JP5874691B2 - 不活性気体供給設備 - Google Patents

不活性気体供給設備 Download PDF

Info

Publication number
JP5874691B2
JP5874691B2 JP2013134271A JP2013134271A JP5874691B2 JP 5874691 B2 JP5874691 B2 JP 5874691B2 JP 2013134271 A JP2013134271 A JP 2013134271A JP 2013134271 A JP2013134271 A JP 2013134271A JP 5874691 B2 JP5874691 B2 JP 5874691B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
control device
inert gas
gas supply
command
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013134271A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015012042A (ja
Inventor
武士 進
武士 進
西川　直
直 西川
正裕 高原
正裕 高原
俊人 上田
俊人 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daifuku Co Ltd
Original Assignee
Daifuku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daifuku Co Ltd filed Critical Daifuku Co Ltd
Priority to JP2013134271A priority Critical patent/JP5874691B2/ja
Priority to TW103116823A priority patent/TWI625813B/zh
Priority to KR1020140063032A priority patent/KR102204816B1/ko
Priority to SG10201402805UA priority patent/SG10201402805UA/en
Priority to US14/308,039 priority patent/US9822929B2/en
Priority to CN201410287358.7A priority patent/CN104253068B/zh
Publication of JP2015012042A publication Critical patent/JP2015012042A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5874691B2 publication Critical patent/JP5874691B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C5/00—Methods or apparatus for filling containers with liquefied, solidified, or compressed gases under pressures
    • F17C5/002—Automated filling apparatus
    • F17C5/007—Automated filling apparatus for individual gas tanks or containers, e.g. in vehicles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/08—Cleaning containers, e.g. tanks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735—Closed carriers
    • H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
    • H01L21/67393—Closed carriers characterised by atmosphere control characterised by the presence of atmosphere modifying elements inside or attached to the closed carrierl
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67769—Storage means
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2227/00—Transfer of fluids, i.e. method or means for transferring the fluid; Heat exchange with the fluid
    • F17C2227/04—Methods for emptying or filling
    • F17C2227/047—Methods for emptying or filling by repeating a process cycle
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2250/00—Accessories; Control means; Indicating, measuring or monitoring of parameters
    • F17C2250/03—Control means
    • F17C2250/034—Control means using wireless transmissions
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2250/00—Accessories; Control means; Indicating, measuring or monitoring of parameters
    • F17C2250/04—Indicating or measuring of parameters as input values
    • F17C2250/0404—Parameters indicated or measured
    • F17C2250/0443—Flow or movement of content
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2270/00—Applications
    • F17C2270/05—Applications for industrial use
    • F17C2270/0518—Semiconductors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
  • Warehouses Or Storage Devices (AREA)
  • Packages (AREA)
  • Pipeline Systems (AREA)

Description

本発明は、容器を収納自在な収納部と、前記収納部に収納されている前記容器の内部に不活性気体を供給する不活性気体供給部と、前記不活性気体供給部を制御する第１制御装置と、前記不活性気体の供給状態を規定した作動指令を前記第１制御装置に対して出力する第２制御装置と、を備えた不活性気体供給設備に関する。
かかる不活性気体供給設備として、容器内部に収容された収容物（例えば、半導体基板等）の汚損を防止すべく、容器内部に不活性気体（例えば、窒素等）を供給するパージ処理を行うものがある。
このような不活性気体供給設備では、新たに搬入された容器に対してパージ処理を開始した当初は、容器内部に存在する不活性気体以外の気体（例えば、水蒸気や酸素等）を可及的速やかに不活性気体に置換すべく、第２制御装置が、不活性気体の供給流量を所定流量より大きい初期パージ用の流量に規定する作動指令を第１制御装置に対して出力し、第１制御装置がその作動指令に基づいて不活性気体供給部を制御する。
また、第２制御装置は、上記の初期パージ用の流量によるパージ処理を所定時間継続することで容器内部の不活性気体が所定濃度となった後は、容器内の不活性気体の濃度を一定の濃度に維持すべく、不活性気体の供給流量を初期パージ用の流量より小さい保管パージ用の流量とする作動指令を第１制御装置に対して出力し、第１制御装置が、その作動指令に基づいて不活性気体供給部を制御する（例えば、特許文献１参照）。
特開２０１０−１６１９９号公報
上記特許文献１では、第２制御装置が不活性気体の供給流量を調整する作動指令を出力することになるが、例えば第２制御装置が故障したり、第２制御装置と第１制御装置との間の結線が断線する等の理由で、第２制御装置が不活性気体の供給流量を切換える作動指令を出力できなくなる場合があり得る。
特許文献１には記載されていないが、第１制御装置が、第２制御装置から出力される作動指令をトリガとして不活性気体供給部の供給流量の切換えを行い、次回の作動指令を受信するまでの間は前回の作動指令に基づいて不活性気体供給部を作動させるように構成する場合には、上記のように第２制御装置が作動指令を出力できなくなると、第１制御装置は、第２制御装置によって最後に出力された作動指令に基づいて不活性気体供給部を制御する状態を継続することになる。
例えば、不活性気体供給部の供給流量を大流量としている状態で第２制御装置から作動指令を出力できなくなった場合、その後、不活性気体の供給流量を小流量とすべきタイミングになったとしても、供給流量を切換えることができず、不活性気体を設備内に過剰に供給することになる。その為、空気中の不活性気体の濃度が上昇（あるいは、空気中の酸素濃度が相対的に低下）したり、高価な不活性気体を無駄に消費してしまう等の不都合が生じる恐れがある。
このような実情に鑑みれば、上位の制御装置が作動指令を出力できなくなった場合でも、容器への不活性気体の供給を継続できるものでありながら、不活性気体の供給流量を切換えられないことによる不都合を極力回避することができる不活性気体供給設備が求められる。
上記課題を解決するための本発明にかかる不活性気体供給設備は、容器を収納自在な収納部と、前記収納部に収納されている前記容器の内部に不活性気体を供給する不活性気体供給部と、前記不活性気体供給部を制御する第１制御装置と、前記不活性気体の供給状態を規定した作動指令を前記第１制御装置に対して出力する第２制御装置と、を備えた不活性気体供給設備であって、
前記第１制御装置は、前記第２制御装置が前記作動指令を出力不可能な状態となったことを判定する状態判定部と、予め定めた停止条件を満たすか否かを判定する条件判定部と、前記不活性気体供給部の作動を制御するための処理を実行する処理実行部と、を備え、前記処理実行部は、前記状態判定部により前記第２制御装置が前記作動指令を出力不可能な状態になったと判定された場合には、前記第２制御装置によって最後に出力された前記作動指令に基づいて前記不活性気体供給部を作動させる継続作動処理を実行し、前記処理実行部は、更に、前記継続作動処理の実行中に、前記条件判定部により前記停止条件を満たすと判定された場合には、前記継続作動処理を中止して前記不活性気体供給部を停止させる作動停止処理を実行する点にある。
すなわち、第２制御装置が作動指令を出力不可能な状態となった場合には、第１制御装置が、第２制御装置によって最後に出力された作動指令に基づいて不活性気体供給部を作動させるから、容器への不活性気体の供給を停止せずに継続することができる。このため、当該収容物内部に対して不活性気体を供給すべき場合に、不活性気体が収容物内部に供給されない事態を回避することができる。
しかしながら、例えば、容器が収納部から他の場所に移動された場合等、第２制御装置によって最後に出力された作動指令を継続することがその後不適切となる場合がある。そこで、上記のように不活性気体の供給を停止せずに継続している状態においても、停止条件を満たす場合には不活性気体供給部の作動を停止させることによって、第２制御装置が作動指令を出力不可能な状態となったのちに、継続することが不適切となった作動指令に基づいて不活性気体供給部を作動させる事態を回避することができる。
このように、上位の制御装置が作動指令を出力できなくなった場合でも、容器への不活性気体の供給を継続できるものでありながら、不活性気体の供給流量を切換えられないことによる不都合を極力回避することができる。
本発明に係る不活性気体供給設備の実施形態においては、前記収納部が複数設けられ、前記複数の収納部の夫々に、前記不活性気体供給部が各別に設けられ、前記第２制御装置は、前記複数の不活性気体供給部の夫々についての前記作動指令を出力し、前記第１制御装置は、前記複数の不活性気体供給部の夫々についての前記作動指令に基づいて、前記不活性気体供給部の夫々を各別に制御することが好ましい。
すなわち、第２制御装置は、複数の収納部の夫々に各別に設けられた不活性気体供給部ごとに作動指令を出力することができ、第１制御装置は、複数の不活性気体供給部の夫々についての作動指令に基づいて、不活性気体供給部の夫々を各別に制御することができる。
このため、複数の収納部の夫々に収納された容器に対して、異なる供給状態で不活性気体を供給することができる。
本発明に係る不活性気体供給設備の実施形態においては、前記収納部が、外部と区画された保管室の内部に設けられ、前記第１制御装置が、前記保管室内部の気体の特定成分の濃度を計測する濃度計測装置と通信自在に接続され、
前記停止条件が、前記濃度計測装置により計測した前記濃度が基準状態から外れていることであることが好ましい。
すなわち、保管室内部の気体の特定成分の濃度が基準状態から外れている場合には、継続作動処理を中止して不活性気体供給部を停止させることができる。
保管室内部の気体の特定成分の濃度が基準状態から外れている場合とは、例えば、保管室内部の不活性気体濃度が基準濃度よりも高くなった場合や、保管室内部の酸素濃度が基準濃度よりも低くなった場合が考えられる。このような場合、保管室内部に不活性気体を供給し続けることは適切ではないと考えられる。
そこで、保管室内部の気体の特定成分の濃度が基準状態から外れている場合には、継続作動処理を中止して不活性気体供給部を停止させることにより、より適切に運用することが可能な不活性気体供給設備を提供できる。
本発明に係る不活性気体供給設備の実施形態においては、前記収納部に、前記容器が収納されている在荷状態と前記容器が収納されていない非在荷状態とを検出する在荷状態検出装置が設けられ、前記第１制御装置が、前記在荷状態検出装置と通信自在に接続され、 前記停止条件が、前記在荷状態検出装置により非在荷状態を検出したことであることが好ましい。
すなわち、収納部に容器が収納されていないにも拘わらず不活性気体を供給すると、不活性気体を無駄に消費することになる。
そこで、在荷状態検出装置により非在荷状態を検出した場合には、継続作動処理を中止して不活性気体供給部を停止させることにより、収納部に容器が収納されていないにも拘わらず不活性気体を供給して、不活性気体が無駄に消費されることを抑制することができる。
本発明に係る不活性気体供給設備の実施形態においては、前記第１制御装置が、自己が故障しているか否かを判別する自己故障診断機能を備え、前記停止条件が、前記自己故障診断機能により故障と判別したことであることが好ましい。
すなわち、第１制御装置が、自己故障診断機能により自己が故障していると判別した場合には、不活性気体供給部を適切に制御できない虞がある。
そこで、自己故障診断機能により故障と判別した場合には、継続作動処理を中止して不活性気体供給部からの不活性気体の供給を停止させるようにしている。これにより、不活性気体供給部の制御を適切に行えないことによる不都合を回避することができる。
本発明に係る不活性気体供給設備の実施形態においては、前記不活性気体供給部が、前記収納部に収納された前記容器に供給する前記不活性気体の流量を調節する流量調節装置であり、前記流量制御装置に対して流量制御指令を出力して前記流量調節装置を制御する中間制御装置と、前記中間制御装置に対して上位指令を出力する上位制御装置とが設けられ、前記上位制御装置が、前記流量調節装置の作動状態を監視する監視部と、前記監視部により監視している前記流量調節装置の作動状態に基づいて、前記中間制御装置に対して前記上位指令を出力する指令出力部と、を備え、前記第１制御装置が前記中間制御装置であり、前記第２制御装置が前記上位制御装置であり、前記作動指令が前記上位指令であることが好ましい。
すなわち、上位制御装置が上位指令を指令できない状態となった場合でも、中間制御装置が、上位制御装置によって最後に出力された上位指令に基づいて流量調節装置を作動させるから、容器への不活性気体の供給を停止せずに継続することができる。
また、中間制御装置が、不活性気体の供給を停止せずに継続している状態においても、停止条件を満たす場合には、流量調節装置の作動を停止させる。これによって、上位制御装置が上位指令を出力できない状態となったのちに、最後に出力された上位指令に基づく流量調節装置の作動が不適切となった場合には、最後に指令された上位指令に基づく流量調節装置の作動を停止させることができる。
本発明に係る不活性気体供給設備の実施形態においては、前記不活性気体供給部が、前記収納部に収納された前記容器に供給する前記不活性気体の流量を調節する流量調節装置であり、前記流量制御装置に対して流量制御指令を出力して前記流量調節装置を制御する中間制御装置と、前記中間制御装置に対して上位指令を出力する上位制御装置とが設けられ、前記上位制御装置が、前記流量調節装置の作動状態を監視する監視部と、前記監視部により監視している前記流量調節装置の作動状態に基づいて、前記中間制御装置に対して前記上位指令を出力する指令出力部と、を備え、前記第１制御装置が前記流量調節装置であり、前記第２制御装置が前記中間制御装置であり、前記作動指令が前記流量制御指令であることが好ましい。
すなわち、中間制御装置が流量制御指令を指令できない状態となった場合でも、流量調節装置が、中間制御装置によって最後に出力された流量制御指令に基づいて不活性気体の流量を調節するから、容器への不活性気体の供給を停止せずに継続することができる。
また、中間制御装置が、不活性気体の供給を停止せずに継続している状態においても、停止条件を満たす場合には、流量調節装置の作動を停止させる。これによって、中間制御装置が流量制御指令を出力できない状態となったのちに、最後に出力された流量制御指令に基づく流量調節装置の作動が不適切となった場合は、最後に出力された流量制御指令に基づく流量調節装置の作動を停止させることができる。
不活性気体供給設備を説明する側面図 同設備の一部を示す縦断正面図 収納部の斜視図 収納部と容器との関係を示す概略構成図 複数の収納部への窒素ガスの供給形態を表す図 制御構成図 第１実施形態におけるプログラマブルロジックコントローラの構成を説明する図 パージパターン毎の目標流量と供給時間との挿嵌を示す図 第１実施形態においてプログラマブルロジックコントローラが実行する制御を説明するフローチャート 第２実施形態におけるマスフローコントローラの構成を説明する図 第２実施形態においてマスフローコントローラが実行する制御を説明するフローチャート
本発明の不活性気体供給設備の実施形態を図面に基づいて説明する。
〔第１実施形態〕
不活性気体供給設備は、図１及び図２に示すように、基板を密閉状態で収容する容器５０を保管する保管棚１０、搬送手段としてのスタッカークレーン２０、及び、容器５０の入出庫部としての入出庫コンベヤＣＶを備えている。
保管棚１０及びスタッカークレーン２０が、壁体Ｋにて外周部が覆われた設置空間内に配設され、入出庫コンベヤＣＶが、壁体Ｋを貫通する状態で配設されている。
保管棚１０は、容器５０を支持する収納部１０Ｓを、上下方向及び左右方向に並べる状態で複数備えて、収納部１０Ｓの夫々に容器５０を収納するように構成されている。
そして、本実施形態においては、図１に示すように、物品保管設備が設置されたクリーンルームの天井部に敷設のガイドレールに沿って走行するホイスト式の搬送車Ｄが装備されて、このホイスト式の搬送車Ｄによって、入出庫コンベヤＣＶに対して容器５０が搬入及び搬出されるように構成されている。
容器５０は、ＳＥＭＩ（Semiconductor Equipment and Materials Institute）規格に準拠した合成樹脂製の気密容器であり、基板としての半導体ウェハーＷ（図４参照）を収納するために用いられ、ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）と呼称されている。そして、詳細な説明は省略するが、容器５０の前面には、着脱自在な蓋体にて開閉される基板出入用の開口が形成され、容器５０の上面には、搬送車Ｄのチャック部により把持されるトップフランジ５２が形成され、そして、容器５０の底面には、位置決めピン１０ｂ（図３参照）が係合する３つの係合溝（図示せず）が形成されている。
容器５０は、図４に示すように、内部に上下方向に複数の半導体ウェハーＷを載置自在な基板支持体を備えたケーシング５１と、図示しない蓋体とから構成されている。容器５０は、ケーシング５３に蓋体を装着した状態においては、内部空間が密閉されるように構成されている。また、容器５０は、収納部１０Ｓに収納された状態においては、位置決めピン１０ｂによって位置決めされるように構成されている。
また、図４に示すように、容器５０の底部には、後述の如く、不活性気体としての窒素ガスを注入するために、給気口５０ｉ、及び、排気口５０ｏが設けられ、そして、図示は省略するが、給気口５０ｉには、注入側開閉弁が設けられ、また、排気口５０ｏには、排出側開閉弁が設けられている。
注入側開閉弁は、スプリング等の付勢手段によって閉方向に付勢されて、給気口５０ｉに供給される窒素ガスの吐出圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となると、その圧力によって開き操作されるように構成されている。
また、排出側開閉弁は、スプリング等の付勢手段によって閉方向に付勢されて、容器５０内部の圧力が大気圧よりも設定値高い設定開弁圧力以上となったときに開き操作されるように構成されている。
スタッカークレーン２０は、保管棚１０の前面側の床部に設けられた走行レールＲ１に沿って走行移動自在な走行台車２１と、その走行台車２１に立設されたマスト２２と、マスト２２に案内される状態で昇降移動自在な昇降台２４とを備えている。
また、マスト２２の上端に設けられた上部枠２３が、壁体Ｋにて外周部が覆われた設置空間の天井側に設けた上部ガイドレール（図示省略）に係合して移動するように構成されている。
昇降台２４には、収納部１０Ｓに対して容器５０を移載する移載装置２５が装備されている。
移載装置２５は、容器５０を載置支持する板状の載置支持体を、収納部１０Ｓの内部に突出する突出位置と昇降台２４側に引退した引退位置とに出退自在に備えて、載置支持体の出退作動及び昇降台２４の昇降作動により、載置支持体に載置した容器５０を収納部１０Ｓに卸す卸し処理、及び、収納部１０Ｓに収納されている容器５０を取出す掬い処理を行うように構成されている。
つまり、容器５０は、搬送車Ｄによって入出庫コンベヤＣＶ上に載置され、当該入出庫コンベヤＣＶによって壁体Ｋの外部から内部に搬送された後、スタッカークレーン２０によって複数の収納部１０Ｓのいずれかに搬送される。
スタッカークレーン２０には、図示はしないが、走行経路上の走行位置を検出する走行位置検出手段、及び、昇降台２４の昇降位置を検出する昇降位置検出手段が装備されており、スタッカークレーン２０の作動を制御するクレーンコントローラＨ３が、走行位置検出手段及び昇降位置検出手段の検出情報に基づいて、スタッカークレーン２０の作動を制御するように構成されている。
図３及び図４に示すように、複数の収納部１０Ｓの夫々は、容器５０を載置支持する板状の載置支持部１０ａを備えている。
この載置支持部１０ａは、移載装置２５の載置支持体が上下に通過する空間を形成すべく、平面視形状がＵ字状となるように形成され、そして、その上面には、上述の位置決めピン１０ｂが起立状態で装備されている。
また、載置支持部１０ａには、容器５０が載置されているか否か（つまり、容器５０が収納部１０Ｓに収納されているか否か）を検出する２個の在荷センサ１０ｚが設けられ、それらの検出情報は、プログラマブルロジックコントローラＰを介してマスフローコントローラ４０の作動状態を監視するパージコントローラＨ１に入力されるように構成されている。
載置支持部１０ａには、不活性気体としての窒素ガスを容器５０の内部に供給する吐出口としての吐出ノズル１０ｉと、容器５０の内部から排出される気体を通流する排出用通気体１０ｏが設けられている。そして、吐出ノズル１０ｉには、マスフローコントローラ４０からの窒素ガスを流動させる供給配管Ｌｉが接続され、排出用通気体１０ｏには、端部が開口された排出管Ｌｏが接続されている。
また、図１及び図２に示すように、平面視において各収納部１０Ｓ棚奥側、つまり、容器５０が出し入れされる開口に対向する端部側で、かつ、棚左右方向において容器５０の端部近傍となる位置に、窒素ガスの供給を制御するマスフローコントローラ４０が装備されている。
マスフローコントローラ４０は、収納部１０Ｓの夫々に対応して設けられている。
そして、容器５０が載置支持部１０ａに載置支持されると、吐出ノズル１０ｉが容器５０の給気口５０ｉに嵌合状態に接続され、かつ、排出用通気体１０ｏが容器５０の排気口５０ｏに嵌合状態に接続されるように構成されている。
容器５０が載置支持部１０ａに載置支持された状態において、吐出ノズル１０ｉから大気圧よりも設定値以上高い圧力の窒素ガスを吐出させることにより、容器５０の排気口５０ｏより容器内の気体を外部に排出させる状態で、容器５０の給気口５０ｉより窒素ガスを容器５０の内部に注入できるように構成されている。
本実施形態においては、マスフローコントローラ４０により不活性気体供給部Ｆが構成される。また、壁体Ｋにて外周部が覆われることによって、本願発明の保管室が形成されている。
すなわち、容器５０を収納自在な収納部１０Ｓが複数設けられ、その夫々に、収納部１０Ｓに収納されている容器５０の内部に窒素ガスを供給する不活性気体供給部Ｆが各別に設けられている。また、収納部１０Ｓは、外部と区画された保管室の内部に設けられている。
（窒素ガスの供給構成）
図５に示すように、保管棚１０における不活性気体供給部Ｆの夫々に窒素ガスを供給するための窒素ガスの供給源として元ガス供給配管Ｌｍが備えられ、その元ガス供給配管Ｌｍから２分岐する状態で第１分岐供給配管Ｌｂ１及び第２分岐供給配管Ｌｂ２が備えられている。元ガス供給配管Ｌｍには元ガス開閉弁Ｖ１が設けられ、保管棚１０単位で窒素ガスの供給及び供給停止を切換えることができる。
第１分岐供給配管Ｌｂ１には第１電磁開閉弁Ｖ２１が設けられ、第２分岐供給配管Ｌｂ２には第２電磁開閉弁Ｖ２２が設けられている。そして、これら第１電磁開閉弁Ｖ２１及び第２電磁開閉弁Ｖ２２は、後述するＩＯ拡張モジュールＡを介して後述するパージコントローラＨ１に電気的に接続されており、パージコントローラＨ１が第１電磁開閉弁Ｖ２１及び第２電磁開閉弁Ｖ２２の開閉を制御するようになっている。
（マスフローコントローラ４０の構成）
図３及び図４に示すように、マスフローコントローラ４０は、流入側ポート４０ｉと吐出側ポート４０ｏとを備えており、吐出側ポート４０ｏには、上述した供給配管Ｌｉが接続され、流入側ポート４０ｉには、窒素ガスの供給源としての第１分岐供給配管Ｌｂ１及び第２分岐供給配管Ｌｂ２からの窒素ガスを導く供給配管Ｌｓが接続されている。
尚、窒素ガス供給源には、窒素ガスの供給圧力を大気圧よりも設定値以上高い設定圧力に調整するガバナや、窒素ガスの供給を断続する手動操作式の開閉弁等が装備される。
マスフローコントローラ４０には、流入側ポート４０ｉから吐出側ポート４０ｏに向かう内部流路を流動する窒素ガスの流量を変更調節する流量調節弁４０Ｖ、内部流路を流動する窒素ガスの流量を計測する流量センサ、及び、流量調節弁の作動を制御する内部制御部４０Ｓが装備されている。
また、マスフローコントローラ４０の内部制御部４０Ｓは、自己が故障しているか否かを判別する自己故障診断機能を備えている。
本実施形態において、マスフローコントローラ４０が流量調節装置に相当する。
（制御構成）
図６に示すように、不活性気体供給設備には、プログラマブルロジックコントローラＰに対して上位指令を出力するパージコントローラＨ１、保管棚１０における容器５０の在庫状態等を管理するストッカコントローラＨ２、及び、スタッカークレーン２０の作動を制御するクレーンコントローラＨ３が設けられている。
パージコントローラＨ１は、監視部Ｈ１１と指令出力部Ｈ１２とを備えている。
監視部Ｈ１１は、マスフローコントローラ４０の作動状態を監視するように構成され、指令出力部Ｈ１２は、監視部Ｈ１１により監視しているマスフローコントローラ４０の作動状態に基づいて、プログラマブルロジックコントローラＰに対して上位指令を出力するように構成されている。
パージコントローラＨ１、ストッカコントローラＨ２、及びクレーンコントローラＨ３は、例えば蓄積プログラム方式で情報を処理自在なコンピュータで構成され、相互にＬＡＮ等のネットワークＣ１で接続され、また、プログラマブルロジックコントローラＰ及びＩＯ拡張モジュールＡが、上記パージコントローラＨ１と通信自在にネットワークＣ１に接続されている。
プログラマブルロジックコントローラＰには、制御バスＣ２経由で１２台のマスフローコントローラ４０、及び、保管室内部の空気中の酸素の濃度を計測する濃度計測装置Ｓ１が接続されている。すなわち、プログラマブルロジックコントローラＰは、保管室内部の気体の特定成分としての酸素の濃度を計測する濃度計測装置Ｓ１と通信自在に接続されている。濃度計測装置Ｓ１は、保管室内部の空気中の酸素の濃度が規定濃度未満となると、警告情報を出力するようになっている。
また、図７に示すように、プログラマブルロジックコントローラＰには、パージコントローラＨ１が作動指令を出力不可能な状態となったことを判定する状態判定部Ｐａと、予め定めた停止条件を満たすか否かを判定する条件判定部Ｐｂと、マスフローコントローラ４０の作動を制御するための処理を実行する処理実行部Ｐｃと、を備えている。
プログラマブルロジックコントローラＰは、パージコントローラＨ１から、マスフローコントローラ４０の識別情報とそのマスフローコントローラ４０についての目標流量の指令を受信すると、当該識別情報に対応するマスフローコントローラ４０に対して目標流量の指令を出力するようになっている。
状態判定部Ｐａは、設定時間間隔ごとにパージコントローラＨ１に対して接続確認信号を送信し、その接続確認信号に対してパージコントローラＨ１が返信する応答信号を受信することによって、パージコントローラＨ１との間で通信が成立しているか否かを確認するように構成されている。そして、状態判定部Ｐａは、パージコントローラＨ１との間で通信が成立している場合はパージコントローラＨ１が作動指令を出力可能な状態であると判別し、パージコントローラＨ１との間で通信が成立していない場合はパージコントローラＨ１が作動指令を出力不可能な状態であると判別するようになっている。
また、状態判定部Ｐａは、自己が故障しているか否かを判別する自己故障診断機能も備えている。
ＩＯ拡張モジュールＡには、上記１２台のマスフローコントローラ４０が備えられている収納部１０Ｓに対応する在荷センサ１０ｚが、夫々信号線Ｃ３で接続されている。ＩＯ拡張モジュールＡに入力された情報は、プログラマブルロジックコントローラＰに集約されるようになっている。本実施形態において、在荷センサ１０ｚが、在荷状態検出装置に相当する。すなわち、収納部１０Ｓに、容器５０が収納されている在荷状態と容器５０が収納されていない非在荷状態とを検出する在荷センサ１０ｚが設けられ、プログラマブルロジックコントローラＰが、在荷センサ１０ｚ、及び、濃度計測装置Ｓ１と通信自在に接続されている。
パージコントローラＨ１は、プログラマブルロジックコントローラＰに対して、複数の収納部１０Ｓの夫々に対応して設置されたマスフローコントローラ４０についての目標流量を指令する。このようにパージコントローラＨ１がプログラマブルロジックコントローラＰに対して指令する複数のマスフローコントローラ４０の夫々についての目標流量の指令が上位指令に相当する。マスフローコントローラ４０の内部制御部４０Ｓは、流量センサの検出情報に基づいて、容器５０への供給流量を上述したパージコントローラＨ１からの上位指令にて出力される目標流量に調整すべく、流量調節弁４０Ｖを制御する。また、パージコントローラＨ１には、各種の情報を入力するための操作卓ＨＳが装備されている。
すなわち、不活性気体供給部は、収納部１０Ｓに収納された容器５０に供給する窒素ガスの流量を調節する流量調節装置（マスフローコントローラ４０）であり、マスフローコントローラ４０に対して流量制御指令を出力してマスフローコントローラ４０を制御するプログラマブルロジックコントローラＰと、プログラマブルロジックコントローラＰに対して上位指令を出力するパージコントローラＨ１とが設けられている。
また、パージコントローラＨ１は、マスフローコントローラ４０の作動状態を監視する監視部Ｈ１１と、監視部Ｈ１１により監視しているマスフローコントローラ４０の作動状態に基づいて、プログラマブルロジックコントローラＰに対して上位指令を出力する指令出力部Ｈ１２と、を備えている。
すなわち、本実施形態において、プログラマブルロジックコントローラＰが流量調節装置としてのマスフローコントローラ４０を制御する中間制御装置に相当し、パージコントローラＨ１が、窒素ガスの供給状態を規定した上位指令をプログラマブルロジックコントローラＰに対して出力する上位制御装置に相当する。
また、本実施形態の不活性気体供給設備には、マスフローコントローラ４０を制御するプログラマブルロジックコントローラＰと、不活性気体の供給状態を規定した上位指令をプログラマブルロジックコントローラＰに対して出力するパージコントローラＨ１と、が備えられている。すなわち、本実施形態においては、プログラマブルロジックコントローラＰが第１制御装置に相当し、パージコントローラＨ１が第２制御装置に相当し、パージコントローラＨ１がプログラマブルロジックコントローラＰに対して出力する上位指令が作動指令に相当する。
パージコントローラＨ１が出力する上位指令にて規定される目標流量としては、容器５０が収納部１０Ｓに収納されている状態において、容器５０の内部に窒素ガスを注入すべく、マスフローコントローラ４０に対して指令される保管用の目標流量、容器５０が収納部１０Ｓに収納される直前において、吐出ノズル１０ｉを清浄化するために指令されるノズル浄化用の目標流量、及び、保管棚１０の設置時等において、吐出ノズル１０ｉや供給配管Ｌｉ等を清浄化するために指令されるクリーニング用の目標流量がある。
図８に示すように、パージコントローラＨ１は、目標流量と供給時間とを定めた複数のパージパターンとして、ノズルパージパターンＰ１、クリーニングパターンＰ２、及び、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６を記憶している。
そして、パージコントローラＨ１が、保管棚１０の設置時等において、操作卓ＨＳにてクリーニング開始指令が指令されると、クリーニングパターンＰ２に応じてクリーニング用の清掃用流量としての目標流量の窒素ガスを清掃用時間だけ通流させて不活性気体供給部Ｆを清掃する清掃用供給形態とすべくマスフローコントローラ４０の作動を制御する上位指令をプログラマブルロジックコントローラＰに対して出力するように構成されている。
なお、操作卓ＨＳは、清掃が必要な不活性気体供給部Ｆを選択自在に構成され、選択された不活性気体供給部Ｆに対してクリーニング開始指令を指令自在に構成されている。
また、パージコントローラＨ１は、容器５０が入出庫コンベヤＣＶに搬入されると、ノズルパージパターンＰ１に応じたノズル浄化用の目標流量の窒素ガスを供給すべくマスフローコントローラ４０の作動を制御する上位指令をプログラマブルロジックコントローラＰに対して出力するように構成されている。
本実施形態においては、パージコントローラＨ１は、容器５０が入出庫コンベヤＣＶに搬入されたことを、ホイスト式の搬送車Ｄの運転を制御する搬送車コントローラ（図示せず）から通信される収納指令によって判別するように構成されている。
さらに、パージコントローラＨ１が、２個の在荷センサ１０ｚが容器５０を検出しているときには、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６のうち、操作卓ＨＳにて予め選択された一つのパターンに基づいて保管用の目標流量（供給流量）に対応する上位指令をプログラマブルロジックコントローラＰに対して出力するように構成されている。
ちなみに、ノズルパージパターンＰ１及びクリーニングパターンＰ２における目標流量と供給時間とは、予め基準状態に設定されているが、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々の目標流量と供給時間とは、設備の設置時に、使用者が設定するようになっている。なお、上記基準状態は、操作卓ＨＳから変更設定自在に構成されている。
次に、ノズルパージパターンＰ１、クリーニングパターンＰ２、及び、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々について、図８に基づいて説明する。
ノズルパージパターンＰ１は、上述の収納指令が指令された時点から収納前供給時間として設定された供給時間ｔ１の間、ノズル浄化用の目標流量として設定された目標流量Ｌ１にて窒素ガスを供給するパターンとして定められている。
供給時間ｔ１は、例えば、５秒に設定され、そして、目標流量Ｌ１は、例えば、３０リットル／分に設定されている。
クリーニングパターンＰ２は、操作卓ＨＳにてクリーニング開始指令が指令されてから設置初期供給時間として設定された供給時間ｔ２の間、クリーニング用の目標流量として設定された目標流量Ｌ２にて窒素ガスを供給するパターンとして定められている。
供給時間ｔ２は、例えば、１８００秒に設定され、そして、目標流量Ｌ２は、例えば、２０リットル／分に設定されている。
４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々については、保管用の目標流量として、初期目標流量値Ｌαと、その初期目標流量よりも少ない定常目標流量値Ｌβとが設定されている。
初期目標流量値Ｌαは、例えば、５０リットル／分に設定され、そして、定常目標流量値Ｌβは、例えば、５リットル／分に設定されるが、上述の如く、使用者が変更設定することができる。
そして、４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６の夫々は、容器５０に窒素ガスを供給する際には、先ず、保管用の目標流量値を初期目標流量値Ｌαとし、その後、保管用の目標流量値を定常目標流量値Ｌβに変更する点が共通するが、互いに異なるパターンに定められている。４つの保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６は、図８に示すように、師管経過に伴って目標流量を切換えるパターンに設定されているが、ここではその詳細の説明は省略する。
（プログラマブルロジックコントローラが実行する処理）
不活性気体供給設備を使用する場合において、マスフローコントローラ４０によって容器５０に窒素ガスを供給するパージ処理の実行中であるにもかかわらず、コンピュータのフリーズや通信インタフェースの故障等の事情によりパージコントローラＨ１が上位指令を出力不可能な状態となることがある。このような事態が発生すると、例えば、上述の保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６においてマスフローコントローラ４０が供給する窒素ガスの供給流量を初期目標流量値Ｌαとしている状態において、パージコントローラＨ１が上位指令を出力不可能な状態となり、供給流量を定常目標流量値Ｌβとすべきタイミングであるにもかかわらず供給流量の変更を指令する上位指令を出力できなくなる虞がある。このような場合においてプログラマブルロジックコントローラＰが実行する処理について、図９に基づいて説明する。なお、図９のフローは、設定時間（制御周期であり、例えば１００ミリ秒）間隔ごとに繰り返し実行される。
プログラマブルロジックコントローラＰが備える状態判定部Ｐａは、まず、パージコントローラＨ１との接続確認ができたか否かを判別する（ステップ＃１１）。ステップ＃１１にて、パージコントローラＨ１との接続確認ができたと判別すると（ステップ＃１１：Ｙｅｓ）、状態判定部Ｐａは、パージコントローラＨ１からの上位指令があるか否かを確認する（ステップ＃１２）。ステップ＃１２にて、パージコントローラＨ１からの上位指令があると判別すると（ステップ＃１２：Ｙｅｓ）、続いて、プログラマブルロジックコントローラＰに備える処理実行部Ｐｃは、マスフローコントローラ４０に流量制御指令を送信する（ステップ＃１３）。
ステップ＃１２にて、パージコントローラＨ１からの作動指令がないと判別した場合には（ステップ＃１２：Ｎｏ）、このフローを終了する。
一方、ステップ＃１１にて、状態判定部ＰａがパージコントローラＨ１との接続確認ができなかったと判別すると（ステップ＃１１：Ｎｏ）、条件判定部Ｐｂは、停止条件が満たされたか否かを判別する（ステップ＃１４）。
停止条件とは、「濃度計測装置Ｓ１により計測した酸素濃度が基準濃度を下回ること」、「在荷センサ１０ｚにより非在荷状態を検出したこと」、又は「プログラマブルロジックコントローラＰが自己故障診断機能により自己が故障していると判別したこと」のいずれかの条件である。
本実施形態では、濃度計測装置Ｓ１により計測した酸素濃度が基準濃度を下回ることが、濃度計測装置Ｓ１により計測した保管室内部の気体の特定成分の濃度が基準状態から外れていることに相当する。
ステップ＃１４にて停止条件が満たされていないと判別した場合（ステップ＃１４：Ｎｏ）、処理実行部Ｐｃは、パージコントローラＨ１が最後に指令した上位指令に基づいてマスフローコントローラ４０に流量制御指令を送信する（ステップ＃１５）。本実施形態では、ステップ＃１５の処理が継続作動処理に相当する。
また、ステップ＃１４にて停止条件が満たされたと判別した場合（ステップ＃１４：Ｙｅｓ）、処理実行部Ｐｃは、マスフローコントローラ４０に対してパージ停止（流量調節弁４０Ｖの閉成）を指令する（ステップ＃１６）。本実施形態では、ステップ＃１６の処理が作動停止処理に相当する。
すなわち、処理実行部Ｐｃは、状態判定部ＰａによりパージコントローラＨ１が作動指令を出力不可能な状態になったと判定された場合には、パージコントローラＨ１によって最後に出力された作動指令に基づいてマスフローコントローラ４０を作動させる継続作動処理を実行し、更に、処理実行部Ｐｃは、上記継続作動処理の実行中に、条件判定部Ｐｂにより停止条件を満たすと判定された場合には、継続作動処理を中止してマスフローコントローラ４０を停止させる作動停止処理を実行するように構成されている。
〔第２実施形態〕
次に不活性気体供給設備の第２実施形態について説明するが、本第２実施形態は、第１実施形態と、第１制御装置及び第２制御装置の関係が異なるのみであるため、重複する説明を省略して異なる部分のみを説明する。
本実施形態においては、図１０に示すように、マスフローコントローラ４０は、プログラマブルロジックコントローラＰが流量制御指令を出力不可能な状態となったことを判定する状態判定部４０ａと、予め定めた停止条件を満たすか否かを判定する条件判定部４０ｂと、マスフローコントローラ４０における流量調節弁４０Ｖの作動を制御するための処理を実行する処理実行部４０ｃと、を備えている。
また、マスフローコントローラ４０と、保管室内部の酸素の濃度を計測する濃度計測装置Ｓ１、及び、収納部１０Ｓに対応する在荷センサ１０ｚとが、制御バスＣ２経由で通信自在に接続されている。
状態判定部４０ａは、設定時間間隔ごとにプログラマブルロジックコントローラＰに対して接続確認信号を送信し、その接続確認信号に対してプログラマブルロジックコントローラＰが返信する応答信号を受信することによって、プログラマブルロジックコントローラＰとの間で通信が成立しているか否かを確認するように構成されている。そして、状態判定部４０ａは、プログラマブルロジックコントローラＰとの間で通信が成立している場合はプログラマブルロジックコントローラＰが作動指令を出力可能な状態であると判別し、プログラマブルロジックコントローラＰとの間で通信が成立していない場合はプログラマブルロジックコントローラＰが作動指令を出力不可能な状態であると判別するようになっている。
また、状態判定部４０ａは、自己が故障しているか否かを判別する自己故障診断機能も備えている。
プログラマブルロジックコントローラＰは、複数の収納部１０Ｓの夫々に対応して設置されたマスフローコントローラ４０の夫々に対して、夫々のマスフローコントローラ４０についての目標流量をパージコントローラＨ１からの上位指令にて出力される目標流量に調整すべく、目標流量を指令する。このようにプログラマブルロジックコントローラＰがマスフローコントローラ４０に対して指令する目標流量の指令が流量制御指令に相当する。マスフローコントローラ４０の内部制御部４０Ｓは、流量センサの検出情報に基づいて、容器５０への供給流量を上述したプログラマブルロジックコントローラＰからの流量制御指令にて出力される目標流量に調整すべく、流量調節弁４０Ｖを制御する。
すなわち、本実施形態においては、マスフローコントローラ４０に備える内部制御部４０Ｓが第１制御装置に相当し、プログラマブルロジックコントローラＰが第２制御装置に相当し、プログラマブルロジックコントローラＰがマスフローコントローラ４０に対して出力する流量制御指令が作動指令に相当する。
（マスフローコントローラが実行する処理）
不活性気体供給設備を使用する場合において、マスフローコントローラ４０によって容器５０に窒素ガスを供給するパージ処理の実行中であるにもかかわらず、通信インタフェースの故障等の事情によりプログラマブルロジックコントローラＰが流量制御指令を出力不可能な状態となることがある。このような事態が発生すると、例えば、上述の保管用パージパターンＰ３〜Ｐ６においてマスフローコントローラ４０が供給する窒素ガスの供給流量を初期目標流量値Ｌαとしている状態において、プログラマブルロジックコントローラＰが流量制御指令を出力不可能な状態となり、供給流量を定常目標流量値Ｌβとすべきタイミングであるにもかかわらず供給流量の変更を指令する流量制御指令を出力できなくなる虞がある。このような場合にマスフローコントローラ４０が実行する処理について、図１１に基づいて説明する。なお、図１１のフローは、設定時間（制御周期であり、例えば１００ミリ秒）間隔ごとに繰り返し実行される。
マスフローコントローラ４０が備える状態判定部４０ａは、まず、プログラマブルロジックコントローラＰとの接続確認ができたか否かを判別する（ステップ＃２１）。ステップ＃２１にて、プログラマブルロジックコントローラＰとの接続確認ができたと判別すると（ステップ＃２１：Ｙｅｓ）、状態判定部４０ａは、プログラマブルロジックコントローラＰからの流量制御指令があるか否かを確認する（ステップ＃２２）。ステップ＃２２にて、プログラマブルロジックコントローラＰからの流量制御指令があると判別すると（ステップ＃２２：Ｙｅｓ）、続いて、マスフローコントローラ４０に備える処理実行部４０ｃは、流量制御指令に基づいて流量調節弁４０Ｖを制御する（ステップ＃２３）。
ステップ＃２２にて、プログラマブルロジックコントローラＰからの流量制御指令がないと判別した場合には（ステップ＃２２：Ｎｏ）、このフローを終了する。
一方、ステップ＃２１にて、状態判定部４０ａが、プログラマブルロジックコントローラＰとの接続確認ができなかったと判別すると（ステップ＃２１：Ｎｏ）、条件判定部４０ｂは停止条件が満たされたか否かを判別する（ステップ＃２４）。この停止条件とは、「濃度計測装置Ｓ１により計測した酸素濃度が基準濃度を下回ること」、「在荷センサ１０ｚにより非在荷状態を検出したこと」、又は「マスフローコントローラ４０の内部制御部４０Ｓが、自己故障診断機能により自己が故障していると判別したこと」のいずれかの条件である。
ステップ＃２４にて停止条件が満たされていないと判別した場合（ステップ＃２４：Ｎｏ）、処理実行部４０ｃは、プログラマブルロジックコントローラＰから最後に受けた流量制御指令に基づいて流量調節弁４０Ｖを制御する（ステップ＃２５）。本実施形態では、ステップ＃２５の処理が継続作動処理に相当する。
また、ステップ＃２４にて停止条件が満たされたと判別した場合（ステップ＃２４：Ｙｅｓ）、処理実行部４０ｃは、流量調節弁４０Ｖを閉じるべく制御する（ステップ＃２６）。本実施形態では、ステップ＃２６の処理が作動停止処理に相当する。
すなわち、処理実行部４０ｃは、状態判定部４０ａによりプログラマブルロジックコントローラＰが流量制御指令を出力不可能な状態になったと判定された場合には、パージコントローラＨ１によって最後に出力された作動指令に基づいてマスフローコントローラ４０を作動させる継続作動処理を実行し、更に、処理実行部４０ｃは、上記継続作動処理の実行中に、条件判定部４０ｂにより停止条件を満たすと判定された場合には、継続作動処理を中止してマスフローコントローラ４０を停止させる作動停止処理を実行するように構成されている。
〔別実施形態〕
（１）上記第１及び第２実施形態においては、収納部１０Ｓが複数設けられ、それら複数の収納部１０Ｓの夫々にマスフローコントローラ４０が各別に設けられた構成を例示したが、このような構成に限定されるものではなく、例えば、収納部１０Ｓを１つだけ備え、その１つの収納部１０Ｓに１つのマスフローコントローラ４０を備える不活性気体供給設備としてもよい。また、収納部１０Ｓを複数備え、それら複数の収納部１０Ｓに収納された容器５０に対して供給する窒素ガスの流量を、単一のマスフローコントローラ４０で調節するように構成してもよい。また、上記第１及び第２実施形態では、第２制御装置が複数のマスフローコントローラ４０の夫々についての作動指令を各別に出力するように構成したが、第２制御装置が複数のマスフローコントローラ４０の全てについて同一の作動指令を出力するように構成してもよい。
（２）上記第１実施形態では、停止条件を、「濃度計測装置Ｓ１により計測した酸素濃度が基準濃度を下回ること」、「在荷センサ１０ｚにより非在荷状態を検出したこと」、又は「プログラマブルロジックコントローラＰが自己故障診断機能により自己が故障していると判別したこと」の何れかとし、第２実施形態においては、停止条件を、「濃度計測装置Ｓ１により計測した酸素濃度が基準濃度を下回ること」、「在荷センサ１０ｚにより非在荷状態を検出したこと」、又は「マスフローコントローラ４０の内部制御部４０Ｓが、自己故障診断機能により自己が故障していると判別したこと」とするように構成したが、停止条件はこれらに限定されるものではなく、例えば、「作業者により非常停止が指令されたこと」等、他の条件を停止条件に含んでもよい。また、停止条件を上記第１又は第２実施形態に示した３つの条件のうち１つ又は２つのみとしてもよい。
さらに、上記第１及び第２実施形態では、停止条件を満たしたことを、上記３つの条件うちいずれかを満たしたことをもって判別する構成としたが、上記３つのうち事前に設定した２つの条件又は３つの条件を満たしたことをもって停止条件を満たしたと判別するように構成してもよい。
（３）上記第２実施形態では、マスフローコントローラ４０と、保管室内部の酸素の濃度を計測する濃度計測装置Ｓ１、及び、収納部１０Ｓに対応する在荷センサ１０ｚとが、制御バスＣ２経由で通信自在に接続される構成を例示したが、このような構成に限定されるものではなく、濃度計測装置Ｓ１及び在荷センサ１０ｚとが、マスフローコントローラ４０に計測情報を直接入力するように接続されるものでもよい。
（４）上記第１及び第２実施形態においては、保管室内部の気体の特定成分を酸素とし、濃度計測装置Ｓ１により酸素の濃度を計測する構成を例示したが、このような構成に限定されるものではなく、保管室内部の気体の特定成分を窒素とし、濃度計測装置Ｓ１により窒素の濃度を計測するように構成してもよい。この場合、濃度計測装置Ｓ１により計測した窒素濃度が基準濃度を上回ることが、濃度計測装置Ｓ１により計測した保管室内部の気体の特定成分の濃度が基準状態から外れていることに相当する。
また、保管室内部の気体の特定成分は、上記酸素又は窒素以外の成分、例えば、二酸化炭素や水蒸気等としてもよい。
１０Ｓ 収納部
１０ｚ 在荷状態検出装置
４０ 流量調節装置
４０ａ 状態判定部
４０ｂ 条件判定部
４０ｃ 処理実行部
５０ 容器
Ｆ 不活性気体供給部
Ｈ１ 上位制御装置
Ｈ１１ 監視部
Ｈ１２ 指令出力部
Ｐ 中間制御装置
Ｐａ 状態判定部
Ｐｂ 条件判定部
Ｐｃ 処理実行部
Ｓ１ 濃度計測装置

Claims (7)

  1. 容器を収納自在な収納部と、
    前記収納部に収納されている前記容器の内部に不活性気体を供給する不活性気体供給部と、
    前記不活性気体供給部を制御する第１制御装置と、
    前記不活性気体の供給状態を規定した作動指令を前記第１制御装置に対して出力する第２制御装置と、を備えた不活性気体供給設備であって、
    前記第１制御装置は、前記第２制御装置が前記作動指令を出力不可能な状態となったことを判定する状態判定部と、予め定めた停止条件を満たすか否かを判定する条件判定部と、前記不活性気体供給部の作動を制御するための処理を実行する処理実行部と、を備え、
    前記処理実行部は、前記状態判定部により前記第２制御装置が前記作動指令を出力不可能な状態になったと判定された場合には、前記第２制御装置によって最後に出力された前記作動指令に基づいて前記不活性気体供給部を作動させる継続作動処理を実行し、
    前記処理実行部は、更に、前記継続作動処理の実行中に、前記条件判定部により前記停止条件を満たすと判定された場合には、前記継続作動処理を中止して前記不活性気体供給部を停止させる作動停止処理を実行する不活性気体供給設備。
  2. 前記収納部が複数設けられ、
    前記複数の収納部の夫々に、前記不活性気体供給部が各別に設けられ、
    前記第２制御装置は、前記複数の不活性気体供給部の夫々についての前記作動指令を出力し、
    前記第１制御装置は、前記複数の不活性気体供給部の夫々についての前記作動指令に基づいて、前記不活性気体供給部の夫々を各別に制御する請求項１記載の不活性気体供給設備。
  3. 前記収納部が、外部と区画された保管室の内部に設けられ、
    前記第１制御装置が、前記保管室内部の気体の特定成分の濃度を計測する濃度計測装置と通信自在に接続され、
    前記停止条件が、前記濃度計測装置により計測した前記濃度が基準状態から外れていることである請求項１又は２に記載の不活性気体供給設備。
  4. 前記収納部に、前記容器が収納されている在荷状態と前記容器が収納されていない非在荷状態とを検出する在荷状態検出装置が設けられ、
    前記第１制御装置が、前記在荷状態検出装置と通信自在に接続され、
    前記停止条件が、前記在荷状態検出装置により非在荷状態を検出したことである請求項１又は２に記載の不活性気体供給設備。
  5. 前記第１制御装置が、自己が故障しているか否かを判別する自己故障診断機能を備え、
    前記停止条件が、前記自己故障診断機能により故障と判別したことである請求項１又は２に記載の不活性気体供給設備。
  6. 前記不活性気体供給部が、前記収納部に収納された前記容器に供給する前記不活性気体の流量を調節する流量調節装置であり、
    前記流量調節装置に対して流量制御指令を出力して前記流量調節装置を制御する中間制御装置と、
    前記中間制御装置に対して上位指令を出力する上位制御装置とが設けられ、
    前記上位制御装置が、前記流量調節装置の作動状態を監視する監視部と、前記監視部により監視している前記流量調節装置の作動状態に基づいて、前記中間制御装置に対して前記上位指令を出力する指令出力部と、を備え、
    前記第１制御装置が前記中間制御装置であり、
    前記第２制御装置が前記上位制御装置であり、
    前記作動指令が前記上位指令である請求項１〜５の何れか１項に記載の不活性気体供給設備。
  7. 前記不活性気体供給部が、前記収納部に収納された前記容器に供給する前記不活性気体の流量を調節する流量調節装置であり、
    前記流量調節装置に対して流量制御指令を出力して前記流量調節装置を制御する中間制御装置と、
    前記中間制御装置に対して上位指令を出力する上位制御装置とが設けられ、
    前記上位制御装置が、前記流量調節装置の作動状態を監視する監視部と、前記監視部により監視している前記流量調節装置の作動状態に基づいて、前記中間制御装置に対して前記上位指令を出力する指令出力部と、を備え、
    前記第１制御装置が前記流量調節装置であり、
    前記第２制御装置が前記中間制御装置であり、
    前記作動指令が前記流量制御指令である請求項１〜５の何れか１項に記載の不活性気体供給設備。
JP2013134271A 2013-06-26 2013-06-26 不活性気体供給設備 Active JP5874691B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013134271A JP5874691B2 (ja) 2013-06-26 2013-06-26 不活性気体供給設備
TW103116823A TWI625813B (zh) 2013-06-26 2014-05-13 惰性氣體供給設備及惰性氣體供給方法
KR1020140063032A KR102204816B1 (ko) 2013-06-26 2014-05-26 불활성 기체 공급 설비 및 불활성 기체 공급 방법
SG10201402805UA SG10201402805UA (en) 2013-06-26 2014-06-02 Inactive gas supply facility and inactive gas supply method
US14/308,039 US9822929B2 (en) 2013-06-26 2014-06-18 Inactive gas supply facility and inactive gas supply method
CN201410287358.7A CN104253068B (zh) 2013-06-26 2014-06-25 惰性气体供给设备及惰性气体供给方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013134271A JP5874691B2 (ja) 2013-06-26 2013-06-26 不活性気体供給設備

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015012042A JP2015012042A (ja) 2015-01-19
JP5874691B2 true JP5874691B2 (ja) 2016-03-02

Family

ID=52114441

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013134271A Active JP5874691B2 (ja) 2013-06-26 2013-06-26 不活性気体供給設備

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9822929B2 (ja)
JP (1) JP5874691B2 (ja)
KR (1) KR102204816B1 (ja)
CN (1) CN104253068B (ja)
SG (1) SG10201402805UA (ja)
TW (1) TWI625813B (ja)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG11201506166UA (en) * 2013-03-05 2015-09-29 Murata Machinery Ltd Measurement unit and purge gas flow rate measuring method
CN106415812B (zh) * 2014-06-16 2019-01-11 村田机械株式会社 清洗装置、清洗***、清洗方法以及清洗***中的控制方法
US9550219B2 (en) * 2014-12-29 2017-01-24 Daifuku Co., Ltd. Apparatus of inhalation type for stocking wafer at ceiling and inhaling type wafer stocking system having the same
JP6554872B2 (ja) * 2015-03-31 2019-08-07 Tdk株式会社 ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法
JP6451453B2 (ja) * 2015-03-31 2019-01-16 Tdk株式会社 ガスパージ装置、ロードポート装置、パージ対象容器の設置台およびガスパージ方法
EP3343596B1 (en) * 2015-08-25 2022-01-12 Murata Machinery, Ltd. Purge device, purge stocker, and purge method
JP6414525B2 (ja) * 2015-09-02 2018-10-31 株式会社ダイフク 保管設備
US10855971B2 (en) * 2015-09-16 2020-12-01 HashD, Inc. Systems and methods of creating a three-dimensional virtual image
JP6455404B2 (ja) 2015-11-17 2019-01-23 株式会社ダイフク 容器搬送設備
JP6551240B2 (ja) * 2016-01-06 2019-07-31 株式会社ダイフク 物品収納棚、及び、それを備えた物品収納設備
JP6460015B2 (ja) * 2016-03-07 2019-01-30 株式会社ダイフク 容器搬送設備
JP6610476B2 (ja) * 2016-09-09 2019-11-27 株式会社ダイフク 容器収納設備
KR102227859B1 (ko) * 2017-02-07 2021-03-15 무라다기카이가부시끼가이샤 스토커
KR101988361B1 (ko) * 2017-06-15 2019-06-12 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨 가스 공급 시스템
US10703563B2 (en) * 2017-11-10 2020-07-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Stocker
JP6856015B2 (ja) * 2017-12-20 2021-04-14 株式会社ダイフク 保管設備
KR20200022682A (ko) * 2018-08-23 2020-03-04 세메스 주식회사 버퍼 유닛, 그리고 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법
WO2020044427A1 (ja) * 2018-08-28 2020-03-05 株式会社Ｆｕｊｉ ガス供給判定方法とプラズマ発生装置
CN111288292B (zh) * 2020-03-28 2024-07-05 中国联合工程有限公司 一种货架式lng气瓶抽真空装置及抽真空方法
JP7501497B2 (ja) 2021-11-10 2024-06-18 株式会社ダイフク 容器保管設備
JP7501498B2 (ja) 2021-11-10 2024-06-18 株式会社ダイフク 容器保管設備

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09153533A (ja) * 1995-12-01 1997-06-10 Mitsubishi Electric Corp 半導体ウエハ保管システムおよびそのシステムを使用した半導体装置の製造方式
JPH10321714A (ja) * 1997-05-20 1998-12-04 Sony Corp 密閉コンテナ並びに密閉コンテナ用雰囲気置換装置及び雰囲気置換方法
JP3866840B2 (ja) * 1997-10-28 2007-01-10 三機工業株式会社 不活性ガス供給設備
US5988233A (en) * 1998-03-27 1999-11-23 Asyst Technologies, Inc. Evacuation-driven SMIF pod purge system
JP2000315107A (ja) * 1999-05-06 2000-11-14 Mitsubishi Electric Corp 工程進捗管理装置及び工程進捗管理方法
JP4181283B2 (ja) * 1999-09-29 2008-11-12 株式会社日立製作所 障害検出通知方法及びインターネットワーク装置
JP2003092345A (ja) * 2001-07-13 2003-03-28 Semiconductor Leading Edge Technologies Inc 基板収納容器、基板搬送システム、保管装置及びガス置換方法
JP3880343B2 (ja) * 2001-08-01 2007-02-14 株式会社ルネサステクノロジ ロードポート、基板処理装置および雰囲気置換方法
JP4136451B2 (ja) * 2002-05-22 2008-08-20 富士通株式会社 Ｂｉｓｔ回路
JP4027837B2 (ja) * 2003-04-28 2007-12-26 Ｔｄｋ株式会社 パージ装置およびパージ方法
JP2005019911A (ja) * 2003-06-30 2005-01-20 Trecenti Technologies Inc 工程進捗管理システムおよび半導体装置の製造方法
JP2006040122A (ja) * 2004-07-29 2006-02-09 Toyoda Mach Works Ltd プログラマブルコントローラ
JP3983254B2 (ja) * 2005-06-24 2007-09-26 Ｔｄｋ株式会社 製品収容容器用パージシステム及び該パージシステムに供せられる台
JP4776374B2 (ja) * 2005-12-27 2011-09-21 株式会社東芝 二重化監視制御システム、及び同システムの冗長化切替え方法
JP2007226711A (ja) * 2006-02-27 2007-09-06 Hitachi Ltd 集積回路装置、集積回路装置の診断方法、および診断回路
JP4670808B2 (ja) * 2006-12-22 2011-04-13 ムラテックオートメーション株式会社 コンテナの搬送システム及び測定用コンテナ
JP4577663B2 (ja) * 2008-03-04 2010-11-10 Ｔｄｋ株式会社 パージ制御装置及びそれを備えるロードボート装置
JP5256810B2 (ja) * 2008-03-24 2013-08-07 村田機械株式会社 保管庫装置及び保管庫付き搬送システム
JP4692584B2 (ja) 2008-07-03 2011-06-01 村田機械株式会社 パージ装置
JP5236518B2 (ja) * 2009-02-03 2013-07-17 株式会社ダン・タクマ 保管システムおよび保管方法
US9212786B2 (en) * 2009-06-30 2015-12-15 Roylan Developments Limited Apparatus for purging containers for storing sensitive materials
JP5404437B2 (ja) * 2010-01-13 2014-01-29 株式会社東芝 安全出力装置
JP5608409B2 (ja) * 2010-04-23 2014-10-15 ルネサスエレクトロニクス株式会社 自己診断システム及び検査回路判定方法
SG186088A1 (en) * 2010-06-10 2013-01-30 Murata Machinery Ltd Conveyance system and method of communication in conveyance system
JP5440871B2 (ja) * 2010-08-20 2014-03-12 株式会社ダイフク 容器保管設備
JP5494734B2 (ja) * 2011-08-15 2014-05-21 Ｔｄｋ株式会社 パージ装置及び該パージ装置を有するロードポート装置
JP2013042062A (ja) * 2011-08-19 2013-02-28 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置及び半導体装置の製造方法
JP6087161B2 (ja) * 2012-02-03 2017-03-01 東京エレクトロン株式会社 基板収容容器のパージ方法
CN104603032B (zh) * 2012-08-21 2016-12-07 村田机械株式会社 具备清洗功能的储料器、储料器单元以及洁净气体的供给方法
US9257320B2 (en) * 2013-06-05 2016-02-09 GlobalFoundries, Inc. Wafer carrier purge apparatuses, automated mechanical handling systems including the same, and methods of handling a wafer carrier during integrated circuit fabrication

Also Published As

Publication number Publication date
CN104253068A (zh) 2014-12-31
US9822929B2 (en) 2017-11-21
JP2015012042A (ja) 2015-01-19
US20150000785A1 (en) 2015-01-01
KR102204816B1 (ko) 2021-01-18
CN104253068B (zh) 2018-09-07
KR20150001614A (ko) 2015-01-06
TW201508854A (zh) 2015-03-01
SG10201402805UA (en) 2015-01-29
TWI625813B (zh) 2018-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5874691B2 (ja) 不活性気体供給設備
JP5716968B2 (ja) 物品保管設備
JP5709011B2 (ja) 物品保管設備
US9245781B2 (en) Article storage facility and article storage method
TWI571590B (zh) 惰性氣體注入設備及惰性氣體注入方法
US9524893B2 (en) Inactive gas introducing facility and inactive gas introducing method
JP5598734B2 (ja) 物品保管設備
JP5598729B2 (ja) 物品保管設備
JP5884780B2 (ja) 保管設備
KR101865091B1 (ko) 퍼지 스토커 및 퍼지 방법
KR20180030660A (ko) 퍼지 장치, 퍼지 스토커, 및 클리닝 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150223

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150603

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150611

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151222

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160104

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5874691

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250