JPH05267149A - レジスト送液装置 - Google Patents
レジスト送液装置Info
- Publication number
- JPH05267149A JPH05267149A JP6412392A JP6412392A JPH05267149A JP H05267149 A JPH05267149 A JP H05267149A JP 6412392 A JP6412392 A JP 6412392A JP 6412392 A JP6412392 A JP 6412392A JP H05267149 A JPH05267149 A JP H05267149A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- container
- liquid
- feeder
- nitrogen
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レジスト塗布装置等におけるレジスト送液装
置の構造に関し、脈動が発生せず、且つ溶存窒素を連続
的に脱気することが可能なレジスト送液装置を提供する
ことを目的とする。 【構成】 圧気導入口1aと送液口1bとを備えたレジスト
容器１と、レジスト容器１からユースポイントに至る送
液路２と、送液路２中に挿入する脱気手段３及びフィル
タ４等で構成する。レジスト容器１内への窒素圧気の導
入によりレジストを圧送する。脱気手段３はメンブレン
チューブ3aとこれを包囲する真空容器3bからなり、メン
ブレンチューブ3aを通過するレジストから溶存窒素を連
続的に脱気する。
置の構造に関し、脈動が発生せず、且つ溶存窒素を連続
的に脱気することが可能なレジスト送液装置を提供する
ことを目的とする。 【構成】 圧気導入口1aと送液口1bとを備えたレジスト
容器１と、レジスト容器１からユースポイントに至る送
液路２と、送液路２中に挿入する脱気手段３及びフィル
タ４等で構成する。レジスト容器１内への窒素圧気の導
入によりレジストを圧送する。脱気手段３はメンブレン
チューブ3aとこれを包囲する真空容器3bからなり、メン
ブレンチューブ3aを通過するレジストから溶存窒素を連
続的に脱気する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレジスト塗布装置等にお
いてレジストをレジスト容器からユースポイントに送液
するレジスト送液装置の構造に関する。
いてレジストをレジスト容器からユースポイントに送液
するレジスト送液装置の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレジスト送液装置は、通常、ポン
プにより送液するものであり、レジスト容器、ポンプ、
送液路からなっていた。ポンプとしては発塵が少ないと
されるベローズポンプ又はダイヤフラムポンプが使用さ
れていた。又、レジスト中のパーティクルや気泡を除去
するために送液路にはフィルタが設けられていた。
プにより送液するものであり、レジスト容器、ポンプ、
送液路からなっていた。ポンプとしては発塵が少ないと
されるベローズポンプ又はダイヤフラムポンプが使用さ
れていた。又、レジスト中のパーティクルや気泡を除去
するために送液路にはフィルタが設けられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ベローズポ
ンプ又はダイヤフラムポンプによりレジストを送液する
と、脈動を生じる。レジスト塗布装置においてレジスト
の送液に脈動があると塗布膜厚の均一性を損なうことに
なり、塗布膜厚が不均一であると転写パターンの寸法精
度が低下する。又、フィルタが一旦捕捉したパーティク
ルや気泡（これらのサイズがフィルタのポアサイズ以下
のもの）が脈動のためにフィルタを通過することがあ
る。レジスト塗布膜にパーティクルや気泡が混入してい
ると転写パターンに欠陥を生じる。
ンプ又はダイヤフラムポンプによりレジストを送液する
と、脈動を生じる。レジスト塗布装置においてレジスト
の送液に脈動があると塗布膜厚の均一性を損なうことに
なり、塗布膜厚が不均一であると転写パターンの寸法精
度が低下する。又、フィルタが一旦捕捉したパーティク
ルや気泡（これらのサイズがフィルタのポアサイズ以下
のもの）が脈動のためにフィルタを通過することがあ
る。レジスト塗布膜にパーティクルや気泡が混入してい
ると転写パターンに欠陥を生じる。
【０００４】レジストの送液をポンプによらず、窒素の
圧気をレジスト容器に導入して圧送することが出来る
が、その場合は脈動はないものの、窒素がレジストに溶
け込み、この溶存窒素が後に気泡になる、という問題が
ある。レジストがフィルタを通過した後に気泡になれ
ば、塗布膜に気泡が付着することになる。
圧気をレジスト容器に導入して圧送することが出来る
が、その場合は脈動はないものの、窒素がレジストに溶
け込み、この溶存窒素が後に気泡になる、という問題が
ある。レジストがフィルタを通過した後に気泡になれ
ば、塗布膜に気泡が付着することになる。
【０００５】本発明はこのような問題を解決して、脈動
が発生せず、且つ溶存窒素を脱気することが可能なレジ
スト送液装置を提供することを目的とする。
が発生せず、且つ溶存窒素を脱気することが可能なレジ
スト送液装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的は、本発明によ
れば、圧気導入口と送液口とを備えたレジスト容器と該
レジスト容器からユースポイントに至る送液路とを有
し、該送液路はメンブレンチューブと該メンブレンチュ
ーブを包囲する真空容器からなる脱気手段を備えてお
り、該レジスト容器内への圧気の導入によりレジストを
圧送し、送液中のレジストから該脱気手段が溶存ガスを
連続的に脱気するように構成したことを特徴とするレジ
スト送液装置とすることで、達成される。
れば、圧気導入口と送液口とを備えたレジスト容器と該
レジスト容器からユースポイントに至る送液路とを有
し、該送液路はメンブレンチューブと該メンブレンチュ
ーブを包囲する真空容器からなる脱気手段を備えてお
り、該レジスト容器内への圧気の導入によりレジストを
圧送し、送液中のレジストから該脱気手段が溶存ガスを
連続的に脱気するように構成したことを特徴とするレジ
スト送液装置とすることで、達成される。
【０００７】
【作用】本発明のレジスト送液装置では、ポンプを持た
ないから可動部分からの発塵はなく、又、脈動も発生し
ない。レジスト容器に窒素の圧気を導入することにより
レジストを圧送する方式であるため、レジスト中に窒素
が溶け込むが、これは送液路で送液中、脱気手段を通過
する際に除去されるから、溶存窒素に起因する問題は生
じない。
ないから可動部分からの発塵はなく、又、脈動も発生し
ない。レジスト容器に窒素の圧気を導入することにより
レジストを圧送する方式であるため、レジスト中に窒素
が溶け込むが、これは送液路で送液中、脱気手段を通過
する際に除去されるから、溶存窒素に起因する問題は生
じない。
【０００８】
【実施例】本発明の実施例を図１を参照しながら説明す
る。図１は本発明の実施例の説明図であり、レジスト塗
布装置におけるレジスト送液装置の構成の概略を示して
いる。レジスト塗布装置は基板（半導体ウェーハ等）上
にフォトレジスト、電子線レジスト等を回転塗布する装
置である。同図において、１はレジスト容器、２は送液
路、３は脱気手段、４はフィルタである。
る。図１は本発明の実施例の説明図であり、レジスト塗
布装置におけるレジスト送液装置の構成の概略を示して
いる。レジスト塗布装置は基板（半導体ウェーハ等）上
にフォトレジスト、電子線レジスト等を回転塗布する装
置である。同図において、１はレジスト容器、２は送液
路、３は脱気手段、４はフィルタである。
【０００９】レジスト容器１はガラス瓶、キャニスタ缶
等であり、レジストが収容されており、栓（又は蓋）部
には圧気導入口1aと送液口1bとを有している。圧気導入
口1aは圧縮窒素の供給源（図示は省略）に連通してい
る。送液路２はレジスト容器１（送液口1b）からユース
ポイント（レジストを基板６上に滴下するノズル５）に
至る配管であり、途中に脱気手段３と、その下流側にフ
ィルタ４が、それぞれ挿入されている。
等であり、レジストが収容されており、栓（又は蓋）部
には圧気導入口1aと送液口1bとを有している。圧気導入
口1aは圧縮窒素の供給源（図示は省略）に連通してい
る。送液路２はレジスト容器１（送液口1b）からユース
ポイント（レジストを基板６上に滴下するノズル５）に
至る配管であり、途中に脱気手段３と、その下流側にフ
ィルタ４が、それぞれ挿入されている。
【００１０】脱気手段３はメンブレンチューブ3aとこれ
を包囲する真空容器3b等からなり、真空容器3bは真空源
（図示は省略）に連通している。メンブレンチューブ3a
は気体透過性が大で且つ化学的に安定な弗素樹脂（ＰＴ
ＦＥ等）からなり、膜面積を増すために小口径チューブ
（例えば、内径０.5mm) 複数本を両端で束ねてある。フ
ィルタ４はメンブレンフィルタであり、レジスト中のパ
ーティクルや気泡を捕捉する。
を包囲する真空容器3b等からなり、真空容器3bは真空源
（図示は省略）に連通している。メンブレンチューブ3a
は気体透過性が大で且つ化学的に安定な弗素樹脂（ＰＴ
ＦＥ等）からなり、膜面積を増すために小口径チューブ
（例えば、内径０.5mm) 複数本を両端で束ねてある。フ
ィルタ４はメンブレンフィルタであり、レジスト中のパ
ーティクルや気泡を捕捉する。
【００１１】このレジスト送液装置では、清浄な窒素の
圧気を圧気導入口1aからレジスト容器１内に導入し、レ
ジスト容器１内のレジストを送液路２を介してユースポ
イントに圧送する。レジスト容器１内に導入された窒素
の一部はレジスト内に溶け込むが、この溶存窒素はレジ
ストが脱気手段３のメンブレンチューブ3aを通過する際
にその管壁を透過して排気される。その結果、基板上に
塗布されたレジスト膜に気泡を生じることはなかった。
圧気を圧気導入口1aからレジスト容器１内に導入し、レ
ジスト容器１内のレジストを送液路２を介してユースポ
イントに圧送する。レジスト容器１内に導入された窒素
の一部はレジスト内に溶け込むが、この溶存窒素はレジ
ストが脱気手段３のメンブレンチューブ3aを通過する際
にその管壁を透過して排気される。その結果、基板上に
塗布されたレジスト膜に気泡を生じることはなかった。
【００１２】本発明は以上の実施例に限定されることな
く、更に種々変形して実施することが出来る。例えば、
レジスト充填装置等、レジスト塗布装置以外におけるレ
ジスト送液装置に本発明を適用することが出来る。
く、更に種々変形して実施することが出来る。例えば、
レジスト充填装置等、レジスト塗布装置以外におけるレ
ジスト送液装置に本発明を適用することが出来る。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レジストは窒素の圧気により圧送され、しかも送液路に
は脱気手段が挿入されているから、脈動が発生せず、且
つ溶存窒素を脱気することが可能なレジスト送液装置を
提供することが出来、半導体装置製造等における歩留り
向上に寄与する。
レジストは窒素の圧気により圧送され、しかも送液路に
は脱気手段が挿入されているから、脈動が発生せず、且
つ溶存窒素を脱気することが可能なレジスト送液装置を
提供することが出来、半導体装置製造等における歩留り
向上に寄与する。
【図１】 本発明の実施例の説明図である。
１ レジスト容器 1a 圧気導入口 1b 送液口 ２ 送液路 ３ 脱気手段 3a メンブレンチューブ 3b 真空容器 ４ フィルタ ５ ノズル ６ 基板
Claims (1)
- 【請求項１】 圧気導入口(1a)と送液口(1b)とを備えた
レジスト容器(1) と該レジスト容器(1) からユースポイ
ントに至る送液路(2) とを有し、 該送液路(2) はメンブレンチューブ(3a)と該メンブレン
チューブ(3a)を包囲する真空容器(3b)からなる脱気手段
(3) を備えており、 該レジスト容器(1) 内への圧気の導入によりレジストを
圧送し、送液中のレジストから該脱気手段(3) が溶存ガ
スを連続的に脱気するように構成したことを特徴とする
レジスト送液装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6412392A JPH05267149A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | レジスト送液装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6412392A JPH05267149A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | レジスト送液装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05267149A true JPH05267149A (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=13248983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6412392A Withdrawn JPH05267149A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | レジスト送液装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05267149A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5788742A (en) * | 1995-12-11 | 1998-08-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for degassing processing solution for substrates |
| JP2000269129A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-29 | Huabang Electronic Co Ltd | フォトレジスト供給装置 |
| JP2002062667A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-02-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | 微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法 |
| JP2014082513A (ja) * | 2012-02-27 | 2014-05-08 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置及び液処理方法 |
| US9731226B2 (en) | 2012-02-27 | 2017-08-15 | Tokyo Electron Limited | Solution treatment apparatus and solution treatment method |
-
1992
- 1992-03-19 JP JP6412392A patent/JPH05267149A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5788742A (en) * | 1995-12-11 | 1998-08-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for degassing processing solution for substrates |
| JP2000269129A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-29 | Huabang Electronic Co Ltd | フォトレジスト供給装置 |
| JP2002062667A (ja) * | 2000-08-23 | 2002-02-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | 微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法 |
| JP2014082513A (ja) * | 2012-02-27 | 2014-05-08 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置及び液処理方法 |
| US9731226B2 (en) | 2012-02-27 | 2017-08-15 | Tokyo Electron Limited | Solution treatment apparatus and solution treatment method |
| US9878267B2 (en) | 2012-02-27 | 2018-01-30 | Tokyo Electron Limited | Solution treatment apparatus and solution treatment method |
| US10022652B2 (en) | 2012-02-27 | 2018-07-17 | Tokyo Electron Limited | Solution treatment apparatus and solution treatment method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990608 |