JP5853660B2 - 電子ビームの照射方法 - Google Patents
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 77
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 64
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 64
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
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Description
電子ビームはビーム出力が安定するまで、数10〜数100msほどの時間がかかる。高出力で被照射体を溶融・変形させる溶接などの用途では、ビーム出力が安定するまで、被照射体上にビームを照射している。一方で、表面改質などの用途においては、被照射体に照射される微妙な熱が、表面性状などに影響してくるため、加工する材料の近傍に設置したアイドルターゲットに電子ビームを照射して、出力を安定化させた後に、加工を開始している(例えば、特許文献1)。
(1)アイドルターゲットの変形・磨耗
(2)金属蒸気の発生による電子銃加工室の真空度低下
(3)金属ストリップへの金属蒸気の付着
(4)アイドルターゲットからの熱伝導による金属ストリップの高温化と変形
上記(2)により、電子ビームの金属ストリップへの照射エネルギが低下し、加工精度の低下を招く。
上記(3)により、金属ストリップの外観等が劣化する。
上記(4)により、電子ビーム源と金属ストリップの間の距離が変化し、加工精度が低下する。
また、特許文献3に、ビーム待機位置で収束電流を変化させることにより、ターゲットの蒸発を抑えることで、基板への不要な蒸着粒子の付着を防止する技術が開示されている。
一方、一般的な解決方法として、アイドルターゲットを大型化したり、アイドルターゲットの素材を変更することが考えられる。
また、アイドルターゲットの素材を変更する場合は、例えば、熱伝導度がより高い銀、またはより融点の高いタングステンもしくはモリブデンに変えることによって、上記の問題を軽減または解決することができる。しかしながら、これらの素材はいずれも入手が難しく、またタングステンやモリブデンの場合には加工性に問題がある。
1)アイドルターゲットに電子ビームを照射する際のアイドルターゲット表面におけるビーム照射径を、金属ストリップに電子ビームを照射する際の金属ストリップ表面におけるビーム照射径よりも大きくしてやれば、アイドルターゲットのビーム照射面における熱密度を低下させて、アイドルターゲットの局所的な高温化を防止することができる。
この発明は、上記の知見に立脚するものである。
1.金属ストリップに対し電子ビームを照射する方法において、電子ビームの出力が安定するまでの間、または電子ビームが金属ストリップの外側に照射される間に、別途用意したアイドルターゲットに電子ビームを照射するに際し、
上記アイドルターゲットと上記金属ストリップの距離を上記金属ストリップ表面に対する法線方向に離すことにより、上記アイドルターゲットに電子ビームを照射する際の該アイドルターゲット表面におけるビーム照射径を、上記金属ストリップに電子ビームを照射する際の該金属ストリップ表面におけるビーム照射径の1.2倍以上とすることを特徴とする電子ビームの照射方法。
本発明に係る電子ビームの代表的な照射要領を、図1を用いて説明する。図1において、1は電子ビーム発生装置(電子銃)、2は金属ストリップ、3は電子ビーム、4はアイドルターゲットである。さて金属ストリップ2は、真空室内を図中に示すY方向に走行しているものとする。電子銃1は、真空室の上方に設置されていて、ストリップ2の上面に向けて電子ビーム3を照射する。この時電子ビーム3は、電子銃1に取り付けられた収束コイルによりその径を絞られ、同じく電子銃1に取り付けられた偏向コイルによりその進行方向が偏向させられる。
なお、照射径rは、金属ストリップまたはアイドルターゲット上に電子ビームを静止したときに照射される照射面積Sを求め、その円相当径(S=πr2、すなわち、r=(S/π)1/2)として求められる。照射面積は、例えば、油性インクを塗布した鋼板にビームを照射すると照射部のインクがはがれるため、そのはがれた部分の面積を求めることで、事前に測定しておくことができる。
図5に示す結果から、この条件下ではΔWDが50 mm 以上であれば、アイドルターゲット4が溶融しない最大の照射エネルギを高めることができる、換言すれば、アイドルターゲット4が溶融するようなアイドルターゲット4の局所的な高温化を効果的に防止できることが分かる。
(1)アイドルターゲットの変形
(2)電子銃加工室の真空度低下
(3)金属ストリップへの金属蒸気付着
(4)金属ストリップの変形
の有無について調べた結果を、表2に示す。なお、金属ストリップの中央部における電子ビームの照射径は0.25 mm の一定とした。また、表1における配置パターン1,2,3,4は、それぞれ図1,2,3,6に示した配置に対応するものである。
次に、ビーム電流が7.5 mA と低く、また走査速度も25 m/s と遅い従来例のNo.2では特に問題は生じなかったが、ビーム電流を15 mA 、走査速度を50 m/s に上げた比較例のNo.3では上記(1)〜(3)の問題が発生した。さらに、ビーム電流を45 mA 、走査速度を150 m/s に上げた比較例のNo.4では、上記(1)〜(3)の問題に加えて上記(4)の問題が発生した。
以上の実施例により、本発明に従う電子ビームの照射方法によれば、アイドルターゲットの局所的な高温化を効果的に抑制できることが確認された。
2 金属ストリップ
3 電子ビーム
4 アイドルターゲット
Claims (2)
- 金属ストリップに対し電子ビームを照射する方法において、電子ビームの出力が安定するまでの間、または電子ビームが金属ストリップの外側に照射される間に、別途用意したアイドルターゲットに電子ビームを照射するに際し、
上記アイドルターゲットと上記金属ストリップの距離を上記金属ストリップ表面に対する法線方向に離すことにより、上記アイドルターゲットに電子ビームを照射する際の該アイドルターゲット表面におけるビーム照射径を、上記金属ストリップに電子ビームを照射する際の該金属ストリップ表面におけるビーム照射径の1.2倍以上とすることを特徴とする電子ビームの照射方法。 - 前記アイドルターゲットを昇降移動させることによって、該アイドルターゲット表面におけるビーム照射径を調整することを特徴とする請求項1に記載の電子ビームの照射方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011273758A JP5853660B2 (ja) | 2011-02-28 | 2011-12-14 | 電子ビームの照射方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011042922 | 2011-02-28 | ||
JP2011042922 | 2011-02-28 | ||
JP2011273758A JP5853660B2 (ja) | 2011-02-28 | 2011-12-14 | 電子ビームの照射方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012194174A JP2012194174A (ja) | 2012-10-11 |
JP5853660B2 true JP5853660B2 (ja) | 2016-02-09 |
Family
ID=47084870
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011273761A Active JP5867053B2 (ja) | 2011-02-28 | 2011-12-14 | 電子ビームの照射方法 |
JP2011273758A Active JP5853660B2 (ja) | 2011-02-28 | 2011-12-14 | 電子ビームの照射方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011273761A Active JP5867053B2 (ja) | 2011-02-28 | 2011-12-14 | 電子ビームの照射方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP5867053B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5867053B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2016-02-24 | Jfeスチール株式会社 | 電子ビームの照射方法 |
JP5929808B2 (ja) * | 2013-03-27 | 2016-06-08 | Jfeスチール株式会社 | 高速電子ビーム照射による方向性電磁鋼板の製造方法 |
JP6015723B2 (ja) * | 2013-08-30 | 2016-10-26 | Jfeスチール株式会社 | 低騒音変圧器鉄心用方向性電磁鋼板の製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57135172A (en) * | 1981-02-13 | 1982-08-20 | Hell Rudolf Dr Ing Gmbh | Electron beam-working method |
JPH02228427A (ja) * | 1989-03-01 | 1990-09-11 | Mitsubishi Electric Corp | 電子ビームによる歯車の焼入方法 |
JP3160315B2 (ja) * | 1991-06-28 | 2001-04-25 | 川崎製鉄株式会社 | 電子ビームの照射方法及び照射装置 |
JPH05279744A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-26 | Kawasaki Steel Corp | 電子ビームの照射方法 |
JP4039306B2 (ja) * | 2003-04-22 | 2008-01-30 | 松下電工株式会社 | 立体回路パターンの形成方法、装置、及びこれらを用いて製造される立体回路板 |
JP2006026660A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | Elionix Kk | 電子ビーム表面平滑化装置および金型表面の処理方法 |
JP2008221254A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Sharp Corp | レーザ装置 |
JP5867053B2 (ja) * | 2011-02-28 | 2016-02-24 | Jfeスチール株式会社 | 電子ビームの照射方法 |
-
2011
- 2011-12-14 JP JP2011273761A patent/JP5867053B2/ja active Active
- 2011-12-14 JP JP2011273758A patent/JP5853660B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5867053B2 (ja) | 2016-02-24 |
JP2012194174A (ja) | 2012-10-11 |
JP2012192448A (ja) | 2012-10-11 |
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