JP6317727B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
また、実施形態の半導体装置は、トレンチゲート型構造の半導体装置であって、第1導電型であり、前記第1導電型の不純物濃度分布は、略一定の第1濃度である領域を有するドリフト層と、前記ドリフト層の直上に前記ドリフト層に接して設けられた第2導電型のベース層であって、前記第1導電型の不純物を含み、前記第1導電型の不純物濃度分布は、略一定の第2濃度である領域を有するベース層と、前記ベース層の表面に選択的に設けられた第1導電型のソース層と、前記ソース層から前記ドリフト層に到達し、前記ベース層に絶縁膜を介して接するゲート電極と、前記ベース層に接続され、前記ドリフト層の表面から内部にかけて設けられたピラー状の第2導電型の半導体層と、前記ドリフト層に電気的に接続されたドレイン電極と、前記ソース層に電気的に接続されたソース電極と、を備え、前記ベース層に含まれる前記第1導電型の不純物の前記第2濃度は、前記ドリフト層に含まれる前記第1導電型の不純物の前記第1濃度よりも低く、前記ベース層と前記ドリフト層との間において前記第1導電型の不純物濃度は、前記第2濃度から前記第1濃度へ連続的に変化し、前記ドリフト層に含まれる前記第1導電型の不純物濃度は、1×1016(atoms/cm3)以上である。
図1は、第1実施形態に係る半導体装置の模式図であり、(a)は、平面模式図、(b)は、(a)のX−Y位置における断面模式図と、不純物濃度プロファイルである。
図2〜図4は、半導体装置の製造方法を説明するための断面模式図である。
図8は、第2実施形態に係る半導体装置の断面模式図と、不純物濃度プロファイルである。
Claims (4)
- トレンチゲート型構造の半導体装置であって、
第1導電型であり、前記第1導電型の不純物濃度分布は、略一定の第1濃度である領域を有するドリフト層と、
前記ドリフト層の直上に前記ドリフト層に接して設けられた第2導電型のベース層であって、前記第1導電型の不純物を含み、前記第1導電型の不純物濃度分布は、略一定の第2濃度である領域を有するベース層と、
前記ベース層の表面に選択的に設けられた第1導電型のソース層と、
前記ドリフト層に電気的に接続されたドレイン電極と、
前記ソース層に電気的に接続されたソース電極と、
前記ベース層に絶縁膜を介して接するゲート電極と、
前記ゲート電極と前記ドレイン電極との間に設けられ、前記絶縁膜を介して前記ドリフト層に接するフィールドプレート電極と、
を備え、
前記フィールドプレート電極は、前記ソース電極に電気的に接続され、
前記ベース層に含まれる前記第1導電型の不純物の前記第2濃度は、前記ドリフト層に含まれる前記第1導電型の不純物の前記第1濃度よりも低く、
前記ベース層と前記ドリフト層との間において前記第1導電型の不純物濃度は、前記第2濃度から前記第1濃度へ連続的に変化し、
前記ドリフト層に含まれる前記第1導電型の不純物濃度は、1×1016(atoms/cm3)以上であることを特徴とする半導体装置。 - トレンチゲート型構造の半導体装置であって、
第1導電型であり、前記第1導電型の不純物濃度分布は、略一定の第1濃度である領域を有するドリフト層と、
前記ドリフト層の直上に前記ドリフト層に接して設けられた第2導電型のベース層であって、前記第1導電型の不純物を含み、前記第1導電型の不純物濃度分布は、略一定の第2濃度である領域を有するベース層と、
前記ベース層の表面に選択的に設けられた第1導電型のソース層と、
前記ソース層から前記ドリフト層に到達し、前記ベース層に絶縁膜を介して接するゲート電極と、
前記ベース層に接続され、前記ドリフト層の表面から内部にかけて設けられたピラー状の第2導電型の半導体層と、
前記ドリフト層に電気的に接続されたドレイン電極と、
前記ソース層に電気的に接続されたソース電極と、
を備え、
前記ベース層に含まれる前記第1導電型の不純物の前記第2濃度は、前記ドリフト層に含まれる前記第1導電型の不純物の前記第1濃度よりも低く、
前記ベース層と前記ドリフト層との間において前記第1導電型の不純物濃度は、前記第2濃度から前記第1濃度へ連続的に変化し、
前記ドリフト層に含まれる前記第1導電型の不純物濃度は、1×1016(atoms/cm3)以上であることを特徴とする半導体装置。 - 前記ソース層に隣接するように、前記ベース層の表面に第2導電型のコンタクト層がさらに選択的に設けられ、
前記コンタクト層に含まれる第2導電型の不純物濃度は、前記ベース層に含まれる前記第2導電型の不純物濃度から前記ベース層に含まれる前記第1導電型の不純物濃度を差し引いた値よりも高く、
前記コンタクト層は、前記ソース電極に接続されていることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。 - 前記ドリフト層における前記第1導電型の不純物濃度分布が一定である前記領域は、前記ドレイン電極から前記ソース電極に向かう方向において第1導電型の不純物濃度分布が一定である請求項1または2に記載の半導体装置。
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