JP6256335B2 - 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 - Google Patents
固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6256335B2 JP6256335B2 JP2014522576A JP2014522576A JP6256335B2 JP 6256335 B2 JP6256335 B2 JP 6256335B2 JP 2014522576 A JP2014522576 A JP 2014522576A JP 2014522576 A JP2014522576 A JP 2014522576A JP 6256335 B2 JP6256335 B2 JP 6256335B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- optical filter
- group
- compound
- solid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 101
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 37
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 145
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 145
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 99
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 68
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 34
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 32
- -1 polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 31
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 9
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 9
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 6
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 6
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 6
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 5
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 5
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 claims description 5
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 4
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 claims description 3
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 3
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 3
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 61
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 26
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 25
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 18
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 16
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 11
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 11
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 11
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 11
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical class ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 10
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 10
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 5
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 5
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 3
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N benzopyrrole Natural products C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical class [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 101150059062 apln gene Proteins 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 2
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- WLTSXAIICPDFKI-FNORWQNLSA-N (E)-3-dodecene Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CC WLTSXAIICPDFKI-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNBRIFIJRKJGEI-UHFFFAOYSA-N 2,6-difluorobenzonitrile Chemical compound FC1=CC=CC(F)=C1C#N BNBRIFIJRKJGEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJMPOXUWPWEILS-UHFFFAOYSA-N 3a,4,4a,7a,8,8a-hexahydrofuro[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1C2C(=O)OC(=O)C2CC2C(=O)OC(=O)C21 LJMPOXUWPWEILS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRKRGYRYEQYTOH-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC1CNC(=O)C1 YRKRGYRYEQYTOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 9,9-bis(4-hydroxyphenyl)fluorene Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YWFPGFJLYRKYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCTOWEAPQVVELZ-UHFFFAOYSA-L [F-].[F-].F.F.F.F.[Na+].[Na+] Chemical compound [F-].[F-].F.F.F.F.[Na+].[Na+] BCTOWEAPQVVELZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- JKOSHCYVZPCHSJ-UHFFFAOYSA-N benzene;toluene Chemical compound C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1.CC1=CC=CC=C1 JKOSHCYVZPCHSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.O=C1CCCCC1 JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000010101 extrusion blow moulding Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000000869 ion-assisted deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K trifluorolanthanum Chemical compound F[La](F)F BYMUNNMMXKDFEZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical class Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/283—Interference filters designed for the ultraviolet
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B11/00—Filters or other obturators specially adapted for photographic purposes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14621—Colour filter arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
- H04N23/55—Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明に係る固体撮像素子用光学フィルター(以下単に「本発明の光学フィルター」ともいう。)は、波長300〜420nmに吸収極大を持つ化合物(X)および波長600〜800nmに吸収極大を持つ化合物(Y)を含有する透明樹脂製基板と、該基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜とを有する。前記化合物(X)と前記化合物(Y)は、透明樹脂製基板のうち同一の層に含まれていても別々の層に含まれていてもよい。同一の層に含まれる場合は、例えば、前記化合物(X)と前記化合物(Y)がともに同一の透明樹脂製基板中に含まれる形態を挙げることができ、別々の層に含まれる場合は、例えば、前記化合物(Y)が含まれる透明樹脂製基板上に前記化合物(X)が含まれる層が積層されている形態を挙げることができる。前記化合物(X)と前記化合物(Y)は、同一の層に含まれている方がより好ましく、このような場合、別々の層に含まれる場合よりも前記化合物(X)と前記化合物(Y)の含有量を制御することがより容易となる。
本発明の光学フィルターを構成する透明樹脂製基板(以下「樹脂製基板」ともいう。)は、透明樹脂、前記化合物(X)および前記化合物(Y)を含有し、近紫外線および近赤外線を選択的に効率よくカットすることができる。
本発明で用いられる、波長300〜420nmに吸収極大を持つ化合物(X)は、一般的に近紫外線吸収剤と称され、前記波長範囲に2つ以上の吸収極大を持っていてもよい。このような化合物(X)としては、特に限定されるものではないが、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
前記アゾメチン系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(1)で表すことができる。
前記インドール系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(2)で表すことができる。
前記ベンゾトリアゾール系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(3)で表すことができる。
前記トリアジン系化合物は、特に限定されるものではないが、例えば下記式(4)、(5)または(6)で表すことができる。
本発明で用いられる、波長600〜800nm、好ましくは波長620〜780nm、特に好ましくは波長650〜750nmの範囲に吸収極大を持つ化合物(Y)は、一般的に近赤外線吸収色素と称され、前記波長範囲に2つ以上の吸収極大を持っていてもよい。このような化合物(Y)としては、特に限定されるものではないが、例えば、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物およびシアニン系化合物などが挙げられる。化合物(Y)を用いることで、近紫外波長領域に加え、近赤外波長領域においても光学フィルターの入射角依存性を改良することができ、視野角度の広い光学フィルターを得ることができる。
スクアリリウム系化合物としては、式(I)で表されるスクアリリウム系化合物および式(II)で表されるスクアリリウム系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。以下、それぞれ「化合物(I)」および「化合物(II)」ともいう。
複数あるRaは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、−L1または−NReRf基を表す。ReおよびRfは、それぞれ独立に水素原子、−La、−Lb、−Lc、−Ldまたは−Leを表す。
(La)置換基Lを有してもよい炭素数1〜9の脂肪族炭化水素基、
(Lb)置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のハロゲン置換アルキル基、
(Lc)置換基Lを有してもよい炭素数3〜14の脂環式炭化水素基、
(Ld)置換基Lを有してもよい炭素数6〜14の芳香族炭化水素基、
(Le)置換基Lを有してもよい炭素数3〜14の複素環基、
(Lf)置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のアルコキシ基、
(Lg)置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のアシル基、または
(Lh)置換基Lを有してもよい炭素数1〜9のアルコキシカルボニル基
を表す。
1つのベンゼン環上の2つのRaのうちの少なくとも1つが、同じベンゼン環上のYと相互に結合して、窒素原子を少なくとも1つ含む構成原子数5または6の複素環を形成し、前記複素環は置換基を有していてもよく、Rbおよび前記複素環の形成に関与しないRaは、それぞれ独立に前記(i)のRbおよびRaと同義である。
前記フタロシアニン系化合物としては、特に構造は限定されないが、例えば、下記式(III)で表される化合物が挙げられる。
複数あるRa、Rb、RcおよびRdは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3、−N=N−L4を表す。または、複数あるRa、Rb、RcおよびRdは、RaとRb、RbとRcおよびRcとRdのうち少なくとも1つの組み合わせが結合した、下記式(A)〜(H)で表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表す。ただし、同じ芳香環に結合したRa、Rb、RcおよびRdのうち少なくとも1つが水素原子ではない。
L1は前記式(I)において定義したL1と同義であり、
L2は、水素原子または前記式(I)において定義したLa〜Leのいずれかを表し、
L3は、水酸基または前記La〜Leのいずれかを表し、
L4は、前記La〜Leのいずれかを表す。
複数あるRA〜RLは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3、−N=N−L4を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Lを有してもよく、L1〜L4は前記式(III)において定義したL1〜L4と同義である。
前記ナフタロシアニン系化合物としては、特に構造は限定されないが、例えば、下記式(IV)で表される化合物が挙げられる。
前記シアニン系化合物としては、特に構造は限定されないが、例えば、下記式(V−1)〜(V−3) で表される化合物が挙げられる。
複数あるDは、独立に炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、
複数あるRa、Rb、Rc、Rd、Re、Rf、Rg、RhおよびRiは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3、−N=N−L4、または、RbとRc、RdとRe、ReとRf、RfとRg、RgとRhおよびRhとRiのうち少なくとも1つの組み合わせが結合した、下記式(A)〜(H)で表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式(I)において定義した置換基Lを有してもよく、
L1は、前記式(I)において定義したL1と同義であり、
L2は、水素原子または前記式(I)において定義したLa〜Leのいずれかを表し、
L3は、水素原子または前記La〜Leのいずれかを表し、
L4は、前記La〜Leのいずれかを表し、
Za〜ZdおよびYa〜Ydは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3、−N=N−L4(L1〜L4は、前記Ra〜RiにおけるL1〜L4と同義である。)、あるいは、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含んでもよい5乃至6員環の脂環式炭化水素基、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、炭素数6〜14の芳香族炭化水素基、または、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成され、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含む、炭素数3〜14の複素芳香族炭化水素基を表し、これらの脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数1〜9の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。
複数あるRA〜RLは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、−L1、−S−L2、−SS−L2、−SO2−L3または−N=N−L4(L1〜L4は、前記式(V−1)〜(V−3)において定義したL1〜L4と同義である。)を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Lを有してもよい。
本発明では、前記化合物(X)および前記化合物(Y)に加え、その他の色素として波長800nm超1300nm以下に吸収極大を持つ色素(Z)を用いることができる。このような色素(Z)としては、特に限定されるものではないが、例えばフタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、クロコニウム系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物およびポルフィリン系化合物などが挙げられる。これらの色素は、例えば、特開2006−284756号公報、特開2008−303130号公報、特許第4919629号公報、特許第4083730号公報に例示されているものを使用することができる。色素(Z)の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に限定されないが、樹脂製基板を構成する樹脂100重量部に対して、好ましくは0.01〜10.0重量部である。色素(Z)を用いることで、波長800nm以降の長波長域における吸収特性がさらに良好な光学フィルターを得ることができ、良好なカメラ画質を達成することができる。
前記樹脂製基板において、前記化合物(X)の含有量は、樹脂製基板を構成する樹脂100重量部に対して、好ましくは0.006〜3.0重量部、より好ましくは0.02〜2.5重量部、特に好ましくは0.05〜2.0重量部である。前記化合物(Y)の含有量は、樹脂製基板を構成する樹脂100重量部に対して、好ましくは0.004〜2.0重量部、より好ましくは0.01〜1.5重量部、特に好ましくは0.02〜1.0重量部である。前記化合物(X)と前記化合物(Y)の含有量が前記範囲内にあると、それぞれの吸収波長域において良好な吸収特性と高い可視光透過率とを両立させることができる。
前記樹脂製基板に用いられる透明樹脂としては、本発明の効果を損なわないものである限り特に制限されないが、例えば、熱安定性およびフィルムへの成形性を確保し、かつ、100℃以上の蒸着温度で行う高温蒸着により誘電体多層膜を形成しうるフィルムとするため、ガラス転移温度(Tg)が、好ましくは110〜380℃、より好ましくは110〜370℃、さらに好ましくは120〜360℃である透明樹脂が挙げられる。また、透明樹脂のガラス転移温度が140℃以上であると、誘電体多層膜をより高温で蒸着形成し得るフィルムが得られるため、特に好ましい。
前記環状オレフィン系樹脂としては、下記式(13)で表される単量体および下記式(14)で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも1つの単量体から得られる樹脂、または必要に応じてさらに前記で得られた樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
(i')水素原子
(ii')ハロゲン原子
(iii')トリアルキルシリル基
(iv')酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数1〜30の炭化水素基
(v')置換または非置換の炭素数1〜30の炭化水素基
(vi')極性基(但し(iv')を除く)
(vii')Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に前記(i')〜(vi')より選ばれる原子または基を表す。
(viii')Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、結合している炭素原子とともに相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に前記(i')〜(vi')より選ばれる原子または基を表す。
(ix’)Rx2とRx3とが、結合している炭素原子とともに相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環を表し、該結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に前記(i')〜(vi')より選ばれる原子または基を表す。
(x')Ry1とRy2とが、相互に結合して形成された単環または多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素または複素環を表す。
前記芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式(15)で表される構造単位および下記式(16)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの構造単位を有することが好ましい。
ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば特開2006−199945号公報や特開2008−163107号公報に記載されている方法で合成することができる。
フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば特開2008−163194号公報に記載されている方法で合成することができる。
フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば特開2010−285505号公報や特開2011−197450号公報に記載されている方法で合成することができる。
フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、少なくとも1つのフッ素を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも1つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであればよく、例えば特開2008−181121号公報に記載されている方法で合成することができる。
透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状オレフィン系樹脂の市販品としては、JSR株式会社製アートン、日本ゼオン株式会社製ゼオノア、三井化学株式会社製APEL、ポリプラスチックス株式会社製TOPASなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学株式会社製スミカエクセルPESなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学株式会社製ネオプリムLなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人株式会社製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学株式会社製ユピゼータEP−5000などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル株式会社製OKP4HTなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、株式会社日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂の市販品としては、新日鐵化学株式会社製シルプラスなどを挙げることができる。
前記樹脂製基板は、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに、酸化防止剤、金属錯体系化合物等の添加剤を含有してもよい。また、後述するキャスト成形により樹脂製基板を製造する場合には、レベリング剤や消泡剤を添加することで樹脂製基板の製造を容易にすることができる。これらその他成分は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記樹脂製基板は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができる。
前記樹脂製基板は、樹脂、化合物(X)および化合物(Y)等を溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法;樹脂、化合物(X)および化合物(Y)等を含有する樹脂組成物を溶融成形する方法;または、樹脂、化合物(X)、化合物(Y)および溶媒等を含む樹脂組成物から溶媒を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などにより製造することができる。溶融成形方法としては、例えば、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
前記樹脂製基板は、樹脂、化合物(X)、化合物(Y)および溶媒等を含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングして溶媒を除去する方法;反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤、化合物(X)、化合物(Y)ならびに樹脂等を含む樹脂組成物を適当な基材の上にキャスティングする方法;または、反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤、化合物(X)、化合物(Y)ならびに樹脂等を含む硬化性組成物を適当な基材の上にキャスティングして硬化および乾燥させる方法などにより製造することもできる。前記溶媒としては、前記「(A)溶融成形」で例示した溶媒と同様のものを用いることができる。
本発明の光学フィルターは、前記樹脂製基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜を有する。
本発明の光学フィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、樹脂製基板と誘電体多層膜等の近赤外線反射膜との間、樹脂製基板の近赤外線反射膜が設けられた面と反対側の面、または近赤外線反射膜の樹脂製基板が設けられた面と反対側の面に、樹脂製基板や近赤外線反射膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜および帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
本発明の光学フィルターは、透過率特性に優れ、使用する際に制約を受けない。上述した化合物(X)と化合物(Y)を使用することで、入射角依存性が少なく、高い可視光透過率と紫色や青色の不鮮明な画像の低減効果を併せ持つ固体撮像素子用光学フィルターを得ることができる。
本発明の光学フィルターは、視野角が広く、優れた近紫外線カット能および近赤外線カット能等を有する。したがって、カメラモジュールのCCDやCMOSイメージセンサーなどの固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、PCカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビ、携帯情報端末、パソコン、ビデオゲーム、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。
本発明の固体撮像装置は、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とは、CCDやCMOSイメージセンサーなどといった固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラなどの用途に用いることができる。
本発明のカメラモジュールは、本発明の光学フィルターを具備する。ここで、本発明の光学フィルターをカメラモジュールに用いる場合について具体的に説明する。図2に、カメラモジュールの断面概略図を示す。
樹脂の分子量は、各樹脂の溶媒への溶解性等を考慮し、下記の(a)または(b)の方法にて測定を行った。
(a)ウオターズ(WATERS)社製のゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー(GPC)装置(150C型、カラム:東ソー社製Hタイプカラム、展開溶媒:o−ジクロロベンゼン)を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定した。
(b)東ソー社製GPC装置(HLC−8220型、カラム:TSKgelα―M、展開溶媒:THF)を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定した。
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計(DSC6200)を用いて、昇温速度:毎分20℃、窒素気流下で測定した。
吸収極大、各波長域における透過率、および最大値(U)は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計(U−4100)を用いて測定した。
下記実施例で用いた化合物(X)、化合物(Y)およびその他の色素(Z)は、一般的に知られている方法で合成することができ、例えば、特許第3366697号公報、特許第2846091号公報、特許第2864475号公報、特許第3703869号公報、特開昭60−228448号公報、特開平1−146846号公報、特開平1−228960号公報、特許第4081149号公報、特開昭63−124054号公報、「フタロシアニン −化学と機能―」(アイピーシー、1997年)、特開2007−169315号公報、特開2009−108267号公報、特開2010−241873号公報、特許第3699464号公報、特許第4740631号公報などに記載されている方法を参照して合成することができる。
下記式(19)で表される8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(以下「DNM」ともいう。)100部と、1−ヘキセン(分子量調節剤)18部と、トルエン(開環重合反応用溶媒)300部とを、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を80℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液(0.6mol/リットル)0.2部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液(濃度0.025mol/リットル)0.9部とを添加し、この溶液を80℃で3時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は97%であった。
3Lの4つ口フラスコに2,6−ジフルオロベンゾニトリル35.12g(0.253mol)、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン87.60g(0.250mol)、炭酸カリウム41.46g(0.300mol)、N,N−ジメチルアセトアミド(以下「DMAc」ともいう。)443gおよびトルエン111gを添加した。続いて、4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた500mLの5つ口フラスコに、窒素気流下、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル10.0重量部(0.05モル)を、溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン85重量部に溶解させた後、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物11.2重量部(0.05モル)を室温にて固体のまま1時間かけて分割投入し、室温下2時間撹拌した。
容器に、樹脂合成例1で得られた樹脂A100重量部、下記式(20)で表されるトリアジン化合物(吸収極大波長;約355〜365nm)0.40重量部、下記式(21)で表されるシアニン化合物(吸収極大波長;約680〜690nm)0.05重量部および塩化メチレンを加え、樹脂濃度が20重量%の溶液(ex1)を調製した。
実施例1で得られた、厚さ0.1mm、縦60mm、横60mmの基板の片面に、蒸着温度100℃で、近赤外線を反射する多層蒸着膜〔シリカ(SiO2:膜厚120〜190nm)層とチタニア(TiO2:膜厚70〜120nm)層とが交互に積層されてなるもの,積層数40〕を形成し、厚さ0.104mmの光学フィルターを製造して評価した。結果を表2に示す。
表1に示す樹脂、溶媒、色素およびフィルム乾燥条件を採用したこと以外は、実施例1と同様にして、厚さ0.105mmの光学フィルターを製造した。光学フィルターの製造条件を表1に、評価結果を表2に示す。なお、表1において、樹脂の添加部数はいずれも100重量部であり、実施例17以外の実施例および比較例における樹脂溶液の樹脂濃度は20重量%であり、実施例17における樹脂溶液の樹脂濃度は18重量%である。実施例および比較例で使用した樹脂A〜J、溶媒(1)〜(4)および色素(20)〜(28)は下記の通りである。
樹脂A:樹脂合成例1で得られた樹脂A
樹脂B:樹脂合成例2で得られた樹脂B
樹脂C:樹脂合成例3で得られたポリイミド溶液C
樹脂D:日本ゼオン株式会社製の環状オレフィン系樹脂「ゼオノア 1420R」
樹脂E:三井化学株式会社製の環状オレフィン系樹脂「APEL #6015」
樹脂F:帝人株式会社製のポリカーボネート樹脂「ピュアエース」
樹脂G:住友ベークライト株式会社製のポリエーテルサルホン樹脂「スミライトFS−1300」
樹脂H:大阪ガスケミカル株式会社製のフルオレン系ポリエステル樹脂「OKP4」
樹脂I:株式会社日本触媒製のアクリル樹脂「アクリビュア」
樹脂J:三菱ガス化学株式会社製のポリカーボネート樹脂「ユピゼータ EP−5000」
<溶媒>
溶媒(1):塩化メチレン
溶媒(2):N−メチル−2−ピロリドン
溶媒(3):シクロヘキサンとキシレンの7:3(重量比)混合溶液
溶媒(4):シクロヘキサンと塩化メチレンの99:1(重量比)混合溶液
<色素>
表1において、(X)は上記化合物(X)を意味し、(Y)は上記化合物(Y)を意味し、(Z)は上記色素(Z)を意味し、(Z’)は(X)〜(Z)以外の色素を意味する。
色素(21):上記式(21)で表されるシアニン化合物(吸収極大波長;約680〜690nm)
色素(22):下記式(22)で表されるアゾメチン化合物(吸収極大波長;約375〜385nm)
条件(2):60℃/4hr→80℃/4hr→減圧下 120℃/8hr
条件(3):60℃/8hr→80℃/8hr→減圧下 100℃/24hr
条件(4):40℃/4hr→60℃/4hr→減圧下 100℃/8hr
2 :レンズ鏡筒
3 :フレキシブル基板
4 :中空パッケージ
5 :レンズ
6 :(固体撮像素子用)光学フィルター
6’:本発明の固体撮像素子用光学フィルター
7 :(CCDまたはCMOS)イメージセンサー
8 :光学フィルター
9 :分光光度計
10:垂直方向(0度)から測定した時の透過率
11:垂直方向に対して30度から測定した時の透過率
12:波長(H)
13:波長(H)の前後20nmの波長領域
14:最大値(U)
A :近紫外光
B :レンズからの反射光
C :光
Claims (8)
- 波長340〜420nmに吸収極大を持つ化合物(X)および波長600〜800nmに吸収極大を持つ化合物(Y)を含有する透明樹脂製基板と、該基板の少なくとも片方の面に近赤外線反射膜とを有する固体撮像素子用光学フィルターであって、
光学フィルターの垂直方向から測定した場合に300〜450nmの波長領域で透過率が50%となる最も長波長側の波長(H)の前後20nmの波長領域の各波長における透過率と、前記波長領域において光学フィルターの垂直方向に対して30度の角度から測定した場合の各波長における透過率との差の絶対値の最大値(U)が、20%未満であることを特徴とする固体撮像素子用光学フィルター。 - 前記最大値(U)が15%未満であることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
- 前記化合物(X)が、アゾメチン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
- 前記基板を構成する透明樹脂の含有量100重量部に対して、前記化合物(X)の含有量が0.006〜3.0重量部であり、且つ、前記化合物(Y)の含有量が0.004〜2.0重量部であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
- 前記基板を構成する透明樹脂が、環状オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂である請求項1〜4のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
- 固体撮像装置用であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルター。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルターを具備することを特徴とする固体撮像装置。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の固体撮像素子用光学フィルターを具備することを特徴とするカメラモジュール。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012141770 | 2012-06-25 | ||
JP2012141770 | 2012-06-25 | ||
PCT/JP2013/066936 WO2014002864A1 (ja) | 2012-06-25 | 2013-06-20 | 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014002864A1 JPWO2014002864A1 (ja) | 2016-05-30 |
JP6256335B2 true JP6256335B2 (ja) | 2018-01-10 |
Family
ID=49783022
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014522576A Active JP6256335B2 (ja) | 2012-06-25 | 2013-06-20 | 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9746595B2 (ja) |
JP (1) | JP6256335B2 (ja) |
KR (1) | KR101983742B1 (ja) |
CN (1) | CN104364681B (ja) |
TW (1) | TWI633341B (ja) |
WO (1) | WO2014002864A1 (ja) |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014126642A (ja) * | 2012-12-26 | 2014-07-07 | Adeka Corp | 波長カットフィルタ |
KR101611807B1 (ko) | 2013-12-26 | 2016-04-11 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 |
JP6334964B2 (ja) * | 2014-03-11 | 2018-05-30 | Jsr株式会社 | 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
WO2016043166A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ |
JP6530968B2 (ja) * | 2014-09-29 | 2019-06-12 | 株式会社日本触媒 | 近赤外線カットフィルター |
JP2016102862A (ja) * | 2014-11-27 | 2016-06-02 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルター、固体撮像装置、カメラモジュールおよび組成物 |
CN106062591B (zh) | 2015-01-14 | 2018-10-09 | Agc株式会社 | 近红外线截止滤波器和固体摄像装置 |
WO2016114363A1 (ja) | 2015-01-14 | 2016-07-21 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
JP6629508B2 (ja) * | 2015-01-30 | 2020-01-15 | 株式会社日本触媒 | 赤外線吸収フィルター |
CN106104319B (zh) | 2015-02-18 | 2018-12-07 | Agc株式会社 | 光学滤波器和摄像装置 |
JP2016162946A (ja) * | 2015-03-04 | 2016-09-05 | Jsr株式会社 | 固体撮像装置 |
JP6627864B2 (ja) * | 2015-03-27 | 2020-01-08 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
JP6202229B2 (ja) | 2015-04-23 | 2017-09-27 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
WO2017051867A1 (ja) | 2015-09-25 | 2017-03-30 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
WO2017094672A1 (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、環境光センサーおよびセンサーモジュール |
JP6202230B1 (ja) | 2015-12-01 | 2017-09-27 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
JP6630161B2 (ja) * | 2016-01-21 | 2020-01-15 | 株式会社日本触媒 | 光選択透過フィルターおよびその製造方法 |
US10353117B2 (en) * | 2016-01-25 | 2019-07-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical element and method for producing the same |
JP6787347B2 (ja) | 2016-02-02 | 2020-11-18 | Agc株式会社 | 近赤外線吸収色素、光学フィルタおよび撮像装置 |
KR20180024186A (ko) * | 2016-08-29 | 2018-03-08 | 주식회사 엘엠에스 | 카메라 모듈에 포함되는 근적외선 컷-오프 필터용 광학물품 및 이를 포함하는 카메라 모듈용 근적외선 컷-오프 필터 |
KR101765559B1 (ko) | 2016-09-27 | 2017-08-07 | 이대희 | 노루궁뎅이버섯을 포함하는 프로바이오틱스 조성물 |
KR101866104B1 (ko) * | 2016-12-29 | 2018-06-08 | 주식회사 엘엠에스 | 카메라 모듈에 포함되는 근적외선 컷-오프 필터용 광학물품 및 이를 포함하는 카메라 모듈용 근적외선 컷-오프 필터 |
CN108693584B (zh) * | 2017-04-05 | 2022-12-30 | Jsr株式会社 | 光学滤光片及使用光学滤光片的固体摄像装置 |
CN110622044A (zh) | 2017-05-19 | 2019-12-27 | 三井化学株式会社 | 聚碳酸酯树脂透镜及聚碳酸酯树脂组合物 |
JP7071662B2 (ja) * | 2017-07-26 | 2022-05-19 | Jsr株式会社 | 赤外線透過膜形成用組成物、赤外線透過膜の形成方法、表示装置用保護板、及び表示装置 |
JP7035381B2 (ja) * | 2017-08-30 | 2022-03-15 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルム、画像表示装置又はタッチパネル |
KR102491491B1 (ko) * | 2017-09-08 | 2023-01-20 | 삼성전자주식회사 | 근적외선 흡수 필름용 조성물, 근적외선 흡수 필름, 카메라 모듈 및 전자 장치 |
KR102455527B1 (ko) | 2017-09-12 | 2022-10-14 | 삼성전자주식회사 | 근적외선 흡수 필름용 조성물, 근적외선 흡수 필름, 카메라 모듈 및 전자 장치 |
JP6955019B2 (ja) * | 2017-09-28 | 2021-10-27 | マクセル株式会社 | ヘッドアップディスプレイ装置 |
JP6273063B1 (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
JP7207395B2 (ja) * | 2018-02-27 | 2023-01-18 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
KR102673362B1 (ko) | 2018-03-27 | 2024-06-05 | 삼성전자주식회사 | 근적외선 흡수 필름, 광학 필터 및 전자 장치 |
WO2019202815A1 (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-24 | 株式会社Adeka | 化合物、光吸収剤、組成物及び光学フィルタ |
WO2020054786A1 (ja) * | 2018-09-12 | 2020-03-19 | Agc株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
JP7155855B2 (ja) * | 2018-10-18 | 2022-10-19 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
KR102113537B1 (ko) * | 2019-01-28 | 2020-05-21 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 발광 소자용 자외선 흡수 봉지재 및 이를 포함하는 발광 소자 |
KR20200121579A (ko) | 2019-04-16 | 2020-10-26 | 삼성전자주식회사 | 근적외선 흡수 조성물, 광학 구조체, 및 이를 포함하는 카메라 모듈 및 전자 장치 |
JP7251423B2 (ja) * | 2019-09-19 | 2023-04-04 | Jsr株式会社 | 光学部材及びカメラモジュール |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60228448A (ja) | 1984-04-27 | 1985-11-13 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | スクアリリウム化合物 |
JPH0654394B2 (ja) | 1986-11-14 | 1994-07-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 光導電性組成物 |
JPH07107030B2 (ja) | 1987-12-04 | 1995-11-15 | 富士ゼロックス株式会社 | 新規なスクアリリウム化合物及びその製造方法 |
JPH01228960A (ja) | 1988-03-09 | 1989-09-12 | Konica Corp | スクアリリウムの化合物 |
JP2864475B2 (ja) | 1989-04-14 | 1999-03-03 | ケミプロ化成株式会社 | 2―フェニルベンゾトリアゾール類の製造法 |
JP2846091B2 (ja) | 1990-09-25 | 1999-01-13 | オリヱント化学工業株式会社 | インドール系化合物およびその用途 |
JP3163813B2 (ja) | 1992-12-28 | 2001-05-08 | 日本ゼオン株式会社 | 近赤外線吸収樹脂組成物、および成形品 |
JP3366697B2 (ja) | 1993-08-27 | 2003-01-14 | オリヱント化学工業株式会社 | 長波長紫外線吸収剤およびその製造方法 |
TW254936B (ja) | 1993-10-22 | 1995-08-21 | Ciba Geigy | |
JP4081149B2 (ja) | 1996-01-12 | 2008-04-23 | 山本化成株式会社 | フタロシアニン化合物を用いる湿式太陽電池 |
KR100444332B1 (ko) * | 1999-12-20 | 2004-08-16 | 도요 보세키 가부시키가이샤 | 적외선 흡수필터 |
WO2003005076A1 (en) | 2001-07-04 | 2003-01-16 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Diimonium salt compound, and near-infrared ray absorbing filter and optical information recording medium |
US6870687B2 (en) | 2001-12-12 | 2005-03-22 | Nikon Corporation | Optical system with wavelength selecting device |
WO2003062903A1 (fr) | 2002-01-21 | 2003-07-31 | Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Filtre optique et procede de production |
US7095009B2 (en) | 2002-05-21 | 2006-08-22 | 3M Innovative Properties Company | Photopic detector system and filter therefor |
KR20060008871A (ko) | 2003-04-08 | 2006-01-27 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 가시 파장 검출기 시스템 및 그를 위한 필터 |
JP4644423B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2011-03-02 | 富士フイルム株式会社 | カラー固体撮像素子及びこのカラー固体撮像素子を用いた固体撮像装置並びにデジタルカメラ |
JP2005345680A (ja) | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 光学フィルターおよび撮像装置 |
KR20070114139A (ko) * | 2005-02-16 | 2007-11-29 | 미쓰비시 가가꾸 폴리에스테르 필름 가부시키가이샤 | 근적외선 흡수 필터, 플라즈마 디스플레이용 광학 필터 및플라즈마 디스플레이 패널 |
JP4744892B2 (ja) | 2005-02-16 | 2011-08-10 | 三菱樹脂株式会社 | プラズマディスプレイパネル |
JP4740631B2 (ja) | 2005-04-18 | 2011-08-03 | 日本カーリット株式会社 | ジイモニウム塩化合物並びにこれを利用する近赤外線吸収色素および近赤外線遮断フィルター |
JP5140923B2 (ja) | 2005-12-19 | 2013-02-13 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | クロコニウム化合物 |
JP5051817B2 (ja) | 2006-06-21 | 2012-10-17 | Agcテクノグラス株式会社 | 視感度補正フィルタガラス及び視感度補正フィルタ |
JP4912061B2 (ja) | 2006-07-11 | 2012-04-04 | 日本カーリット株式会社 | 複合熱線遮蔽フィルム |
JP2008159856A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Bridgestone Corp | 太陽電池用封止膜及びこの封止膜を用いた太陽電池 |
JP2009108267A (ja) | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Fujifilm Corp | シアニン化合物およびそれを含んでなる近赤外線吸収組成物 |
US8514487B2 (en) | 2008-02-08 | 2013-08-20 | Google Inc. | Reducing flare in a lens having a dichroic filter |
JP2010097062A (ja) | 2008-10-17 | 2010-04-30 | Fujifilm Corp | 長波紫外線吸収積層体 |
CN101750654B (zh) * | 2008-11-28 | 2014-07-02 | Jsr株式会社 | 近红外线截止滤波器和使用近红外线截止滤波器的装置 |
JP5431001B2 (ja) | 2009-04-01 | 2014-03-05 | 株式会社Adeka | シアニン化合物及び該シアニン化合物を含有する光学フィルター |
JP5422269B2 (ja) * | 2009-06-23 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線吸収剤組成物及び樹脂組成物 |
WO2011071052A1 (ja) | 2009-12-07 | 2011-06-16 | 旭硝子株式会社 | 光学部材、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズ、およびそれらを用いた撮像・表示装置 |
JP5810604B2 (ja) | 2010-05-26 | 2015-11-11 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
JP2012014043A (ja) * | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Oji Paper Co Ltd | 光学用粘着剤、光学用粘着シート及び光学フィルタ |
KR101779640B1 (ko) | 2010-08-03 | 2017-09-18 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터 및 그것을 포함하는 촬상 장치 |
JP5615636B2 (ja) * | 2010-09-13 | 2014-10-29 | 倉敷レーザー株式会社 | 溶接治具 |
JP5383755B2 (ja) | 2010-12-17 | 2014-01-08 | 株式会社日本触媒 | 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子 |
CN105754367A (zh) * | 2011-10-14 | 2016-07-13 | Jsr株式会社 | 固体摄影装置用滤光器及使用该滤光器的固体摄影装置及照相机模块 |
JP6017805B2 (ja) * | 2012-03-13 | 2016-11-02 | 株式会社日本触媒 | 光選択透過フィルター、紫光吸収シート及び固体撮像素子 |
-
2013
- 2013-06-20 KR KR1020147034808A patent/KR101983742B1/ko active IP Right Grant
- 2013-06-20 CN CN201380030325.8A patent/CN104364681B/zh active Active
- 2013-06-20 JP JP2014522576A patent/JP6256335B2/ja active Active
- 2013-06-20 WO PCT/JP2013/066936 patent/WO2014002864A1/ja active Application Filing
- 2013-06-20 US US14/410,466 patent/US9746595B2/en active Active
- 2013-06-21 TW TW102122054A patent/TWI633341B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150285971A1 (en) | 2015-10-08 |
CN104364681B (zh) | 2017-05-24 |
TWI633341B (zh) | 2018-08-21 |
WO2014002864A1 (ja) | 2014-01-03 |
CN104364681A (zh) | 2015-02-18 |
JPWO2014002864A1 (ja) | 2016-05-30 |
KR20150023375A (ko) | 2015-03-05 |
TW201409091A (zh) | 2014-03-01 |
KR101983742B1 (ko) | 2019-05-29 |
US9746595B2 (en) | 2017-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6256335B2 (ja) | 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途 | |
JP6508247B2 (ja) | 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール | |
JP6252611B2 (ja) | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 | |
JP6627864B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP5884953B2 (ja) | 光学フィルター、固体撮像装置およびカメラモジュール | |
JP6358114B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP6380390B2 (ja) | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 | |
JP7405228B2 (ja) | 光学フィルター用樹脂組成物、光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器 | |
JP6578718B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
WO2015022892A1 (ja) | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 | |
WO2017164024A1 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
WO2014192715A1 (ja) | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 | |
JPWO2018043564A1 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP2015040895A (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP6642313B2 (ja) | 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
WO2019022069A1 (ja) | 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置 | |
WO2015025779A1 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP6693585B2 (ja) | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 | |
JP2015004838A (ja) | 固体撮像装置用近赤外線カットフィルターならびに前記フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160307 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160906 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161003 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170404 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170515 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171107 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171120 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6256335 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R157 | Certificate of patent or utility model (correction) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R157 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |