JP6304529B2 - 重合性化合物及び光学異方体 - Google Patents

Description

本発明は重合性基を有する化合物、当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を用いた光学異方体に関する。

重合性基を有する化合物（重合性化合物）は種々の光学材料に使用される。例えば、重合性化合物を含む重合性組成物を液晶状態で配列させた後、重合させることにより、均一な配向を有する重合体を作製することが可能である。このような重合体は、ディスプレイに必要な偏光板、位相差板、３Ｄ表示を行うために必要なレンチキュラーレンズ等に使用することができる。多くの場合、要求される光学特性、重合速度、溶解性、融点、ガラス転移温度、重合体の透明性、機械的強度、表面硬度、耐熱性及び耐光性を満たすために、２種類以上の重合性化合物を含む重合性組成物が使用される。その際、使用する重合性化合物には、他の特性に悪影響を及ぼすことなく、重合性組成物に良好な物性をもたらすことが求められる。

人間は左右の各々の目から入った映像が脳内で一体化する際に、奥行きや立体感を感じる。３Ｄ表示は、右目用及び左目用に別々の角度で撮影した映像を各々右目及び左目に送ることにより、奥行きや立体感を感じさせる仕組みである。右目用及び左目用の各々の映像を各々の目に送る方法として、レンチキュラーレンズを使用したものが知られている。

重合性化合物をレンチキュラーレンズ用に使用する場合には、重合前の重合性組成物を調製した際に、長時間保管しても重合性組成物から、その成分中の重合性化合物が析出することが無いこと、そして、重合性組成物を電磁波により重合させレンズ形状の重合物を作製した際に、配向欠陥が少なく、レンズ形状が均一であることが特に重要である。配向欠陥が生じたレンチキュラーレンズ及び／又はレンズ形状が不均一であるレンチキュラーレンズを、例えば３Ｄディスプレイに使用した場合、ディスプレイの明るさが均一で無くなったり、映像の色味が不自然であったり、光軸のズレによって３Ｄ表示の画質が低下したりしてしまい、ディスプレイ製品の品質を大きく低下させてしまう問題がある。また、レンチキュラーレンズを３Ｄディスプレイ用途に使用する場合には、ディスプレイのデザイン性や、製造工程における重合性組成物の使用量によるコストの観点から、レンチキュラーレンズの膜厚が小さいことが好ましい。そのためには重合性組成物の屈折率異方性、即ち使用する重合性化合物の屈折率異方性が大きいことが好ましい。

当該分野において種々の重合性化合物が報告されてきたが、それらの重合性化合物は、重合性組成物に添加した場合に結晶の析出が起こり、保存安定性が不十分であった（特許文献１、２）。また、重合性組成物を電磁波により重合させレンズ形状の重合物を作製した際に、配向欠陥が生じたり、レンズ形状が不均一になったりしてしまう問題があった（特許文献１〜３）。

特開平５−１３２５２４号公報 特開２００２−１０５０３３号公報 特開２０１２−１７７０８７号公報

本発明が解決しようとする課題は、重合性組成物に添加した際に結晶の析出等が起こらず高い保存安定性を有するような重合性化合物を提供し、当該重合性化合物を含有する重合性組成物を重合して得られるレンズ状の重合物を作製した際に配向欠陥が少なくレンズ形状が均一である重合性組成物を提供することである。更に、当該重合性組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。

本願発明は一般式（Ｉ）

（式中、Ｐは重合性基を表し、Ｓはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は単結合を表すが、Ｘが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４及びＡ^５は各々独立して１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイル又はナフタレン−２，６−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ａ^５が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１、Ｚ^２、及び、Ｚ^３は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｌは０から８の整数を表し、ｍ１、ｍ２及びｍ３は０又は１を表し、ｎは０、１又は２を表し、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表すが、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３及びＡ^４のうち少なくとも１つは、１つ以上のＬによって置換され、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３は０又は１を表す。）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

本願発明の化合物は、重合性組成物を構成した場合に保存安定性が高く、重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を用いた光学異方体は、配向欠陥が少なく、レンズ形状が均一であることからレンチキュラーレンズ等の光学材料の用途に有用である。

本願発明は一般式（Ｉ）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

一般式（Ｉ）においてＰは重合性基を表すが、下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−１８）

から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。

Ｓは各々独立してスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。また、スペーサー基としては、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましい。Ｓは原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０のアルキレン基又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して炭素原子数１から１０のアルキレン基又は単結合を表すことがさらに好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して炭素原子数１から８のアルキレン基を表すことが特に好ましい。

Ｘは各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は単結合を表すが、Ｘが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。また、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。

Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４及びＡ^５は各々独立して無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイル又はナフタレン−２，６−ジイルを表し、Ａ^５が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良いが、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３及びＡ^４のうち少なくとも１つは、保存安定性の観点から、１つ以上のＬによって置換されている必要がある。Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４及びＡ^５は原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から各々独立して無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い１，４−フェニレン又はナフタレン−２，６−ジイルを表すことが好ましく、各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−１０）

から選ばれる基を表すことがより好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−９）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−７）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表すが、合成の容易さの観点からフッ素原子、塩素原子又は臭素原子を表すことが好ましく、フッ素原子又は塩素原子を表すことが特に好ましい。

Ｚ^１、Ｚ^２、及び、Ｚ^３は各々独立して単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表すが、化合物の液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、各々独立して単結合、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表すことが好ましく、各々独立して単結合、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表すことがさらに好ましく、各々独立して単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましい。

Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表すが、液晶性及び合成の容易さの観点から水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表すことが好ましく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、若しくは、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基を表すことがより好ましく、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基を表すことが特に好ましい。

ｌは０から８の整数を表すが、液晶性、原料の入手容易さ、合成の容易さ及び保存安定性の観点から０から４の整数を表すことが好ましく、０から２の整数を表すことがより好ましく、０又は１を表すことがさらに好ましく、１を表すことが特に好ましい。

ｍ１、ｍ２及びｍ３はそれぞれ独立して０又は１を表すが、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３は０又は１を表す。保存安定性及び配向性の観点から、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３は０が好ましい。

ｎは０、１又は２を表すが、保存安定性及び合成の容易さの観点から０又は１を表すことが好ましく、０を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物として具体的には、下記の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−９６）で表される化合物が好ましい。

本願発明の化合物は以下の製法で製造することができる。
（製法１）下記式（Ｓ−８）で表される化合物の製造

（式中、Ｐ、Ｓ、Ｌ、Ｒは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
式（Ｓ−１）で表される化合物を式（Ｓ−２）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−３）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒としては例えば、アリルパラジウム（ＩＩ）クロリド、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、酢酸パラジウム（ＩＩ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）が挙げられる。塩基としては例えばトリエチルアミン等が使用可能である。反応条件としては例えばＭｅｔａｌ−Ｃａｔａｌｙｚｅｄ Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ（Ａｒｍｉｎ ｄｅ Ｍｅｉｊｅｒｅ、Ｆｒａｎｃｏｉｓ Ｄｉｅｄｒｉｃｈ共著、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ）、Ｐａｌｌａｄｉｕｍ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ａｎｄ Ｃａｔａｌｙｓｔｓ：Ｎｅｗ Ｐｅｒｓｐｅｃｔｉｖｅｓ ｆｏｒ ｔｈｅ ２１ｓｔ Ｃｅｎｔｕｒｙ（Ｊｉｒｏ Ｔｓｕｊｉ著、Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｌｔｄ．）、Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ：Ａ Ｐｒａｃｔｉｃａｌ Ｇｕｉｄｅ（Ｔｏｐｉｃｓ ｉｎ Ｃｕｒｒｅｎｔ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）（Ｓ．Ｌ．Ｂｕｃｈｗａｌｄ、Ｋ．Ｆｕｇａｍｉ、Ｔ．Ｈｉｙａｍａ、Ｍ．Ｋｏｓｕｇｉ、Ｍ．Ｍｉｕｒａ、Ｎ．Ｍｉｙａｕｒａ、Ａ．Ｒ．Ｍｕｃｉ、Ｍ．Ｎｏｍｕｒａ、Ｅ．Ｓｈｉｒａｋａｗａ、Ｋ．Ｔａｍａｏ著、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ）等の文献に記載の方法が挙げられる。

一般式（Ｓ−３）で表される化合物をホウ酸化することにより一般式（Ｓ−４）で表される化合物を得る。方法として例えば一般式（Ｓ−３）で表される化合物の芳香環上のプロトンを強塩基により引き抜き、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。強塩基としては例えばブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、メチルリチウム等が挙げられる。プロトン引き抜きを促進させるために、テトラメチルエチレンジアミン等の添加剤を使用してもよい。ホウ酸エステルとしては例えばホウ酸トリイソプロピル、ホウ酸トリメチル等が挙げられる。又は、一般式（Ｓ−３）で表される化合物をハロゲン化した化合物からハロゲンリチウム交換反応によりリチオ化体へと誘導し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。若しくは、一般式（Ｓ−３）で表される化合物をハロゲン化した化合物からグリニャール試薬へと誘導し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。

式（Ｓ−４）で表される化合物を式（Ｓ−５）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−６）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。触媒及び塩基としては前記のものが使用可能である。

一般式（Ｓ−６）で表される化合物を一般式（Ｓ−７）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−８）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば、光延反応又は、一般式（Ｓ−７）で表される化合物をスルホン酸等と反応させスルホン酸エステルとするか、ハロゲン化試薬と反応させハロゲン化合物とした後、一般式（Ｓ−６）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。光延反応を用いる場合、アゾジカルボン酸としては例えばアゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル等が挙げられる。ホスフィンとしては例えばトリフェニルホスフィン等が挙げられる。また、シアノメチレントリブチルホスホラン等の角田試薬を用いてもよい。スルホン酸エステルを経由する場合、スルホン酸としてメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基としては例えばトリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン等が使用可能である。

前記各工程において記載した以外の反応条件として、例えば実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ ｆｕｅｒ Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎ ａｎｄ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献に記載の条件又はＳｃｉＦｉｎｄｅｒ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ Ｓｅｒｖｉｃｅ，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）又はＲｅａｘｙｓ（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ Ｌｔｄ．）等のオンライン検索サービスから提供される条件が挙げられる。

また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒としては目的の化合物を与えるものであれば制限は無いが、例えばｔｅｒｔ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、イソペンチルアルコール、シクロヘキサノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−オクタノール、２−メトキシエタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、メタノール、メチルシクロヘキサノール、エタノール、プロパノール、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、１−クロロブタン、二硫化炭素、アセトン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ｏ−ジクロロベンゼン、キシレン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸２−メトキシエチル、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン、シクロヘキサノン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、１，１，１−トリクロロエタン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、ガソリン、コールタールナフサ、石油エーテル、石油ナフサ、石油ベンジン、テレビン油、ミネラルスピリット等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒としては、例えば、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウラート［Ｔｗｅｅｎ ２０］、ソルビタンモノオレアート［Ｓｐａｎ ８０］等が挙げられる。

また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。
（製法２）下記式（Ｓ−１２）で表される化合物の製造

（式中、Ｐ、Ｓ、Ｘ、Ｌ、Ｒは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
式（Ｓ−４）で表される化合物を式（Ｓ−９）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−１０）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。触媒及び塩基としては製法１記載のものが使用可能である。

一般式（Ｓ−１０）で表される化合物を前記一般式（Ｓ−１１）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−１２）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば、縮合剤を用いる方法、又は一般式（Ｓ−１１）で表される化合物を酸クロリド、混合酸無水物又はカルボン酸無水物とした後、一般式（Ｓ−１０）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。縮合剤を用いる場合、縮合剤として例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−Ｎ’−エチルカルボジイミド、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］−Ｎ’−エチルカルボジイミドメチオジド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルーＮ’−エチルカルボジイミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−（２−モルホリノエチル）カルボジイミド メト−ｐ−トルエンスルホナート、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｐ−トリルカルボジイミド、４−（４，６−ジメトキシ−１，３，５−トリアジン−２−イル）−４−メチルモルホリニウムクロリド等が挙げられる。塩基としては製法１記載のアミン等が使用可能である。

また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒としては目的の化合物を与えるものであれば制限は無いが、例えば製法１記載のものが使用可能である。

また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。
（製法３）下記式（Ｓ−２２）で表される化合物の製造

（式中、Ｐ、Ｓ、Ｌ、Ｒは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数、ｓは各々独立して０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表し、ＰＧは保護基を表す。）
一般式（Ｓ−１３）で表される化合物を例えばトリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ_２Ｏ）と反応させることにより一般式（Ｓ−１４）で表される化合物を得る。

式（Ｓ−１４）で表される化合物を式（Ｓ−１５）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−１６）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。触媒及び塩基としては製法１記載のものが使用可能である。

一般式（Ｓ−１７）で表される化合物のカルボキシル基を保護基（ＰＧ）により保護する。保護基（ＰＧ）としては、反応過程において一般式（Ｓ−１８）で表される化合物を与え、脱保護工程に至るまで安定に保護しうるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）等に挙げられている保護基（ＰＧ）が好ましい。例えば、メチルエステル、エチルエステル、ｔｅｒｔ−ブチルエステル等が挙げられる。

一般式（Ｓ−１８）で表される化合物を例えば塩基存在下一般式（Ｓ−１９）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−２０）で表される化合物を得る。塩基としては例えば製法１記載のものが使用可能である。

一般式（Ｓ−２０）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、反応過程において一般式（Ｓ−２１）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ａ Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）に挙げられている反応条件が好ましい。

一般式（Ｓ−２１）で表される化合物を一般式（Ｓ−１６）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−２２）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば、縮合剤を用いる方法、又は一般式（Ｓ−２１）で表される化合物を酸クロリド、混合酸無水物又はカルボン酸無水物とした後、一般式（Ｓ−１６）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。縮合剤を用いる場合、縮合剤として例えば製法２記載のものが使用可能である。塩基としては製法１記載のアミン等が使用可能である。

また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒としては目的の化合物を与えるものであれば制限は無いが、例えば製法１記載のものが使用可能である。

また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。

本願発明の化合物は、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが好ましい。本願発明の反応性化合物を用いる液晶組成物において本願発明以外の化合物を添加しても構わない。

本願発明の反応性化合物と混合して使用される他の反応性化合物としては、具体的には一般式（ＩＩ）

（式中、Ｐ^１及びＰ^２は各々独立して一般式（Ｉ）におけるＰと同じ意味を表し、Ｓ^１及びＳ^２は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^１及びＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｚ^４は各々独立して単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ^６及びＡ^７は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^６及びＡ^７は各々独立して無置換であるか又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素原子数１から２０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、ｎ１は０、１、２又は３を表すが、ｎ１が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ^６及び、Ｚ^５は、それぞれ、同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物が好ましく、一般式（ＩＩ）のＰ^１及びＰ^２がアクリル基又はメタクリル基である場合が特に好ましい。具体的には、一般式（ＩＩ−ｉ）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ^３及びＳ^４は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ^３及びＸ^４は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ^５及びＺ^６は各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ^８、Ａ^９及びＡ^１０は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子又は炭素原子数１から４のアルキル基又はアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩ−ｉ−１）から式（ＩＩ−ｉ−８）で表される化合物が特に好ましい。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を表し、Ｓ^３は一般式（ＩＩ−ｉ）におけるＳ^３と同じ意味を表し、Ｓ^４は一般式（ＩＩ−ｉ）におけるＳ^４と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩ−ｉ−１）から式（ＩＩ−ｉ−８）において、Ｓ^３及びＳ^４が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物がさらに好ましい。

また、一般式（ＩＩ−ｉｉ）

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を表し、Ｓ^５及びＳ^６は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ^５及びＸ^６は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ^７は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ^１１、Ａ^１２及びＡ^１３は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子又は炭素原子数１から４のアルキル基又はアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩ−ｉｉ−１）から式（ＩＩ−ｉｉ−８）で表される化合物が特に好ましい。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を表し、Ｓ^５は一般式（ＩＩ−ｉｉ）におけるＳ^５と同じ意味を表し、Ｓ^６は一般式（ＩＩ−ｉｉ）におけるＳ^６と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩ−ｉｉ−１）から式（ＩＩ−ｉｉ−８）において、耐熱性及び耐久性の観点から、式（ＩＩ−ｉｉ−２）、式（ＩＩ−ｉｉ−５）、式（ＩＩ−ｉｉ−６）、式（ＩＩ−ｉｉ−７）及び式（ＩＩ−ｉｉ−８）で表される化合物が好ましく、式（ＩＩ−ｉｉ−２）で表される化合物がさらに好ましく、Ｓ^５及びＳ^６が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

この他、好ましい２官能重合性化合物としては下記一般式（ＩＩ−ｉｉｉ−１）から式（ＩＩ−ｉｉｉ−８）で表される化合物が挙げられる。

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を表し、Ｓ^７及びＳ^８は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表す。）上記式（ＩＩ−ｉｉｉ−１）から式（ＩＩ−ｉｉｉ−８）において、式（ＩＩ−ｉｉｉ−２）、式（ＩＩ−ｉｉｉ−３）、式（ＩＩ−ｉｉｉ−４）、式（ＩＩ−ｉｉｉ−６）、式（ＩＩ−ｉｉｉ−７）及び式（ＩＩ−ｉｉｉ−８）で表される化合物が好ましく、Ｓ^７及びＳ^８が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表される単官能重合性化合物以外の好ましい単官能重合性化合物としては下記一般式（ＩＩＩ−１）から式（ＩＩＩ−９）で表される化合物が挙げられる。

（式中、Ｐ^３は一般式（Ｉ）におけるＰと同じ意味を表し、Ｓ^９は単結合又は炭素原子数１から２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^７は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−を表し、Ｚ^８は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ^１４は１，４−フェニレン基又はナフタレン−２，６−ジイル基を表すが、Ａ^１４は無置換であるか又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素原子数１から２０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｌ^１はフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、ｒは０から４の整数を表し、Ｒ^１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ニトロ基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）
本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物には、当該組成物の液晶性を大きく損なわない程度に、液晶性を示さない重合性化合物を添加することも可能である。具体的には、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識される化合物であれば特に制限なく使用可能である。具体例として例えば「光硬化技術データブック、材料編（モノマー，オリゴマー，光重合開始剤）」（市村國宏、加藤清視監修、テクノネット社）記載のものが挙げられる。

また、本願発明の化合物は光重合開始剤を使用しなくても重合させることが可能であるが、目的により光重合開始剤を添加しても構わない。その場合は光重合開始剤の濃度は、本願発明の化合物に対し０．１質量％から１５質量％が好ましく、０．２質量％から１０質量％がより好ましく、０．４質量％から８質量％がさらに好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。光重合開始剤としては、具体的には２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７）等が挙げられる。また、１種類の重合開始剤を用いても良く、２種類以上の重合開始剤を併用して用いても良い。

また、本発明の重合性液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、組成物に対して０．００５質量％から１質量％の範囲が好ましく、０．０２質量％から０．８質量％がより好ましく、０．０３質量％から０．５質量％がさらに好ましい。また、１種類の安定剤を用いても良く、２種類以上の安定剤を併用して用いても良い。安定剤としては、具体的には式（ＩＶ−１）から式（ＩＶ−３６）

（式中、ｎは０から２０の整数を表す。）で表される化合物が好ましい。

また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物をフィルム類、光学素子類、機能性顔料類、医薬品類、化粧品類、コーティング剤類、合成樹脂類等の用途に利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等を添加することもできる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合することにより得られるポリマーは種々の用途に利用できる。例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、配向させずに重合することにより得られるポリマーは、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。また、配向させた後に重合することにより得られるポリマーは、光学異方性を有しており有用である。このような光学異方体は、例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、布等でラビング処理した基板、有機薄膜を形成した基板又はＳｉＯ_２を斜方蒸着した配向膜を有する基板に担持させるか、基板間に挟持させた後、当該重合性液晶組成物を重合することによって製造することができる。

重合性液晶組成物を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、重合性液晶組成物に有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン性溶媒等を使用することができるが、例えば炭化水素系溶媒としてはトルエン又はヘキサンを、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては塩化メチレンを、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、アセトキシ−２−エトキシエタン又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、アルコール系溶媒としてはメタノール、エタノール又はイソプロパノールを、ケトン系溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、γ−ブチルラクトン又はＮ−メチルピロリジノン類を、エステル系溶媒としては酢酸エチル又はセロソルブを、非プロトン性溶媒としてはジメチルホルムアミド又はアセトニトリルを挙げることができる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。重合性液晶材料の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることや、重合性液晶材料にレベリング剤を添加する事も有効である。基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設ける方法は、重合性液晶材料を重合することにより得られるポリマーと基板との密着性を向上させるために有効である。

上記以外の配向処理としては、液晶材料の流動配向の利用、電場又は磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いても良い。さらに、ラビングに代わる配向処理方法として、光配向法を用いることもできる。基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させる際、迅速に重合が進行することが望ましいため、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良く、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性を有していなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２〜２Ｗ／ｃｍ^２が好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ^２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２Ｗ／ｃｍ^２以上の場合、重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物が劣化してしまう危険がある。

重合によって得られた当該光学異方体は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲であることが好ましく、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲であることが好ましい。

このような方法によって製造される当該光学異方体は、基板から剥離して単体で用いても、剥離せずに用いても良い。また、得られた光学異方体を積層しても、他の基板に貼り合わせて用いてもよい。

以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。
（実施例１）式（Ｉ−１）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物２０．０ｇ（０．１２２モル）、式（Ｉ−１−２）で表される化合物２１．３ｇ（０．１２２モル）、炭酸カリウム２５．３ｇ（０．１８３モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）１．４１ｇ（１．２２ミリモル）を加え、７時間加熱還流させた。トルエンで希釈し、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１−３）で表される化合物２２．２ｇ（０．１０４モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１−３）で表される化合物２２．２ｇ（０．１０４モル）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬを加えた。ｓｅｃ−ブチルリチウム溶液（１．０モル／Ｌ）１２４ｍＬを−７０℃で滴下した。そのまま２時間撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル２５．３ｇ（０．１３５モル）を滴下した。そのまま２時間撹拌した後、１０％塩酸３００ｍＬを０℃で滴下した。室温で１時間撹拌した後、食塩水で洗浄した。濃縮、乾燥させることにより式（Ｉ−１−４）で表される化合物２５．７ｇ（０．０９９５モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１−４）で表される化合物２５．７ｇ（０．０９９５モル）、式（Ｉ−１−５）で表される化合物２５．０ｇ（０．０９９５モル）、炭酸カリウム２０．６ｇ（０．１４９モル）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ、水１５０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）１．１５ｇ（０．９９５ミリモル）を加え、１０時間加熱還流させた。トルエンで希釈し、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１−６）で表される化合物３１．２ｇ（０．０８１２モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に塩化アルミニウム１２．６ｇ（０．０９４３モル）、ジクロロメタン３８ｍＬを加えた。室温で塩化アセチル８．０２ｇ（０．１０２モル）を滴下した。室温で２時間撹拌した後、式（Ｉ−１−６）で表される化合物３１．２ｇ（０．０８１２モル）をジクロロメタン６０５ｍＬに溶解させた溶液を氷冷しながら滴下した。室温で４時間撹拌した後、水に注いだ。ジクロロメタンで希釈し食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、濃縮、乾燥させることにより式（Ｉ−１−７）で表される化合物２２．８ｇ（０．０５３５モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器にギ酸３６４ｍＬ及び３０％過酸化水素水２４．３ｇ（０．２１４モル）を加えた。室温で１時間撹拌した後、式（Ｉ−１−７）で表される化合物２２．８ｇ（０．０５３５モル）をジクロロメタン４５６ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。５０℃で６０時間加熱撹拌した後、亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加えた。食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１−８）で表される化合物１７．４ｇ（０．０３９２モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１−８）で表される化合物１７．４ｇ（０．０３９２モル）、テトラヒドロフラン４００ｍＬ、プロピルアミン２３．２ｇ（０．３９２モル）を加え室温で５０時間撹拌した。溶媒を留去し酢酸エチルに溶解させた。５％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１−９）で表される化合物１５．７ｇ（０．０３９２モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１−９）で表される化合物１５．７ｇ（０．０３９２モル）、式（Ｉ−１−１０）で表される化合物８．１１ｇ（０．０５４６モル）、炭酸セシウム２０．５ｇ（０．０６３０モル）、ジメチルスルホキシド１６８ｍＬを加え、６３℃で５時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１）で表される化合物１２．６ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ ９２ Ｎ ＞２００ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９８（ｔ，３Ｈ），１．６９（ｓｅｘ，２Ｈ），２，２０（ｑｕｉｎ，２Ｈ），２．６５（ｔ，２Ｈ），４．１３（ｔ，２Ｈ），４．３９（ｔ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１４（ｄｄ，１Ｈ），６．４２（ｄｄ，１Ｈ），６．９９（ｄ，２Ｈ），７．２８（ｄ，２Ｈ），７．３９−７．５５（ｍ，１０Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １３．６，２４．５，２８．６，３７．７，６１．３，６４．４，１１４．４，１１４．５，１１４．６，１１６．３，１１６．２４，１１６．６，１１６．６，１２２．８，１２２．８，１２４．７，１２５．７，１２５．９，１２６．７，１２７．７，１２７．８，１２８．０，１２８．３，１２９．１，１３０．１，１３０．１，１３０．３，１３０．３，１３０．５，１３０．６，１３０．８，１３５．９，１３６．０，１３６．６，１４２．８，１４２．８，１５８．４，１５８．５，１５８．８，１６０．８，１６１．２，１６６．１ｐｐｍ．
（実施例２）式（Ｉ−２）で表される化合物の製造

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−２−１）で表される化合物２０．０ｇ（０．１０７モル）、ピリジン１２．７ｇ（０．１６１モル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物３６．４ｇ（０．１２９モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−２−２）で表される化合物３３．２ｇ（０．１０４モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−２−２）で表される化合物３３．２ｇ（０．１０４モル）、式（Ｉ−２−３）で表される化合物１４．６ｇ（０．１０４モル）、炭酸カリウム２１．６ｇ（０．１５６モル）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ、水１５０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）１．２０ｇ（１．０４ミリモル）を加え、９時間加熱還流させた。トルエンで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−２−４）で表される化合物２３．４ｇ（０．０８８５モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−２−４）で表される化合物２３．４ｇ（０．０８８５モル）、テトラヒドロフラン１２０ｍＬを加えた。ｓｅｃ−ブチルリチウム溶液（１．０モル／Ｌ）１０６ｍＬを−７０℃で滴下した。そのまま２時間撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル２１．６ｇ（０．１１５モル）を滴下した。そのまま２時間撹拌した後、１０％塩酸３００ｍＬを０℃で滴下した。室温で１時間撹拌した後、食塩水で洗浄した。濃縮、乾燥させることにより式（Ｉ−２−５）で表される化合物２２．９ｇ（０．０７４４モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に塩化アルミニウム１２．７ｇ（０．０９５６モル）、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。室温で塩化アセチル８．１３ｇ（０．１０４モル）を滴下した。室温で２時間撹拌した後、式（Ｉ−１−５）で表される化合物２０．０ｇ（０．０７９７モル）をジクロロメタン１００ｍＬに溶解させた溶液を氷冷しながら滴下した。室温で４時間撹拌した後、水に注いだ。ジクロロメタンで希釈し食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、濃縮、乾燥させることにより式（Ｉ−２−６）で表される化合物２２．６ｇ（０．０７７３モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器にギ酸２２０ｍＬ及び３０％過酸化水素水３５．０ｇ（０．３０９モル）を加えた。室温で１時間撹拌した後、式（Ｉ−２−６）で表される化合物２２．６ｇ（０．０７７３モル）をジクロロメタン１００ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。５０℃で６０時間加熱撹拌した後、亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加えた。食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−２−７）で表される化合物２２．５ｇ（０．０７２６モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−２−７）で表される化合物２２．５ｇ（０．０７２６モル）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ、プロピルアミン４２．９ｇ（０．７２６モル）を加え室温で５０時間撹拌した。溶媒を留去し酢酸エチルに溶解させた。５％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−２−８）で表される化合物１８．４ｇ（０．０６９０モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−２−８）で表される化合物１８．４ｇ（０．０６９０モル）、３−クロロプロパノール８．４８ｇ（０．０８９７モル）、炭酸セシウム３３．７ｇ（０．１０３モル）、ジメチルスルホキシド１８０ｍＬを加え、６０℃で５時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、１０％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−２−９）で表される化合物２０．２ｇ（０．０６２１モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−２−９）で表される化合物２０．２ｇ（０．０６２１モル）、式（Ｉ−２−５）で表される化合物１９．１ｇ（０．０６２１モル）、炭酸カリウム１２．９ｇ（０．０９３１モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．７２ｇ（０．６２１ミリモル）を加え、９時間加熱還流させた。トルエンで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−２−１０）で表される化合物２６．８ｇ（０．０５２８モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−２−１０）で表される化合物２６．８ｇ（０．０５２８モル）、ジイソプロピルエチルアミン１０．２ｇ（０．０７９２モル）、ジクロロメタン１２５ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル６．２１ｇ（０．０６８６モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−２）で表される化合物２２．２ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）：Ｃ １１３ Ｓ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ ０．９９（ｔ，３Ｈ），１．７５（ｓｅｘ，２Ｈ），２．２１（ｑｕｉｎ，２Ｈ），２．７８（ｔ，２Ｈ），４．１３（ｔ，２Ｈ），４．４０（ｔ，２Ｈ），５．８６（ｄｄ，１Ｈ），６．１５（ｄｄ，１Ｈ），６．４４（ｄｄ，１Ｈ），７．０１（ｄ，２Ｈ），７．３８−７．６０（ｍ，９Ｈ），７．６５（ｓ，１Ｈ），７．７４（ｄｄ，１Ｈ），７．８７（ｄｄ，２Ｈ），８．０６（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
^１３Ｃ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １３．８７，２４．４４，２８．５８，３８．２０，６１．３３，６４．２７，１１４．４９，１１４．７４，１１４．９８，１１６．４２，１１６．６２，１２３．１９，１２３．２２，１２４．７８，１２４．９３，１２５．６４，１２６．０６，１２６．２０，１２７．７５，１２７．８９，１２８．１２，１２８．２２，１２８．３１，１３０．１３，１３０．１６，１３０．３６，１３０．４０，１３０．６６，１３０．７０，１３０．９８，１３２．０２，１３３．０８，１３５．７１，１３５．８２，１３５．９０，１４０．９３，１４２．７９，１４２．８７，１５８．３４，１５８．４８，１５８．８３，１６０．８０，１６１．３０，１６６．２１ｐｐｍ．
（実施例３）式（Ｉ−３）で表される化合物の製造

実施例１において式（Ｉ−１−１）で表される化合物を式（Ｉ−３−１）で表される化合物に、式（Ｉ−１−２）で表される化合物を式（Ｉ−３−２）で表される化合物に、式（Ｉ−１−１０）で表される化合物を式（Ｉ−３−９）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−３）で表される化合物を得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：６００
（実施例４）式（Ｉ−４）で表される化合物の製造

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−２−９）で表される化合物２０．０ｇ（０．０６１５モル）、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム０．７７ｇ（３．１ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン５．６９ｇ（０．０６７７モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、飽和重曹水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−４−１）で表される化合物２３．９ｇ（０．０５８４モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器にマグネシウム１．８５ｇ（０．０７６０モル）、テトラヒドロフラン５ｍＬを加え系内を窒素置換した。式（Ｉ−４−１）で表される化合物２３．９ｇ（０．０５８４モル）をテトラヒドロフラン１００ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、グリニャール試薬を調製した。２時間撹拌した後、ホウ酸トリメチル７．８９ｇ（０．０７６０モル）を滴下した。２時間撹拌した後、塩化アンモニウム水溶液を滴下しさらに１時間撹拌した。水、食塩水で洗浄した後、溶媒を留去することにより式（Ｉ−４−２）で表される化合物１９．７ｇ（０．０５２６モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−４−２）で表される化合物１９．７ｇ（０．０５２６モル）、式（Ｉ−４−３）で表される化合物１４．９ｇ（０．０５２６モル）、炭酸カリウム１０．９ｇ（０．０７８９モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．６１ｇ（０．５２６ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。トルエンで希釈した後、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−４−４）で表される化合物２１．７ｇ（０．０４４７モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−４−４）で表される化合物２１．７ｇ（０．０４４７モル）、テトラヒドロフラン８０ｍＬ、メタノール８０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え、室温で１０時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４−５）で表される化合物１７．０ｇ（０．０４２５モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−４−５）で表される化合物１７．０ｇ（０．０４２５モル）、式（Ｉ−４−６）で表される化合物８．０５ｇ（０．０４６７モル）、ヨウ化銅（Ｉ）０．１６ｇ（０．８４９ミリモル）、トリエチルアミン３０ｍＬ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．４９ｇ（０．４２５ミリモル）を加え、１０時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４−７）で表される化合物１６．７ｇ（０．０３４０モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−４−７）で表される化合物１６．７ｇ（０．０３４０モル）、ジイソプロピルエチルアミン６．５９ｇ（０．０５１０モル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル４．００ｇ（０．０４４２モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４）で表される化合物１３．０ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：５４６
（実施例５）式（Ｉ−５）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−５−１）で表される化合物２０．０ｇ（０．１００モル）、式（Ｉ−５−２）で表される化合物１３．８ｇ（０．１００モル）、炭酸カリウム２０．７ｇ（０．１５０モル）、テトラヒドロフラン１２０ｍＬ、水１２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）１．１６ｇ（１．００ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈した後、１０％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−５−３）で表される化合物１７．５ｇ（０．０８２０モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−５−４）で表される化合物２０．０ｇ（０．０９３４モル）、無水酢酸１４．３ｇ（０．１４０モル）、酢酸５００ｍＬ、濃硫酸２５ｍＬを加え９０℃で５時間加熱撹拌した。冷却した後、水に注ぎ、結晶を濾過、洗浄した。乾燥させることにより式（Ｉ−５−５）で表される化合物２２．７ｇ（０．０８８７モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−５−５）で表される化合物１５．０ｇ（０．０５８５モル）、式（Ｉ−５−３）で表される化合物１２．５ｇ（０．０５８５モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．７２ｇ（５．８５ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド８．８６ｇ（０．０７０２モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、濾過し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５−６）で表される化合物２２．４ｇ（０．０４９７モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−５−６）で表される化合物２２．４ｇ（０．０４９７モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、プロピルアミン５．８８ｇ（０．０９９４モル）を加え、室温で１０時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し５％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５−７）で表される化合物１９．３ｇ（０．０４７２モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−５−７）で表される化合物１９．３ｇ（０．０４７２モル）、式（Ｉ−５−８）で表される化合物８．８５ｇ（０．０６１４モル）、トリフェニルホスフィン１４．９ｇ（０．０５６７モル）、テトラヒドロフラン１２０ｍＬを加えた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル１１．５ｇ（０．０５６７モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５）で表される化合物２０．２ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：５３５
（実施例６）式（Ｉ−６）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−６−１）で表される化合物２５．０ｇ（０．０８３１モル）、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル１１．７ｇ（０．０９１４モル）、炭酸カリウム１７．２ｇ（０．１２５モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、酢酸パラジウム（ＩＩ）０．１９ｇ（０．８３１ミリモル）を加え、１２０℃で３時間加熱撹拌した。冷却しトルエンで希釈した後、５％塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い式（Ｉ−６−２）で表される化合物２１．３ｇ（０．０７０６モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−６−２）で表される化合物２１．３ｇ（０．０７０６モル）、式（Ｉ−５−２）で表される化合物９．７４ｇ（０．０７０６モル）、炭酸カリウム１４．６ｇ（０．１０６モル）、テトラヒドロフラン１２０ｍＬ、水１２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．８２ｇ（０．７０６ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−６−３）で表される化合物１７．８ｇ（０．０５６５モル）を得た。

オートクレーブに式（Ｉ−６−３）で表される化合物１７．８ｇ（０．０５６５モル）、テトラヒドロフラン２００ｍＬ、５％パラジウム炭素１．７８ｇを加えた。水素圧０．５ＭＰａで５時間撹拌した。触媒を濾過し溶媒を留去した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い式（Ｉ−６−４）で表される化合物１７．０ｇ（０．０５３７モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−６−４）で表される化合物１７．０ｇ（０．０５３７モル）、式（Ｉ−６−５）で表される化合物１１．０ｇ（０．０６９８モル）、トリフェニルホスフィン１６．９ｇ（０．０６４４モル）、テトラヒドロフラン２００ｍＬを加えた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル１３．０ｇ（０．０６４４モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−６−６）で表される化合物１９．０ｇ（０．０４２９モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−６−６）で表される化合物１９．０ｇ（０．０４２９モル）、ジクロロメタン８０ｍＬ、トリフルオロ酢酸２０ｍＬを加えた。室温で１０時間撹拌した後、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行うことにより式（Ｉ−６−７）で表される化合物１４．９ｇ（０．０３８６モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１−４）で表される化合物２０．０ｇ（０．０７７５モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬを加えた。３０％過酸化水素水２０ｍＬを滴下し、５０℃で５時間加熱撹拌した。亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え撹拌した後、酢酸エチルで希釈し、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い式（Ｉ−６−８）で表される化合物１７．０ｇ（０．０７３６モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−６−８）で表される化合物８．９０ｇ（０．０３８６モル）、式（Ｉ−６−７）で表される化合物１４．９ｇ（０．０３８６モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．４７ｇ（３．８６ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド５．８５ｇ（０．０４６４モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、濾過し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−６）で表される化合物１７．３ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：５９８
（実施例７）式（Ｉ−７）で表される化合物の製造

実施例１において式（Ｉ−１−１）で表される化合物を式（Ｉ−７−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−７−３）で表される化合物を得た。

反応容器に式（Ｉ−７−３）で表される化合物１５．０ｇ（０．０５５１モル）、式（Ｉ−７−４）で表される化合物１２．１ｇ（０．０５５１モル）、炭酸カリウム１１．４ｇ（０．０８２７モル）、テトラヒドロフラン１２０ｍＬ、水１２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．６４ｇ（０．５５１ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７−５）で表される化合物１４．１ｇ（０．０４４１モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−７−５）で表される化合物１４．１ｇ（０．０４４１モル）、式（Ｉ−７−６）で表される化合物１２．９ｇ（０．０４４１モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．５４ｇ（４．４１ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド６．６８ｇ（０．０５２９モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、濾過し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７）で表される化合物１９．６ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：５９４
（実施例８）式（Ｉ−８）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−２−９）で表される化合物２０．０ｇ（０．０６１５モル）、式（Ｉ−５−２）で表される化合物８．４８ｇ（０．０６１５モル）、炭酸カリウム１２．８ｇ（０．０９２３モル）、テトラヒドロフラン１２０ｍＬ、水１２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．７１ｇ（０．６１５ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−８−１）で表される化合物１６．６ｇ（０．０４９２モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−８−２）で表される化合物２０．０ｇ（０．１０７モル）、プロピルブロミド１９．７ｇ（０．１６０モル）、炭酸セシウム５２．３ｇ（０．１６０モル）、ジメチルスルホキシド２００ｍＬを加えた。６０℃で５時間加熱撹拌した後トルエンで希釈し、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い式（Ｉ−８−３）で表される化合物２２．０ｇ（０．０９６２モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−８−３）で表される化合物１１．３ｇ（０．０４９２モル）、式（Ｉ−８−１）で表される化合物１６．６ｇ（０．０４９２モル）、炭酸セシウム２４．０ｇ（０．０７３８モル）、ジメチルスルホキシド１００ｍＬを加えた。６０℃で５時間加熱撹拌した後トルエンで希釈し、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い式（Ｉ−８−４）で表される化合物１９．２ｇ（０．０３９４モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−８−４）で表される化合物１９．２ｇ（０．０３９４モル）、ジイソプロピルエチルアミン７．６３ｇ（０．０５９０モル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル４．６３ｇ（０．０５１２モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−８）で表される化合物１７．０ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：５４０
（実施例９）式（Ｉ−９）で表される化合物の製造

実施例６において式（Ｉ−６−１）で表される化合物を式（Ｉ−９−１）で表される化合物に、式（Ｉ−５−２）で表される化合物を式（Ｉ−９−３）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−９−５）で表される化合物を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−９−５）で表される化合物２０．０ｇ（０．０６０１モル）、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム０．７６ｇ（３．００ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン６．５７ｇ（０．０７８１モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、飽和重曹水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−９−６）で表される化合物２３．８ｇ（０．０５７１モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−９−６）で表される化合物２３．８ｇ（０．０５７１モル）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬを加えた。水素化リチウムアルミニウム８．６７ｇを少量ずつ加えた後、室温で８時間撹拌した。水を加え濾過した後、溶媒を留去することにより式（Ｉ−９−７）で表される化合物１５．８ｇ（０．０４５７モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−９−７）で表される化合物１５．８ｇ（０．０４５７モル）、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド７．６９ｇ（０．０６８５モル）、プロパノール１００ｍＬを加えた。プロピルブロミド８．４３ｇ（０．０６８５モル）を滴下し１０時間加熱還流させた。トルエンで希釈し水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−９−８）で表される化合物１０．７ｇ（０．０２７４モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−９−８）で表される化合物１０．７ｇ（０．０２７４モル）、テトラヒドロフラン７０ｍＬ、メタノール７０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え、室温で１０時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−９−９）で表される化合物７．９３ｇ（０．０２６０モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−９−９）で表される化合物７．９３ｇ（０．０２６０モル）、式（Ｉ−５−５）で表される化合物６．６７ｇ（０．０２６０モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．３２ｇ（２．６０ミリモル）、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド３．９４ｇ（０．０３１２モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、濾過し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９−１０）で表される化合物１１．３ｇ（０．０２０８モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−９−１０）で表される化合物１１．３ｇ（０．０２０８モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、プロピルアミン２．４６ｇ（０．０４１７モル）を加え、室温で１０時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し５％塩酸、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９−１１）で表される化合物９．９１ｇ（０．０１９８モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−９−１１）で表される化合物９．９１ｇ（０．０１９８モル）、ジイソプロピルエチルアミン３．３２ｇ（０．０２５７モル）、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル２．３３ｇ（０．０２５７モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９）で表される化合物８．７８ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：５５５
（実施例１０）式（Ｉ−１０）で表される化合物の製造

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１０−１）で表される化合物２０．０ｇ（０．１４６モル）、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム１．８４ｇ（７．３２ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン１４．８ｇ（０．１７６モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、飽和重曹水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−１０−２）で表される化合物３０．７ｇ（０．１３９モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−２）で表される化合物３０．７ｇ（０．１３９モル）、式（Ｉ−１０−３）で表される化合物２１．６ｇ（０．１０７モル）、炭酸セシウム５２．３ｇ（０．１６０モル）、ジメチルスルホキシド２００ｍＬを加えた。６０℃で５時間加熱撹拌した後トルエンで希釈し、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い式（Ｉ−１０−４）で表される化合物３５．１ｇ（０．０９０９モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−４）で表される化合物３５．１ｇ（０．０９０９モル）、メタノール２００ｍＬ、１５％水酸化ナトリウム水溶液４８．５ｇ（０．１８２モル）を加え、５時間加熱還流させた。塩化アンモニウム水溶液で中和し酢酸エチルで希釈した後、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い式（Ｉ−１０−５）で表される化合物３２．２ｇ（０．０８６４モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１０−５）で表される化合物１０．０ｇ（０．０２６８モル）、式（Ｉ−１−９）で表される化合物１０．８ｇ（０．０２６８モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．３３ｇ（２．６８ミリモル）、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながらＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド４．０７ｇ（０．０３２２モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、濾過し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−１０−６）で表される化合物１７．２ｇ（０．０２２８モル）を得た。

反応容器に式（Ｉ−１０−６）で表される化合物１７．２ｇ（０．０２２８モル）、テトラヒドロフラン７０ｍＬ、メタノール７０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え、室温で１０時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０−７）で表される化合物１４．５ｇ（０．０２１７モル）を得た。

滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１０−７）で表される化合物１４．５ｇ（０．０２１７モル）、３−エチル−３−オキセタンメタノール３．２７ｇ（０．０２８２モル）、トリフェニルホスフィン６．８２ｇ（０．０２６０モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル５．２６ｇ（０．０２６０モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０）で表される化合物１１．６ｇを得た。
ＬＲＭＳ：７６８
（実施例１１）式（Ｉ−９６）で表される化合物の製造

実施例９において式（Ｉ−９−１１）で表される化合物を式（Ｉ−３−８）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−９６）で表される化合物を得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ^−１．
ＬＲＭＳ：５００
実施例１から実施例１１と同様の方法、公知の方法に準拠した方法を用いて、下記式（Ｉ−１１）から式（Ｉ−９５）で表される化合物を製造した。

（実施例１２〜２１、比較例１〜３）
実施例１から実施例１１記載の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）及び式（Ｉ−９６）で表される化合物及び、特許文献１記載の化合物（Ｒ−１）、特許文献２記載の化合物（Ｒ−２）並びに特許文献３記載の化合物（Ｒ−３）を評価対象の化合物とした。

保存安定性を評価するために、評価対象の化合物の安定保存濃度を測定した。安定保存濃度は、母体液晶に評価対象となる化合物を５％から２５％まで５％刻みで添加した組成物を各々調製し、調製した組成物を１８．５℃で１０週間放置した後に、結晶の析出が起こらない当該化合物の最大添加濃度と定義する。最大添加濃度が大きい化合物は安定保存濃度が大きく、長期間の保存によっても結晶の析出が発生しないことを意味する。

安定保存濃度を測定するために、下記化合物（Ｘ−１）：２０％、化合物（Ｘ−２）：２５％、化合物（Ｘ−３）：２５％及び化合物（Ｘ−４）：３０％からなる液晶組成物を母体液晶（Ｘ）とした。測定結果を表１に示す。

表より、実施例１１から実施例２１の本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）及び式（Ｉ−９６）で表される化合物はいずれも比較例１から比較例３の化合物（Ｒ−１）から化合物（Ｒ−３）と比較して、結晶の析出の起こらない最大添加濃度が高いことから、高い保存安定性を示すことがわかる。
（実施例２２〜３２、比較例４〜６）
配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。

母体液晶（Ｘ）に評価対象となる化合物を２０％添加することにより調製した組成物各々に対し、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を１％及び４−メトキシフェノールを０．１％添加した。この組成物をラビングしたガラス基材に７０℃でスピンコート法により塗布した。得られた塗布膜の上に配向処理が施された樹脂金型をラビングしたガラス基材の配向方向と樹脂金型の配向方向が並行になるように配置した後、室温まで冷却した。次に樹脂金型をゆっくり取り外し、紫外線硬化型のエポキシアクリレート樹脂をスピンコート法で塗布した。その後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を４０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で２５秒間照射した。得られた重合体からガラス基材を取り外すことにより、レンチキュラーレンズを得た。（図１参照）
得られた重合体について、目視及び偏光顕微鏡観察によって配向状態を評価した。配向に欠陥が無く均一であれば◎、欠陥がごくわずかであれば〇、欠陥がやや多ければ△、欠陥が非常に多ければ×とした。

また、得られた重合体についてレンズ形状の均一性を評価した。隣接するレンズどうしの境界部分が目視及び顕微鏡観察によって明瞭で直線状であれば〇、わずかに明瞭でないか又は乱れが見られれば△、明瞭でないか又は乱れが多ければ×とした。評価結果を表２に示す。

表より、実施例２２から実施例３２の本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）及び式（Ｉ−９６）で表される化合物はいずれも比較例４から比較例６の化合物（Ｒ−１）から化合物（Ｒ−３）と比較して、配向性が高いか又は同程度であることがわかる。また、実施例２２から実施例３２の本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）及び式（Ｉ−９６）で表される化合物はいずれも比較例４から比較例６の化合物（Ｒ−１）から化合物（Ｒ−３）と比較して、レンズ形状の均一性が高いか又は同程度であることがわかる。比較例６の化合物（Ｒ−３）を含有する組成物を用いた光学異方体はレンズ形状の均一性が低かったが、重合性組成物が硬化する際に収縮が発生したためであると考えられる。

以上の結果から、実施例１から実施例１１記載の本願発明である式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）及び式（Ｉ−９６）で表される化合物は、重合性組成物を構成した場合に保存安定性が高く、本願発明の化合物を含有する組成物を用いた光学異方体は、配向欠陥が少なく、レンズ形状が均一であることがわかる。従って、本願発明の化合物は、重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を用いた光学異方体は光学フィルム等の用途に有用である。

レンチキュラーレンズの構成を模式図で示す。

（Ａ）ガラス基材ありの場合
（Ｂ）ガラス基材を剥離した場合
１：エポキシアクリレート樹脂の重合体
２：重合性組成物の重合体
３：ガラス基材

Claims (15)

1. 一般式（Ｉ）
   

   

   （式中、Ｐは下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−３）、式（Ｐ−７）から式（Ｐ−１８）
   

   

   から選ばれる基を表し、Ｓはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は単結合を表すが、Ｘが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４及びＡ^５は各々独立して１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイル又はナフタレン−２，６−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ａ^５が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１、Ｚ^２、及び、Ｚ^３は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ｒはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｌは０から８の整数を表し、ｍ１、ｍ２及びｍ３は０又は１を表し、ｎは０、１又は２を表し、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表すが、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３及びＡ^４のうち少なくとも１つは、１つ以上のＬによって置換され、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３は０又は１を表し、ｍ１＋ｍ２＋ｍ３が１を表す場合、Ａ ^１ 、Ａ ^２ 、Ａ ^３ 及びＡ ^４ 中のＬの総数は２つ以上である。）で表される化合物。
2. 一般式（Ｉ）においてＸ、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｒ、Ｌ、ｌ、ｍ１、ｍ２、ｍ３、ｎ及びＰは請求項１で定義されたものと同一のものを表し、
   Ｓは１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基又は単結合を表すが、Ｓが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い、請求項１記載の化合物。
3. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５、Ｒ、Ｌ、ｌ、ｍ１、ｍ２、ｍ３及びｎは請求項１又は請求項２で定義されたものと同一のものを表し、Ｚ^１、Ｚ^２、及びＺ^３は複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良く各々独立して単結合、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す請求項１又は請求項２記載の化合物。
4. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｌ、ｌ、ｍ１、ｍ２、ｍ３及びｎは請求項１から請求項３のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ｒはフッ素原子、塩素原子、シアノ基若しくは１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表す請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の化合物。
5. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｒ、Ｌ、ｌ、ｍ１、ｍ２、ｍ３及びｎは請求項１から請求項４のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ｘは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表す請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の化合物。
6. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｒ、Ｌ、ｌ、ｍ１、ｍ２、ｍ３及びｎは請求項１から請求項５のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４及びＡ^５は各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−１０）
   

   

   から選ばれる基を表す請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の化合物。
7. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｒ、ｌ、ｍ１、ｍ２、ｍ３及びｎは請求項１から請求項６のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ｌはフッ素原子又は塩素原子を表す請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の化合物。
8. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｒ、Ｌ、ｍ１、ｍ２、ｍ３及びｎは請求項１から請求項７のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、ｌは０又は１を表す請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の化合物。
9. 一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３、Ａ^４、Ａ^５、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３、Ｒ、Ｌ、ｌ、ｍ１、ｍ２及びｍ３は請求項１から請求項８のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、ｎは０を表す請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の化合物。
10. 請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の化合物を含有する重合性組成物。
11. 請求項１から請求項９記載のいずれか一項に記載の化合物を含有する重合性液晶組成物。
12. 重合性液晶組成物が更に一般式（ＩＩ）
    

    

    （式中、Ｐ^１及びＰ^２は各々独立して一般式（Ｉ）におけるＰと同じ意味を表し、Ｓ^１及びＳ^２は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^１及びＸ^２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｚ^４は各々独立して単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ^６及びＡ^７は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^６及びＡ^７は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、ｎ１は０、１、２又は３を表すが、ｎ１が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ^６及びＺ^５は、それぞれ、同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物からなる群から選ばれる１種類以上を含む請求項１１記載の重合性液晶組成物。
13. 請求項１０から請求項１２のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を重合することにより得られる重合体。
14. 請求項１３記載の重合体を用いた光学異方体。
15. 請求項１から請求項９のいずれかに記載の化合物を含有する樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品。

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