JP2018035126A - 重合性化合物及び光学異方体 - Google Patents

Abstract

【課題】高い保存安定性を有し、フィルム状の重合体を作製した場合に配向欠陥が生じにくく、フィルム状の重合体に長時間紫外光を照射した場合に基材からの剥離が起こりにくい重合性化合物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物とその重合体。該化合物を含む組成物は、重合性液晶組成物として有用である。

（例えば、ビス[4-（アクリロイルオキシエトキシ-エトキシ-エトキシ）フェニル]1，4-シクロヘキサンジカルボキシレート）
【選択図】なし

Description

本発明は重合性基を有する化合物、当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を用いた光学異方体に関する。

重合性化合物は種々のフィルムの材料として使用される。例えば、重合性化合物を液晶状態で配列させた後、重合することにより、均一な配向を有するフィルムを作製することが可能である。このようにして作製したフィルムは、液晶ディスプレイに必要な偏光板、位相差板などに使用することができる。このような重合性化合物として、特許文献１〜３に記載の化合物が知られている。

また、重合性化合物はコレステリック構造を有するフィルムの作製にも使用できる。特に、屈折率異方性（Δｎ）の低い重合性液晶化合物は、選択反射波長幅の狭いコレステリック相を有するフィルム用の材料として有用である。多くの場合、要求される光学特性、重合速度、溶解性、融点、ガラス転移温度、フィルムの透明性、機械的強度、表面硬度、耐熱性及び耐光性を満たすために、２種類以上の重合性化合物からなる組成物が使用される。その際、使用する重合性化合物には、他の特性に悪影響を及ぼすことなく、組成物に良好な物性をもたらすことが求められる。特に、コレステリック構造を有するフィルムの作製を目的とする場合、広い温度範囲でネマチック相又はコレステリック相として存在でき、かつ高いネマチック相又はコレステリック相液晶配向性を有する重合性化合物が必要である。

重合性化合物を含有する重合性組成物をディスプレイ等の光学フィルム材料として使用する場合、重合性組成物を基材に塗布し重合させた際、配向欠陥が少ないことが好ましい。また、プロセス上の観点においては、重合性組成物を長期間保管しても成分中の重合性組成物が析出することが無く、高い保存安定性を有することが好ましい。また、光学フィルムをモバイル機器に使用する場合、紫外光を長時間照射した場合に基材からの剥離が起こりにくいことが好ましい。

ＷＯ２００３／０６２２８６Ａ１号公報 特開２０１６−０１７０３４号公報 ＷＯ２００５／０２２２６０Ａ１号公報

従来知られていた化合物は、主に信頼性の面で多くの問題があった。すなわち、重合性組成物に添加し長期間保管した場合に析出が生じる、フィルムを作製した場合に配向欠陥が多く生じる、又は、得られたフィルムに長時間紫外光を照射した場合に基材からの剥離が起こるいという問題である。

本発明は、このような問題点が改善された、光学異方体の原料として有用な重合性化合物を提供する。

すなわち、該本発明の重合性化合物は、重合性組成物に添加した場合に高い保存安定性を示す。

また、該重合性化合物を含む重合性組成物によれば、配向欠陥が生じにくく、しかも、長時間紫外光を照射した場合に基材からの剥離が起こりにくいフィルム状の重合体を作成することができる。

本発明は、このような配向欠陥が生じにくく、しかも、長時間紫外光を照射した場合に基材からの剥離が起こりにくいフィルム状の重合体を提供する。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、特定の構造を有する重合性化合物の開発に至った。すなわち、本願発明は一般式（Ｉ）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、当該化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、表示素子、電子デバイス、通信機器、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

本願発明の化合物は、その他の重合性化合物を含有する重合性組成物に添加した場合に高い保存安定性を有し、フィルム状の重合体を作製した場合に配向欠陥が生じにくく、フィルム状の重合体に長時間紫外光を照射した場合に基材からの剥離が起こりにくいことから、重合性組成物の構成部材として有用である。また、当該重合性組成物は位相差フィルム、選択反射フィルム等の光学材料の用途に有用である。

本願発明は特定の構造を有する化合物（以下、重合性化合物とも称する。）を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、当該化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、表示素子、電子デバイス、通信機器、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。

本願発明の化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される。

（式中、Ｐ^１はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、ｋ１は２から１０の整数を表し、Ｘ^１は−ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−又は単結合を表し、Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良く、Ａ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、置換されていても良いフェニル基、置換されていても良いフェニルアルキル基、置換されていても良いシクロヘキシルアルキル基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、又は、ＬはＰ^Ｌ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｋＬ−Ｘ^Ｌ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌはラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、ｋＬは２から１０の整数を表し、Ｘ^Ｌは−ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−又は単結合を表すが、化合物内にＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｚ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、ｍ１は０から５の整数を表し、Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、又は、Ｒ^２は−Ｘ^２−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基（式中、Ｐ^２はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、ｋ２は２から１０の整数を表し、Ｘ^２は−ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２−ＣＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表す。）が、存在するＺ^１のうち少なくとも１つは単結合以外の基を表し、存在するＡ^１及びＡ^２のうち少なくとも１つは１，４−シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い。）
一般式（Ｉ）で表される化合物は、上記構造を有するものであるので、屈折率異方性（Δｎ）を低い値とすることができる。本発明の化合物のΔｎとしては、下限値は、０．０１以上であることが好ましい。上限値は０．３０以下であることが好ましく、０．２５以下であることがより好ましく、０．２０以下であることがより好ましく、０．１０以下であることがより好ましく、０．０８以下であることが特に好ましい。本発明の化合物は、Δｎ値を低く抑えることができるので、特に選択反射波長幅の狭いコレステリック構造を有するフィルム用の材料として好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物は、Δｎをより低下させる観点から、その構造中に含まれる芳香環の数が３つ以下であることが好ましく、１つ又は２つであることがより好ましい。また、分子内にＺ^１を介して隣接するＡ^１同士及びＡ^１とＡ^２がともに芳香族環である部分構造を有さないことも好ましい。 一般式（Ｉ）で表される化合物は、上記構造を有するものであるので、コレステリック配向性を示す液晶組成物に添加した際に、該液晶組成物のコレステリック配向を阻害せず、良好に維持することができる。

一般式（Ｉ）において、Ｐ^１及び存在するＰ^２は各々独立してラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表すが、各々独立して下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）

から選ばれる基を表すことが好ましい。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−８）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−８）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、ｋ１及び存在するｋ２は各々独立して２から１０の整数を表すが、合成の容易さ及び液晶性の観点から、各々独立して２から８の整数を表すことが好ましく、各々独立して２から６の整数を表すことがより好ましく、各々独立して２から４の整数を表すことがさらに好ましく、各々独立して２又は３がさらにより好ましく、各々３を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｘ^１は−ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−又は単結合を表す。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Ｘ^１は−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−又は単結合を表すことが好ましく、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−又は単結合を表すことがより好ましく、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は単結合を表すことがさらに好ましく、−ＣＯ−又は単結合を表すことがさらにより好ましい。原料の入手容易さ及び合成の容易さに加えて化合物の溶媒への溶解性の観点から、Ｘ^１に直接結合するＡ^１で表される基が１，４−フェニレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表す場合には、Ｘ^１は単結合を表すことが特に好ましい。また、Ｘ^１に直接結合するＡ^１で表される基が１，４−シクロヘキシレン基又はビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル基を表す場合には、Ｘ^１は−ＣＯ−を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、存在するＸ^２は−ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２−ＣＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表す。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、存在するＸ^２は−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらに好ましく、−ＣＯ−又は単結合を表すことがさらにより好ましい。原料の入手容易さ及び合成の容易さに加えて化合物の溶媒への溶解性の観点から、Ｘ^１に直接結合するＡ^２で表される基が１，４−フェニレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表す場合には、存在するＸ^２は単結合を表すことが特に好ましい。また、Ｘ^１に直接結合するＡ^２で表される基が１，４−シクロヘキシレン基又はビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル基を表す場合には、存在するＸ^２は−ＣＯ−を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い。一般式（Ｉ）において、Ａ^１は複数存在してよいが、但し、存在するＡ^１及びＡ^２のうち少なくとも１つは１，４−シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い。合成の容易さ、原料の入手容易さ及び液晶性の観点から、Ａ^１及びＡ^２は、各々独立して無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基又はナフタレン−１，４−ジイル基を表すことが好ましく、各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−１６）

から選ばれる基を表すことがより好ましい。さらに加えて屈折率異方性の低さの観点から、存在するＡ^１及びＡ^２のうち少なくとも１つは上記の式（Ａ−２）又は式（Ａ−１０）から選ばれる基を表し、残りは各々独立して上記の式（Ａ−１）から式（Ａ−７）及び式（Ａ−１０）から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、存在するＡ^１及びＡ^２のうち少なくとも１つは上記の式（Ａ−２）で表される基を表し、残りは各々独立して上記の式（Ａ−１）から式（Ａ−７）から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、存在するＡ^１及びＡ^２のうち少なくとも１つは上記の式（Ａ−２）で表される基を表し、残りは各々独立して上記の式（Ａ−１）から式（Ａ−４）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。

Ａ^１及びＡ^２は、コレステリック液晶組成物を構成する観点からは、各々独立して上記の式（Ａ−３）又は式（Ａ−４）で表される基であることが好ましい。これは、本発明の化合物が環構造のラテラル位に置換基を有することで、コレステリック液晶組成物を構成した際に螺旋ピッチを巻きやすくなるためである。また、Ａ^１及びＡ^２が、各々独立して上記の式（Ａ−３）又は式（Ａ−４）で表される基であれば、本発明の化合物の分子構造の対象性が低下し、液晶組成物に対する溶解性を向上できる。 一般式（Ｉ）において、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、置換されていても良いフェニル基、置換されていても良いフェニルアルキル基、置換されていても良いシクロヘキシルアルキル基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、又は、ＬはＰ^Ｌ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｋＬ−Ｘ^Ｌ−で表される基を表しても良いが、化合物内にＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、合成の容易さの観点から、置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−から選択される基によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことがより好ましく、置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基若しくはアルコキシ基を表すことがさらに好ましく、置換基Ｌはフッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から８の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。また、置換基ＬはＰ^Ｌ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｋＬ−Ｘ^Ｌ−で表される基を表しても良いが、Ｐ^Ｌ、Ｘ^Ｌ及びｋＬの好ましい構造は、各々一般式（Ｉ）中のＰ^１、Ｘ^１及びｋ１の好ましい構造と同一である。

一般式（Ｉ）において、Ｚ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。但し、存在するＺ^１のうち少なくとも１つは単結合以外の基を表す。

特に保存安定性と液晶性のバランスを重視する場合は、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましい。

特に配向欠陥の少なさを重視する場合は、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−又は−ＮＨ−ＣＯ−を表すことがさらに好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましい。

特に紫外光を長時間照射した場合に基材からの剥離の起こりにくさを重視する場合は、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがより好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらに好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらにより好ましく、Ｚ^１は単結合を表すことが特に好ましい。

特に原料の入手容易さ及び合成の容易さと、液晶性、保存安定性、配向欠陥の少なさ及び紫外光を長時間照射した場合に基材からの剥離の起こりにくさのバランスを重視する場合は、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことが好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すことがより好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらに好ましく、Ｚ^１は複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことがさらにより好ましい。また、原料の入手容易さ及び合成の容易さと、液晶性、保存安定性、配向欠陥の少なさ及び紫外光を長時間照射した場合に基材からの剥離の起こりにくさのバランスを重視する場合は、一般式（Ｉ）で表される化合物において、Ｚ^１のうち単結合を表すＺ^１の割合がなるべく少ないことが好ましい。より具体的には、ｍ１が１を表す場合、Ｚ^１は−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましく、ｍ１が２を表す場合、２つ存在するＺ^１のうち一方が−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、もう一方が−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことがさらにより好ましく、２つ存在するＺ^１が同一であっても異なっていても良く−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましく、ｍ１が３を表す場合、３つ存在するＺ^１のうち１つが−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、残りの２つが−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましく、ｍ１が４を表す場合、４つ存在するＺ^１のうち１つが−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、残りの３つが−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すか、若しくは、ｍ１が４を表す場合、４つ存在するＺ^１のうち２つが−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、残りの２つが−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましく、ｍ１が５を表す場合、５つ存在するＺ^１のうち１つが−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、残りの４つが−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すか、若しくは、ｍ１が５を表す場合、５つ存在するＺ^１のうち２つが−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、残りの３つが−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、ｍ１は各々独立して０から５の整数を表すが、溶媒への溶解性、液晶性及び保存安定性の観点から、ｍ１は１から４の整数を表すことが好ましい。またさらに加えて合成の容易さ及び収率の観点から、Ｒ^２が−Ｘ^２−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表す場合、ｍ１は２、３又は４を表すことがより好ましく、２又は４を表すことが特に好ましく、Ｒ^２が−Ｘ^２−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基以外の基を表す場合、ｍ１は１から３の整数を表すことがより好ましく、１又は２を表すことが特に好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、又は、Ｒ^２は−Ｘ^２−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表す。フィルムにした場合の柔軟性を重視する場合、Ｒ^２は−Ｘ^２−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基以外の基を表すことが好ましく、フィルムにした場合の機械的強度を重視する場合、Ｒ^２は−Ｘ^２−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表すことが好ましい。
Ｒ^２が−Ｘ^２−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基以外の基を表す場合、液晶性及び合成の容易さの観点から、Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖若しくは分岐アルキル基を表すことが好ましく、Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖若しくは分岐アルキル基を表すことがより好ましく、Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表すことがさらに好ましく、Ｒ^２は炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基又は直鎖アルコキシ基を表すことが特に好ましい。

また、Ｒ^２が−Ｘ^２−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基を表す場合、Ｐ^２、Ｘ^２及びｋ２の好ましい構造は、それぞれ前記のとおりである。

一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ−Ａ）又は一般式（Ｉ−Ｂ）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｚ^１、ｍ１、ｋ１及びｋ２は各々一般式（Ｉ）におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ａ^１、Ａ^２、Ｚ^１、ｍ１、ｋ１及びｋ２と同じ意味を表し、Ａ^１及びＺ^１が複数存在するときはそれらは同一であっても異なっていてもよく、Ｒ^２１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。）で表される化合物が好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物としては、下記の一般式（Ｉ−Ａ−１）から一般式（Ｉ−Ｂ−５）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１及びｋ２は各々一般式（Ｉ）におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１及びｋ２と同じ意味を表し、Ａ^１１ _、Ａ^１２ _、Ａ^１３及びＡ^２１は無置換であるか又は１つ以上の上記置換基Ｌによって置換されても良い上記の式（Ａ−１）から式（Ａ−７）から選ばれる基を表し、置換基Ｌの好ましい構造は上記一般式（Ｉ）中の置換基Ｌの好ましい構造と同一であり、Ｚ^１１ _、Ｚ^１２ _、Ｚ^１３及びＺ^１４は−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、存在するＺ^１１ _、Ｚ^１２ _、Ｚ^１３及びＺ^１４のうち少なくとも１つは単結合以外の基を表し、Ｒ^２２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖若しくは分岐アルキル基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記の一般式（Ｉ−Ａ−１−１）から一般式（Ｉ−Ｂ−５−１）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中、Ｐ^１、Ｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１、ｋ２及びＬは各々一般式（Ｉ）におけるＰ^１、Ｐ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、ｋ１、ｋ２及びＬと同じ意味を表し、Ｚ^１１１ _、Ｚ^１２１ _、Ｚ^１３１及びＺ^１４１は−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表すが、存在するＺ^１１１ _、Ｚ^１２１ _、Ｚ^１３１及びＺ^１４１のうち少なくとも１つは単結合以外の基を表す、Ｒ^２１１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基若しくは直鎖アルコキシ基を表し、ｒは０から４の整数を表す。）で表される化合物がより好ましく、下記の一般式（Ｉ−Ａ−１−２−１）から一般式（Ｉ−Ｂ−４−２−１）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中、Ｗ^１及びＷ^２は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表し、Ｘ^１１及びＸ^２１は−ＣＯ−を表し、Ｘ^１２及びＸ^２２は単結合を表し、ｋ１１及びｋ２１は２、３又は４を表し、Ｚ^１１１１ _、Ｚ^１２１１ _、Ｚ^１３１１及びＺ^１４１１は−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｚ^１１１２ _、Ｚ^１２１２及びＺ^１４１２は−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｌ^１はフッ素原子、塩素原子、又は、任意の水素原子がフッ素原子に置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖状若しくは分岐状アルキル基又はアルコキシ基を表し、ｒは０から４の整数を表す。）で表される化合物がさらに好ましい。

また、液晶性の観点から、一般式（Ｉ）で表される化合物に含まれる１，４−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基及びデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基はシス体及びトランス体のいずれか一方のみであっても、両方の混合物であっても良いが、液晶性の観点からトランス体が主成分であることが好ましく、トランス体のみであることが特に好ましい。

一般式（Ｉ）で表される化合物として具体的には、下記の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−６３）で表される化合物が好ましい。

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）
本願発明の化合物は以下の製法で製造することができる。
（製法１）下記式（Ｓ−１０）で表される化合物の製造

（式中の＊印は構造の連結を示す。）
（式中、Ｌは一般式（Ｉ）におけるＬと同じ意味を表し、Ｗ^ｓ１は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表し、ｋｓ１は１から９の整数を表し、ｒは０から４の整数を表し、ＰＧは保護基を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
式（Ｓ−１）で表される化合物のカルボキシル基を保護基（ＰＧ）によって保護する。保護基（ＰＧ）としては、脱保護工程に至るまで安定に保護しうるものであれば特に制限は無いが、例えば、ＧＲＥＥＮＥ’Ｓ ＰＲＯＴＥＣＴＩＶＥ ＧＲＯＵＰＳ ＩＮ ＯＲＧＡＮＩＣ ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ（（Ｆｏｕｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ）、ＰＥＴＥＲ Ｇ．Ｍ．ＷＵＴＳ、ＴＨＥＯＤＯＲＡ Ｗ．ＧＲＥＥＮＥ共著、Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）等に挙げられている保護基（ＰＧ）が好ましい。保護基の具体例としてはテトラヒドロピラニル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メチル基、エチル基又はベンジル基等が挙げられる。

式（Ｓ−２）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、式（Ｓ−３）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、前記文献に挙げられているものが好ましい。また、式（Ｓ−１）で表される化合物の一方のカルボキシル基のみを保護基（ＰＧ）によって保護することによって式（Ｓ−３）で表される化合物を得ることも可能である。

式（Ｓ−４）で表される化合物を酸存在下、式（Ｓ−５）で表される化合物と脱水縮合させることによって式（Ｓ−６）で表される化合物を得る。酸触媒としては例えば硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物等が挙げられる。溶媒としては例えばトルエン、キシレン等が挙げられる。又は、式（Ｓ−５）で表される化合物の低級アルコールエステルと式（Ｓ−４）で表される化合物をエステル交換させる方法も挙げられる。

式（Ｓ−６）で表される化合物を塩基存在下、式（Ｓ−３）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−７）で表される化合物を得ることができる。塩基としては例えば炭酸カリウム、炭酸セシウム、トリエチルアミン等が挙げられる。

式（Ｓ−７）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、式（Ｓ−８）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、前記文献に挙げられているものが好ましい。

式（Ｓ−８）で表される化合物を式（Ｓ−９）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−１０）で表される化合物を得ることができる。反応条件としては例えば縮合剤を用いる方法若しくは式（Ｓ−８）で表される化合物を酸クロリド、混合酸無水物又はカルボン酸無水物とした後、一般式（Ｓ−９）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。縮合剤を用いる場合、縮合剤として例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩が挙げられる。塩基としては例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が挙げられる。
（製法２）下記式（Ｓ−１６）で表される化合物の製造

（式中の＊印は構造の連結を示す。）
（式中、Ｌは一般式（Ｉ）におけるＬと同じ意味を表し、Ｗ^ｓ１は水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表し、ｋｓ１は１から９の整数を表し、ｒは０から４の整数を表し、ＰＧは保護基を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
式（Ｓ−１１）で表される化合物を塩基存在下、式（Ｓ−１２）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−１３）で表される化合物を得ることができる。塩基としては例えば炭酸カリウム、炭酸セシウム、トリエチルアミン等が挙げられる。

式（Ｓ−１３）で表される化合物の保護基（ＰＧ）を脱保護する。脱保護の反応条件としては、式（Ｓ−１４）で表される化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、前記文献に挙げられているものが好ましい。

式（Ｓ−１４）で表される化合物を式（Ｓ−１５）で表される化合物と反応させることによって、式（Ｓ−１６）で表される化合物を得ることができる。反応条件としては例えば縮合剤を用いる方法若しくは式（Ｓ−１５）で表される化合物を酸クロリド、混合酸無水物又はカルボン酸無水物とした後、一般式（Ｓ−１４）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。縮合剤を用いる場合、縮合剤として例えばＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩が挙げられる。塩基としては例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が挙げられる。

製法１及び製法２の各工程において記載した以外の反応条件として、例えば実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ ｆｕｅｒ Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎ ａｎｄ Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献に記載の条件又はＳｃｉＦｉｎｄｅｒ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ａｂｓｔｒａｃｔｓ Ｓｅｒｖｉｃｅ，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）又はＲｅａｘｙｓ（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ Ｌｔｄ．）等のオンライン検索サービスから提供される条件が挙げられる。

また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒としては目的の化合物を与えるものであれば制限は無いが、例えばイソプロピルアルコール、エチレングリコール、メタノール、エタノール、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、アセトン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、キシレン、酢酸エチル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒としては、例えば、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノラウラート［Ｔｗｅｅｎ ２０］、ソルビタンモノオレアート［Ｓｐａｎ ８０］等が挙げられる。

また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。

本願発明の化合物は、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが好ましく、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが特に好ましい。
い。本願発明の反応性化合物を用いる液晶組成物において本願発明以外の化合物を添加しても構わない。

本願発明の化合物と混合して使用される他の重合性化合物としては、具体的には一般式（Ｘ−１１）

及び／又は一般式（Ｘ−１２）

（式中、Ｐ^１１、Ｐ^１２及びＰ^１３は各々独立してラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^１１、Ｓｐ^１２及びＳｐ^１３は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^１１、Ｘ^１２及びＸ^１３は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｚ^１１及びＺ^１２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^１３及びＡ^１４は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^１１、Ａ^１２、Ａ^１３及びＡ^１４は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｒ^１１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖若しくは分岐アルキル基を表し、ｍ１１及びｍ１２は０、１、２又は３を表すが、ｍ１１及び／又はｍ１２が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ^１１、Ａ^１３、Ｚ^１１及び／又はＺ^１２は同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物が好ましく、Ｐ^１１、Ｐ^１２及びＰ^１３がアクリル基又はメタクリル基である場合が特に好ましい。一般式（Ｘ−１１）で表される化合物として具体的には、一般式（Ｘ−１１ａ）

（式中、Ｗ^１１及びＷ^１２は各々独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^１４及びＳｐ^１５は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ^１４及びＸ^１５は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ^１３及びＺ^１４は各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ^１５、Ａ^１６及びＡ^１７は各々独立して無置換又はフッ素原子、塩素原子、炭素原子数１から４の直鎖状又は分岐状アルキル基、炭素原子数１から４の直鎖状若しくは分岐状アルコキシ基によって置換されていても良い１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（Ｘ−１１ａ−１）から式（Ｘ−１１ａ−４）

（式中、Ｗ^１１、Ｗ^１２、Ｓｐ^１４及びＳｐ^１５は一般式（Ｘ−１１ａ）と同様の意味を表す。）で表される化合物が特に好ましい。上記式（Ｘ−１１ａ−１）から式（Ｘ−１１ａ−４）において、Ｓｐ^１４及びＳｐ^１５が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

この他、好ましい２官能重合性化合物としては下記一般式（Ｘ−１１ｂ−１）から式（Ｘ−１１ｂ−３）

（式中、Ｗ^１３及びＷ^１４は各々独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^１６及びＳｐ^１７は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表す。）で表される化合物が挙げられる。上記式（Ｘ−１１ｂ−１）から式（Ｘ−１１ｂ−３）において、Ｓｐ^１６及びＳｐ^１７が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。

また、一般式（Ｘ−１２）で表される化合物として具体的には、下記一般式（Ｘ−１２−１）から式（Ｘ−１２−７）

（式中、Ｐ^１４はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^１８は単結合又は炭素原子数１から２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良く、Ｘ^１６は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−を表し、Ｚ^１５は単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｌ^１１はフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、ｓ１１は０から４の整数を表し、Ｒ^１２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ニトロ基、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）で表される化合物が挙げられる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物には、当該組成物の液晶性を大きく損なわない程度に、液晶性を示さない重合性化合物を添加することも可能である。具体的には、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識される化合物であれば特に制限なく使用可能である。具体例として例えば「光硬化技術データブック、材料編（モノマー，オリゴマー，光重合開始剤）」（市村國宏、加藤清視監修、テクノネット社）記載のものが挙げられる。

また、本願発明の化合物は光重合開始剤を使用しなくても重合させることが可能であるが、目的により光重合開始剤を添加しても構わない。その場合は光重合開始剤の濃度は、本願発明の化合物に対し０．１質量％から１５質量％が好ましく、０．２質量％から１０質量％がより好ましく、０．４質量％から８質量％がさらに好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。光重合開始剤の具体例としては２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ９０７）、安息香酸［１−［４−（フェニルチオ）ベンゾイル］ヘプチリデン］アミノ（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１）等が挙げられる。熱重合開始剤としては、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられる。熱重合開始剤の具体例としては２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）等が挙げられる。また、１種類の重合開始剤を用いても良く、２種類以上の重合開始剤を併用して用いても良い。

また、本発明の液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、組成物に対して０．００５質量％から１質量％の範囲が好ましく、０．０２質量％から０．８質量％がより好ましく、０．０３質量％から０．５質量％がさらに好ましい。また、１種類の安定剤を用いても良く、２種類以上の安定剤を併用して用いても良い。安定剤としては、具体的には式（Ｘ−１３−１）から式（Ｘ−１３−３５）

（式中、ｎは０から２０の整数を表す。）で表される化合物が好ましい。

本願発明の化合物をコレステリック液晶組成物又はキラルスメクチック液晶組成物に使用する場合、本願発明の化合物と混合して使用されるキラル化合物としては、下記の一般式（Ｘ−１４−１）から一般式（Ｘ−１４−４）

（式中、Ｐ^４１及びＰ^４２は各々独立してラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、Ｓｐ^４１、Ｓｐ^４２、Ｓｐ^４３及びＳｐ^４４は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ^４１、Ｘ^４２、Ｘ^４３及びＸ^４４は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ａ^４１及びＡ^４２は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ^４１及びＡ^４２は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｚ^４１及びＺ^４２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＦ_２−、−ＣＦ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、ｍ４１及びｍ４２は０、１、２又は３を表すが、ｍ４１及び／又はｍ４２が２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ^４１、Ａ^４２、Ｚ^４１及び／又はＺ^４２は同一であっても異なっていても良く、Ｌ^４１、Ｌ^４２、Ｌ^４３及びＬ^４４は水素原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、芳香族基、シアノ基又はニトロ基を表すが、当該アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基及びハロゲン化アルコキシ基中の１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−によって置換されても良い。）で表される化合物が好ましく、Ｐ^４１及びＰ^４２がアクリル基又はメタクリル基である場合が特に好ましく、下記の一般式（Ｘ−１４−１−１）から一般式（Ｘ−１４−４−８）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中の＊印は構造の連結を示す。）

（式中、Ｗ^４１及びＷ^４２は各々独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｓｐ^４５及びＳｐ^４６は各々独立して単結合又は炭素原子数２から１８のアルキレン基を表し（但し、Ｓｐ^４５又はＳｐ^４６が単結合を表す場合、Ｓｐ^４５又はＳｐ^４６の両側に直接結合する酸素原子の一方は単結合とする。）、Ｒ^４１及びＲ^４２は炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Ｌ^４５はフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、、Ｌ^４５が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていてもよく、ｓ４１は０から４の整数を表す。）で表される化合物がより好ましい。

また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物をフィルム類、光学素子類、機能性顔料類、医薬品類、化粧品類、コーティング剤類、合成樹脂類等の用途に利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等を添加することもできる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合することにより得られるポリマーは種々の用途に利用できる。例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、配向させずに重合することにより得られるポリマーは、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。また、配向させた後に重合することにより得られるポリマーは、光学異方性を有しており有用である。このような光学異方体は、例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、布等でラビング処理した基板、有機薄膜を形成した基板又はＳｉＯ_２を斜方蒸着した配向膜を有する基板に担持させるか、基板間に挟持させた後、当該重合性液晶組成物を重合することによって製造することができる。

重合性液晶組成物を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、重合性液晶組成物に有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン性溶媒等を使用することができるが、例えば炭化水素系溶媒としてはトルエン又はヘキサンを、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては塩化メチレンを、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、アセトキシ−２−エトキシエタン又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、アルコール系溶媒としてはメタノール、エタノール又はイソプロパノールを、ケトン系溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、γ−ブチルラクトン又はＮ−メチルピロリジノン類を、エステル系溶媒としては酢酸エチル又はセロソルブを、非プロトン性溶媒としてはジメチルホルムアミド又はアセトニトリルを挙げることができる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。重合性液晶材料の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることや、重合性液晶材料にレベリング剤を添加する事も有効である。基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設ける方法は、重合性液晶材料を重合することにより得られるポリマーと基板との密着性を向上させるために有効である。

上記以外の配向処理としては、液晶材料の流動配向の利用、電場又は磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いても良い。さらに、ラビングに代わる配向処理方法として、光配向法を用いることもできる。基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。

本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させる際、迅速に重合が進行することが望ましいため、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良く、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性を有していなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２〜２Ｗ／ｃｍ^２が好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ^２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２Ｗ／ｃｍ^２以上の場合、重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物が劣化してしまう危険がある。

重合によって得られた当該光学異方体は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲であることが好ましく、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲であることが好ましい。

このような方法によって製造される当該光学異方体は、基板から剥離して単体で用いても、剥離せずに用いても良い。また、得られた光学異方体を積層しても、他の基板に貼り合わせて用いてもよい。

以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。各工程において酸素及び／又は水分に不安定な物質を取り扱う際は、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス中で作業を行うことが好ましい。以下具体的に記載されている作業に加えて必要に応じて、当業者間において通常行われている反応のクエンチ、分液・抽出、中和、洗浄、分離、精製、乾燥、濃縮等の作業を行っても良い。
（実施例１）式（Ｉ−１）で表される化合物の製造

ディーンスターク装置を備えた反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物１０．０ｇ、アクリル酸４．７ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．２ｇ、トルエン１００ｍＬを加え、水を除去しながら１０時間加熱還流させた。冷却し飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン）により精製を行い、式（Ｉ−１−２）で表される化合物１２．５ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１−３）で表される化合物５．０ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム０．２ｇ、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン２．３ｇを滴下し室温で６時間撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−１−４）で表される化合物６．７ｇを得た。

耐圧容器に式（Ｉ−１−４）で表される化合物６．７ｇ、テトラヒドロフラン７０ｍＬ、エタノール２０ｍＬ、ピリジン１０ｍＬ、５％パラジウム炭素（６０％含水）０．７ｇを加え０．５ＭＰａ、５０℃で８時間加熱撹拌した。パラジウムを濾過により除去し、溶媒を留去した。酢酸エチルに溶解させ、１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−１−５）で表される化合物４．１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１−５）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−１−２）で表される化合物４．１ｇ、炭酸カリウム３．２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ｍＬを加え９０℃で１０時間加熱撹拌した。反応液を１％塩酸に注ぎ、ジクロロメタンで抽出した。水及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（アルミナ、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−１−６）で表される化合物４．７ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−１−６）で表される化合物４．７ｇ、メタノール２０ｍＬ、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、濃塩酸０．２ｍＬを加え室温で５時間撹拌した。酢酸エチルで希釈した後、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−１−７）で表される化合物３．５ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−１−７）で表される化合物３．５ｇ、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸１．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．６ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−１）で表される化合物３．０ｇを得た。
相転移温度（昇温速度：５℃／分）Ｃ ９０ Ｎ ９８ Ｉ
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ １．６６（ｍ，４Ｈ）、２．２７（ｍ，４Ｈ）、２．５７（ｍ，２Ｈ）、３．６８−３．７７（ｍ，１２Ｈ）、３．８５（ｔ，４Ｈ）、４．１１（ｔ，４Ｈ）、４．３３（ｔ，４Ｈ）、５．８３（ｄｄ，２Ｈ）、６．１５（ｄｄ，２Ｈ）、６．４３（ｄｄ，２Ｈ）、６．８９−６．９９（ｍ，８Ｈ）ｐｐｍ．
ＬＣＭＳ：７２９［Ｍ＋１］
（実施例２）式（Ｉ−２）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器にｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸モノメチル２０．０ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール８．８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１．３ｇ、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１６．３ｇを滴下し室温で８時間撹拌した。析出物を濾過により除去し、濾液を５％塩酸及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−２−２）で表される化合物２０．８ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−２−２）で表される化合物２０．８ｇ、メタノール２００ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液３０ｍＬを加え６０℃で加熱撹拌した。冷却しクロロホルムを加えた。１０％塩酸を加え水層のｐＨを４〜５とし、分液処理した。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させた。不溶物をセライト濾過した後、溶媒を留去し乾燥させることにより、式（Ｉ−２−３）で表される化合物１７．７ｇを得た（シス／トランス比＝０．５：９９．５）。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２−３）で表される化合物３．７ｇ、式（Ｉ−２−４）で表される化合物１．０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド２．２ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２−５）で表される化合物３．５ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−２−５）で表される化合物３．５ｇ、ジクロロメタン２５ｍＬ、ギ酸１５ｍＬを加え４０℃で８時間加熱した。溶媒を留去した後、ジイソプロピルエーテルで分散洗浄することによって、式（Ｉ−２−６）で表される化合物２．６ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−２−６）で表される化合物２．６ｇ、式（Ｉ−２−７）で表される化合物２．３ｇ、炭酸カリウム２．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍＬを加え９０℃で１５時間加熱撹拌した。反応液を冷却し、５％塩酸に注いだ。酢酸エチルで抽出し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−２−８）で表される化合物３．４ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−２−８）で表される化合物３．４ｇ、ジイソプロピルエチルアミン１．５ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．９ｇを滴下し、室温で６時間撹拌した。１％塩酸、水及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−２）で表される化合物２．８ｇを得た。
ＬＣＭＳ：８０５［Ｍ＋１］
（実施例３）式（Ｉ−３）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−３−１）で表される化合物１．０ｇ、式（Ｉ−３−２）で表される化合物１．４ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２ｇ、ジクロロメタン１０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．６ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−３）で表される化合物１．６ｇを得た。
ＬＣＭＳ：９８９［Ｍ＋１］
（実施例４）式（Ｉ−４）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器にｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸３．０ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬ、塩化オキサリル６．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．１ｇを加え、４０℃で４時間加熱撹拌した。溶媒を留去した後、乾燥させることにより、式（Ｉ−４−２）で表される化合物３．６ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−４−３）で表される化合物５．３ｇ、ピリジン４．１ｇ、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながら式（Ｉ−４−２）で表される化合物３．６ｇをジクロロメタン１０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、室温で６時間撹拌した。１％塩酸、水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−４−４）で表される化合物６．１ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−４−４）で表される化合物６．１ｇ、メタノール８０ｍＬ、リン酸二水素ナトリウム二水和物２．５ｇを水３０ｍＬに溶解させた水溶液、３０％過酸化水素水５．０ｇを加えた。亜塩素酸ナトリウム５．０ｇを水５０ｍＬに溶解させた水溶液を滴下し、４５℃で５時間加熱撹拌した。水を加え析出した固体を濾過し、水で洗浄した。乾燥させることによって、式（Ｉ−４−５）で表される化合物５．３ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−４−５）で表される化合物５．３ｇ、式（Ｉ−４−６）で表される化合物５．２ｇ、炭酸カリウム４．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ｍＬを加え９０℃で８時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−４）で表される化合物６．６ｇを得た。
ＬＣＭＳ：８４５［Ｍ＋１］
（実施例５）式（Ｉ−５）で表される化合物の製造

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−５−１）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−５−２）で表される化合物１．６ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド２．０ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−５−３）で表される化合物３．５ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−５−３）で表される化合物３．５ｇ、ジクロロメタン１５ｍＬ、ギ酸１５ｍＬを加え４０℃で８時間加熱した。溶媒を留去した後、酢酸エチルで希釈し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ、酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−５−４）で表される化合物２．６ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−５−４）で表される化合物２．６ｇ、式（Ｉ−５−５）で表される化合物２．８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．４ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−５）で表される化合物３．７ｇを得た。
ＬＣＭＳ：５５５［Ｍ＋１］
（実施例６）式（Ｉ−６）で表される化合物の製造

ディーンスターク装置を備えた反応容器に式（Ｉ−６−１）で表される化合物１０．０ｇ、アクリル酸６．４ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．２ｇ、トルエン１００ｍＬを加え、水を除去しながら１０時間加熱還流させた。冷却し飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン）により精製を行い、式（Ｉ−６−２）で表される化合物１２．９ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−６−２）で表される化合物２．０ｇ、式（Ｉ−６−３）で表される化合物３．１ｇ、炭酸カリウム２．３ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍＬを加え９０℃で１５時間加熱撹拌した。反応液を冷却し、５％塩酸に注いだ。ジクロロメタンで抽出し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−６）で表される化合物３．３ｇを得た。
ＬＣＭＳ：４１９［Ｍ＋１］
（実施例７）式（Ｉ−７）で表される化合物の製造

ディーンスターク装置を備えた反応容器に式（Ｉ−７−１）で表される化合物１０．０ｇ、アクリル酸エチル３．５ｇ、ジブチルスズオキシド０．５ｇ、トルエン１００ｍＬを加え、反応溶媒を除去しながら、新たにトルエンを追加しながら、１０時間加熱還流させた。反応液を水及び食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−７−２）で表される化合物５．９ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−７−２）で表される化合物３．０ｇ、ピリジン０．８ｇ、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながらメタンスルホニルクロリド１．１ｇを滴下し室温で３時間撹拌した。水に注ぎ、５％塩酸及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−７−３）で表される化合物３．０ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−７−３）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−７−４）で表される化合物０．９ｇ、炭酸カリウム１．５ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍＬを加え９０℃で１５時間加熱撹拌した。反応液を冷却し、５％塩酸に注いだ。ジクロロメタンで抽出し、水及び食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン／酢酸エチル）により精製を行い、式（Ｉ−７−５）で表される化合物２．５ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−７−５）で表される化合物２．５ｇ、メタノール４０ｍＬ、リン酸二水素ナトリウム二水和物１．３ｇを水１５ｍＬに溶解させた水溶液、３０％過酸化水素水２．５ｇを加えた。亜塩素酸ナトリウム２．５ｇを水２５ｍＬに溶解させた水溶液を滴下し、４５℃で５時間加熱撹拌した。水を加え酢酸エチルで抽出した。溶媒を留去し乾燥させることによって、式（Ｉ−７−６）で表される化合物２．３ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−７−６）で表される化合物２．３ｇ、式（Ｉ−７−７）で表される化合物１．１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．２ｇ、ジクロロメタン１０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド０．８ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−７）で表される化合物２．４ｇを得た。
ＬＣＭＳ：６５７［Ｍ＋１］
（実施例８）式（Ｉ−８）で表される化合物の製造

反応容器に式（Ｉ−８−１）で表される化合物３．０ｇ、式（Ｉ−８−２）で表される化合物３．１ｇ、炭酸カリウム２．８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍＬを加え９０℃で８時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）により精製を行い、式（Ｉ−８−３）で表される化合物４．５ｇを得た。

反応容器に式（Ｉ−８−３）で表される化合物４．５ｇ、ジクロロメタン２５ｍＬ、ギ酸１５ｍＬを加え４０℃で８時間加熱した。溶媒を留去した後、酢酸エチルで希釈し水及び食塩水で洗浄した。溶媒を留去し乾燥させることによって、式（Ｉ−８−４）で表される化合物３．５ｇを得た。

窒素雰囲気下、反応容器に式（Ｉ−８−４）で表される化合物３．５ｇ、式（Ｉ−８−５）で表される化合物２．１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン４０ｍＬを加えた。氷冷しながらジイソプロピルカルボジイミド１．５ｇを滴下し室温で１０時間撹拌した。析出物を濾過により除去した後、濾液を１％塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン）及び再結晶（ジクロロメタン／メタノール）により精製を行い、式（Ｉ−８）で表される化合物３．８ｇを得た。
ＬＣＭＳ：５５９［Ｍ＋１］
前記と同様の方法及び公知の方法を組み合わせることによって、式（Ｉ−９）から式（Ｉ−６３）で表される化合物を製造した。
（実施例９〜６０、比較例１〜９）
実施例１から実施例８に記載の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−８）で表される化合物及び特許文献１記載の化合物（Ｒ−１）、特許文献２記載の化合物（Ｒ−２）、特許文献３記載の化合物（Ｒ−３）を評価対象の化合物とした。

また、特開２００５−０１５４７３号公報記載の化合物（Ｘ−１）：３５％、特開平１０−８７５６５号公報記載の化合物（Ｘ−２）：２５％、特表２００２−５３７２８０号公報記載の化合物（Ｘ−３）：３５％及びキラル化合物として、ＷＯ０２／０９４８０５Ａ１号公報記載の化合物（Ｘ−４）：５％からなる液晶組成物を母体液晶（Ｘ）とした。

保存安定性を評価するために、母体液晶（Ｘ）に対して評価対象の化合物を３０％から７０％まで５％刻みで添加し７０℃で加熱溶解させた重合性液晶組成物を各々調製した。調製した重合性液晶組成物を１８℃で５週間保管した後、結晶の析出が起こらない評価対象の化合物の最大添加濃度を下表に記載する。

上記の結果から、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−８）で表される化合物はいずれも良好な保存安定性を有することがわかる。

配向膜作成用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。

母体液晶（Ｘ）を１１．８７％、評価対象となる化合物を７．９１％（母体液晶（Ｘ）と当該化合物の合計含有量に対し４０％）、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を０．２０％、４−メトキシフェノールを０．０２％及びシクロヘキサノンを８０．００％混合することにより塗布液を調製した。この塗布液をラビングしたガラス基材にバーコーター（Ｎｏ．９）を使用して塗布した後、１００℃のホットプレートに載せ溶媒を蒸発させた。その後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を４０ｍＷ／ｃｍ^２の強度で２５秒間照射することにより、評価対象のフィルムを作製した。得られたフィルムについて偏光顕微鏡観察によって配向欠陥を評価した。フィルムを縦１０マス×横１０マス、計１００マスの領域に区分し、配向欠陥の生じたマス目の数をカウントした。値が小さいほど、配向欠陥が少ないことを意味する。結果を下表に示す。

比較化合物（Ｒ−３）を添加した比較例６のフィルムは均一な配向を示さなかったことから配向欠陥の評価を行わなかった。上記の結果から、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−８）で表される化合物は、得られたコレステリック液晶相に配向欠陥が少ないことがわかる。

次に、評価対象のフィルムに対し、ＬＥＤランプ（３６５ｎｍ）で６０ｍＷの光を５００時間照射した。得られたフィルムについて偏光顕微鏡観察によって剥離の程度を評価した。フィルムを縦１０マス×横１０マス、計１００マスの領域に区分し、剥離の生じたマス目の数をカウントした。値が小さいほど、剥離が少ないことを意味する。比較化合物（Ｒ−３）を添加した比較例９のフィルムは均一な配向を示さなかったことから剥離の評価を行わなかった。結果を下表に示す。

上記の結果から、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−８）で表される化合物は、得られたフィルムに紫外光を長時間照射した場合に基材からの剥離が起こりにくいことがわかる。

以上の結果から、本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−８）で表される化合物はいずれも比較化合物（Ｒ−１）から比較化合物（Ｒ−３）と比較し、その他の重合性化合物を含有する重合性組成物に添加した場合に高い保存安定性を有し、フィルム状の重合体を作製した場合に配向欠陥が生じにくく、フィルム状の重合体に長時間紫外光を照射した場合に基材からの剥離が起こりにくいことから、重合性組成物の構成部材として有用である。また、当該重合性組成物は位相差フィルム、選択反射フィルム等の光学材料の用途に有用である。

Claims (9)

1. 下記の一般式（Ｉ）
   

   

   （式中、Ｐ^１はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、
   ｋ１は２から１０の整数を表し、
   Ｘ^１は−ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−又は単結合を表し、
   Ａ^１及びＡ^２は各々独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、ナフタレン−１，４−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良く、Ａ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
   Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ニトロ基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、トリメチルシリル基、ジメチルシリル基、チオイソシアノ基、置換されていても良いフェニル基、置換されていても良いフェニルアルキル基、置換されていても良いシクロヘキシルアルキル基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^０−、−ＮＲ^０−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^０＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＲ^０−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−（式中、Ｒ^０は水素原子又は炭素原子数１から８のアルキル基を表す。）によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、又は、ＬはＰ^Ｌ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｋＬ−Ｘ^Ｌ−で表される基を表しても良く、ここでＰ^Ｌはラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、ｋＬは２から１０の整数を表し、Ｘ^Ｌは−ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−又は単結合を表すが、化合物内にＬが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
   Ｚ^１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＯＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−ＳＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｓ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｓ−、−ＳＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＯＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表すが、Ｚ^１が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、
   ｍ１は０から５の整数を表し、
   Ｒ^２は水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、又は、１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、又は、Ｒ^２は−Ｘ^２−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基（式中、Ｐ^２はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、ｋ２は２から１０の整数を表し、Ｘ^２は−ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２−ＣＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯ−又は単結合を表す。）を表すが、存在するＺ^１のうち少なくとも１つは単結合以外の基を表し、存在するＡ^１及びＡ^２のうち少なくとも１つは１，４−シクロヘキシレン基、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は１つ以上の置換基Ｌによって置換されても良い。）で表される化合物。
2. Ｒ^２が−Ｘ^２−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｋ２−Ｐ^２で表される基（式中、Ｐ^２はラジカル重合、カチオン重合又はアニオン重合により重合する基を表し、ｋ２は２から１０の整数を表し、Ｘ^２は−ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−ＣＦ_２−、−ＯＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２−ＣＯ−、−ＣＨ_２−ＯＣＯを表す。）である請求項１に記載の化合物。
3. 構造中に含まれる芳香環の数が１つ又は２つである請求項１又は２に記載の化合物。
4. 請求項１から３のいずれか１項に記載の化合物を含有する組成物。
5. 請求項１から３のいずれか１項に記載の化合物を含有する液晶組成物。
6. 請求項１から３のいずれか１項に記載の化合物を重合することにより得られる重合体。
7. 請求項４又は５に記載の組成物を重合することにより得られる重合体。
8. 請求項７に記載の重合体を用いた光学異方体。
9. 請求項１から３のいずれか１項に記載の化合物を用いた樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、有機ＥＬ材料、有機半導体材料、電子材料、表示素子、電子デバイス、通信機器、自動車部品、航空機部品、機械部品、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品。