JP5871652B2 - アルコール中の溶存酸素除去方法、アルコール供給装置並びに洗浄液供給装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係るアルコール供給装置(IPA供給装置1)の概略構成を示す模式図である。
〔第2の実施形態〕
図2は、本発明の第2の実施形態に係る洗浄液供給装置の概略構成を示す模式図である。
図3は、本発明の第3の実施形態に係る洗浄液供給装置の概略構成を示す模式図である。
IPA濃度5%のIPA水溶液を、図4に示す装置に流量100mL/minで通液した。水素吸蔵金属触媒は、パラジウム(ナノ粒子)を陰イオン交換体に担持させたものを用いた。あらかじめ水素吸蔵金属触媒に飽和水素水を通水し、十分に水素を吸蔵させた後、5%IPAを水素吸蔵金属触媒に通液した。
〔実施例2〕
IPA濃度6%のIPA水溶液を、図5に示す装置に流量100mL/minで通液した。水素をガス溶解膜で6%IPA水溶液に溶解させ、その後、6%IPA水溶液を水素吸蔵金属触媒に通液した。水素吸蔵金属触媒は、パラジウム(ナノ粒子)を陰イオン交換体に担持させたものを用いた。
2 IPA貯留槽
5,25,45 溶存酸素除去装置
6,46 水分除去装置
7,27,47 アルコール濃度測定装置
8,48 バイパスライン
9,29,49 水素添加装置
10,30,50 IPA精製装置
21,41 洗浄液供給装置
22,42 混合水貯留槽
51 水素吸蔵金属触媒
101 半導体デバイス製造装置
Claims (6)
- 物の洗浄と乾燥の少なくともいずれかに用いられるアルコールを供給するアルコール供給装置であって、
水素が吸蔵された水素吸蔵金属触媒が充填された溶存酸素除去装置と、前記溶存酸素除去装置の後段に位置し、前記溶存酸素除去装置において溶存酸素の除去の際に発生した水を除去する水分除去装置と、を有し、前記溶存酸素除去装置は、アルコールを前記水素吸蔵金属触媒と接触させることによって、前記アルコールから前記溶存酸素を除去する、アルコール供給装置。 - 前記溶存酸素除去装置で得られた液のアルコール濃度を測定するアルコール濃度測定装置と、
前記水分除去装置をバイパスするバイパスラインと、
前記アルコール濃度測定装置で測定されたアルコール濃度が所定値以上である場合には、前記溶存酸素除去装置で得られた液が前記バイパスラインを通り、前記アルコール濃度測定装置で測定されたアルコール濃度が前記所定値を下回った場合には、前記溶存酸素除去装置で得られた液が前記水分除去装置を通るように前記バイパスラインを制御する制御手段と、
を有する、請求項1に記載のアルコール供給装置。 - 物の洗浄に用いられる洗浄液の供給装置であって、
水素が吸蔵された水素吸蔵金属触媒が充填された溶存酸素除去装置と、純水供給手段と、前記溶存酸素除去装置及び前記純水供給手段の後段に位置し、前記溶存酸素除去装置で得られたアルコールと前記純水供給手段から供給された純水との混合液を貯蔵する混合水貯留槽と、を有し、前記溶存酸素除去装置は、アルコールを前記水素吸蔵金属触媒と接触させることによって、前記アルコールから溶存酸素を除去する洗浄液供給装置。 - 物の洗浄に用いられる洗浄液の供給装置であって、
アルコール供給手段と、純水供給手段と、アルコール供給手段及び純水供給手段の後段に位置し、前記アルコール供給手段から供給されたアルコールと前記純水供給手段から供給された純水との混合液を貯蔵する混合水貯留槽と、前記混合水貯留槽の後段に位置し、水素が吸蔵された水素吸蔵金属触媒が充填された溶存酸素除去装置と、を有し、前記溶存酸素除去装置は、アルコールを前記水素吸蔵金属触媒と接触させることによって、前記アルコールから溶存酸素を除去する洗浄液供給装置。 - 溶存酸素を含むアルコールを水素が吸蔵された水素吸蔵金属触媒と接触させて、前記アルコールから前記溶存酸素を除去することを有するアルコール中の溶存酸素除去方法であって、前記アルコールを前記水素吸蔵金属触媒と接触させると同時に、前記水素吸蔵金属触媒に水素をさらに吸蔵させることを有する、アルコール中の溶存酸素除去方法。
- 溶存酸素を含むアルコールを水素が吸蔵された水素吸蔵金属触媒と接触させて、前記アルコールから前記溶存酸素を除去することを有するアルコール中の溶存酸素除去方法であって、前記アルコールから前記溶存酸素を除去した後、前記溶存酸素の除去の際に発生した水を除去することを有する、アルコール中の溶存酸素除去方法。
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