JP6215298B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
上下の検出器で信号を分離する際、2次電子がどちらの検出器に入るかは、2次電子を分離する2次電子制限板への2次電子到達位置によって決まる。2次電子を観察パターンと直交方向に偏向させるには、非偏向時の基準となる到達位置が制限板の中央となる事、すなわち方位角による分離が生じない事が必要である。この条件を基準として、2次電子を任意の方向に偏向することで、任意の方位角で2次電子を分離できる。
制御装置40は、走査電子顕微鏡の各構成を制御すると共に、検出された電子に基づいて画像を形成する機能や、ラインプロファイルと呼ばれる検出電子の強度分布に基づいて、試料上に形成されたパターンのパターン幅を測定する機能を備えている。
Claims (10)
- 荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを通過させる第1の通過開口を有し、前記荷電粒子ビームの照射によって試料から放出された荷電粒子を検出する、或いは試料から放出された荷電粒子の衝突によって1の検出器に検出させる荷電粒子を発生する第1の開口部形成部材を備えた荷電粒子線装置において、
前記試料から放出された荷電粒子を偏向する偏向器と、
前記試料から放出され、前記第1の通過開口を通過した荷電粒子を検出する、或いは前記第1の通過開口を通過した荷電粒子の衝突によって前記1の検出器とは異なる他の検出器に検出させる荷電粒子を発生する第2の開口部形成部材と、
前記偏向器を制御する制御装置を備え、
当該制御装置は、前記試料上の複数のエッジの内、1のエッジの信号が相対的に他のエッジに対して強調された第1の検出信号を、前記第1の開口部形成部材への荷電粒子の衝突に基づいて検出し、
前記複数のエッジの内、他のエッジの信号が相対的に前記1のエッジの信号に対して強調された第2の検出信号を、前記第2の開口部形成部材への荷電粒子の衝突に基づいて検出し、当該検出された第1の検出信号と第2の検出信号を用いて、パターン測定を実行することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、前記1の検出器による前記1のエッジの検出信号量が増加するように、前記偏向器を制御することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、前記試料上に形成されたパターンの伸展方向と直交する方向に前記試料から放出される荷電粒子を偏向するように、前記偏向器を制御することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3において、
前記制御装置は、前記パターンの伸展方向を設計データから読み取り、2次電子の偏向条件に反映することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3において、
2次電子の軌道を偏向させる方向は、観察パターンの形状差を判定したい2点を結ぶ直線方向であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、異なる方位角成分を検出した2つ以上のSEM画像を合成し、各画像で抽出したパターンのエッジを基にパターン寸法を測長する事を特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、異なる方位角成分を検出した2つ以上のSEM画像を合成し、元の形状を予測する事を特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記制御装置は、2次電子を偏向し、検出する前に、表面を電子線で走査する事により、2次電子の到達位置を判定し、到達位置と観察時の視野中心とを一致させる事を特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
2次電子を偏向する方向および距離は、2次電子への絞りの到達位置および絞りでの2次電子の広がりの範囲に基づいて決定する事を特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを通過させる第1の通過開口を有し、前記荷電粒子ビームの照射によって試料から放出された荷電粒子を検出する、或いは試料から放出された荷電粒子の衝突によって検出器に検出させる荷電粒子を発生する第1の開口部形成部材を備えた荷電粒子線装置において、
前記試料から放出された荷電粒子を偏向する偏向器と、
前記偏向器を制御する制御装置を備え、当該制御装置は、前記試料上の複数のエッジの内、1のエッジの信号が相対的に他のエッジに対して強調される第1の偏向条件で前記偏向器を制御して、第1の検出信号を取得し、前記複数のエッジの内、他のエッジの信号が相対的に前記1のエッジの信号に対して強調される第2の偏向条件で前記偏向器を制御して、第2の検出信号を取得し、取得された前記第1の検出信号と第2の検出信号を用いて、パターン測定を実行することを特徴とする荷電粒子線装置。
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