JP6256335B2 - 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 - Google Patents

固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 Download PDF

Info

Publication number
JP6256335B2
JP6256335B2 JP2014522576A JP2014522576A JP6256335B2 JP 6256335 B2 JP6256335 B2 JP 6256335B2 JP 2014522576 A JP2014522576 A JP 2014522576A JP 2014522576 A JP2014522576 A JP 2014522576A JP 6256335 B2 JP6256335 B2 JP 6256335B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
optical filter
group
compound
solid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014522576A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2014002864A1 (ja
Inventor
勝也 長屋
勝也 長屋
幸恵 田中
幸恵 田中
寛之 岸田
寛之 岸田
蘭 三星
蘭 三星
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=49783022&utm_source=***_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP6256335(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Publication of JPWO2014002864A1 publication Critical patent/JPWO2014002864A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6256335B2 publication Critical patent/JP6256335B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/208Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/22Absorbing filters
    • G02B5/223Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/281Interference filters designed for the infrared light
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/281Interference filters designed for the infrared light
    • G02B5/282Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/28Interference filters
    • G02B5/283Interference filters designed for the ultraviolet
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B11/00Filters or other obturators specially adapted for photographic purposes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/1462Coatings
    • H01L27/14621Colour filter arrangements
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/50Constructional details
    • H04N23/55Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

本発明は、固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途に関する。詳しくは、特定の波長に吸収極大を有する化合物を含む透明樹脂製基板を有する固体撮像素子用光学フィルター、ならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュールに関する。
ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などの固体撮像装置にはカラー画像の固体撮像素子であるCCDやCMOSイメージセンサーが使用されているが、これら固体撮像素子は、その受光部において人間の目では感知できない近赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードが使用されている。これらの固体撮像素子では、人間の目で見て自然な色合いにさせる視感度補正を行うことが必要であり、特定の波長領域の光線を選択的に透過もしくはカットする光学フィルターを用いることが多い。
このような光学フィルターとしては、従来から、各種方法で製造されたものが使用されている。例えば、基材として透明樹脂を用い、該透明樹脂中に近赤外線吸収色素を含有させた近赤外線カットフィルター等の光学フィルターが広く知られている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、特許文献1に記載された光学フィルターは、近赤外線吸収能が必ずしも十分ではない場合があった。
また、本出願人は特定の構造を有するスクアリリウム系化合物を含有する光学フィルターを提案している(特許文献2参照)。このような光学フィルターを使用した場合、近赤外波長領域における光学特性の入射角度依存性を低減することができ、既存の光学フィルターと比較して視野角度を改善することが可能となる。
しかしながら、近赤外波長領域に吸収を持つ化合物のみを使用した場合、波長300〜420nmといった近紫外波長領域における光学特性の入射角度依存性を十分に改良することができない場合がある。例えば、図1に示すように、光学フィルター6の表面とレンズ5の表面で反射した近紫外光Bが0度より大きな角度で光学フィルター6へ入射した場合、反射光を十分にカットすることができず、紫色や青色の不鮮明な画像が発生するなどカメラ画質を低下させてしまうことがあった。
特開平6−200113号公報 特開2012−8532号公報
本発明の目的は、従来の近赤外線カットフィルター等の光学フィルターが有していた欠点を改良し、近紫外波長領域においても入射角度依存性が少なく、可視光透過率特性に優れた固体撮像素子用光学フィルターおよび該光学フィルターを用いた装置を提供することにある。
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した。その結果、波長300〜420nmに吸収極大を持つ化合物と波長600〜800nmに吸収極大を持つ化合物とを含有する透明樹脂製基板を有する光学フィルターによって、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。本願発明の態様の例を以下に示す。
[1] 波長300〜420nmに吸収極大を持つ化合物(X)および波長600〜800nmに吸収極大を持つ化合物(Y)を含有する透明樹脂製基板と、該基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜とを有すること特徴とする固体撮像素子用光学フィルター。
[2] 前記化合物(X)が、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする項[1]に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
[3] 前記基板を構成する透明樹脂の含有量100重量部に対して、前記化合物(X)の含有量が0.006〜3.0重量部であり、且つ、前記化合物(Y)の含有量が0.004〜2.0重量部であることを特徴とする項[1]または[2]に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
[4] 前記基板を構成する透明樹脂が、環状オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂である項[1]〜[3]のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
[5] 固体撮像装置用であることを特徴とする項[1]〜[4]のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
[6] 項[1]〜[5]のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。
[7] 項[1]〜[5]のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
本発明によれば、近紫外波長領域においても入射角度依存性が少なく、可視光透過率特性に優れる固体撮像素子用光学フィルターを提供することができる。
図1は、光学フィルター6の表面およびレンズ5の表面で反射した光線が0度より大きな入射角度で光学フィルター6に入射した場合を示す概略図である。 図2(a)は、従来のカメラモジュールの一例を示す断面概略図である。図2(b)は、本発明の固体撮像素子用光学フィルター6'を用いた場合のカメラモジュールの一例を示す断面概略図である。 図3は、固体撮像素子用光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率を測定する方法を示す概略図である。 図4は、固体撮像素子用光学フィルターの垂直方向に対して30度の角度から測定した場合の透過率を測定する方法を示す概念図である。 図5は、従来の固体撮像素子用光学フィルターを用いて、垂直方向、および、垂直方向に対して30度の角度から測定した透過スペクトルの一例である。
以下、本発明について具体的に説明する。
[固体撮像素子用光学フィルター]
本発明に係る固体撮像素子用光学フィルター(以下単に「本発明の光学フィルター」ともいう。)は、波長300〜420nmに吸収極大を持つ化合物(X)および波長600〜800nmに吸収極大を持つ化合物(Y)を含有する透明樹脂製基板と、該基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜とを有する。前記化合物(X)と前記化合物(Y)は、透明樹脂製基板のうち同一の層に含まれていても別々の層に含まれていてもよい。同一の層に含まれる場合は、例えば、前記化合物(X)と前記化合物(Y)がともに同一の透明樹脂製基板中に含まれる形態を挙げることができ、別々の層に含まれる場合は、例えば、前記化合物(Y)が含まれる透明樹脂製基板上に前記化合物(X)が含まれる層が積層されている形態を挙げることができる。前記化合物(X)と前記化合物(Y)は、同一の層に含まれている方がより好ましく、このような場合、別々の層に含まれる場合よりも前記化合物(X)と前記化合物(Y)の含有量を制御することがより容易となる。
〔透明樹脂製基板〕
本発明の光学フィルターを構成する透明樹脂製基板(以下「樹脂製基板」ともいう。)は、透明樹脂、前記化合物(X)および前記化合物(Y)を含有し、近紫外線および近赤外線を選択的に効率よくカットすることができる。
このような樹脂製基板を光学フィルターに用いることにより、光学フィルターの垂直方向から測定した場合に300〜450nmの波長領域で透過率が50%となる最も長波長側の波長(H)の前後20nmの波長領域の各波長における透過率と、同じ波長領域において光学フィルターの垂直方向に対して30度の角度から測定した場合の各波長における透過率との差の絶対値の最大値(以下「最大値(U)」という。)が小さくなり、入射角依存性が小さく、視野角の広い光学フィルターを得ることができる。
ここで、波長(H)および最大値(U)について、従来の固体撮像素子用光学フィルターを用いて、垂直方向から測定した透過率10のスペクトル、および、垂直方向に対して30度の角度から測定した透過率11のスペクトルの一例である図5を参照して説明する。図5の場合、300〜450nmの波長領域で、光学フィルターの垂直方向から測定した透過率10が50%となる波長(H)は、符号12で示した415nmであり、波長(H)の前後20nmの波長領域(395〜435nm)の各波長において、透過率10と透過率11との差の絶対値の最大値(U)は、符号14で示される39%(透過率10:5%、透過率11:44%、波長403nm)である。
前記最大値(U)は、好ましくは25%未満、より好ましくは20%未満、特に好ましくは15%未満である。
カメラモジュールなどの用途では、波長400〜700nmのいわゆる可視光領域において、前記化合物(X)および前記化合物(Y)を含有した樹脂製基板の厚みを100μmとした時の該基板の平均透過率が50%以上、好ましくは65%以上であることが必須である。
前記樹脂製基板の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択することができ、特に制限されないが、該基板が前記のような入射角依存改良性を有するように調整することが好ましく、より好ましくは30〜250μm、さらに好ましくは40〜200μm、特に好ましくは50〜150μmである。
樹脂製基板の厚みが前記範囲にあると、該基板を用いた光学フィルターを小型化および軽量化することができ、固体撮像装置等の様々な用途に好適に用いることができる。特に、前記樹脂性基板をカメラモジュール等レンズユニットに用いた場合には、レンズユニットの低背化を実現することができるため好ましい。
<化合物(X)>
本発明で用いられる、波長300〜420nmに吸収極大を持つ化合物(X)は、一般的に近紫外線吸収剤と称され、前記波長範囲に2つ以上の吸収極大を持っていてもよい。このような化合物(X)としては、特に限定されるものではないが、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
(A)アゾメチン系化合物
前記アゾメチン系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(1)で表すことができる。
式(1)中、Ra1〜Ra5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜9のアルコキシ基または炭素数1〜9のアルコキシカルボニル基を表す。
(B)インドール系化合物
前記インドール系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(2)で表すことができる。
式(2)中、Rb1〜Rb5は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、シアノ基、フェニル基、アラルキル基、炭素数1〜9のアルキル基、炭素数1〜9のアルコキシ基または炭素数1〜9のアルコキシカルボニル基を表す。
(C)ベンゾトリアゾール系化合物
前記ベンゾトリアゾール系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(3)で表すことができる。
式(3)中、Rc1〜Rc3は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アラルキル基、炭素数1〜9のアルキル基、炭素数1〜9のアルコキシ基、または置換基として炭素数1〜9のアルコキシカルボニル基を有する炭素数1〜9のアルキル基を表す。
(D)トリアジン系化合物
前記トリアジン系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(4)、(5)または(6)で表すことができる。
式(4)〜(6)中、Rd1は、独立に水素原子、炭素原子数1〜15のアルキル基、炭素原子数3〜8 のシクロアルキル基、炭素原子数3〜8のアルケニル基、炭素原子数6〜18のアリール基、炭素原子数7〜18のアルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。ただし、これらアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルキルアリール基およびアリールアルキル基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜12のアルキル基またはアルコキシ基で置換されてもよく、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、エステル基、アミド基またはイミノ基で中断されてもよい。また、前記置換及び中断は組み合わされてもよい。Rd2〜Rd9は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数1〜15のアルキル基、炭素原子数3〜8 のシクロアルキル基、炭素原子数3〜8のアルケニル基、炭素原子数6〜18のアリール基、炭素原子数7〜18のアルキルアリール基またはアリールアルキル基を表す。
<化合物(Y)>
本発明で用いられる、波長600〜800nm、好ましくは波長620〜780nm、特に好ましくは波長650〜750nmの範囲に吸収極大を持つ化合物(Y)は、一般的に近赤外線吸収色素と称され、前記波長範囲に2つ以上の吸収極大を持っていてもよい。このような化合物(Y)としては、特に限定されるものではないが、例えば、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物などが挙げられる。化合物(Y)を用いることで、近紫外波長領域に加え、近赤外波長領域においても光学フィルターの入射角依存性を改良することができ、視野角度の広い光学フィルターを得ることができる。
(A)スクアリリウム系化合物
スクアリリウム系化合物としては、式(I)で表されるスクアリリウム系化合物および式(II)で表されるスクアリリウム系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。以下、それぞれ「化合物(I)」および「化合物(II)」ともいう。
式(I)中、Ra、RbおよびYは、下記(i)または(ii)の条件を満たす。
条件(i)
複数あるRaは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−L1または−NRef基を表す。ReおよびRfは、それぞれ独立に水素原子、−La、−Lb、−Lc、−Ldまたは−Leを表す。
複数あるRbは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−L1または−NRgh基を表す。RgおよびRhは、それぞれ独立に水素原子、−La、−Lb、−Lc、−Ld、−Leまたは−C(O)Ri基(Riは、−La、−Lb、−Lc、−Ldまたは−Leを表す。)を表す。
複数あるYは、それぞれ独立に−NRjk基を表す。RjおよびRkは、それぞれ独立に水素原子、−La、−Lb、−Lc、−Ldまたは−Leを表す。
1は、La、Lb、Lc、Ld、Le、Lf、LgまたはLhである。
前記La〜Lhは、
(La)置換基Lを有してもよい炭素数1〜9の脂肪族炭化水素基、
(Lb)置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のハロゲン置換アルキル基、
(Lc)置換基Lを有してもよい炭素数3〜14の脂環式炭化水素基、
(Ld)置換基Lを有してもよい炭素数6〜14の芳香族炭化水素基、
(Le)置換基Lを有してもよい炭素数3〜14の複素環基、
(Lf)置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のアルコキシ基、
(Lg)置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のアシル基、または
(Lh)置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のアルコキシカルボニル基
を表す。
置換基Lは、炭素数1〜9の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜9のハロゲン置換アルキル基、炭素数3〜14の脂環式炭化水素基、炭素数6〜14の芳香族炭化水素基および炭素数3〜14の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも1種である。
前記La〜Lhは、さらにハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも1種の原子または基を有していてもよい。
前記La〜Lhは、置換基を含めた炭素数の合計が、それぞれ50以下であることが好ましく、炭素数40以下であることが更に好ましく、炭素数30以下であることが特に好ましい。炭素数がこの範囲よりも多いと、色素の合成が困難となる場合があるとともに、単位重量あたりの吸収強度が小さくなってしまう傾向がある。
条件(ii)
1つのベンゼン環上の2つのRaのうちの少なくとも1つが、同じベンゼン環上のYと相互に結合して、窒素原子を少なくとも1つ含む構成原子数5または6の複素環を形成し、前記複素環は置換基を有していてもよく、Rbおよび前記複素環の形成に関与しないRaは、それぞれ独立に前記(i)のRbおよびRaと同義である。
式(II)中、Xは、O、S、Se、N−RcまたはC−Rddを表し;複数あるRcは、それぞれ独立に水素原子、−La、−Lb、−Lc、−Ldまたは−Leを表し;複数あるRdは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−L1または−NRef基を表し、隣り合うRd同士は連結して置換基を有していてもよい環を形成してもよく;La〜Le、L1、ReおよびRfは、前記式(I)において定義したLa〜Le、L1、ReおよびRfと同義である。
化合物(I)および化合物(II)は、下記式(I−1)および下記式(II−1)のような記載方法に加え、下記式(I−2)および下記式(II−2)のように共鳴構造を取るような記載方法でも構造を表すことができる。つまり、下記式(I−1)と下記式(I−2)の違い、および下記式(II−1)と下記式(II−2)の違いは構造の記載方法のみであり、化合物としてはどちらも同一のものを表す。本発明中では特に断りのない限り、下記式(I−1)および下記式(II−1)のような記載方法にてスクアリリウム系化合物の構造を表すものとする。
化合物(I)および化合物(II)は、それぞれ上記式(I)および上記式(II)の要件を満たせば特に構造は限定されないが、例えば上記式(I−1)および上記式(II−1)のように構造を表した場合、中央の四員環に結合している左右の置換基は同一であっても異なっていてもよいが、同一であった方が合成上容易であるため好ましい。なお、例えば、下記式(I−3)で表される化合物と下記式(I−4)で表される化合物は、同一の化合物であると見なすことができる。
(B)フタロシアニン系化合物
前記フタロシアニン系化合物としては、特に構造は限定されないが、例えば、下記式(III)で表される化合物が挙げられる。
式(III)中、Mは、2個の水素原子、2個の1価の金属原子、2価の金属原子、または3価もしくは4価の金属原子を含む置換金属原子を表し、
複数あるRa、Rb、RcおよびRdは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3、−N=N−L4を表す。または、複数あるRa、Rb、RcおよびRdは、RaとRb、RbとRcおよびRcとRdのうち少なくとも1つの組み合わせが結合した、下記式(A)〜(H)で表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表す。ただし、同じ芳香環に結合したRa、Rb、RcおよびRdのうち少なくとも1つが水素原子ではない。
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式(I)において定義した置換基Lを有してもよく、
1は前記式(I)において定義したL1と同義であり、
2は、水素原子または前記式(I)において定義したLa〜Leのいずれかを表し、
3は、水酸基または前記La〜Leのいずれかを表し、
4は、前記La〜Leのいずれかを表す。
式(A)〜(H)中、RxとRyの組み合わせは、RaとRb、RbとRcまたはRcとRdの組み合わせであり、
複数あるRA〜RLは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3、−N=N−L4を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Lを有してもよく、L1〜L4は前記式(III)において定義したL1〜L4と同義である。
(C)ナフタロシアニン系化合物
前記ナフタロシアニン系化合物としては、特に構造は限定されないが、例えば、下記式(IV)で表される化合物が挙げられる。
式(IV)中、Mは、前記式(7)中のMと同義であり、Ra、Rb、Rc、Rd、ReおよびRfは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3、−N=N−L4を表す。
(D)シアニン系化合物
前記シアニン系化合物としては、特に構造は限定されないが、例えば、下記式(V−1)〜(V−3) で表される化合物が挙げられる。
式(V−1)〜(V−3)中、Xa -は1価の陰イオンを表し、
複数あるDは、独立に炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、
複数あるRa、Rb、Rc、Rd、Re、Rf、Rg、RhおよびRiは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3、−N=N−L4、または、RbとRc、RdとRe、ReとRf、RfとRg、RgとRhおよびRhとRiのうち少なくとも1つの組み合わせが結合した、下記式(A)〜(H)で表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式(I)において定義した置換基Lを有してもよく、
1は、前記式(I)において定義したL1と同義であり、
2は、水素原子または前記式(I)において定義したLa〜Leのいずれかを表し、
3は、水素原子または前記La〜Leのいずれかを表し、
4は、前記La〜Leのいずれかを表し、
a〜ZdおよびYa〜Ydは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3、−N=N−L4(L1〜L4は、前記Ra〜RiにおけるL1〜L4と同義である。)、あるいは、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含んでもよい5乃至6員環の脂環式炭化水素基、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、炭素数6〜14の芳香族炭化水素基、または、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成され、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含む、炭素数3〜14の複素芳香族炭化水素基を表し、これらの脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数1〜9の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。
式(A)〜(H)中、RxとRyの組み合わせは、RbとRc、RdとRe、ReとRf、RfとRg、RgとRhおよびRhとRiの組み合わせであり、
複数あるRA〜RLは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3または−N=N−L4(L1〜L4は、前記式(V−1)〜(V−3)において定義したL1〜L4と同義である。)を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Lを有してもよい。
<その他の色素>
本発明では、前記化合物(X)および前記化合物(Y)に加え、その他の色素として波長800nm超1300nm以下に吸収極大を持つ色素(Z)を用いることができる。このような色素(Z)としては、特に限定されるものではないが、例えばフタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物およびポルフィリン系化合物などが挙げられる。これらの色素は、例えば、特開2006−284756号公報、特開2008−303130号公報、特許第4919629号公報、特許第4083730号公報に例示されているものを使用することができる。色素(Z)の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に限定されないが、樹脂製基板を構成する樹脂100重量部に対して、好ましくは0.01〜10.0重量部である。色素(Z)を用いることで、波長800nm以降の長波長域における吸収特性がさらに良好な光学フィルターを得ることができ、良好なカメラ画質を達成することができる。
<化合物(X)と化合物(Y)の含有量>
前記樹脂製基板において、前記化合物(X)の含有量は、樹脂製基板を構成する樹脂100重量部に対して、好ましくは0.006〜3.0重量部、より好ましくは0.02〜2.5重量部、特に好ましくは0.05〜2.0重量部である。前記化合物(Y)の含有量は、樹脂製基板を構成する樹脂100重量部に対して、好ましくは0.004〜2.0重量部、より好ましくは0.01〜1.5重量部、特に好ましくは0.02〜1.0重量部である。前記化合物(X)と前記化合物(Y)の含有量が前記範囲内にあると、それぞれの吸収波長域において良好な吸収特性と高い可視光透過率とを両立させることができる。
<樹脂>
前記樹脂製基板に用いられる透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、100℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度(Tg)が、好ましくは110〜380℃、より好ましくは110〜370℃、さらに好ましくは120〜360℃である透明樹脂が挙げられる。また、透明樹脂のガラス転移温度が140℃以上であると、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成し得るフィルムが得られるため、特に好ましい。
前記透明樹脂としては、厚さ0.1mmでの全光線透過率(JIS K7105)が、好ましくは75〜95%であり、さらに好ましくは78〜95%であり、特に好ましくは80〜95%である樹脂を用いることができる。全光線透過率がこのような範囲であれば、得られる基板は光学フィルムとして良好な透明性を示す。
前記透明樹脂としては、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂を挙げることができる。
(A)環状オレフィン系樹脂
前記環状オレフィン系樹脂としては、下記式(13)で表される単量体および下記式(14)で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも1つの単量体から得られる樹脂、または必要に応じてさらに前記で得られた樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
式(13)中、Rx1〜Rx4は、それぞれ独立に下記(i')〜(ix')より選ばれる原子または基を表し、kx、mxおよびpxは、それぞれ独立に0または正の整数を表す。
(i')水素原子
(ii')ハロゲン原子
(iii')トリアルキルシリル基
(iv')酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数1〜30の炭化水素基
(v')置換または非置換の炭素数1〜30の炭化水素基
(vi')極性基(但し(iv')を除く)
(vii')Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に前記(i')〜(vi')より選ばれる原子または基を表す。
(viii')Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、結合している炭素原子とともに相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に前記(i')〜(vi')より選ばれる原子または基を表す。
(ix’)Rx2とRx3とが、結合している炭素原子とともに相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に前記(i')〜(vi')より選ばれる原子または基を表す。
式(14)中、Ry1およびRy2は、それぞれ独立に前記(i')〜(vi')より選ばれる原子または基を表すか、下記(x')を表し、kyおよびpyは、それぞれ独立に0または正の整数を表す。
(x')Ry1とRy2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表す。
(B)芳香族ポリエーテル系樹脂
前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式(15)で表される構造単位および下記式(16)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの構造単位を有することが好ましい。
式(15)中、R1〜R4は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、a〜dは、それぞれ独立に0〜4の整数を示す。
式(16)中、R1〜R4およびa〜dは、前記式(15)中のR1〜R4およびa〜dと同義であり、Yは単結合、−SO2−または>C=Oを示し、R7およびR8は、それぞれ独立にハロゲン原子、炭素数1〜12の1価の有機基またはニトロ基を示し、gおよびhは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、mは0または1を示す。但し、mが0の時、R7はシアノ基ではない。
また、前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、さらに下記式(17)で表される構造単位および下記式(18)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの構造単位を有することが好ましい。
式(17)中、R5およびR6は、それぞれ独立に炭素数1〜12の1価の有機基を示し、Zは、単結合、−O−、−S−、−SO2−、>C=O、−CONH−、−COO−または炭素数1〜12の2価の有機基を示し、eおよびfは、それぞれ独立に0〜4の整数を示し、nは0または1を示す。
式(18)中、R7、R8、Y、m、gおよびhは、前記式(16)中のR7、R8、Y、m、gおよびhと同義であり、R5、R6、Z、n、eおよびfは、前記式(17)中のR5、R6、Z、n、eおよびfと同義である。
(C)ポリイミド系樹脂
ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば特開2006−199945号公報や特開2008−163107号公報に記載されている方法で合成することができる。
(D)フルオレンポリカーボネート系樹脂
フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば特開2008−163194号公報に記載されている方法で合成することができる。
(E)フルオレンポリエステル系樹脂
フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば特開2010−285505号公報や特開2011−197450号公報に記載されている方法で合成することができる。
(F)フッ素化芳香族ポリマー系樹脂
フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、少なくとも1つのフッ素を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも1つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであればよく、例えば特開2008−181121号公報に記載されている方法で合成することができる。
(G)市販品
透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状オレフィン系樹脂の市販品としては、JSR株式会社製アートン、日本ゼオン株式会社製ゼオノア、三井化学株式会社製APEL、ポリプラスチックス株式会社製TOPASなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学株式会社製スミカエクセルPESなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学株式会社製ネオプリムLなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人株式会社製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学株式会社製ユピゼータEP−5000などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル株式会社製OKP4HTなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、株式会社日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂の市販品としては、新日鐵化学株式会社製シルプラスなどを挙げることができる。
<その他成分>
前記樹脂製基板は、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに、酸化防止剤、金属錯体系化合物等の添加剤を含有してもよい。また、後述するキャスト成形により樹脂製基板を製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することで樹脂製基板の製造を容易にすることができる。これらその他成分は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記酸化防止剤としては、例えば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2'−ジオキシ−3,3'−ジ−t−ブチル−5,5'−ジメチルジフェニルメタン、およびテトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタンなどが挙げられる。
なお、これら添加剤は、樹脂製基板を製造する際に、樹脂などとともに混合してもよいし、樹脂を製造する際に添加してもよい。また、添加量は、所望の特性に応じて適宜選択されるものであるが、樹脂100重量部に対して、通常0.01〜5.0重量部、好ましくは0.05〜2.0重量部である。
<樹脂製基板の製造方法>
前記樹脂製基板は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができる。
(A)溶融成形
前記樹脂製基板は、樹脂、化合物(X)および化合物(Y)等を溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法;樹脂、化合物(X)および化合物(Y)等を含有する樹脂組成物を溶融成形する方法;または、樹脂、化合物(X)、化合物(Y)および溶媒等を含む樹脂組成物から溶媒を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などにより製造することができる。溶融成形方法としては、例えば、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
前記溶媒としては、有機合成などに一般的に用いられる溶媒であれば特に限定されないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサンなどの炭化水素類;メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。これらの溶媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
(B)キャスト成形
前記樹脂製基板は、樹脂、化合物(X)、化合物(Y)および溶媒等を含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングして溶媒を除去する方法;反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤、化合物(X)、化合物(Y)ならびに樹脂等を含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングする方法;または、反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤、化合物(X)、化合物(Y)ならびに樹脂等を含む硬化性組成物を適当な基材の上にキャスティングして硬化および乾燥させる方法などにより製造することもできる。前記溶媒としては、前記「(A)溶融成形」で例示した溶媒と同様のものを用いることができる。
前記基材としては、例えば、ガラス板、スチールベルト、スチールドラムおよび透明樹脂(例えば、ポリエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム)が挙げられる。
前記樹脂製基板は、基材から剥離することにより得ることができ、また、本発明の効果を損なわない限り、基材から剥離せずに基材と塗膜との積層体を前記樹脂製基板としてもよい。
さらに、ガラス板、石英または透明プラスチック製等の光学部品に、前記樹脂組成物をコーティングして溶媒を乾燥させる方法、または、前記硬化性組成物をコーティングして硬化および乾燥させる方法などにより、光学部品上に直接樹脂製基板を形成することもできる。
前記方法で得られた樹脂製基板中の残留溶媒量は可能な限り少ない方がよく、樹脂製基板中の樹脂100重量部に対して、通常3重量%以下、好ましくは1重量%以下、さらに好ましくは0.5重量%以下である。残留溶媒量が前記範囲にあると、変形や特性が変化しにくい、所望の機能を容易に発揮できる樹脂製基板が得られる。
〔近赤外線反射膜〕
本発明の光学フィルターは、前記樹脂製基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜を有する。
本発明に用いることができる近赤外線反射膜は、近赤外線を反射する能力を有する膜である。このような近赤外線反射膜としては、アルミ蒸着膜、貴金属薄膜、酸化インジウムを主成分とし酸化錫を少量含有させた金属酸化物微粒子を分散させた樹脂膜、または高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜などが挙げられる。このような近赤外線反射膜を有すると、近赤外線をさらに効果的にカットすることができる。
本発明では、近赤外線反射膜は樹脂製基板の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合、高い強度を有し、ソリの生じにくい光学フィルターを得ることができる。
前記近赤外線反射膜の中では、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜がより好ましい。
高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が1.7以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常1.7〜2.5である材料が選択される。このような材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、または、酸化インジウム等を主成分とし、酸化チタン、酸化錫および/または酸化セリウムなどを少量(例えば、主成分に対し0〜10%)含有させたものなどが挙げられる。
低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が1.6以下の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常1.2〜1.6である材料が選択される。このような材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムなどが挙げられる。
高屈折率材料層と低屈折率材料層とを積層する方法については、これら材料層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はない。例えば、前記樹脂製基板上に、直接、CVD法、スパッタ法、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法またはイオンプレーティング法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成することができる。
これら高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、通常、遮断しようとする近赤外線波長をλ(nm)とすると、0.1λ〜0.5λの厚みが好ましい。厚みがこの範囲あると、屈折率(n)と膜厚(d)との積(n×d)がλ/4で算出される光学的膜厚と高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みとがほぼ同じ値となって、反射・屈折の光学的特性の関係から、特定波長の遮断・透過を容易にコントロールできる傾向にある。
また、誘電体多層膜における高屈折率材料層と低屈折率材料層との合計の積層数は、5〜60層、好ましくは6〜50層であることが望ましい。
さらに、誘電体多層膜を形成した際に基板にソリが生じてしまう場合には、これを解消するために、基板両面に誘電体多層膜を形成する方法等をとることができる。
〔その他の機能膜〕
本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、樹脂製基板と誘電体多層膜等の近赤外線反射膜との間、樹脂製基板の近赤外線反射膜が設けられた面と反対側の面、または近赤外線反射膜の樹脂製基板が設けられた面と反対側の面に、樹脂製基板や近赤外線反射膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜および帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
本発明の光学フィルターは、前記機能膜からなる層を1層含んでもよく、2層以上含んでもよい。本発明の光学フィルターが前記機能膜からなる層を2層以上含む場合には、同様の層を2層以上含んでもよいし、異なる層を2層以上含んでもよい。
機能膜を積層する方法としては、特に制限されないが、反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤などを樹脂製基板または近赤外線反射膜上に、前記と同様に溶融成形またはキャスト成形する方法等を挙げることができる。
また、前記コーティング剤などを含む硬化性組成物をバーコーター等で樹脂製基板または近赤外線反射膜上に塗布した後、紫外線照射等により硬化することによっても製造することができる。
前記コーティング剤としては、紫外線(UV)/電子線(EB)硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などが挙げられ、具体的には、ビニル化合物類や、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系樹脂などが挙げられる。これらのコーティング剤を含む前記硬化性組成物としては、ビニル系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、アクリレート系、エポキシ系およびエポキシアクリレート系硬化性組成物などが挙げられる。
また、前記硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。前記重合開始剤としては、公知の光重合開始剤または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤と熱重合開始剤を併用してもよい。重合開始剤は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記硬化性組成物中、重合開始剤の配合割合は、硬化性組成物の全量を100重量%とした場合、好ましくは0.1〜10重量%、より好ましくは0.5〜10重量%、さらに好ましくは1〜5重量%である。重合開始剤の配合割合が前記範囲にあると、硬化性組成物の硬化特性および取り扱い性が優れ、所望の硬度を有する反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を得ることができる。
さらに、前記硬化性組成物には溶媒として有機溶媒を加えてもよく、有機溶媒としては、公知のものを使用することができる。有機溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。これらの溶媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記機能膜の厚さは、好ましくは0.1μm〜20μm、さらに好ましくは0.5μm〜10μm、特に好ましくは0.7μm〜5μmである。
また、樹脂製基板と機能膜および/または近赤外線反射膜との密着性や、機能膜と近赤外線反射膜との密着性を上げる目的で、樹脂製基板や機能膜の表面にコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理をしてもよい。
〔固体撮像素子用光学フィルターの特性等〕
本発明の光学フィルターは、透過率特性に優れ、使用する際に制約を受けない。上述した化合物(X)と化合物(Y)を使用することで、入射角依存性が少なく、高い可視光透過率と紫色や青色の不鮮明な画像の低減効果を併せ持つ固体撮像素子用光学フィルターを得ることができる。
〔固体撮像素子用光学フィルターの用途〕
本発明の光学フィルターは、視野角が広く、優れた近紫外線カット能および近赤外線カット能等を有する。したがって、カメラモジュールのCCDやCMOSイメージセンサーなどの固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、PCカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビ、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。
<固体撮像装置>
本発明の固体撮像装置は、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とは、CCDやCMOSイメージセンサーなどといった固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラなどの用途に用いることができる。
<カメラモジュール>
本発明のカメラモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、本発明の光学フィルターをカメラモジュールに用いる場合について具体的に説明する。図2に、カメラモジュールの断面概略図を示す。
図2(a)は、従来のカメラモジュールの構造の断面概略図であり、図2(b)は、本発明の光学フィルター6'を用いた場合の、とり得ることができるカメラモジュールの構造の一つを表す断面概略図である。なお、図2(b)では、本発明の光学フィルター6'をレンズ5の上部に用いているが、本発明の光学フィルター6'は、図2(a)に示すようにレンズ5とイメージセンサー7の間に用いることもできる。
従来のカメラモジュールでは、光学フィルター6に対してほぼ垂直に光が入射する必要があった。そのため、光学フィルター6は、レンズ5とイメージセンサー7の間に配置する必要があった。
ここで、イメージセンサー7は、高感度であり、5μm程度のちりやほこりが触れるだけで正確に作動しなくなるおそれがあるため、イメージセンサー7の上部に用いる光学フィルター6は、ちりやほこりの出ないものであり、異物を含まないものである必要があった。また、光学フィルター6とイメージセンサー7の間には、所定の間隔を設ける必要があり、このことがカメラモジュールの低背化を妨げる一因となっていた。
これに対し、本発明の光学フィルター6'では、光学フィルター6'の垂直方向から入射する場合と、光学フィルター6'の垂直方向に対して30°から入射する場合とで透過する光のスペクトルに大きな差はない(吸収(透過)波長の入射角依存性が小さい)ため、光学フィルター6'は、レンズ5とイメージセンサー7の間に配置する必要がなく、レンズ5の上部に配置することもできる。
このため、本発明の光学フィルター6'をカメラモジュールに用いる場合には、該カメラモジュールの取り扱い性が容易になり、また、光学フィルター6'とセンサー7の間に所定の間隔を設ける必要がないため、カメラモジュールの低背化が可能となる。
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下において、「部」は、特に断りのない限り「重量部」を意味する。また、各物性値の測定方法および物性の評価方法は以下のとおりである。
<分子量>
樹脂の分子量は、各樹脂の溶媒への溶解性等を考慮し、下記の(a)または(b)の方法にて測定を行った。
(a)ウオターズ(WATERS)社製のゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー(GPC)装置(150C型、カラム:東ソー社製Hタイプカラム、展開溶媒:o−ジクロロベンゼン)を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定した。
(b)東ソー社製GPC装置(HLC−8220型、カラム:TSKgelα―M、展開溶媒:THF)を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定した。
<ガラス転移温度(Tg)>
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計(DSC6200)を用いて、昇温速度:毎分20℃、窒素気流下で測定した。
<分光透過率>
吸収極大、各波長域における透過率、および最大値(U)は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計(U−4100)を用いて測定した。
ここで、光学フィルターの垂直方向から測定した場合の透過率は、図3のように光学フィルター8に対し垂直に透過した光を測定した。また、光学フィルターの垂直方向に対して30°の角度から測定した場合の透過率は、図4のように光学フィルター8の垂直方向に対して30°の角度で透過した光を測定した。
なお、最大値(U)を算出する場合を除き、他の分光透過率測定は光が基板および光学フィルターに対して垂直に入射する条件で、前記分光光度計を使用して測定した。
[合成例]
下記実施例で用いた化合物(X)、化合物(Y)およびその他の色素(Z)は、一般的に知られている方法で合成することができ、例えば、特許第3366697号公報、特許第2846091号公報、特許第2864475号公報、特許第3703869号公報、特開昭60−228448号公報、特開平1−146846号公報、特開平1−228960号公報、特許第4081149号公報、特開昭63−124054号公報、「フタロシアニン −化学と機能―」(アイピーシー、1997年)、特開2007−169315号公報、特開2009−108267号公報、特開2010−241873号公報、特許第3699464号公報、特許第4740631号公報などに記載されている方法を参照して合成することができる。
<樹脂合成例1>
下記式(19)で表される8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(以下「DNM」ともいう。)100部と、1−ヘキセン(分子量調節剤)18部と、トルエン(開環重合反応用溶媒)300部とを、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を80℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液(0.6mol/リットル)0.2部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液(濃度0.025mol/リットル)0.9部とを添加し、この溶液を80℃で3時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は97%であった。
このようにして得られた開環重合体溶液1,000部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、RuHCl(CO)[P(C6533を0.12部添加し、水素ガス圧100kg/cm2、反応温度165℃の条件下で、3時間加熱撹拌して水素添加反応を行った。
得られた反応溶液(水素添加重合体溶液)を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体(以下「樹脂A」ともいう。)を得た。得られた樹脂Aは、数平均分子量(Mn)が32,000であり、重量平均分子量(Mw)が137,000であり、ガラス転移温度(Tg)が165℃であった。
<樹脂合成例2>
3Lの4つ口フラスコに2,6−ジフルオロベンゾニトリル35.12g(0.253mol)、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン87.60g(0.250mol)、炭酸カリウム41.46g(0.300mol)、N,N−ジメチルアセトアミド(以下「DMAc」ともいう。)443gおよびトルエン111gを添加した。続いて、4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。
次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を140℃で3時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を160℃まで上昇させ、そのままの温度で6時間反応させた。
室温(25℃)まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物(残渣)を単離した。得られたろ物を60℃で一晩真空乾燥し、白色粉末(以下「樹脂B」という。)を得た(収率95%)。得られた樹脂Bは、数平均分子量(Mn)が75,000であり、重量平均分子量(Mw)が188,000であり、ガラス転移温度(Tg)が285℃であった。
<樹脂合成例3>
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた500mLの5つ口フラスコに、窒素気流下、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル10.0重量部(0.05モル)を、溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン85重量部に溶解させた後、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物11.2重量部(0.05モル)を室温にて固体のまま1時間かけて分割投入し、室温下2時間撹拌した。
次に、共沸脱水溶媒としてキシレン30.0重量部を添加して180℃に昇温した後、3時間反応を行い、ディーンスターク管でキシレンを還流させて、共沸してくる生成水を分離した。3時間後、水の留出が終わったことを確認し、1時間かけて190℃に昇温しながらキシレンを留去させ、29.0重量部を回収した。その後、内温が60℃になるまで空冷してポリイミドのN−メチル−2−ピロリドン溶液(以下「ポリイミド溶液C」という。)105.4重量部を得た。
[実施例1]
容器に、樹脂合成例1で得られた樹脂A100重量部、下記式(20)で表されるトリアジン化合物(吸収極大波長;約355〜365nm)0.40重量部、下記式(21)で表されるシアニン化合物(吸収極大波長;約680〜690nm)0.05重量部および塩化メチレンを加え、樹脂濃度が20重量%の溶液(ex1)を調製した。
次いで、得られた溶液(ex1)を平滑なガラス板上にキャストし、20℃で8時間乾燥した後、ガラス板から剥離した。剥離した塗膜をさらに減圧下100℃で8時間乾燥して、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの樹脂製基板(以下単に「基板」ともいう)を得た。
続いて、得られた基板の片面に、蒸着温度100℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ(SiO2:膜厚83〜199nm)層とチタニア(TiO2:膜厚101〜125nm)層とが交互に積層されてなるもの,積層数20〕を形成し、さらに基板のもう一方の面に、蒸着温度100℃で近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ(SiO2:膜厚77〜189nm)層とチタニア(TiO2:膜厚84〜118nm)層とが交互に積層されてなるもの,積層数26〕を形成し、厚さ0.105mmの光学フィルターを得た。
この光学フィルターの分光透過率を測定し、可視光波長領域における透過率、赤外波長領域における光学特性、および最大値(U)を求めた。結果を表2に示す。
[実施例2]
実施例1で得られた、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板の片面に、蒸着温度100℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ(SiO2:膜厚120〜190nm)層とチタニア(TiO2:膜厚70〜120nm)層とが交互に積層されてなるもの,積層数40〕を形成し、厚さ0.104mmの光学フィルターを製造して評価した。結果を表2に示す。
[実施例3]〜[実施例23]および[比較例1]〜[比較例2]
表1に示す樹脂、溶媒、色素およびフィルム乾燥条件を採用したこと以外は、実施例1と同様にして、厚さ0.105mmの光学フィルターを製造した。光学フィルターの製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。なお、表1において、樹脂の添加部数はいずれも100重量部であり、実施例17以外の実施例および比較例における樹脂溶液の樹脂濃度は20重量%であり、実施例17における樹脂溶液の樹脂濃度は18重量%である。実施例および比較例で使用した樹脂A〜J、溶媒(1)〜(4)および色素(20)〜(28)は下記の通りである。
<樹脂>
樹脂A:樹脂合成例1で得られた樹脂A
樹脂B:樹脂合成例2で得られた樹脂B
樹脂C:樹脂合成例3で得られたポリイミド溶液C
樹脂D:日本ゼオン株式会社製の環状オレフィン系樹脂「ゼオノア 1420R」
樹脂E:三井化学株式会社製の環状オレフィン系樹脂「APEL #6015」
樹脂F:帝人株式会社製のポリカーボネート樹脂「ピュアエース」
樹脂G:住友ベークライト株式会社製のポリエーテルサルホン樹脂「スミライトFS−1300」
樹脂H:大阪ガスケミカル株式会社製のフルオレン系ポリエステル樹脂「OKP4」
樹脂I:株式会社日本触媒製のアクリル樹脂「アクリビュア」
樹脂J:三菱ガス化学株式会社製のポリカーボネート樹脂「ユピゼータ EP−5000」
<溶媒>
溶媒(1):塩化メチレン
溶媒(2):N−メチル−2−ピロリドン
溶媒(3):シクロヘキサンとキシレンの7:3(重量比)混合溶液
溶媒(4):シクロヘキサンと塩化メチレンの99:1(重量比)混合溶液
<色素>
表1において、(X)は上記化合物(X)を意味し、(Y)は上記化合物(Y)を意味し、(Z)は上記色素(Z)を意味し、(Z’)は(X)〜(Z)以外の色素を意味する。
色素(20):上記式(20)で表されるトリアジン化合物(吸収極大波長;約355〜365nm、溶媒やマトリクス樹脂によって吸収極大波長は異なる。以下同様。)
色素(21):上記式(21)で表されるシアニン化合物(吸収極大波長;約680〜690nm)
色素(22):下記式(22)で表されるアゾメチン化合物(吸収極大波長;約375〜385nm)
色素(23):下記式(23)で表されるインドール化合物(吸収極大波長;約385〜395nm)
色素(24):下記式(24)で表されるスクアリリウム化合物(吸収極大波長;約690〜705nm)
色素(25):下記式(25)で表されるベンゾトリアゾール化合物(吸収極大波長;約340〜355nm)
色素(26):下記式(26)で表されるフタロシアニン化合物(吸収極大波長;約695〜710nm)
色素(27):下記式(27)で表されるジイモニウム化合物(吸収極大波長;約1040〜1060nm)
色素(28):下記式(28)で表されるシアニン系可視光線吸収色素(吸収極大波長;約480〜490nm)
また、表1における、実施例および比較例のフィルム乾燥条件は以下の通りである。
条件(1):20℃/8hr→減圧下 100℃/8hr
条件(2):60℃/4hr→80℃/4hr→減圧下 120℃/8hr
条件(3):60℃/8hr→80℃/8hr→減圧下 100℃/24hr
条件(4):40℃/4hr→60℃/4hr→減圧下 100℃/8hr
本発明の固体撮像素子用光学フィルターは、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、PCカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビ、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に好適に用いることができる。
1 :カメラモジュール
2 :レンズ鏡筒
3 :フレキシブル基板
4 :中空パッケージ
5 :レンズ
6 :(固体撮像素子用)光学フィルター
6’:本発明の固体撮像素子用光学フィルター
7 :(CCDまたはCMOS)イメージセンサー
8 :光学フィルター
9 :分光光度計
10:垂直方向(0度)から測定した時の透過率
11:垂直方向に対して30度から測定した時の透過率
12:波長(H)
13:波長(H)の前後20nmの波長領域
14:最大値(U)
A :近紫外光
B :レンズからの反射光
C :光

Claims (8)

  1. 波長340〜420nmに吸収極大を持つ化合物(X)および波長600〜800nmに吸収極大を持つ化合物(Y)を含有する透明樹脂製基板と、該基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜とを有する固体撮像素子用光学フィルターであって、
    光学フィルターの垂直方向から測定した場合に300〜450nmの波長領域で透過率が50%となる最も長波長側の波長(H)の前後20nmの波長領域の各波長における透過率と、前記波長領域において光学フィルターの垂直方向に対して30度の角度から測定した場合の各波長における透過率との差の絶対値の最大値(U)が、20%未満であることを特徴とする固体撮像素子用光学フィルター。
  2. 前記最大値(U)が15%未満であることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
  3. 前記化合物(X)が、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
  4. 前記基板を構成する透明樹脂の含有量100重量部に対して、前記化合物(X)の含有量が0.006〜3.0重量部であり、且つ、前記化合物(Y)の含有量が0.004〜2.0重量部であることを特徴とする請求項1〜のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
  5. 前記基板を構成する透明樹脂が、環状オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂である請求項1〜のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
  6. 固体撮像装置用であることを特徴とする請求項1〜のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
  7. 請求項1〜のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。
  8. 請求項1〜のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
JP2014522576A 2012-06-25 2013-06-20 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 Active JP6256335B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012141770 2012-06-25
JP2012141770 2012-06-25
PCT/JP2013/066936 WO2014002864A1 (ja) 2012-06-25 2013-06-20 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2014002864A1 JPWO2014002864A1 (ja) 2016-05-30
JP6256335B2 true JP6256335B2 (ja) 2018-01-10

Family

ID=49783022

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014522576A Active JP6256335B2 (ja) 2012-06-25 2013-06-20 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9746595B2 (ja)
JP (1) JP6256335B2 (ja)
KR (1) KR101983742B1 (ja)
CN (1) CN104364681B (ja)
TW (1) TWI633341B (ja)
WO (1) WO2014002864A1 (ja)

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014126642A (ja) * 2012-12-26 2014-07-07 Adeka Corp 波長カットフィルタ
KR101611807B1 (ko) 2013-12-26 2016-04-11 아사히 가라스 가부시키가이샤 광학 필터
JP6334964B2 (ja) * 2014-03-11 2018-05-30 Jsr株式会社 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2016043166A1 (ja) * 2014-09-19 2016-03-24 旭硝子株式会社 光学フィルタ
JP6530968B2 (ja) * 2014-09-29 2019-06-12 株式会社日本触媒 近赤外線カットフィルター
JP2016102862A (ja) * 2014-11-27 2016-06-02 Jsr株式会社 近赤外線カットフィルター、固体撮像装置、カメラモジュールおよび組成物
CN106062591B (zh) 2015-01-14 2018-10-09 Agc株式会社 近红外线截止滤波器和固体摄像装置
WO2016114363A1 (ja) 2015-01-14 2016-07-21 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置
JP6629508B2 (ja) * 2015-01-30 2020-01-15 株式会社日本触媒 赤外線吸収フィルター
CN106104319B (zh) 2015-02-18 2018-12-07 Agc株式会社 光学滤波器和摄像装置
JP2016162946A (ja) * 2015-03-04 2016-09-05 Jsr株式会社 固体撮像装置
JP6627864B2 (ja) * 2015-03-27 2020-01-08 Jsr株式会社 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP6202229B2 (ja) 2015-04-23 2017-09-27 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
WO2017051867A1 (ja) 2015-09-25 2017-03-30 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
WO2017094672A1 (ja) * 2015-11-30 2017-06-08 Jsr株式会社 光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール
JP6202230B1 (ja) 2015-12-01 2017-09-27 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
JP6630161B2 (ja) * 2016-01-21 2020-01-15 株式会社日本触媒 光選択透過フィルターおよびその製造方法
US10353117B2 (en) * 2016-01-25 2019-07-16 Canon Kabushiki Kaisha Optical element and method for producing the same
JP6787347B2 (ja) 2016-02-02 2020-11-18 Agc株式会社 近赤外線吸収色素、光学フィルタおよび撮像装置
KR20180024186A (ko) * 2016-08-29 2018-03-08 주식회사 엘엠에스 카메라 모듈에 포함되는 근적외선 컷-오프 필터용 광학물품 및 이를 포함하는 카메라 모듈용 근적외선 컷-오프 필터
KR101765559B1 (ko) 2016-09-27 2017-08-07 이대희 노루궁뎅이버섯을 포함하는 프로바이오틱스 조성물
KR101866104B1 (ko) * 2016-12-29 2018-06-08 주식회사 엘엠에스 카메라 모듈에 포함되는 근적외선 컷-오프 필터용 광학물품 및 이를 포함하는 카메라 모듈용 근적외선 컷-오프 필터
CN108693584B (zh) * 2017-04-05 2022-12-30 Jsr株式会社 光学滤光片及使用光学滤光片的固体摄像装置
CN110622044A (zh) 2017-05-19 2019-12-27 三井化学株式会社 聚碳酸酯树脂透镜及聚碳酸酯树脂组合物
JP7071662B2 (ja) * 2017-07-26 2022-05-19 Jsr株式会社 赤外線透過膜形成用組成物、赤外線透過膜の形成方法、表示装置用保護板、及び表示装置
JP7035381B2 (ja) * 2017-08-30 2022-03-15 大日本印刷株式会社 光学フィルム、画像表示装置又はタッチパネル
KR102491491B1 (ko) * 2017-09-08 2023-01-20 삼성전자주식회사 근적외선 흡수 필름용 조성물, 근적외선 흡수 필름, 카메라 모듈 및 전자 장치
KR102455527B1 (ko) 2017-09-12 2022-10-14 삼성전자주식회사 근적외선 흡수 필름용 조성물, 근적외선 흡수 필름, 카메라 모듈 및 전자 장치
JP6955019B2 (ja) * 2017-09-28 2021-10-27 マクセル株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置
JP6273063B1 (ja) * 2017-10-03 2018-01-31 日本板硝子株式会社 光学フィルタ及び撮像装置
JP7207395B2 (ja) * 2018-02-27 2023-01-18 Jsr株式会社 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
KR102673362B1 (ko) 2018-03-27 2024-06-05 삼성전자주식회사 근적외선 흡수 필름, 광학 필터 및 전자 장치
WO2019202815A1 (ja) * 2018-04-19 2019-10-24 株式会社Adeka 化合物、光吸収剤、組成物及び光学フィルタ
WO2020054786A1 (ja) * 2018-09-12 2020-03-19 Agc株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
JP7155855B2 (ja) * 2018-10-18 2022-10-19 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途
KR102113537B1 (ko) * 2019-01-28 2020-05-21 코오롱인더스트리 주식회사 발광 소자용 자외선 흡수 봉지재 및 이를 포함하는 발광 소자
KR20200121579A (ko) 2019-04-16 2020-10-26 삼성전자주식회사 근적외선 흡수 조성물, 광학 구조체, 및 이를 포함하는 카메라 모듈 및 전자 장치
JP7251423B2 (ja) * 2019-09-19 2023-04-04 Jsr株式会社 光学部材及びカメラモジュール

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60228448A (ja) 1984-04-27 1985-11-13 Mitsubishi Chem Ind Ltd スクアリリウム化合物
JPH0654394B2 (ja) 1986-11-14 1994-07-20 富士写真フイルム株式会社 光導電性組成物
JPH07107030B2 (ja) 1987-12-04 1995-11-15 富士ゼロックス株式会社 新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法
JPH01228960A (ja) 1988-03-09 1989-09-12 Konica Corp スクアリリウムの化合物
JP2864475B2 (ja) 1989-04-14 1999-03-03 ケミプロ化成株式会社 2―フェニルベンゾトリアゾール類の製造法
JP2846091B2 (ja) 1990-09-25 1999-01-13 オリヱント化学工業株式会社 インドール系化合物およびその用途
JP3163813B2 (ja) 1992-12-28 2001-05-08 日本ゼオン株式会社 近赤外線吸収樹脂組成物、および成形品
JP3366697B2 (ja) 1993-08-27 2003-01-14 オリヱント化学工業株式会社 長波長紫外線吸収剤およびその製造方法
TW254936B (ja) 1993-10-22 1995-08-21 Ciba Geigy
JP4081149B2 (ja) 1996-01-12 2008-04-23 山本化成株式会社 フタロシアニン化合物を用いる湿式太陽電池
KR100444332B1 (ko) * 1999-12-20 2004-08-16 도요 보세키 가부시키가이샤 적외선 흡수필터
WO2003005076A1 (en) 2001-07-04 2003-01-16 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Diimonium salt compound, and near-infrared ray absorbing filter and optical information recording medium
US6870687B2 (en) 2001-12-12 2005-03-22 Nikon Corporation Optical system with wavelength selecting device
WO2003062903A1 (fr) 2002-01-21 2003-07-31 Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Filtre optique et procede de production
US7095009B2 (en) 2002-05-21 2006-08-22 3M Innovative Properties Company Photopic detector system and filter therefor
KR20060008871A (ko) 2003-04-08 2006-01-27 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 가시 파장 검출기 시스템 및 그를 위한 필터
JP4644423B2 (ja) * 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 カラー固体撮像素子及びこのカラー固体撮像素子を用いた固体撮像装置並びにデジタルカメラ
JP2005345680A (ja) 2004-06-02 2005-12-15 Kureha Chem Ind Co Ltd 光学フィルターおよび撮像装置
KR20070114139A (ko) * 2005-02-16 2007-11-29 미쓰비시 가가꾸 폴리에스테르 필름 가부시키가이샤 근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및플라즈마 디스플레이 패널
JP4744892B2 (ja) 2005-02-16 2011-08-10 三菱樹脂株式会社 プラズマディスプレイパネル
JP4740631B2 (ja) 2005-04-18 2011-08-03 日本カーリット株式会社 ジイモニウム塩化合物並びにこれを利用する近赤外線吸収色素および近赤外線遮断フィルター
JP5140923B2 (ja) 2005-12-19 2013-02-13 コニカミノルタホールディングス株式会社 クロコニウム化合物
JP5051817B2 (ja) 2006-06-21 2012-10-17 Agcテクノグラス株式会社 視感度補正フィルタガラス及び視感度補正フィルタ
JP4912061B2 (ja) 2006-07-11 2012-04-04 日本カーリット株式会社 複合熱線遮蔽フィルム
JP2008159856A (ja) * 2006-12-25 2008-07-10 Bridgestone Corp 太陽電池用封止膜及びこの封止膜を用いた太陽電池
JP2009108267A (ja) 2007-10-31 2009-05-21 Fujifilm Corp シアニン化合物およびそれを含んでなる近赤外線吸収組成物
US8514487B2 (en) 2008-02-08 2013-08-20 Google Inc. Reducing flare in a lens having a dichroic filter
JP2010097062A (ja) 2008-10-17 2010-04-30 Fujifilm Corp 長波紫外線吸収積層体
CN101750654B (zh) * 2008-11-28 2014-07-02 Jsr株式会社 近红外线截止滤波器和使用近红外线截止滤波器的装置
JP5431001B2 (ja) 2009-04-01 2014-03-05 株式会社Adeka シアニン化合物及び該シアニン化合物を含有する光学フィルター
JP5422269B2 (ja) * 2009-06-23 2014-02-19 富士フイルム株式会社 紫外線吸収剤組成物及び樹脂組成物
WO2011071052A1 (ja) 2009-12-07 2011-06-16 旭硝子株式会社 光学部材、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズ、およびそれらを用いた撮像・表示装置
JP5810604B2 (ja) 2010-05-26 2015-11-11 Jsr株式会社 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置
JP2012014043A (ja) * 2010-07-02 2012-01-19 Oji Paper Co Ltd 光学用粘着剤、光学用粘着シート及び光学フィルタ
KR101779640B1 (ko) 2010-08-03 2017-09-18 제이에스알 가부시끼가이샤 광학 필터 및 그것을 포함하는 촬상 장치
JP5615636B2 (ja) * 2010-09-13 2014-10-29 倉敷レーザー株式会社 溶接治具
JP5383755B2 (ja) 2010-12-17 2014-01-08 株式会社日本触媒 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子
CN105754367A (zh) * 2011-10-14 2016-07-13 Jsr株式会社 固体摄影装置用滤光器及使用该滤光器的固体摄影装置及照相机模块
JP6017805B2 (ja) * 2012-03-13 2016-11-02 株式会社日本触媒 光選択透過フィルター、紫光吸収シート及び固体撮像素子

Also Published As

Publication number Publication date
US20150285971A1 (en) 2015-10-08
CN104364681B (zh) 2017-05-24
TWI633341B (zh) 2018-08-21
WO2014002864A1 (ja) 2014-01-03
CN104364681A (zh) 2015-02-18
JPWO2014002864A1 (ja) 2016-05-30
KR20150023375A (ko) 2015-03-05
TW201409091A (zh) 2014-03-01
KR101983742B1 (ko) 2019-05-29
US9746595B2 (en) 2017-08-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6256335B2 (ja) 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途
JP6508247B2 (ja) 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール
JP6252611B2 (ja) 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置
JP6627864B2 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP5884953B2 (ja) 光学フィルター、固体撮像装置およびカメラモジュール
JP6358114B2 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP6380390B2 (ja) 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
JP7405228B2 (ja) 光学フィルター用樹脂組成物、光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器
JP6578718B2 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2015022892A1 (ja) 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
WO2017164024A1 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2014192715A1 (ja) 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
JPWO2018043564A1 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP2015040895A (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP6642313B2 (ja) 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
WO2019022069A1 (ja) 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置
WO2015025779A1 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP6693585B2 (ja) 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
JP2015004838A (ja) 固体撮像装置用近赤外線カットフィルターならびに前記フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160307

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160906

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161003

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170404

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170515

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171120

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6256335

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R157 Certificate of patent or utility model (correction)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R157

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250