JP5826942B2 - 走査電子顕微鏡及びこれを用いた1次電子の電流量測定方法 - Google Patents

走査電子顕微鏡及びこれを用いた1次電子の電流量測定方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5826942B2
JP5826942B2 JP2014533170A JP2014533170A JP5826942B2 JP 5826942 B2 JP5826942 B2 JP 5826942B2 JP 2014533170 A JP2014533170 A JP 2014533170A JP 2014533170 A JP2014533170 A JP 2014533170A JP 5826942 B2 JP5826942 B2 JP 5826942B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
primary
filter
detector
electrons
specimen
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2014533170A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014528154A (ja
Inventor
キム,ソウク
ヒョン アン,ジェ
ヒョン アン,ジェ
ボン カン,ソン
ボン カン,ソン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SNU Precision Co Ltd
Original Assignee
SNU Precision Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SNU Precision Co Ltd filed Critical SNU Precision Co Ltd
Publication of JP2014528154A publication Critical patent/JP2014528154A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5826942B2 publication Critical patent/JP5826942B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/244Detectors; Associated components or circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/245Detection characterised by the variable being measured
    • H01J2237/24507Intensity, dose or other characteristics of particle beams or electromagnetic radiation
    • H01J2237/24514Beam diagnostics including control of the parameter or property diagnosed
    • H01J2237/24535Beam current

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

本発明は、走査電子顕微鏡及びこれを用いた1次電子の電流量測定方法に関し、より詳細には、1次電子及び2次電子に電磁界を印加するフィルタと第1検出器を鏡筒内部に一体に形成することによって、別途の検出装置を外部に設置しないため装置が小型化され、2次電子を検出しながら連続的に1次電子の電流量を容易に測定することができ、検査作業の効率性が確保された走査電子顕微鏡及びこれを用いた1次電子の電流量測定方法に関する。
半導体装置製造工程など極めて微細で精密な測定と加工が必要な工程において使用される走査電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)は、ソースで発生した電子を試片に誘導して衝突させ、その結果、発生する様々な現象を検出器で測定し、試片の状態を把握する装備であって、10−3Pa以上の真空中に置かれた試片の表面を1ないし100nm程度の微細な電子線でx−yの二次元方向に走査し、試片の表面で発生する2次電子の信号を検出して陰極線管の画面上に拡大画像を表示したり記録し、試片の形態、微細構造などを分析する装置である。
図1は、走査電子顕微鏡の概略的な構成を示す図である。走査電子顕微鏡においては、陰極1で発生した1次電子を電磁気レンズをなす電極2を介して加速させて集約させ、電子ビームの形態で試片に誘導して放出される2次電子を検出器3を介して試片の一定領域を分析する。
走査電子顕微鏡の電子ビームが試片側に走査されて形成される電子の流れは、当然電流をなすものであり、これを走査電流という。
しかし、一般的に走査電流は、走査電子顕微鏡の設備を一定にセッティングして運営しても設備の特性上、ある程度の時間に経過に伴う変移があり、これにより作業者が新たにセッティングして使用する必要があり、走査電流が変化しても感知しにくく、変化した状態で装備を運営することによって、誤った測定値を有するようになる問題点がある。
前述したように、従来走査電子顕微鏡は、1次電子の電流量と試片から放出される2次電子の信号に差が発生するようになり、これにより、試片が帯電されることによって獲得される試片の画像イメージまたはデータなどに歪みが発生する問題があった。
これにより、入射エネルギーである1次電子の電流量を測定するために、従来は図1(a)で示すように、試片分析前の鏡筒下部の試片位置に別途の検出器4を設置し、入射される1次電子の電流量を測定したり、図1(b)に示すように、試片のそばに別途の検出器4を設置して入射される1次電子を屈折させて検出器4に入射させ、1次電子の電流量を測定した。
前記のように、試片の一定領域を分析中に、1次電子の電流量を測定するためにはスキャニングを中止して1次電子の電流量を測定した。
したがって、分析時ごとに検出器4を別に設置しなければならず、分析中には1次電子の電流量を測定することが困難な欠点があって作業効率が悪くなり、鏡筒外部に検出器4が設置されて装置の全体サイズが大きくなる欠点がある。
したがって、本発明の目的は、このような従来の問題点を解決するためのものであって、1次電子及び2次電子に電磁界(electromagnetic field)を印加するフィルタと第1検出器を鏡筒内部に一体に形成することにより、2次電子を検出しながら連続的に1次電子の電流量を容易に測定することができて、検査作業の効率性が確保され、装置が小型化された走査電子顕微鏡及びこれを用いた1次電子の電流量測定方法を提供することにある。
前記目的は、本発明により、走査電子顕微鏡において、内部に収容空間が形成された鏡筒と、前記鏡筒内部に設置され、前記鏡筒外部の試片に向かって荷電された1次電子を発生させるソースと、前記鏡筒内部で前記ソースの下部に設置され、前記1次電子及び前記1次電子が前記試片に衝突した後、放出される2次電子の移動経路を変えるフィルタと、前記フィルタと前記試片との間の前記鏡筒内部に設置され、前記フィルタで発生する電磁界により移動経路が変更された前記1次電子による電流量を検出する第1検出器と、前記ソースと前記フィルタとの間の前記鏡筒内部に設置され、前記フィルタによって移動経路が変更された前記2次電子を検出する第2検出器と、前記1次電子及び前記2次電子の移動経路を選択的に変更するように前記フィルタを制御するフィルタ制御部と、を含むことを特徴とする走査電子顕微鏡によって達成される。
また、前記走査電子顕微鏡は、前記試片の走査領域を行に対して順次にスキャンするラスター走査方式であることが好ましい。
また、前記フィルタ制御部は、前記試片の走査領域のうち一つの行に対して1次電子が走査される間は、前記2次電子が前記第2検出器に流入するように前記フィルタを制御し、前記試片の次の行に1次電子を走査するために1次電子の入射位置を移動する間には、前記1次電子が前記第1検出器に流入するように前記フィルタを制御することが好ましい。
また、前記第1検出器及び前記第2検出器から検出された信号を分析する検査部と、前記検査部から伝達された結果値に応じて、ソースから走査される前記1次電子の電流量を制御するソース制御部をさらに含むことが好ましい。
前記目的は、本発明により、第1項ないし第4項の走査電子顕微鏡を用いた1次電子の電流量測定方法において、試片の検査領域のうち一つの行に対して荷電された前記1次電子を走査すると同時に、前記2次電子が第2検出器に誘導されるように前記フィルタを制御する段階と、前記1次電子の走査位置を次の行に移動すると同時に、前記1次電子が前記第1検出器に誘導されるように前記フィルタを制御する段階と、を含むことを特徴とする走査電子顕微鏡の1次電子の電流量測定方法によって達成される。
また、前記1次検出器と前記2次検出器から測定された結果値を比較分析し、前記ソースの前記1次電子発生量を調節する検査段階をさらに含むことが好ましい。
本発明によると、2次電子を検出しながら連続的に1次電子の電流量を容易に測定することができて検査作業の効率性が確保され、鏡筒内部に一体型に設置されて装置が小型化された走査電子顕微鏡及びこれを用いた1次電子の電流量測定方法が提供される。
従来の走査電子顕微鏡の概略的な構成を示す図である。 本発明の走査電子顕微鏡の概略的な構成と本発明による使用方法を説明するための図である。 本発明の走査電子顕微鏡の概略的な構成と本発明による使用方法を説明するための図である。 本発明の走査電子顕微鏡のファラデーカップの他の形態を示す図である。 本発明の走査電子顕微鏡の走査方式を説明するための図である。 本発明の走査電子顕微鏡を用いた1次電子の電流量測定方法のフローチャートである。
説明に先立ち、同一の構成を有する構成要素については、同一の符号を使用して代表的に一実施形態で説明し、その他の実施形態では一実施形態と異なる構成について説明することにする。
以下、添付の図面を参照して本発明の一実施形態に係る走査電子顕微鏡について詳細に説明する。
図2は、本発明の走査電子顕微鏡の概略的な構成と本発明に係る使用方法を説明するための図であり、図3は、本発明の走査電子顕微鏡の概略的な構成と本発明に係る使用方法を説明するための図であり、図4は、本発明の走査電子顕微鏡のファラデーカップの他の形態を示す図であり、図5は、本発明の走査電子顕微鏡の走査方式を説明するための図である。
図1及び図2を参照すると、本発明に係る走査電子顕微鏡は内部に収容空間が形成された円筒状の鏡筒10と、1次電子を発生して供給するソース20と、試片が設置されるスキャン部30と、1次電子及び2次電子の移動経路を変更するフィルタ40と、フィルタ40を制御するフィルタ制御部50と、1次電子の電流量及び2次電子信号を検出する検出部60と、検出部60の信号を分析する検査部70と、ソース20の1次電子発生量を調節するソース制御部80と、2次電子を介してイメージ化するディスプレイ部90を含む。
ソース20は、陰極を加熱して発生する1次電子を後述するスキャン部30に走査する部材として、鏡筒10の上端部に設置され、発生した1次電子を加速して集約させ、試片に誘導する電極21と正孔が形成された正孔板22をさらに含む。
スキャン部30は、ソース20と対向されるように鏡筒10の下方に設けられ、上面には試片が置かれる。ソース20から走査される1次電子はスキャン部30の上面に設けられる試片に入射されて、試片では2次電子を含む様々な信号を放出する。この時、放出される2次電池はソース20側に放出される。
フィルタ40は、1次電子と2次電子が通過する経路上に位置することにより、2次電子の経路を変更させる部材として、鏡筒10内部の正孔板22の下方に設置され、電場発生部と磁場発生部を含み、本実施形態では一般的なウィーンフィルタ(Wien filter)が使用される。
フィルタ40により、1次電子及び2次電子が通過する電場及び磁場の方向を変化させることによって移動経路を変化させることができる。
図2及び図3を参照すると、フィルタ40は、電場と磁場の力が平衡を成して、1次電子経路に変化がないが、2次電子が上側に移動する場合には電場と磁場が同じ方向に作用して2次電子の移動経路に変化が発生するようになり、また、電場と磁場を利用して、試片に入射される1次電子の移動経路を直接的に変更することができる。
一方、フィルタ制御部50は、フィルタ40の電場と磁場を制御して、1次電子及び2次電子の移動経路を制御する装置である。
図3及び図4を参照すると、検出部60は、1次電子による電流値を測定する第1検出器61と、2次電子を測定する第2検出器62を含んで構成されて一般的なファラデーカップが使用され、その形状はカップ状または中心に穴が形成された円板状であり、これに限定されるものではない。
第1検出器61は、前記鏡筒10の内部において、前記フィルタ40の下方に設けられ、フィルタ40の電場と磁場によって移動経路が変更された1次電子が流入されて第1電子の電流量を測定する装置である。
第2検出器62は、前記鏡筒10の内部において、前記正孔板22とフィルタ40との間に配置され、試片に入射された1次電子が衝突した後生成される2次電子を検出する装置である。
前述したように、1次電子及び2次電子を検出する第1検出器61及び第2検出器62が鏡筒内部に一体型に設置され、装置の全体サイズが小型化される利点がある。
検査部70は、第1検出器61から測定された1次電子の電流量と第2検出器62から測定された2次電子の電流量またはユーザーが任意に定めた1次電子の電流量値の範囲と比較して、ソース20の1次電子発生量を調節する装置である。
ソース制御部80は、検査部70から伝達された結果値に応じて、ソース20から発生される1次電子走査量を制御する装置である。
ディスプレイ部90は、試片から発生する2次電子を第2検出器62で検出して、試片をイメージ化する装置である。
一方、ディスプレイ部90は、前述した検査部70でのみ、2次電子のイメージを表示するだけでなく、走査電子顕微鏡の試片分析をしながら同時に表示される。
したがって、前述した検査部70の代わりにユーザーが走査電子顕微鏡を操作して、ディスプレイ部90にイメージされる画像を調節することができる。
一方、本実施形態に係る走査電子顕微鏡は、ディフレクター(図示せず)または移送部(図示せず)をさらに含んで、試片の測定しようとする領域に1次電子の入射位置を変更することができるように構成されることが好ましい。
また、本実施形態に係る走査電子顕微鏡は、試片に対してラスター方式でスキャンをして、図5に示すように、一番目の行に対して開始点(A)からx方向に終点(B)までスキャンをした後、再び開始点(A)に戻って、次の列に移動するためにy方向に移動をする。その後、再度前記の過程を繰り返して、試片の一定領域をスキャンするようになる。
しかし、スキャン方式は、前記の例に限定されるものではなく、様々な方式でスキャンすることができる。
ここからは、前述した走査電子顕微鏡の作動について説明する。
図5を参照すると、試片の分析しようとする領域の一番目の列の開始位置でソース20から1次電子を下方に試片に走査しながら、試片の一番目の行に対して開始点(A)からx方向に移動をすると、スキャン部30上に置かれる試片は、1次電子と衝突して2次電子を放出する。2次電子は、1次電子移動経路の反対方向、すなわち、ソース20方向に移動してフィルタ40を通過する。
この時、フィルタ制御部50は、図2に示すようにフィルタ40の電磁界を制御して2次電子の移動経路を望む方向に制御することができ、2次電子の移動経路を第2検出器62側に変更する。
2次電子が変更された移動経路により、第2検出器62に入射されると、第2検出器62が2次電子による様々な信号が検出され、第2検出器62と連結されたディスプレイ部90は第2検出器62から入力される信号によって、試片の形状をイメージ化する。
前述したように、試片の分析領域の一番目の列のスキャンが終わると、1次電子の走査位置は再び一番目の列の開始位置に戻った後、y方向に移動して二番目の列の開始点(A)から終点(B)に移動する。
これと同時に、フィルタ制御部50は、図3に示すようにフィルタ40を制御し、ソース20から発生される1次電子の経路を第1検出器61側に変更する。
したがって、第1検出器61に入射された1次電子により、1次電子の電流量を検出することができるようになる。続いて、検査部70は、測定された1次電子の電流量と測定された2次電子の電流量またはユーザーが任意に定めた1次電子の電流量値の範囲と比較して、ソース20から放出される1次電子の電流量を制御する。
前述した方法を繰り返すことにより、試片の分析しようとする領域を順次に移動しながらスキャンして、2次電子によるイメージをディスプレイ部90が表示する。
したがって、鏡筒10の内部に一体型に設置された第1検出器61及び第2検出器62により、別途の検出装置が必要ないため装置の全体サイズが小型化され、1次電子の入射位置を次の行に移動させるために、y軸に移動する間、1次電流の電流量を測定するようになるのでスキャニングを中止する必要がないため作業の効率性が増大する。
ここからは、前述した走査電子顕微鏡を用いた1次電子の電流量測定方法について説明する。
図5は、本発明の走査電子顕微鏡の走査方式を説明するための図であり、図6は、本発明の走査電子顕微鏡を用いた1次電子の電流量測定方法のフローチャートである。
図6を参照すると、本発明に係る1次電子の電流量測定方法は、2次電子検出段階(S10)と、1次電子検出段階(S20)と、検査段階(S30)と、1次電子走査量制御段階(S31)と、ディスプレイ段階(S40)を含んで構成される。
2次電子検出段階(S10)は、ソース20から発生される1次電子を試片に走査して、1次電子が試片に衝突しながら発生する2次電子を検出する段階であって、x方向移動段階(S11)と、フィルタ制御段階(S12)と、検出段階(S13)を含んで構成される。
図5を参照すると、x方向移動段階(S11)は、分析しようとする試片の一定領域の一番目の行の開始点(A)を基準に終点(B)までディフレクター(図示せず)または移送部(図示せず)によって、試片に入射される1次電子の入射位置を移動させ、1次電子を試片に入射して2次電子を発生させる段階である。
フィルタ制御段階(S12)は、x方向移動段階(S11)と同時に遂行される段階であって、2次電子が第2検出器62に入射されるように、フィルタ制御部50がフィルタ40の電磁界を制御する段階である。
検出段階(S13)は、試片に入射される1次電子によって発生された2次電子がフィルタ40により発生された電磁界によって、第2検出器62に入射されて2次電子の信号を測定する段階である。
1次電子検出段階(S20)は、ソース20から発生された1次電子の電流量を第1検出器61が測定する段階であって、y方向移動段階(S21)と、フィルタ制御段階(S22)と、検出段階(S23)を含んで構成される。
y方向移動段階(S21)は、試片の次の熱を分析するために終点(B)まで移動した1次電子の入射位置を変更する段階であって、終点(B)で再び開始点(A)まで移動した後、行の移動方向であるy方向に移動して試片に入射される1次電子の入射位置を移動させる段階である。
フィルタ制御段階(S22)は、y方向移動段階(S21)と同時に遂行される段階であって、フィルタ制御部50がフィルタ40の電磁界を制御して、1次電子が第1検出器61に入射されるようにする段階である。
検出段階(S23)は、試片に入射される1次電子がフィルタ40により発生された電磁界により、第1検出器61に入射されて1次電子の電流量を測定する段階である。
前述したように、2次電子検出段階(S10)は、開始点(A)から終点(B)に1次電子の入射位置が移動している間に遂行され、1次電子検出段階(S20)は、終点(B)から次の行の開始点(A)に1次電子の入射位置が移動している間に遂行される。したがって、前述した二つの段階は、連続的に遂行されるため1次電子を検出するために検査作業の効率が増大する。
検査段階(S30)は、検査部70によって測定された1次電子の電流量と2次電子の電流量またはユーザーが任意に定めた1次電子の電流量値の範囲と比較する段階であって、結果に応じて後述する1次電子走査量制御段階(S40)またはディスプレイ段階(S50)が遂行される。
一方、2次電子は、試片の種類、形状、1次電子の電流量などに従属的に変化するところ、1次電子の電流量を変化させながら2次電子信号検査を繰り返すと、同一の試片に対して2次電子効率が最適となる1次電子の電流量を求めることができる。
前述したように、1次電子走査量制御段階(S40)は、検査段階(S30)で検査された1次電子と2次電子の結果値の比較結果がユーザーが定めた結果値ではない場合、ソース20の1次電子走査量を制御する段階であり、結果値がユーザーの望む結果値の場合には、ディスプレイ段階(S50)が遂行される。
ディスプレイ段階(S50)は、第2検出部62で検出した2次電子のデータを基にして、ディスプレイ上に試片をイメージ化する段階である。
本発明の権利範囲は、前述した実施形態に限定されるものではなく、添付した特許請求の範囲内で様々な形態の実施形態に具現することができる。特許請求の範囲で請求する本発明の要旨を逸脱することなく、当該発明の属する技術分野における通常の知識を有する者であれば誰でも変形可能な多様な範囲まで本発明の請求範囲の記載の範囲内にあるものとみなす。
1次電子及び2次電子に電磁界を印加するフィルタと第1検出器を鏡筒内部に一体に形成することによって、別途の検出装置を外部に設置しないため装置が小型化され、2次電子を検出しながら連続的に1次電子の電流量を容易に測定することができ、検査作業の効率性が確保される。

Claims (6)

  1. 走査電子顕微鏡において、
    内部に収容空間が形成された鏡筒と、
    前記鏡筒内部に設置され、前記鏡筒外部の試片に向かって荷電された1次電子を発生させるソースと、
    前記鏡筒内部で前記ソースの下部に設置され、前記1次電子及び前記1次電子が前記試片に衝突した後、放出される2次電子の移動経路を変えるフィルタと、
    前記フィルタと前記試片との間の前記鏡筒内部に設置され、前記フィルタで発生する電磁界(electromagnetic field)により移動経路が変更された前記1次電子による電流量を検出する第1検出器と、
    前記ソースと前記フィルタとの間の前記鏡筒内部に設置され、前記フィルタによって移動経路が変更された前記2次電子を検出する第2検出器と、
    前記1次電子及び前記2次電子の移動経路を選択的に変更するように前記フィルタを制御するフィルタ制御部と、
    を含むことを特徴とする走査電子顕微鏡。
  2. 前記走査電子顕微鏡は、前記試片の走査領域を行に対して順次にスキャンするラスター走査方式であることを特徴とする請求項1に記載の走査電子顕微鏡。
  3. 前記フィルタ制御部は、前記試片の走査領域のうち一つの行に対して1次電子が走査される間は、前記2次電子が前記第2検出器に流入するように前記フィルタを制御し、前記試片の次の行に1次電子を走査するために1次電子の入射位置を移動する間には、前記1次電子が前記第1検出器に流入するように前記フィルタを制御することを特徴とする請求項2に記載の走査電子顕微鏡。
  4. 前記第1検出器及び前記第2検出器から検出された電流量比較する検査部と、
    前記検査部から伝達された結果値に応じて、ソースから走査される前記1次電子の電流量を制御するソース制御部をさらに含むことを特徴とする請求項3に記載の走査電子顕微鏡。
  5. 請求項1ないし4のいずれかに記載の走査電子顕微鏡を用いた1次電子の電流量測定方法において、
    試片の検査領域のうち一つの行に対して荷電された前記1次電子を走査すると同時に、前記2次電子が第2検出器に誘導されるように前記フィルタを制御する段階と、
    前記1次電子の走査位置を次の行に移動すると同時に、前記1次電子が前記第1検出器に誘導されるように前記フィルタを制御する段階と、
    を含むことを特徴とする走査電子顕微鏡の1次電子電流量測定方法。
  6. 前記第1検出器と前記第2検出器から測定された電流量を比較し、比較された結果値に応じて、前記ソースの前記1次電子発生量を調節する検査段階をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載の走査電子顕微鏡の1次電子電流量測定方法。
JP2014533170A 2011-09-27 2011-09-28 走査電子顕微鏡及びこれを用いた1次電子の電流量測定方法 Expired - Fee Related JP5826942B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2011-0097829 2011-09-27
KR1020110097829A KR101348581B1 (ko) 2011-09-27 2011-09-27 주사전자현미경 및 이를 이용한 1차전자의 전류량 측정 방법
PCT/KR2011/007129 WO2013047920A1 (ko) 2011-09-27 2011-09-28 주사전자현미경 및 이를 이용한 1차전자의 전류량 측정 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014528154A JP2014528154A (ja) 2014-10-23
JP5826942B2 true JP5826942B2 (ja) 2015-12-02

Family

ID=47995930

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014533170A Expired - Fee Related JP5826942B2 (ja) 2011-09-27 2011-09-28 走査電子顕微鏡及びこれを用いた1次電子の電流量測定方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5826942B2 (ja)
KR (1) KR101348581B1 (ja)
CN (1) CN103890896B (ja)
TW (1) TWI456622B (ja)
WO (1) WO2013047920A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101493215B1 (ko) * 2013-07-31 2015-02-16 케이맥(주) 이온 및 전자 빔 전류 측정을 위한 패러데이 컵
WO2015016632A1 (ko) * 2013-07-31 2015-02-05 케이맥(주) 비행시간을 이용한 조성 및 정량 분석 장치 및 방법, 이에 이용되는 패러데이 컵 어셈블리
KR101756171B1 (ko) 2015-12-15 2017-07-12 (주)새론테크놀로지 주사 전자 현미경
US20220254599A1 (en) * 2019-07-26 2022-08-11 Asml Netherlands B.V. Multiple landing energy scanning electron microscopy systems and methods

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04115447A (ja) * 1990-09-04 1992-04-16 Jeol Ltd イオンビーム装置
JP3148353B2 (ja) * 1991-05-30 2001-03-19 ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション 電子ビーム検査方法とそのシステム
JP3101114B2 (ja) * 1993-02-16 2000-10-23 日本電子株式会社 走査電子顕微鏡
JPH07105888A (ja) * 1993-10-05 1995-04-21 Jeol Ltd 走査電子顕微鏡
JP3376793B2 (ja) * 1995-12-20 2003-02-10 株式会社日立製作所 走査形電子顕微鏡
JP2003187733A (ja) * 2001-12-14 2003-07-04 Ebara Corp 電子線装置及びこの装置を用いたデバイス製造方法
JP4636897B2 (ja) * 2005-02-18 2011-02-23 株式会社日立ハイテクサイエンスシステムズ 走査電子顕微鏡
JP5075375B2 (ja) 2006-08-11 2012-11-21 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査電子顕微鏡
JP4889105B2 (ja) * 2006-08-23 2012-03-07 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 荷電粒子ビーム装置
JP5276860B2 (ja) 2008-03-13 2013-08-28 株式会社日立ハイテクノロジーズ 走査電子顕微鏡
US7960697B2 (en) * 2008-10-23 2011-06-14 Hermes-Microvision, Inc. Electron beam apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
TW201314732A (zh) 2013-04-01
TWI456622B (zh) 2014-10-11
JP2014528154A (ja) 2014-10-23
WO2013047920A1 (ko) 2013-04-04
CN103890896B (zh) 2016-08-17
KR20130033877A (ko) 2013-04-04
CN103890896A (zh) 2014-06-25
KR101348581B1 (ko) 2014-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10840060B2 (en) Scanning electron microscope and sample observation method
JP4795883B2 (ja) パターン検査・計測装置
US9324540B2 (en) Charged particle beam device
US7755776B2 (en) Inspection system and inspection method
US9136089B2 (en) Pattern dimension measuring device, charged particle beam apparatus, and computer program
US9401297B2 (en) Electrostatic chuck mechanism and charged particle beam apparatus
JP2007051902A (ja) 写像投影型電子線式検査装置及びその方法
JP4253576B2 (ja) パターン欠陥検査方法及び検査装置
JP5826942B2 (ja) 走査電子顕微鏡及びこれを用いた1次電子の電流量測定方法
TW201447225A (zh) 圖案測定方法、帶電粒子束裝置之裝置條件設定方法、以及帶電粒子束裝置
JP6215298B2 (ja) 荷電粒子線装置
JP2000286310A (ja) パターン欠陥検査方法および検査装置
JP5712073B2 (ja) 試料の検査条件・測定条件の自動判定方法及び走査型顕微鏡
WO2012001883A1 (ja) 電子ビームの照射方法及び走査電子顕微鏡
JP6121704B2 (ja) 荷電粒子線装置
JP4484860B2 (ja) パターン欠陥検査方法
JP2011228311A (ja) 検査装置、および検査方法
JP2016139531A (ja) 試料の観察、検査、測定方法、及び走査電子顕微鏡
JP2011179819A (ja) パターン測定方法及びコンピュータプログラム
JP5530811B2 (ja) 走査電子顕微鏡装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140526

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150217

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150224

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150522

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151006

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151014

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5826942

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees