 2013-08-08 |
| WO2013053866A8 (de) | 2013-06-27 |
| KR20140075778A (ko) | 2014-06-19 |
| KR20160130513A (ko) | 2016-11-11 |
| RU2014119249A (ru) | 2015-11-20 |
| PL2765976T3 (pl) | 2016-07-29 |
| US20140223965A1 (en) | 2014-08-14 |
| JP2015504400A (ja) | 2015-02-12 |
| JP6158192B2 (ja) | 2017-07-05 |
| MX2014004511A (es) | 2014-05-28 |
| EP2765976B1 (de) | 2016-02-24 |
| MX350429B (es) | 2017-09-05 |
| WO2013053866A2 (de) | 2013-04-18 |
| US20170121216A1 (en) | 2017-05-04 |
| CA2851408A1 (en) | 2013-04-18 |
| CN103945819A (zh) | 2014-07-23 |
| RU2633485C2 (ru) | 2017-10-12 |
| JP2017200588A (ja) | 2017-11-09 |
| ES2566555T3 (es) | 2016-04-13 |
| HUE027255T2 (en) | 2016-10-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6470793B2 (ja) | 四価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス | |
| US10358380B2 (en) | Lithium silicate glass ceramic and glass with divalent metal oxide | |
| JP5926808B2 (ja) | 三価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス | |
| JP6633278B2 (ja) | 一価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス | |
| JP2017218379A (ja) | 五価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス | |
| JP5990272B2 (ja) | 六価の金属酸化物を含むケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180501 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180801 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190104 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190118 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6470793 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |