JP6364008B2 - 有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 - Google Patents
有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6364008B2 JP6364008B2 JP2015527311A JP2015527311A JP6364008B2 JP 6364008 B2 JP6364008 B2 JP 6364008B2 JP 2015527311 A JP2015527311 A JP 2015527311A JP 2015527311 A JP2015527311 A JP 2015527311A JP 6364008 B2 JP6364008 B2 JP 6364008B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- active energy
- energy ray
- curable resin
- resin composition
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 95
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 74
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 71
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 66
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 140
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 70
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 55
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 44
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 43
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 claims description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 37
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 29
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 28
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 16
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 15
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 claims description 12
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 12
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000003607 modifier Substances 0.000 claims description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 claims description 10
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 9
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 7
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 31
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 29
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 21
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 18
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 16
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 14
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002585 base Substances 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 9
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 5
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 5
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 5
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 5
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 5
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWLDCNACDPTRMY-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCC[Si](OCC)(OCC)OCC RWLDCNACDPTRMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCC[Si](OC)(OC)OC TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 3
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 3
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 3
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 3
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 3
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 3
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYWKBIVCHPPAOQ-UHFFFAOYSA-N 1-triethoxysilyl-n-(triethoxysilylmethyl)methanamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CNC[Si](OCC)(OCC)OCC OYWKBIVCHPPAOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROWKJAVDOGWPAT-UHFFFAOYSA-N Acetoin Chemical compound CC(O)C(C)=O ROWKJAVDOGWPAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(propyl)silyl]oxymethyl prop-2-enoate Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OCOC(=O)C=C RMKZLFMHXZAGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N coronene Chemical compound C1=C(C2=C34)C=CC3=CC=C(C=C3)C4=C4C3=CC=C(C=C3)C4=C2C3=C1 VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 150000003458 sulfonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 125000005409 triarylsulfonium group Chemical group 0.000 description 2
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N (2-oxo-1,2-diphenylethyl) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=CC=CC=C1 DLDWUFCUUXXYTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N (4-methoxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 SWFHGTMLYIBPPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDQXKKFRNOPRDW-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-triethoxyethane Chemical compound CCOC(C)(OCC)OCC NDQXKKFRNOPRDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPNBNXLBDFELL-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trimethoxyethane Chemical compound COC(C)(OC)OC HDPNBNXLBDFELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(O)C(O)CO JWTGRKUQJXIWCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940105324 1,2-naphthoquinone Drugs 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSQCDSLKHKXTP-UHFFFAOYSA-N 1-butoxyethane-1,1-diol Chemical compound CCCCOC(C)(O)O WFSQCDSLKHKXTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- RERNTRRRTBAEOG-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-4-sulfosulfonylbenzene;pyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1CCC(=O)N1.CC1=CC=C(S(=O)(=O)S(O)(=O)=O)C=C1 RERNTRRRTBAEOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNDFKMXAOATGJU-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-2-sulfonylethanone Chemical class O=S(=O)=CC(=O)C1=CC=CC=C1 FNDFKMXAOATGJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-thiol Chemical compound CC(C)C(C)(C)C(C)(C)C(C)(C)S YAJYJWXEWKRTPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWSKCAVEJNPBX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxy-2-phenylacetyl)benzenesulfonic acid Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O FEWSKCAVEJNPBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SFRDXVJWXWOTEW-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)CO SFRDXVJWXWOTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJRNXDIVAGHETA-GQCTYLIASA-N 2-[(e)-2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1\C=C\C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ZJRNXDIVAGHETA-GQCTYLIASA-N 0.000 description 1
- JENKIIWNWASCFW-VOTSOKGWSA-N 2-[(e)-2-(4-methylphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1\C=C\C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 JENKIIWNWASCFW-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- XOPKKHCDIAYUSK-SNAWJCMRSA-N 2-[(e)-2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound O1C(C)=CC=C1\C=C\C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 XOPKKHCDIAYUSK-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical compound OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFOHWECQTFIEIX-UHFFFAOYSA-N 2-nitrofluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3CC2=C1 XFOHWECQTFIEIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDWIZRDPCQAYRF-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C=C UDWIZRDPCQAYRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMGZKPMMFXFSGK-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCOC(=O)C=C JMGZKPMMFXFSGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGEKXQRHZRDGKO-UHFFFAOYSA-N 3-tripropoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)CCCOC(=O)C=C HGEKXQRHZRDGKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 4-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUARLQDWYSRQDF-UHFFFAOYSA-N 5-Nitroacenaphthene Chemical compound C1CC2=CC=CC3=C2C1=CC=C3[N+](=O)[O-] CUARLQDWYSRQDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 9,10-dibutoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCCC)C2=C1 KSMGAOMUPSQGTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 9,10-diphenylanthracene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=CC=CC=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 FCNCGHJSNVOIKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBQJFQVDEJMUTF-UHFFFAOYSA-N 9,10-dipropoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCCC)=C(C=CC=C3)C3=C(OCCC)C2=C1 LBQJFQVDEJMUTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSOHZXVUUOEOTL-UHFFFAOYSA-N 9-ethoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C(OCC)=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 LSOHZXVUUOEOTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 102100033806 Alpha-protein kinase 3 Human genes 0.000 description 1
- 101710082399 Alpha-protein kinase 3 Proteins 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004727 Noryl Substances 0.000 description 1
- 229920001207 Noryl Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQYJRMFWJJONBO-UHFFFAOYSA-N Tris(2,3-dibromopropyl) phosphate Chemical compound BrCC(Br)COP(=O)(OCC(Br)CBr)OCC(Br)CBr PQYJRMFWJJONBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPPVLYIFEAESGO-UHFFFAOYSA-N [2,3-bis(methylsulfonyloxy)phenyl] methanesulfonate Chemical compound CS(=O)(=O)OC1=CC=CC(OS(C)(=O)=O)=C1OS(C)(=O)=O YPPVLYIFEAESGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZTQQYMRXDUHDO-UHFFFAOYSA-N [2-hydroxy-3-[4-[2-[4-(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=C(OCC(O)COC(=O)C=C)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCC(O)COC(=O)C=C)C=C1 VZTQQYMRXDUHDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STOLYTNTPGXYRW-UHFFFAOYSA-N [nitro(phenyl)methyl] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OC([N+]([O-])=O)C1=CC=CC=C1 STOLYTNTPGXYRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N acridine orange free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=NC3=CC(N(C)C)=CC=C3C=C21 DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003232 aliphatic polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N benzoquinolinylidene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- WSPXNMKNKJDQGP-UHFFFAOYSA-N bromo(bromomethylsulfonyl)methane Chemical compound BrCS(=O)(=O)CBr WSPXNMKNKJDQGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDUJCTKTKOLVFG-UHFFFAOYSA-N butoxymethanediol Chemical compound CCCCOC(O)O SDUJCTKTKOLVFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZHNUBIHHLQNHX-UHFFFAOYSA-N butoxysilane Chemical compound CCCCO[SiH3] ZZHNUBIHHLQNHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHKPGQWBDCKSM-UHFFFAOYSA-N butyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VMHKPGQWBDCKSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- IXPUJMULXNNEHS-UHFFFAOYSA-L copper;n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound [Cu+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC IXPUJMULXNNEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- BMFYCFSWWDXEPB-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(phenyl)methanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1CCCCC1 BMFYCFSWWDXEPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N dibenzylideneacetone Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- HBIYXUCPFAAGLE-UHFFFAOYSA-N dimethyl 3-[5,7-bis(methoxycarbonyl)-2-oxochromene-3-carbonyl]-2-oxochromene-5,7-dicarboxylate Chemical compound C1=C(C(=O)OC)C=C2OC(=O)C(C(=O)C3=CC4=C(C(=O)OC)C=C(C=C4OC3=O)C(=O)OC)=CC2=C1C(=O)OC HBIYXUCPFAAGLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- HOKNTYWEKQQKGV-UHFFFAOYSA-N disulfonylmethane Chemical class O=S(=O)=C=S(=O)=O HOKNTYWEKQQKGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tri(propan-2-yloxy)silane Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)C=C MABAWBWRUSBLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- KUGSJJNCCNSRMM-UHFFFAOYSA-N ethoxyboronic acid Chemical compound CCOB(O)O KUGSJJNCCNSRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QKLCQKPAECHXCQ-UHFFFAOYSA-N ethyl phenylglyoxylate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 QKLCQKPAECHXCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- GFAZHVHNLUBROE-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl propionaldehyde Natural products CCC(=O)CO GFAZHVHNLUBROE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- UYVXZUTYZGILQG-UHFFFAOYSA-N methoxyboronic acid Chemical compound COB(O)O UYVXZUTYZGILQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N n-(3-triethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC1=CC=CC=C1 LIBWSLLLJZULCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKACCCDFHQZGIA-UHFFFAOYSA-N n-(4-nitronaphthalen-1-yl)acetamide Chemical compound C1=CC=C2C(NC(=O)C)=CC=C([N+]([O-])=O)C2=C1 SKACCCDFHQZGIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- AUWJDAPPVUMSJY-UHFFFAOYSA-N n-methyl-3-triethoxysilyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN(C)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC AUWJDAPPVUMSJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTXITWGJFPAEIU-UHFFFAOYSA-N n-methyl-3-trimethoxysilyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN(C)CCC[Si](OC)(OC)OC WTXITWGJFPAEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCUJJWWUNKIJPH-UHFFFAOYSA-N nitrapyrin Chemical compound ClC1=CC=CC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DCUJJWWUNKIJPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NQRLPDFELNCFHW-UHFFFAOYSA-N nitroacetanilide Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 NQRLPDFELNCFHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007591 painting process Methods 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003342 selenium Chemical class 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005028 tinplate Substances 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- LGQXXHMEBUOXRP-UHFFFAOYSA-N tributyl borate Chemical compound CCCCOB(OCCCC)OCCCC LGQXXHMEBUOXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N triethyl orthoformate Chemical compound CCOC(OCC)OCC GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZZBTMVTLBHJHL-UHFFFAOYSA-N tris(2,3-dichloropropyl) phosphate Chemical compound ClCC(Cl)COP(=O)(OCC(Cl)CCl)OCC(Cl)CCl JZZBTMVTLBHJHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTRSAMFYSUBAGN-UHFFFAOYSA-N tris(2-chloropropyl) phosphate Chemical compound CC(Cl)COP(=O)(OCC(C)Cl)OCC(C)Cl GTRSAMFYSUBAGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D143/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium, or a metal; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D143/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/08—Anhydrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F220/14—Methyl esters, e.g. methyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09D133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
- C09D133/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
- C09D133/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
- C09D183/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen, and oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/32—Radiation-absorbing paints
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/29—Mixtures
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
しかしながら、ガラスの重大な欠点として、衝撃性の弱く破損しやすい或いは、破損したガラスが飛散することが挙げられ、特に情報通信機器など人が携行する用途では、この問題は顕著である。
そこで例えば、ポリエチレンテレフタレート層とセバシン酸共重合−ポリエチレンテレフタレート層からなる多層積層フィルムをガラス表面に貼りつけることにより、ガラスの破損および飛散を大幅に防止できることが提案されている(特許文献3)。
さらには加工性が要求されるプレコートメタル用途にも使用できる充分な耐屈曲性も有する無機・有機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を提供することである。
また、加水分解性シリル基含有(メタ)アクリル系共重合体、特定のシラン化合物、光酸発生剤、多官能アクリレート、及び、光ラジカル開始剤を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、活性エネルギー線照射により、短時間で透明な硬化塗膜を形成し、得られた塗膜は無機質基材と有機質基材に対する付着性がよく、表面硬度が高く、優れた耐候性を示すことを見出した。
(A)主鎖が(メタ)アクリル系共重合体であり、主鎖末端および/または側鎖に一般式(I):
−SiR2 a(OR1)3−a (I)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜25のアリール基および炭素数7〜12のアラルキル基から選ばれた1価の炭化水素基、aは0〜2の整数を示す。)
で表される加水分解性基に結合したケイ素基を少なくとも1つ有する重合体100重量部、
(B1)第2級および/または第3級アミノ基を有するシラン化合物0.1〜20重量部、および、
(C)光酸発生剤0.05〜20重量部
を含有することを特徴とする無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に関する。
(A)主鎖が(メタ)アクリル系共重合体であり、主鎖末端および/または側鎖に一般式(I):
−SiR2 a(OR1)3−a (I)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜25のアリール基および炭素数7〜12のアラルキル基から選ばれた1価の炭化水素基、aは0〜2の整数を示す。)
で表される加水分解性基に結合したケイ素基を少なくとも1つ有する重合体、
(B2)一般式(II):
R5N−{X−SiR4 b(OR3)3−b}2 (II)
(式中、Xは2価の有機基を示し、その構造中に酸素原子、窒素原子を含んでいてもよい。R3、R4、R5は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。bは0〜2の整数を示す。)
で表されるシラン化合物、および、
(C)光酸発生剤
を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂用無機付着改質剤組成物に関する。
(A)主鎖が(メタ)アクリル系共重合体であり、主鎖末端および/または側鎖に一般式(I):
−SiR2 a(OR1)3−a (I)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜25のアリール基および炭素数7〜12のアラルキル基から選ばれた1価の炭化水素基、aは0〜2の整数を示す。)
で表される加水分解性基に結合したケイ素基を少なくとも1つ有する重合体、
(B2)一般式(II):
R5N−{X−SiR4 b(OR3)3−b}2 (II)
(式中、Xは2価の有機基を示し、その構造中に酸素原子、窒素原子を含んでいてもよい。R3、R4、R5は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。bは0〜2の整数を示す。)
で表されるシラン化合物、
(C)光酸発生剤、
(D)一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも2つ有する化合物、および、
(E)光ラジカル開始剤
を含有することを特徴とする有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に関する。
第一の本発明に係る無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、
(A)主鎖が(メタ)アクリル系共重合体であり、主鎖末端および/または側鎖に一般式(I):
−SiR2 a(OR1)3−a (I)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜25のアリール基および炭素数7〜12のアラルキル基から選ばれた1価の炭化水素基、aは0〜2の整数を示す。)
で表される加水分解性基に結合したケイ素基を少なくとも1つ有する重合体100重量部、
(B1)第2級および/または第3級アミノ基を有するシラン化合物0.1〜20重量部、および、
(C)光酸発生剤0.05〜20重量部
を含有する。
重合体(A)は、加水分解性シリル基(加水分解性基に結合したケイ素基)が炭素原子に結合した形式で含有されていればよい。
重合体(A)一分子中の加水分解性基に結合したケイ素基の個数は、3以上であることが好ましく、5以上であることがさらに好ましい。また、80以下であることが好ましく、50以下であることがより好ましい。ケイ素基の個数が3未満では、充分な初期硬化性、無機付着性が発現しなかったり、耐候性、耐溶剤性が向上しない場合がある。一方、ケイ素基の個数が80を超えると屈曲性や貯蔵安定性が低下したり、クラックが発生したりする傾向にある。
加水分解性基に結合したケイ素基の重合体への導入方法としては、加水分解性基に結合したケイ素基を含有する単量体をその他の単量体と共重合する方法、シリケート化合物を反応させる方法、または水酸基含有共重合体にシリケート化合物を反応させる方法等がある。なかでも簡便な方法は、加水分解性基に結合したケイ素基を含有する単量体とその他の単量体を共重合する方法である。
加水分解性基に結合したケイ素基は、下記一般式(I)
−SiR2 a(OR1)3−a (I)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜25のアリール基および炭素数7〜12のアラルキル基から選ばれた1価の炭化水素基を示す。aは0〜2の整数を示す。)
で表される。
R1は、組成物の硬化性が優れるという点から炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。
また、硬化性が優れるという点から、R2は水素原子または炭素数1〜6のアルキル基、アリール基であることが好ましい。
重合体(A)は、例えば、加水分解性シリル基含有ビニル系単量体(A−a)とその他の共重合可能な単量体(A−b)をアゾビスイソブチロニトリルなどのラジカル重合開始剤を用いて溶液重合法などにより共重合することによって製造することができる。
これらのその他単量体(A−b)成分は、単独で用いてもよいし、また2種以上を併用しても良い。
第一の本発明では、シラン化合物(B)として、第2級および/または第3級アミノ基を有するシラン化合物(B1)を使用する。(B1)成分は、所謂アミノシランと称される化合物であり、無機基材に対する付着性を向上させる目的で使用する。第2級および/または第3級アミノ基を有するシラン化合物の具体例としては、N−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニルアミノプロピルトリエトキシシラン等のモノ(アルコキシシリル)アミン化合物;ビス(トリメトキシシリルプロピル)アミン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)アミン、ビス(メチルジメトキシシリルプロピル)アミン、ビス(エチルジメトキシシリルプロピル)アミン、ビス(ジメチルメトキシシリルプロピル)アミン、ビス(トリメトキシシリルエチル)アミン、ビス(トリエトキシシリルエチル)アミン、ビス(トリメトキシシリルメチル)アミン、ビス(トリエトキシシリルメチル)アミン等のビス(アルコキシシリルアルキル)アミン化合物;γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランとN−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランとの2:1(モル比)反応物、エピコート828(油化シェルエポキシ(株)製)とγ−アミノプロピルトリエトキシシランとの1:2(モル比)反応物等のエポキシ基とアミノ基の付加反応生成物から得られるアミノシラン化合物等が挙げられる。
(C)成分である光酸発生剤は、活性エネルギー線に暴露されることにより酸を発生する化合物であり、たとえばトルエンスルホン酸または四フッ化ホウ素などの強酸;スルホニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩またはセレニウム塩などのオニウム塩類;鉄−アレン錯体類;シラノール−金属キレート錯体類;ジスルホン類、ジスルホニルジアゾメタン類、ジスルホニルメタン類、スルホニルベンゾイルメタン類、イミドスルホネート類、ベンゾインスルホネート類などのスルホン酸誘導体;有機ハロゲン化合物類など、特開平5−134412号公報に示される放射線の照射により酸を発生する化合物があげられる。
また、カウンターアニオンがフルオロフォスフェート系アニオン、フルオロアンチモネート系アニオン、フルオロボレート系アニオン、又は、フルオロスルフォネート系アニオンであることが、硬化が速く、基材への付着性に優れるという点から好ましい。安全性を考慮すると、フルオロフォスフェート系アニオン、フルオロボレート系アニオン又はフルオロスルフォネート系アニオンであることが特に好ましい。
光酸発生剤は、芳香族スルホニウム塩又は芳香族ヨードニウム塩で、カウンターアニオンがフルオロフォスフェート系アニオン、フルオロボレート系アニオン又はフルオロスルフォネート系アニオンであるものが特に好ましい。
<(D)一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも2つ有する化合物>
(D)成分である(メタ)アクリロイル基を少なくとも2つ有する化合物は、活性エネルギー線照射直後の架橋密度を上げ、タックを抑制する目的で使用できる。
(D)成分の使用量は、(A)成分100重量部に対して0〜100重量部が好ましく、0〜70重量部がより好ましく、0〜50重量部がさらに好ましい。(D)成分の量が100重量部を超えると、耐候性が低下する場合がある。
(C)成分である光酸発生剤は、活性エネルギー線により分解し酸を発生する際、アリールラジカルなどが発生する為、(D)成分を含有する場合において、(E)成分である光ラジカル開始剤を配合せずとも、重合反応は進行する。しかしながら、(D)成分を効率よく反応させるためには、(E)成分を配合することが好ましい。(E)成分である光ラジカル開始剤は、活性エネルギー線に暴露されることによりラジカルを発生する化合物であり、(D)成分を配合した場合に、重合開始剤として作用する。(E)成分の具体例としては、ベンゾイン、ベンゾインモノメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アセトイン、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィドなどの硫黄化合物、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド等を挙げることができる。IRGACURE184やIRGACURE819などのIRGACUREシリーズやDAROCUR1173やDAROCUR TPOなどのDAROCURシリーズ(以上、BASF社製)、KAYACURE DETX−S、KAYACURE CTXなどのKAYACUREシリーズ(以上、日本化薬(株)製)、TAZ−101、TAZ−110などのTAZシリーズ(以上、みどり化学(株)製)等が市販されている。
(E)成分は、(D)成分を配合する場合に必要であり、その添加量は、生成するラジカルの発生量、目的の分子量に応じて調整が必要だが、(D)成分100重量部に対し、0.05重量部以上が好ましく、0.1重量部以上がより好ましい。また、50重量部以下が好ましく、30重量部以下がより好ましい。(E)成分の添加量が0.05重量部未満では生成するラジカルが不足し、(D)成分が充分に硬化せずタックを生じる場合があり、50重量部を超えると着色や耐候性が低下するなどの問題が発生する傾向にある。
ガラス基材に対する付着性の向上、塗膜の硬度の向上、塗膜表面を親水性として屋外で使用する場合の汚れ除去性の向上等の目的で、一般式(III):
(R6O)4−Si (III)
(式中、R6は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基および炭素数7〜10のアラルキル基から選ばれる1価の炭化水素基を示す)で表されるシリコン化合物及び/またはその部分加水分解縮合物(F)を用いることができる。
(F)成分は1種単独でもよく、2種以上を併用しても良い。
前記(F)成分の使用量は、(A)成分100重量部に対して0〜50重量部が好ましく、0〜20重量部がより好ましい。(F)成分の使用量が50重量部を超えると、初期のタックが残存する傾向がある。
本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は遮光下で貯蔵安定性が高いため、1液型の塗料形態が可能である。
活性エネルギー線の照射は空気中で行ってもよい。
無機基材として一般に厚さ5mm以下の冷延鋼板やメッキ鋼板、アロジン処理アルミ板を使用すれば、積層体としてプレコートメタルを得ることができる。基材が5mmより厚い場合には、成型した後に、塗装して積層体を得ることもできる。
また、情報通信機器用ガラス基材を使用すれば、積層体として情報通信機器用ガラス材料を得ることができる。
さらに、ソーダ石灰ガラスやクリスタルガラスを使用すれば、積層体として化粧瓶や飲料瓶、装飾ガラスなどのガラス材料を得ることができる。
基材として情報通信機器のタッチパネルに用いられる透明導電膜を用いることもでき、硬化被膜は保護コーティングとなる。
第二の本発明に係る活性エネルギー線硬化性樹脂用無機付着改質剤組成物は、
(A)主鎖が(メタ)アクリル系共重合体であり、主鎖末端および/または側鎖に一般式(I):
−SiR2 a(OR1)3−a (I)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜25のアリール基および炭素数7〜12のアラルキル基から選ばれた1価の炭化水素基、aは0〜2の整数を示す。)
で表される加水分解性基に結合したケイ素基を少なくとも1つ有する重合体、
(B2)一般式(II):
R5N−{X−SiR4 b(OR3)3−b}2 (II)
(式中、Xは2価の有機基を示し、その構造中に酸素原子、窒素原子を含んでいてもよい。R3、R4、R5は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。bは0〜2の整数を示す。)
で表されるシラン化合物、および、
(C)光酸発生剤
を含有する。
また、第二の本発明に係る無機基材付着性活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、上記無機付着改質剤組成物とバインダ成分を含有する。
第二の本発明において使用される(A)成分は、第一の本発明において使用されるものと同様である。
第二の本発明では、シラン化合物(B)として、下記一般式(II)で表されるシラン化合物(B2)を使用する。(B2)成分の使用により無機基材への付着をさらに高めることが可能となる。またアミノ基が立体的に比較的大きな加水分解性ケイ素基で保護されているため、組成物の貯蔵安定性に優れ、光酸発生剤使用時の硬化性低下が小さい。
R5N−{X−SiR4 b(OR3)3−b}2 (II)
(式中、Xは2価の有機基を示し、その構造中に酸素原子、窒素原子を含んでいてもよい。R3、R4、R5は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。bは0〜2の整数を示す。)
シラン化合物(B2)の具体例としては、ビス(トリメトキシシリルプロピル)アミン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)アミン、ビス(メチルジメトキシシリルプロピル)アミン、ビス(エチルジメトキシシリルプロピル)アミン、ビス(ジメチルメトキシシリルプロピル)アミン、ビス(トリメトキシシリルエチル)アミン、ビス(トリエトキシシリルエチル)アミン、ビス(トリメトキシシリルメチル)アミン、ビス(トリエトキシシリルメチル)アミン等のビス(アルコキシアルキル)アミン化合物;ビス(トリメトキシシリルプロピル)メチルアミン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)メチルアミン等のビス(アルコキシアルキル)アルキルアミン化合物;ビス(トリメトキシシリルエチルオキシエチル)アミン、ビス(トリメトキシシリルエチルアミノエチル)アミン等の酸素原子や窒素原子を含むビス(アルコキシシリルアルキル)アミン化合物が挙げられる。中でも貯蔵安定性や無機基材への付着性が向上するという点から、ビス(トリメトキシシリルプロピル)アミンやビス(トリエトキシシリルプロピル)アミン等のビス(トリアルコキシシリルアルキル)アミン類が好ましい。
(B2)成分の添加量は、重合体(A)の固形分100重量部に対し、0.1重量部以上が好ましく、1重量部以上がより好ましい。また、100重量部以下が好ましく、50重量部以下がより好ましい。(B2)成分の添加量が0.1重量部未満では、沸騰水に長時間浸漬する等の試験を行った際に、付着性が低下する場合があり、100重量部を超えると(A)成分の硬化速度が低下して初期タックが発生する傾向にある。
第二の本発明において使用される(C)成分は、第一の本発明において使用されるものと同様である。
第二の本発明において使用される(D)成分は、第一の本発明において使用されるものと同様である。
第二の本発明において使用される(E)成分は、第一の本発明において使用されるものと同様である。
また、前述のように、本発明の硬化性樹脂組成物において、水の含有量は少ないことが好ましく、水を含有していないことが特に好ましい。
また、上記の製造方法により得られる積層体も第二の本発明に含まれる。
第三の本発明に係る有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、
(A)主鎖が(メタ)アクリル系共重合体であり、主鎖末端および/または側鎖に一般式(I):
−SiR2 a(OR1)3−a (I)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜25のアリール基および炭素数7〜12のアラルキル基から選ばれた1価の炭化水素基、aは0〜2の整数を示す。)
で表される加水分解性基に結合したケイ素基を少なくとも1つ有する重合体、
(B2)一般式(II):
R5N−{X−SiR4 b(OR3)3−b}2 (II)
(式中、Xは2価の有機基を示し、その構造中に酸素原子、窒素原子を含んでいてもよい。R3、R4、R5は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。bは0〜2の整数を示す。)
で表されるシラン化合物、
(C)光酸発生剤、
(D)一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも2つ有する化合物、および、
(E)光ラジカル開始剤
を含有する。
第三の本発明において使用される(A)成分は、第一の本発明において使用されるものと同様である。
第三の本発明において使用される(B)成分は、第二の本発明において使用されるシラン化合物(B2)と同様である。
第三の本発明において使用される(C)成分は、第一の本発明において使用されるものと同様である。
第三の本発明において使用される(D)成分は、第一の本発明において使用されるものと同様である。
第三の本発明において使用される(E)成分は、第一の本発明において使用されるものと同様である。
また、前述のように、本発明の硬化性樹脂組成物において、水の含有量は少ないことが好ましく、水を含有していないことが特に好ましい。
また、上記の製造方法により得られる積層体も第三の本発明に含まれる。
有機基材としては、アクリル系樹脂、ABS系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、塩化ビニル系樹脂、PETなどのポリエステル系樹脂、有機塗膜等を挙げることができる。
有機無機複合基材としては、前述の有機基材と無機基材との複合材料や、有機基材に金属蒸着や金属メッキが施された材料等を挙げることができる。
(加水分解性基に結合したケイ素基を少なくとも1つ有する重合体(A))
攪拌機、温度計、還流冷却器、窒素ガス導入管および滴下ロ−トを備えた反応器に表1の(イ)成分を仕込み、窒素ガスを導入しつつ110℃に昇温した後、表1の(ア)成分の混合物を滴下ロ−トから5時間かけて等速滴下した。次に、(ウ)成分の混合溶液を1時間かけて等速滴下した。その後、引き続き、110℃で2時間攪拌した後に、室温まで冷却した。最後に表1の(エ)成分を加えて攪拌し、重合体(A−1)〜(A−6)を合成した。
得られた重合体(A−1)〜(A−6)の固形分濃度、GPCで測定した数平均分子量、一分子中の加水分解性基に結合したケイ素基数を表1に示した。尚、重合体(A−1)〜(A−6)は、重合溶剤で固形分濃度が50%となるように一旦希釈して次の配合へと進めた。
攪拌機、温度計、還流冷却器、窒素ガス導入管および滴下ロ−トを備えた反応器に窒素ガスを導入しつつ表2の溶剤成分と(b−1)成分又は(b−2)成分を仕込み、80℃に昇温した。次に、同温度で表2に記載の時間保持した後に、室温まで冷却し、第2級および/または第3級アミノ基を有するシラン化合物(B−1)及び(B−2)を合成した。
(硬化性樹脂組成物の調製方法)
重合体(A−1)〜(A−5)に対して、(D)成分を配合する場合には表3−1又は表3−2に記載の(D)成分を加え、攪拌機を用いて1000rpmで1分間混合した。さらに(B)成分、(C)成分、(E)成分およびその他の成分を加え、攪拌機を用いて1000rpmで1分間混合後、メチルイソブチルケトンで固形分が40%になるように調整し、硬化性樹脂組成物を得た。なお、比較例6、7では、酸系触媒として光酸発生剤の代わりにリン酸エステルを使用した。
CPI−101A:サンアプロ(株)製トリアリールスルホニウム・SbF6塩のプロピレンカーボネート溶液
NKオリゴU−6LPA:新中村化学(株)製多官能ウレタンアクリレート
DAROCUR1173:BASF社製 2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン
IRGACURE184:BASF社製 1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン
AP−8:大八化学(株)製酸性リン酸エステル
MS56:三菱化学(株)製テトラメトキシシランの縮合物(SiO2含有量:52重量%)
・硬化条件
比較例6、7以外は、表3−1又は表3−2に示した各基材に対して、硬化性樹脂組成物をバーコーターを用いて、乾燥膜厚が約20μmとなるように塗布し、溶剤除去のため80℃で2分間乾燥した。次いで、空気中で高圧水銀ランプを用い、150mWで、波長310〜390nmの積算光量が600mJ/cm2となるように紫外線(UV)を照射することで硬化させ、試験片とした。
また電子線照射装置(CB250/30/20mA、岩崎電気(株)製)を用いて、加速電圧150kV、50kGyで電子線(EB)を照射することで硬化させ、試験片とした。
これに対して、比較例6では常温にて7日間乾燥し、比較例7では100℃で20分乾燥し(焼付け)、それぞれ試験片とした。
UV照射7日後にJIS K5400に準拠して、1Kg荷重での鉛筆硬度を評価した。
比較例6、7以外は、UV照射およびEB照射1日後にJIS K5600に準拠して、1mm間隔の碁盤目密着性試験を行った(一次密着)。さらに、沸騰水に1時間浸漬し、取り出し直後の密着性も評価した(二次密着)。
比較例6、7では、上記の乾燥・硬化後に同様に評価した。
ケイ酸アルミガラス(0.5mm厚)に塗布しUV照射した試験板に対して、22gの鉄球を15cm垂直に持ち上げ、落下させた。n数を5として以下の基準にて判断した。
尚、◎又は○を合格とした。
◎:破損したガラスが5枚中1枚以下であった
○:5枚中2枚以上破損したがガラスが飛散しなかった
×:5枚中2枚以上破損しさらに飛散した
−:評価せず
二次の碁盤目密着性を行ったUV照射試験片(アロジン処理アルミ板)を用いて、JIS K5400に準拠して、様々な厚さに相当するスペーサーを挟んで180度折り曲げた。そのときの塗膜の割れ、剥がれを観察し、異常が見られなかったときのスペーサーの厚さが試験片の厚さのn倍として、nTと表記した。nが小さいほど加工性が高いことを示す。
アルミ板(A5052P)にUV照射して作成した試験板を用いて、サンシャインウエザオメーター(スガ試験機(株)製、S80)を用いて、JIS K5400に準拠し、ブラックパネル温度が63±3℃、水噴霧時間が18分/120分照射の条件にて促進耐候性を評価した。試験時間3000時間後の60°光沢保持率(%)、黄変度(ΔYI)、着色度(ΔE)を表3−1又は表3−2に示した。
硬化性樹脂組成物を褐色瓶に入れ、B型粘度計を用いて、粘度を測定した(初期粘度)。その後、窒素封入して密閉した。50℃条件下で2週間静置したのち、再びB型粘度を測定した(貯蔵後粘度)。増粘率[(貯蔵後粘度)/(初期粘度)]を貯蔵安定性として表3−1又は表3−2に示した。
(硬化性樹脂組成物の調製方法)
表4の(D)成分に対して、(A)成分を加え攪拌機を用いて1000rpmで1分間混合した。さらに(B)成分、(C)成分、(E)成分およびその他の成分を加え、攪拌機を用いて1000rpmで1分間混合後、メチルイソブチルケトンで固形分が40%になるように調整し、硬化性樹脂組成物を得た。
・硬化条件
表4に示した各基材に対して、表4の硬化性樹脂組成物をバーコーターを用いて、乾燥膜厚が約15μmとなるように塗布し、溶剤除去のため80℃で2分間乾燥した。次いで、空気中で高圧水銀ランプを用い、150mWで、波長310〜390nmの積算光量が600mJ/cm2となるように活性エネルギー線を照射することで硬化させ、試験片とした。
・硬度
照射7日後にJIS K5400に準拠して、1Kg荷重での鉛筆硬度を評価した。
・耐溶剤性
ガラス板に塗工した試験板に、活性エネルギー線を照射した直後に、メチルエチルケトンおよびキシレンをスポットし室温で静置した。30分後に水洗し、塗膜の状態を観察した。
・付着性(碁盤目密着性試験)
前述の条件で評価した。
・貯蔵安定性
前述の条件で評価した。
(硬化性樹脂組成物の調製方法)
(A)成分に対して、表5の(D)成分を加え攪拌機を用いて1000rpmで1分間混合した。さらに(B)成分、(C)成分、(E)成分およびその他の成分を加え、攪拌機を用いて1000rpmで1分間混合後、メチルイソブチルケトンで固形分が40%になるように調整し、硬化性樹脂組成物を得た。
PC板:タキロン(株)製PC1600
PVC板:タキロン(株)製PVC板
変性PPE板:旭化成(株)製ザイロン
PPO板:日本ジーイープラスチックス(株)製ノリル
PET板:タキロン(株)製ペテック
・硬化条件
表5に示した各基材に対して、表5の硬化性樹脂組成物をバーコーターを用いて、乾燥膜厚が約15μmとなるように塗布し、溶剤除去のため80℃で2分間乾燥した。次いで、空気中で高圧水銀ランプを用い、150mWで、波長310〜390nmの積算光量が600mJ/cm2となるように活性エネルギー線を照射することで硬化させ、試験片とした。
・硬化性
照射直後に塗膜を指で強く抑え、硬化性(初期タック)を以下の基準で評価した。
○:外観変化なし
△:薄く指紋痕が残る
×:はっきりと指紋痕が残る
・硬度
照射7日後にJIS K5400に準拠して、1Kg荷重での鉛筆硬度を評価した。
・付着性(碁盤目密着性試験)
照射1日後にJIS K5600に準拠して、1mm間隔の碁盤目密着性試験を行った(一次密着)。さらに二次密着として、無機基材およびカラー鋼板の場合には沸騰水に1時間浸漬し、取り出し直後の密着性も評価した。基材がPMMA(アクリル)、PC(ポリカーボネート)、PVC(ポリ塩化ビニル)、変性PPE(ポリフェニレンエーテル)、及び、PPO(ポリフェニレンオキシド)の場合は、85℃で85%RH条件下で24時間静置したのちに密着性評価を行い、二次密着とした。基材がPETの場合には、60℃で80%RH条件下で24時間静置したのちに密着性評価を行い、二次密着とした。
・リコート密着性(下塗り適性)
アルミ板(A5052P)に硬化性樹脂組成物を塗布、UV照射して作製した試験片を23℃で1ヶ月間静置した後、塗膜面上に、同一の硬化性樹脂組成物を、同一の方法および硬化条件にて塗布、照射して硬化させ、リコート密着性用試験片とした。
照射1日後にJIS K5600に準拠して、1mm間隔の碁盤目密着性試験を行った(一次試験)。さらに、沸騰水に1時間浸漬し、取り出した直後の密着性を評価した(二次試験)。
・耐候性
アルミ板(A5052P)で作成した試験板を用いて、サンシャインウエザオメーター(スガ試験機(株)製、S80)を用いて、JIS K5400に準拠し、ブラックパネル温度が63±3℃、水噴霧時間が18分/120分照射の条件にて促進耐候性を評価した。試験時間2000時間後の60°光沢保持率(%)、黄変度(ΔYI)、着色度(ΔE)を表5に示した。
(B)成分を含有しない比較例12では、無機基材への付着性が低下した。さらに、(A)成分を含有しない比較例13、14は無機基材と有機基材への付着性が低下しただけでなく、耐候性が大きく低下し、1000時間経過時には塗膜にクラックが発生した。
Claims (30)
- (A)主鎖が(メタ)アクリル系共重合体であり、主鎖末端および/または側鎖に一般式(I):
−SiR2 a(OR1)3−a (I)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜25のアリール基および炭素数7〜12のアラルキル基から選ばれた1価の炭化水素基、aは0〜2の整数を示す。)
で表される加水分解性基に結合したケイ素基を少なくとも1つ有する重合体100重量部、
(B1)第2級および/または第3級アミノ基を有するシラン化合物0.1〜20重量部、および、
(C)光酸発生剤0.05〜20重量部
を含有することを特徴とする無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 - 前記シラン化合物(B1)が、ビス(トリアルコキシシリルアルキル)アミン化合物であることを特徴とする請求項1に記載の無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- さらに、(D)一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも2つ有する化合物0〜100重量部、及び、(E)光ラジカル開始剤を(D)成分100重量部に対して0.05〜50重量部含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記重合体(A)が、一分子中に加水分解性基に結合したケイ素基を3つ以上有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記光酸発生剤(C)が、芳香族スルホニウム塩又は芳香族ヨードニウム塩であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記光酸発生剤(C)のカウンターアニオンが、フルオロフォスフェート系アニオン又はフルオロスルフォネート系アニオンであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を無機基材に塗布する工程、および、活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させ、硬化被膜を形成する工程を含む積層体の製造方法。
- 空気中で活性エネルギー線を照射することを特徴とする請求項7に記載の積層体の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を無機基材に塗布する工程、および、活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させ、硬化被膜を形成する工程を含むプレコートメタルの製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をガラス基材に塗布する工程、および、活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させ、保護皮膜を形成する工程を含む情報通信機器用ガラス材料の製造方法。
- 請求項7又は8に記載の製造方法により得られ、硬化被膜が無機基材表面に直接形成されていることを特徴とする積層体。
- 無機基材が、情報通信機器のタッチパネルに用いられる透明導電膜であることを特徴とする請求項11に記載の積層体。
- (A)主鎖が(メタ)アクリル系共重合体であり、主鎖末端および/または側鎖に一般式(I):
−SiR2 a(OR1)3−a (I)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜25のアリール基および炭素数7〜12のアラルキル基から選ばれた1価の炭化水素基、aは0〜2の整数を示す。)
で表される加水分解性基に結合したケイ素基を少なくとも1つ有する重合体100重量部、
(B2)一般式(II):
R5N−{X−SiR4 b(OR3)3−b}2 (II)
(式中、Xは2価の有機基を示し、その構造中に酸素原子、窒素原子を含んでいてもよい。R3、R4、R5は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。bは0〜2の整数を示す。)
で表されるシラン化合物0.1〜100重量部、および、
(C)光酸発生剤0.05〜20重量部
を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂用無機付着改質剤組成物。 - 前記シラン化合物(B2)が、ビス(トリアルコキシシリルアルキル)アミン化合物であることを特徴とする請求項13に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂用無機付着改質剤組成物。
- 請求項13または14に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂用無機付着改質剤組成物とバインダ成分を含有する無機基材付着性活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記バインダ成分が、(D)一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも2つ有する化合物と(E)光ラジカル開始剤からなる請求項15に記載の無機基材付着性活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記(D)成分100重量部に対して、(E)成分0.05〜50重量部と(A)成分10〜100重量部を含有することを特徴とする請求項16に記載の無機基材付着性活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記(A)成分が、一分子中に加水分解性基に結合したケイ素基を3つ以上有することを特徴とする請求項15〜17のいずれか一項に記載の無機基材付着性活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記(C)成分が、芳香族スルホニウム塩又は芳香族ヨードニウム塩であることを特徴とする請求項15〜18のいずれか一項に記載の無機基材付着性活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記(C)成分のカウンターアニオンが、フルオロフォスフェート系アニオン又はフルオロスルフォネート系アニオンであることを特徴とする請求項19に記載の無機基材付着性活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 請求項15〜20のいずれか一項に記載の無機基材付着性活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を無機基材に塗布する工程、および、活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させ、硬化被膜を形成する工程を含む積層体の製造方法。
- 請求項21に記載の製造方法により得られ、硬化被膜が無機基材表面に直接形成されていることを特徴とする積層体。
- (A)主鎖が(メタ)アクリル系共重合体であり、主鎖末端および/または側鎖に一般式(I):
−SiR2 a(OR1)3−a (I)
(式中、R1は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、R2は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜25のアリール基および炭素数7〜12のアラルキル基から選ばれた1価の炭化水素基、aは0〜2の整数を示す。)
で表される加水分解性基に結合したケイ素基を少なくとも1つ有する重合体100重量部、
(B2)一般式(II):
R5N−{X−SiR4 b(OR3)3−b}2 (II)
(式中、Xは2価の有機基を示し、その構造中に酸素原子、窒素原子を含んでいてもよい。R3、R4、R5は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。bは0〜2の整数を示す。)
で表されるシラン化合物0.1〜50重量部、
(C)光酸発生剤0.05〜20重量部、
(D)一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも2つ有する化合物、および、
(E)光ラジカル開始剤
を含有することを特徴とする有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。 - 前記シラン化合物(B2)が、ビス(トリアルコキシシリルアルキル)アミン化合物であることを特徴とする請求項23に記載の有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- (A)成分100重量部に対して(D)成分を1〜100重量部含有し、(D)成分100重量部に対して(E)成分0.05〜50重量部を含有することを特徴とする請求項23または24に記載の有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記(A)成分が、一分子中に加水分解性基に結合したケイ素基を3つ以上有することを特徴とする請求項23〜25のいずれか一項に記載の有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記(C)成分が、芳香族スルホニウム塩又は芳香族ヨードニウム塩であることを特徴とする請求項23〜26のいずれか一項に記載の有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 前記(C)成分のカウンターアニオンが、フルオロフォスフェート系アニオン又はフルオロスルフォネート系アニオンであることを特徴とする請求項23〜27のいずれか一項に記載の有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物。
- 請求項23〜28のいずれか一項に記載の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を有機基材および/または無機基材および/または有機無機複合基材に塗布する工程、および、活性エネルギー線を照射して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させ、硬化被膜を形成する工程を含む積層体の製造方法。
- 請求項29に記載の製造方法により得られ、硬化被膜が有機無機および/または無機基材および/または有機無機複合基材表面に直接形成されていることを特徴とする積層体。
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013147891 | 2013-07-16 | ||
JP2013147893 | 2013-07-16 | ||
JP2013147891 | 2013-07-16 | ||
JP2013147892 | 2013-07-16 | ||
JP2013147893 | 2013-07-16 | ||
JP2013147892 | 2013-07-16 | ||
JP2014026439 | 2014-02-14 | ||
JP2014026439 | 2014-02-14 | ||
PCT/JP2014/068867 WO2015008777A1 (ja) | 2013-07-16 | 2014-07-16 | 有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015008777A1 JPWO2015008777A1 (ja) | 2017-03-02 |
JP6364008B2 true JP6364008B2 (ja) | 2018-07-25 |
Family
ID=52346225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015527311A Active JP6364008B2 (ja) | 2013-07-16 | 2014-07-16 | 有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10131810B2 (ja) |
EP (1) | EP3056552B1 (ja) |
JP (1) | JP6364008B2 (ja) |
CN (1) | CN105408435B (ja) |
WO (1) | WO2015008777A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI835262B (zh) * | 2016-04-07 | 2024-03-11 | 日商大日本印刷股份有限公司 | 光學膜、積層體、偏光板、影像顯示裝置及偏光板之製造方法 |
DE102016111590A1 (de) * | 2016-06-24 | 2017-12-28 | Delo Industrie Klebstoffe Gmbh & Co. Kgaa | Einkomponentenmasse auf Basis von Alkoxysilanen und Verfahren zum Fügen oder Vergießen von Bauteilen unter Verwendung der Masse |
EP3733929A4 (en) * | 2017-12-27 | 2021-11-03 | Nihon Parkerizing Co., Ltd. | SURFACE TREATMENT AGENT FOR METAL MATERIAL, METAL MATERIAL HAVING A SURFACE TREATMENT COATING, AND METHOD OF MANUFACTURING RELATING TO THEM |
WO2019151265A1 (ja) * | 2018-02-01 | 2019-08-08 | Agc株式会社 | 基材および共重合体 |
CN111875769B (zh) * | 2020-08-21 | 2022-03-22 | 山西省应用化学研究所(有限公司) | 一种高固含量水性聚氨酯复合乳液及其制备方法 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3987037A (en) | 1971-09-03 | 1976-10-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines |
JPS6053300B2 (ja) | 1978-08-29 | 1985-11-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JPS5710375A (en) | 1980-06-19 | 1982-01-19 | Takeda Chem Ind Ltd | Production of precoated metal |
GB2066275B (en) | 1979-12-21 | 1983-06-02 | Takeda Chemical Industries Ltd | Precoated metal and its production |
US4540598A (en) | 1983-08-17 | 1985-09-10 | Ciba-Geigy Corporation | Process for curing acid-curable finishes |
GB8413395D0 (en) | 1984-05-25 | 1984-07-04 | Ciba Geigy Ag | Production of images |
JPS63238339A (ja) | 1987-03-26 | 1988-10-04 | Matsushita Electric Works Ltd | 熱交換器 |
JP2582578B2 (ja) | 1987-07-14 | 1997-02-19 | 日本化薬株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2688984B2 (ja) | 1989-05-17 | 1997-12-10 | 住友精化株式会社 | (トリハロゲノメチル)フェニルスルホン類の製造方法 |
JP3016231B2 (ja) | 1991-11-15 | 2000-03-06 | ジェイエスアール株式会社 | ネガ型レジスト組成物 |
EP0571330B1 (de) | 1992-05-22 | 1999-04-07 | Ciba SC Holding AG | Hochauflösender I-Linien Photoresist mit höherer Empfindlichkeit |
US6040061A (en) | 1992-10-01 | 2000-03-21 | 3M Innovative Properties Company | Tear resistant multilayer films based on sebacic acid copolyesters and articles incorporating such films |
JPH06348015A (ja) | 1993-06-11 | 1994-12-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法 |
US5384342A (en) | 1993-08-30 | 1995-01-24 | Dsm Desotech, Inc. | Vinyl ether urethane silanes |
JP3425473B2 (ja) | 1994-06-15 | 2003-07-14 | 積水化学工業株式会社 | 室温硬化性組成物 |
JPH10139487A (ja) | 1996-11-06 | 1998-05-26 | Moon Star Co | ガラス瓶用被覆材 |
JPH1161039A (ja) | 1997-08-20 | 1999-03-05 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 低着色一液性塗料組成物及びプレコートメタル |
JP3996687B2 (ja) | 1997-12-22 | 2007-10-24 | 株式会社カネカ | 塗料用硬化性樹脂組成物 |
JP3982400B2 (ja) | 2001-12-13 | 2007-09-26 | 東レ株式会社 | ガラス保護フィルム |
US20050277732A1 (en) | 2004-06-14 | 2005-12-15 | Yu Poli C | Two-component coating composition |
WO2006064884A1 (ja) | 2004-12-15 | 2006-06-22 | Kuraray Co., Ltd. | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物およびその用途 |
JPWO2007029733A1 (ja) * | 2005-09-08 | 2009-03-19 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
US20080300359A1 (en) * | 2007-05-15 | 2008-12-04 | Fujifilm Corporation | Aqueous coating material composition |
JP5577049B2 (ja) * | 2008-06-02 | 2014-08-20 | 株式会社カネカ | 水性塗料用樹脂組成物を用いた建築外装塗膜の製造方法 |
WO2011058741A1 (ja) * | 2009-11-13 | 2011-05-19 | 株式会社カネカ | 塗料用樹脂組成物 |
JP2011256378A (ja) | 2010-05-14 | 2011-12-22 | Dainippon Toryo Co Ltd | プレコートメタル用活性エネルギー線硬化型塗料組成物、及びこれを用いたプレコートメタルの製造方法 |
JP5685407B2 (ja) * | 2010-09-07 | 2015-03-18 | 株式会社カネカ | 塗料用樹脂組成物 |
JP5667854B2 (ja) | 2010-12-01 | 2015-02-12 | 株式会社カネカ | 1液組成物 |
KR101948028B1 (ko) * | 2011-03-29 | 2019-02-14 | 가부시키가이샤 가네카 | 활성 에너지선 경화성 코팅용 수지 조성물 |
JP2012233134A (ja) | 2011-05-09 | 2012-11-29 | Kaneka Corp | ポリオキシアルキレン系重合体を含有する硬化性組成物 |
JP6062942B2 (ja) * | 2011-12-20 | 2017-01-18 | 株式会社カネカ | 塗膜防水材および本塗膜が形成された建築物の屋根 |
-
2014
- 2014-07-16 US US14/905,695 patent/US10131810B2/en active Active
- 2014-07-16 CN CN201480040364.0A patent/CN105408435B/zh active Active
- 2014-07-16 WO PCT/JP2014/068867 patent/WO2015008777A1/ja active Application Filing
- 2014-07-16 JP JP2015527311A patent/JP6364008B2/ja active Active
- 2014-07-16 EP EP14825782.7A patent/EP3056552B1/en not_active Not-in-force
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2015008777A1 (ja) | 2017-03-02 |
EP3056552B1 (en) | 2019-02-20 |
US10131810B2 (en) | 2018-11-20 |
US20160152861A1 (en) | 2016-06-02 |
EP3056552A4 (en) | 2017-03-01 |
WO2015008777A1 (ja) | 2015-01-22 |
CN105408435B (zh) | 2018-07-24 |
EP3056552A1 (en) | 2016-08-17 |
CN105408435A (zh) | 2016-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6364008B2 (ja) | 有機・無機基材被覆用活性エネルギー線硬化性樹脂組成物 | |
JP5640381B2 (ja) | アルコキシシランの縮合物を含む活性エネルギー線硬化型コーティング剤組成物 | |
JP6412867B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性組成物 | |
JP6016784B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性コーティング用樹脂組成物 | |
TW201033240A (en) | Curable resin composition, coating, and plastic molded object | |
JP4678561B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物 | |
JP2013166889A (ja) | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物およびそれを用いた積層体 | |
TW201107386A (en) | Surface treated substrate, protecting sheet of light receiving face for solar cell using the same and a solar cell module | |
JP2014037453A (ja) | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物およびそれを用いた積層体 | |
JP2013119553A (ja) | ハードコート層の下地として使用する下層形成用塗料、及び該下層形成用塗料を塗布して形成した積層体 | |
JP2011517465A (ja) | 放射線硬化性配合物 | |
JP2015164994A (ja) | 反応性紫外線吸収剤、その製造方法、並びにそれを含むコーティング組成物及び被覆物品 | |
JP6545482B2 (ja) | 光または熱硬化性樹脂組成物、硬化物及び積層体 | |
JP2000191710A (ja) | 活性エネルギ―線硬化性樹脂組成物 | |
WO2000020523A1 (en) | Ultraviolet-absorbing laminated resinous material | |
JP5336925B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性被覆材組成物及び積層体 | |
JP2017511399A (ja) | 有機樹脂積層体 | |
JP2011252078A (ja) | 紫外線硬化型塗料組成物 | |
JP3957462B2 (ja) | 熱硬化性および活性エネルギー線硬化性を有する硬化性組成物 | |
JP2014118557A (ja) | 立体形状を有する基材や非照射部を有する基材用活性エネルギー線硬化性組成物及び塗装方法 | |
WO2019123731A1 (ja) | シロキサン系硬化性樹脂組成物及びハードコーティング液 | |
JP6016570B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性コーティング用樹脂組成物 | |
JP2004300238A (ja) | アクリル系樹脂組成物及びそれを含有するコーティング組成物 | |
JP6039349B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性コーティング用樹脂組成物 | |
JP6072493B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化性コーティング用樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170522 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180410 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180530 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180605 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180629 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6364008 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |