JP5562429B2 - トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 - Google Patents
トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 Download PDFInfo
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- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 73
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 54
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 25
- MGWYSXZGBRHJNE-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-dicarbonitrile Chemical compound N#CC1CCC(C#N)CC1 MGWYSXZGBRHJNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 170
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 119
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 92
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 75
- 238000007333 cyanation reaction Methods 0.000 claims description 70
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 59
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 48
- 150000003503 terephthalic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 46
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 42
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 41
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 34
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 29
- 238000005902 aminomethylation reaction Methods 0.000 claims description 25
- -1 terephthalic acid ester Chemical class 0.000 claims description 19
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 16
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 12
- ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N tetraglyme Chemical compound COCCOCCOCCOCCOC ZUHZGEOKBKGPSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 11
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 11
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims description 10
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- JMHSCWJIDIKGNZ-UHFFFAOYSA-N 4-carbamoylbenzoic acid Chemical compound NC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 JMHSCWJIDIKGNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- JJNFHWKVZWAKEB-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-trimethylimidazolidin-2-one Chemical compound CC1CN(C)C(=O)N1C JJNFHWKVZWAKEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- NFJSYLMJBNUDNG-UHFFFAOYSA-N 1,3-dipropylimidazolidin-2-one Chemical compound CCCN1CCN(CCC)C1=O NFJSYLMJBNUDNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XZAHJRZBUWYCBM-UHFFFAOYSA-N [1-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1(CN)CCCCC1 XZAHJRZBUWYCBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYNROCNODWBDCM-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethyl-2h-imidazole Chemical compound CCN1CN(CC)C=C1 RYNROCNODWBDCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 198
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 90
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 71
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 47
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 40
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 35
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 34
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 33
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 26
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 25
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 21
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical compound [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 17
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 13
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 12
- LNGAGQAGYITKCW-UHFFFAOYSA-N dimethyl cyclohexane-1,4-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1CCC(C(=O)OC)CC1 LNGAGQAGYITKCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 11
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 10
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 7
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N [methyl(oxido){1-[6-(trifluoromethyl)pyridin-3-yl]ethyl}-lambda(6)-sulfanylidene]cyanamide Chemical compound N#CN=S(C)(=O)C(C)C1=CC=C(C(F)(F)F)N=C1 ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 5
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 5
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- BHXFKXOIODIUJO-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-dicarbonitrile Chemical compound N#CC1=CC=C(C#N)C=C1 BHXFKXOIODIUJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- NYCCIHSMVNRABA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethylimidazolidin-2-one Chemical compound CCN1CCN(CC)C1=O NYCCIHSMVNRABA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 3
- AVKNGPAMCBSNSO-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethanamine Chemical compound NCC1CCCCC1 AVKNGPAMCBSNSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N veratrole Chemical compound COC1=CC=CC=C1OC ABDKAPXRBAPSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1Br WQONPSCCEXUXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QZYDOKBVZJLQCK-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxybenzene Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1OCC QZYDOKBVZJLQCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1CC KVNYFPKFSJIPBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1 ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROHUXHMNZLHBSF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane Chemical compound O=C=NCC1CCC(CN=C=O)CC1 ROHUXHMNZLHBSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QBELEDRHMPMKHP-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Br QBELEDRHMPMKHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IBSQPLPBRSHTTG-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1Cl IBSQPLPBRSHTTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GPOFSFLJOIAMSA-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(Cl)C=C1 GPOFSFLJOIAMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 1-chloronaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 JTPNRXUCIXHOKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 4-Chlorotoluene Chemical compound CC1=CC=C(Cl)C=C1 NPDACUSDTOMAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 2
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 2
- YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N as-o-xylenol Natural products CC1=CC=C(O)C=C1C YCOXTKKNXUZSKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFNONBGXNFCTMM-UHFFFAOYSA-N butoxybenzene Chemical compound CCCCOC1=CC=CC=C1 YFNONBGXNFCTMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N butylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=CC=C1 OCKPCBLVNKHBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGCUUOGRTPMFQK-UHFFFAOYSA-N dimethyl cyclohexane-1,1-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1(C(=O)OC)CCCCC1 GGCUUOGRTPMFQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 2
- SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N iodobenzene Chemical compound IC1=CC=CC=C1 SNHMUERNLJLMHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N phenetole Chemical compound CCOC1=CC=CC=C1 DLRJIFUOBPOJNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- VIDOPANCAUPXNH-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(CC)=C1CC VIDOPANCAUPXNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIRBHVFJGXOIS-UHFFFAOYSA-N 1,2-di(propan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C OKIRBHVFJGXOIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYVVSNFPLKMNU-UHFFFAOYSA-N 1,2-dipentylbenzene Chemical compound CCCCCC1=CC=CC=C1CCCCC FQYVVSNFPLKMNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZATPPBWCNUNFLZ-UHFFFAOYSA-N 4-carbamoylcyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound NC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 ZATPPBWCNUNFLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWUNKULTLYLLTH-IZLXSQMJSA-N NC(=O)[C@H]1CC[C@H](C(N)=O)CC1 Chemical compound NC(=O)[C@H]1CC[C@H](C(N)=O)CC1 ZWUNKULTLYLLTH-IZLXSQMJSA-N 0.000 description 1
- ZATPPBWCNUNFLZ-IZLXSQMJSA-N NC(=O)[C@H]1CC[C@H](C(O)=O)CC1 Chemical compound NC(=O)[C@H]1CC[C@H](C(O)=O)CC1 ZATPPBWCNUNFLZ-IZLXSQMJSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- WMEXDXWNPYTTQQ-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarbonitrile Chemical compound N#CC1(C#N)CCCCC1 WMEXDXWNPYTTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N cyclohexylbenzene Chemical compound [CH]1CCCC[C@@H]1C1=CC=CC=C1 HHNHBFLGXIUXCM-GFCCVEGCSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N diphosphonate Chemical compound O=P(=O)OP(=O)=O YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000007327 hydrogenolysis reaction Methods 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentoxide Inorganic materials O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Description
[核水素化工程]
核水素化工程では、テレフタル酸、テレフタル酸エステルおよびテレフタル酸アミドからなる群から選択される少なくとも1種のテレフタル酸またはその誘導体を核水素化し、対応する水添テレフタル酸またはその誘導体(すなわち、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸エステル、および、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸アミドからなる群から選択される少なくとも1種の水添テレフタル酸またはその誘導体)を製造する。
[シアノ化工程]
シアノ化工程では、上記した核水素化工程により得られた水添テレフタル酸またはその誘導体をアンモニアと接触させて、得られた1,4−ジシアノシクロヘキサンから、その中のシス体とトランス体とを分離して、トランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを得る。
[アミノメチル化工程]
アミノメチル化工程においては、シアノ化工程により得られたトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを水素と接触させて、トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンを得る。
(実施例1)
[核水素化工程]
攪拌器付き100mLステンレス製オートクレーブに、テレフタル酸25.0g、触媒(NEケムキャット社製10%Pd/C)2.8g、水100mLを仕込み、オートクレーブノズル口より窒素5MPaで3回置換し、常圧状態で400rpm攪拌下に150℃に加熱した。
[シアノ化工程]
攪拌器、ガス導入管、温度計、ガス排気管および脱水装置を装備した4つ口フラスコに、核水素化工程で得られた濾過後の反応液を濃縮して得られた1,4−シクロヘキサンジカルボン酸9.3g、および、酸化スズ(II)0.13gを仕込み、300rpmで攪拌しながら170℃まで加熱し、カルボン酸を溶解させた。
[アミノメチル化工程]
攪拌器付き100mLステンレス製オートクレーブに、シアノ化工程で得られたトランス体/シス体比94/6の1,4−ジシアノシクロヘキサン3.5g、触媒(川研ファインケミカル社製マンガン含有ラネーコバルト)0.35g、28重量%アンモニア水3.9mL、1−ブタノール7.3mLを仕込み、オートクレーブノズル口より窒素2MPaで3回置換し、常圧状態で400rpm攪拌下に80℃に加熱した。
(実施例2)
実施例1のシアノ化工程反応後に得られた黄色固体4.0g(1,4−ジシアノシクロヘキサンとして3.5g)を、シアノ化工程の反応器に添加した以外は、実施例1のシアノ化工程と同様に反応を行った。
[核水素化工程検討]
(実施例3)
攪拌器付き100mLステンレス製オートクレーブに、テレフタル酸12.0g、触媒(NEケムキャット社製5%Pd/C)1.6g、水28mLを仕込み、オートクレーブノズル口より窒素7MPaで3回置換し、常圧状態で400rpm攪拌下に150℃に加熱した。
(実施例4)
攪拌器付き100mLステンレス製オートクレーブに、テレフタル酸6.0g、触媒(NEケムキャット社製5%Pd/C)0.23g、水34mLを仕込み、オートクレーブノズル口より窒素6MPaで3回置換し、常圧状態で400rpm攪拌下に150℃に加熱した。
(実施例5〜13)
実施例4において濾過後に除去した触媒を回収し、実施例4と同様の反応条件にて繰り返し反応を実施した.結果を表1に示す.10回反応時においても反応成績に大きな低下はなく、高収率で1,4−シクロヘキサンジカルボン酸が得られた。
(実施例14)
攪拌器、ガス導入管、温度計、ガス排気管および脱水装置を装備した4つ口フラスコに、実施例3と同様の方法により得られた1,4−シクロヘキサンジカルボン酸15.3g、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル17.5gおよび、酸化スズ(II)0.39gを仕込み、250rpmで攪拌しながら210℃まで加熱した。
(実施例15)
攪拌器、ガス導入管、温度計、ガス排気管および脱水装置を装備した4つ口フラスコに、実施例3と同様の方法により得られた1,4−シクロヘキサンジカルボン酸15.1g、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル17.4g、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン(沸点226℃)4.9gおよび、酸化スズ(II)0.40gを仕込み、250rpmで攪拌しながら210℃まで加熱した。
ンジカルボン酸+1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル/hr)の速度で流通して1時間反応器内温度を210℃に保持した後280℃に昇温し、この温度で一定にして反応させた。8時間後、反応を終了し、90℃まで冷却した。反応終了時、ガス排気管および脱水装置への白色固体の析出はほとんど認められなかった。
(実施例16)
実施例15と同様の方法で得られた黄色固体13.5g(1,4−ジシアノシクロヘキサンとして12.0g)を、シアノ化工程の反応器に添加し、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルを加えず、アンモニアガスの流通速度を36mL/min(1.1モル当量/1,4−シクロヘキサンジカルボン酸/hr)に変更した以外は、実施例15と同様に反応を行った。
(実施例17)
実施例15において、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン4.9gの代わりにテトラエチレングリコールジメチルエーテル(沸点275℃)3.3gを用いた以外は実施例15と同様にして反応を実施した。反応終了時、ガス排気管および脱水装置への白色固体の析出はほとんど認められなかった。
(実施例18)
実施例15において、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン4.9gの代わりにトリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点216℃)3.3gを用いた以外は実施例15と同様にして反応を実施した。反応終了時、ガス排気管および脱水装置への白色固体の析出はほとんど認められなかった。
(実施例19)
攪拌器、ガス導入管、温度計、ガス排気管および脱水装置を装備した4つ口フラスコに、市販の1,4−シクロヘキサンジカルボン酸42.2g、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル49.1g、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン13.7gおよび、酸化スズ(II)1.06gを仕込み、250rpmで攪拌しながら210℃まで加熱した。
(実施例20)
実施例19で得られた黄色固体35.2gを、シアノ化工程の反応器に添加し、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルを加えなかった以外は、実施例19と同様に反応を行った。
(実施例21)
攪拌器、ガス導入管、温度計、ガス排気管および脱水装置を装備した4つ口フラスコに、市販の1,4−シクロヘキサンジカルボン酸143.3g、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル166.7g、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン55.7gおよび、酸化スズ(II)3.6gを仕込み、攪拌しながらアンモニアガスおよび窒素をそれぞれ90mL/min(0.14モル当量/1,4−シクロヘキサンジカルボン酸+1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル/hr)、10mL/minの速度で混合して流通して280℃に昇温し、この温度で一定にして反応させた。48時間後、反応を終了し、90℃まで冷却した。反応終了時、ガス排気管および脱水装置への白色固体の析出はほとんど認められなかった。
反応物のうち30gに1−ブタノール70gを加え攪拌した反応液を熱時濾過し、触媒を除去した。濾液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1,4−ジシアノシクロヘキサンの収率は86%であった。
(比較例1)
アンモニアガス供給速度を平均49mL/min(0.076モル当量/1,4−シクロヘキサンジカルボン酸+1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル/hr)とし、反応時間を80時間とした以外は実施例21と同様に反応を実施した。1,4−ジシアノシクロヘキサンの収率は68%であった。また、反応物を施例15と同様に熱時濾過、冷却、析出沈殿の濾過、洗浄、乾燥させ微黄色固体を得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、この固体は純度94%の1,4−ジシアノシクロヘキサンであり、そのトランス体/シス体比は95/5であった。
(実施例22)
比較例1で得られたトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサン32.5gとメタノール315gとを60℃で溶解し、活性炭(和光純薬工業製)0.7gを加え2hr攪拌した。この液を60℃で濾過して活性炭を除去し、濾液を溶媒留去することにより白色固体を32.1g得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、この固体は純度96.4%の1,4−ジシアノシクロヘキサンであり、そのトランス体/シス体比は95/5であった。
(実施例23)
実施例22において、活性炭を使用しなかったこと以外は実施例22と同様に処理を実施した。得られた微黄色固体をガスクロマトグラフィーで分析したところ、この固体は純度95.8%の1,4−ジシアノシクロヘキサンであり、そのトランス体/シス体比は95/5であった。
(実施例24)
実施例14において、アンモニアガスを48mL/min(0.73モル当量/1,4−シクロヘキサンジカルボン酸+1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル/hr)の速度で流通させた以外は実施例14と同様にして反応を実施した。反応終了時、ガス排気管および脱水装置に白色固体の析出が認められた。
(実施例25)
実施例14において、アンモニアガスを24mL/min(0.36モル当量/1,4−シクロヘキサンジカルボン酸+1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル/hr)の速度で流通させた以外は実施例14と同様にして反応を実施した。反応終了時、ガス排気管および脱水装置に白色固体の析出が認められた。
[アミノメチル化工程検討]
(実施例26)
攪拌器付き100mLステンレス製オートクレーブに、実施例15と同様の方法で得られたトランス体/シス体比96/4の1,4−ジシアノシクロヘキサン5.5g、触媒(川研ファインケミカル社製ラネーニッケル)0.3g、28重量%アンモニア水5.6mL、1−ブタノール10.5mLを仕込み、オートクレーブノズル口より窒素2MPaで3回置換し、常圧状態で400rpm攪拌下に80℃に加熱した。
(実施例27)
攪拌器付き100mLステンレス製オートクレーブに、実施例15と同様の方法で得られたトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサン(純度99.5%以上、トランス体/シス体比=95/5、スズ含量1ppm以下)5.3g、触媒(川研ファインケミカル社製マンガン含有ラネーコバルト)0.26g、28重量%アンモニア水6.4mL、1−ブタノール10.8mLを仕込み、オートクレーブノズル口より窒素5MPaで3回置換し、常圧状態で400rpm攪拌下に80℃に加熱した。
(実施例28〜31)
実施例23において濾過後に除去した触媒を回収し、実施例27と同様の反応条件にて繰り返し反応を実施した。結果を表2に示す。5回反応時においても反応成績に大きな低下はなく、高収率でトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンが得られた。
攪拌器付き100mLステンレス製オートクレーブに、実施例15と同様の方法で得られたトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサン(純度99.5%以上、トランス体/シス体比=94/6、スズ含量1ppm以下)9.0g、触媒(川研ファインケミカル社製マンガン含有ラネーコバルト)0.45g、28重量%アンモニア水4.6mL、メタノール14.6mLを仕込み、オートクレーブノズル口より窒素5MPaで3回置換し、常圧状態で400rpm攪拌下に80℃に加熱した。
(実施例33〜37および比較例2)
使用するトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを表3に示すように変更した以外は実施例32と同様にして反応を実施した。結果を表3に示す。使用するトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンのスズ含有量が少ない方が高収率で1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンが得られた。
(実施例38)
攪拌器、ガス導入管、温度計、ガス排気管および脱水装置を装備した4つ口フラスコに、市販の1,4−シクロヘキサンジカルボン酸287g、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン55.7gおよび、酸化スズ(II)3.6gを仕込み、攪拌しながらアンモニアガスおよび窒素をそれぞれ43mL/min(0.07モル当量/1,4−シクロヘキサンジカルボン酸/hr)、5mL/minの速度で混合し、流通して280℃に昇温し、この温度で一定にして反応させた。60時間後、反応を終了し、90℃まで冷却した。反応終了時、ガス排気管および脱水装置への白色固体の析出はほとんど認められなかった。
(実施例39〜41)
実施例38において、アンモニアガスおよび窒素の供給速度、反応時間を変更した以外は実施例38と同様に反応を実施した。結果を表4に示す。
攪拌器、ガス導入管、温度計、ガス排気管および脱水装置を装備した4つ口フラスコに、市販の1,4−シクロヘキサンジカルボン酸74g、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン14.8gおよび、酸化スズ(II)0.93gを仕込み、攪拌しながらアンモニアガスおよび窒素をそれぞれ135mL/min(0.84モル当量/1,4−シクロヘキサンジカルボン酸/hr)、15mL/minの速度で混合し、流通して280℃に昇温し、この温度で一定にして反応させた。13時間後、反応を終了し、90℃まで冷却した。反応終了時、ガス排気管および脱水装置への白色固体の析出はほとんど認められなかった。
(実施例43)
実施例42において、アンモニアガスおよび窒素の供給速度をそれぞれ180mL/min、20mL/minとし、反応時間を9時間とした以外は実施例42と同様に反応を実施した。1,4−ジシアノシクロヘキサンの収率は93%であった。
(実施例44〜49、比較例3)
実施例42において、使用する金属酸化物種および量を酸化スズ(II)0.93gから、表5に示すように変更し、また反応時間を変更した以外は実施例42と同様に反応を実施した。結果を表5に示す。
(実施例50)
実施例42において、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン14.8gの代わりにN−メチル−2−ピロリジノン(沸点202℃)12.9gを用いた以外は実施例42と同様にして反応を実施した。反応終了時、ガス排気管および脱水装置への白色固体の析出はほとんど認められなかった。
(実施例52〜53)
実施例42において、反応物の残りも実施例42と同様に熱時濾過し、触媒を分別した。先に熱時濾過した反応物30g分の分別触媒を合わせて回収した。回収した触媒を酸化スズ(II)0.93gの代わりに繰り返し使用して実施例42と同様に反応を実施した。結果を表6に示す。3回反応時においても反応成績に大きな低下はなく、高収率で1,4−ジシアノシクロヘキサンが得られた。
(実施例54)
実施例42と同様にして得られた反応物に1−ブタノール78.1gを加え攪拌した反応液を熱時濾過し、触媒を除去した。濾液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1,4−ジシアノシクロヘキサンの収率は89%であり、そのトランス体/シス体比は53/47であった。
(実施例55)
攪拌器、ガス導入管、温度計、ガス排気管および脱水装置を装備した4つ口フラスコに
、実施例54と同様の方法により得られたシス体比率の高い1,4−ジシアノシクロヘキサン(純度90%、トランス体/シス体比13/87)3g、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン0.8gを仕込み、攪拌しながらアンモニアガスを17mL/min(0.2モル当量/1,4−ジシアノシクロヘキサン/hr)の速度で流通して280℃に昇温し、この温度で一定にして反応させた。10時間後、反応を終了し、冷却した。反応物をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1,4−ジシアノシクロヘキサンの純度は90%(1,4−ジシアノシクロヘキサン回収率99%以上)であり、そのトランス体/シス体比率は53/47であった。
(実施例56〜58)
実施例55において、酸化スズ(II)の使用有無およびアンモニアガス供給速度を変更した以外は実施例55と同様にして反応を行った。結果を表7に示す。
(実施例59)
実施例44と同様にして得られた反応物に1−ブタノール78gを加え攪拌した反応液を熱時濾過し、触媒を除去した。濾液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1,4−ジシアノシクロヘキサンの収率は92%であり、そのトランス体/シス体比は53/47であった。
(比較例4)
反応時間を12時間とした以外は実施例44と同様に反応を実施した。1,4−ジシアノシクロヘキサンの収率は82%であった。また、反応物を実施例59と同様に熱時濾過、冷却、析出沈殿の濾過、洗浄、乾燥させ微黄色固体を得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、この固体は純度99%の1,4−ジシアノシクロヘキサンであり、そのトランス体/シス体比は94/6であった。
(実施例60)
実施例46と同様にして得られた反応物を実施例59と同様に熱時濾過、冷却、析出沈殿の濾過、洗浄、乾燥させ微黄色固体を得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、この固体は純度99.5%以上の1,4−ジシアノシクロヘキサンであり、そのトランス体/シス体比は91/9であった。また、固体に含まれる金属(鉄)の含有率は21ppmであり、これは、1,4−ジシアノシクロヘキサン(トランス体およびシス体を含む)に対して、21(21×0.995)ppm、トランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンに対して、19(21×0.91)ppmであった。
(実施例61)
実施例46と同様にして得られた反応物を1−ブタノールでの洗浄を1回西田以外は実施例59と同様に熱時濾過、冷却、析出沈殿の濾過、洗浄、乾燥させ微黄色固体を得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、この固体は純度99.5%以上の1,4−ジシアノシクロヘキサンであり、そのトランス体/シス体比は93/7であった。また、固体に含まれる金属(鉄)の含有率は350ppmであり、これは、1,4−ジシアノシクロヘキサン(トランス体およびシス体を含む)に対して、348(350×0.995)ppm、トランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンに対して、324(348×0.93)ppmであった。
(比較例5)
反応時間を12時間とした以外は実施例46と同様に反応を実施した。1,4−ジシアノシクロヘキサンの収率は84%であった。また、反応物を実施例59と同様に熱時濾過、冷却、析出沈殿の濾過、洗浄、乾燥させ微黄色固体を得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、この固体は純度99。5%以上の1,4−ジシアノシクロヘキサンであり、そのトランス体/シス体比は92/8であった。
(実施例62)
攪拌器付き100mLステンレス製オートクレーブに、実施例54で得られたトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサン(純度99.5%以上、トランス体/シス体比=96/4、スズ含量1ppm以下)9.0g、触媒(川研ファインケミカル社製マンガン含有ラネーコバルト)0.45g、アンモニアのメタノール溶液14.6g(内アンモニア2.4g)、水0.7gを仕込み、オートクレーブノズル口より窒素5MPaで3回置換し、常圧状態で400rpm攪拌下に80℃に加熱した。
(実施例63〜65および比較例6〜7)
使用するトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを表8に示すように変更した以外は実施例62と同様にして反応を実施した。結果を表8に示す。使用するトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンの金属含有量が少ない方が高収率で1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンが得られた。
(実施例66)
攪拌器付き100mLステンレス製オートクレーブに、実施例42と同様の方法で得ら
れたトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサン(純度99.4%、トランス体/シス体比=96/4、スズ含量1ppm以下)9.0g、触媒(川研ファインケミカル社製マンガン含有ラネーコバルト)0.09g、25重量%アンモニア水9.6mL、1−ブタノール11.3gを仕込み、オートクレーブノズル口より窒素5MPaで3回置換し、常圧状態で400rpm攪拌下に120℃に加熱した。
(実施例67〜31)
実施例66において上澄み液抜き取り後にオートクレーブ内に残った触媒をそのまま使用し、回収し、実施例66と同様の反応条件にて新たにトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンおよびアンモニア水、1−ブタノールを仕込み繰り返し反応を実施した。結果を表9に示す。なお、実施例72において触媒(川研ファインケミカル社製マンガン含有ラネーコバルト)0.09gを追加した。
(実施例87)
攪拌器、ガス導入管、温度計、ガス排気管および脱水装置を装備した4つ口フラスコに、市販の1,4−シクロヘキサンジカルボン酸286.6g、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン55.7gおよび、酸化スズ(II)3.6gを仕込み、攪拌しながらアンモニアガスおよび窒素をそれぞれ90mL/min(0.14モル当量/1,4−シクロヘキサンジカルボン酸/hr)、10mL/minの速度で混合して流通して280℃に昇温し、この温度で一定にして反応させた。48時間後、反応を終了し、90℃まで冷却した。
(実施例88)
攪拌器付き0.5Lステンレス製オートクレーブに、実施例87により得られたトランス体/シス体比99/1の1,4−ジシアノシクロヘキサン55g、触媒(川研ファインケミカル社製ラネーニッケル)3.0g、28重量%アンモニア水56mL、1−ブタノール105mLを仕込み、オートクレーブノズル口より窒素5MPaで3回置換し、常圧状態で400rpm攪拌下に80℃に加熱した。
Claims (19)
- テレフタル酸、テレフタル酸エステルおよびテレフタル酸アミドからなる群から選択される少なくとも1種のテレフタル酸またはその誘導体を核水素化し、水添テレフタル酸またはその誘導体を得る核水素化工程と、
前記核水素化工程により得られた水添テレフタル酸またはその誘導体をアンモニアと接触させて、得られた1,4−ジシアノシクロヘキサンから、トランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを得るシアノ化工程と、
前記シアノ化工程により得られたトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを水素と接触させて、トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンを得るアミノメチル化工程とを備え、
前記シアノ化工程では、金属酸化物を触媒として使用し、得られるトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンの金属含有率が3000ppm以下であることを特徴とする,トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。 - 水添テレフタル酸またはその誘導体を、アンモニアと接触させて、得られた1,4−ジシアノシクロヘキサンから、トランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを得るシアノ化工程と、
前記シアノ化工程により得られたトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを水素と接触させて、トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンを得るアミノメチル化工程とを備え、
前記シアノ化工程では、金属酸化物を触媒として使用し、得られるトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンの金属含有率が3000ppm以下であることを特徴とする、トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。 - 水添テレフタル酸またはその誘導体が、
テレフタル酸、テレフタル酸エステルおよびテレフタル酸アミドからなる群から選択される少なくとも1種のテレフタル酸またはその誘導体を核水素化する核水素化工程
により得られることを特徴とする、請求項2に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。 - 前記シアノ化工程では、アンモニアとの接触により得られた1,4−ジシアノシクロヘキサン中のシス体とトランス体とを分離して、
分離したトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンをアミノメチル化工程に供することを特徴とする、請求項1に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。 - 前記シアノ化工程では、水性溶媒を用いる晶析により、1,4−ジシアノシクロヘキサンから、トランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを分離し、
前記シアノ化工程の晶析工程および前記アミノメチル化工程において、同一の水性溶媒を用いることを特徴とする、請求項1に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。 - 前記シアノ化工程では、分離されたシス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを、水添テレフタル酸またはその誘導体の存在下または非存在下において、再度アンモニアと接触させることを特徴とする、請求項1に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、200〜350℃に加熱下、アンモニアと接触させることを特徴とする、請求項1に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、沸点が180℃〜350℃の溶媒存在下にアンモニアと接触させることを特徴とする、請求項1に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、水添テレフタル酸またはその誘導体100重量部に対して3〜20重量部の溶媒存在下にアンモニアと接触させることを特徴とする、請求項1に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、使用する溶媒がo−ジクロロベンゼン、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、N−メチル−2−ピロリジノン、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、N,N’−ジエチルイミダゾリジノン、N,N’−ジプロピルイミダゾリジノン、N,N’,4−トリメチルイミダゾリジノンおよびN,N’−ジメチルプロピレン尿素から選択されることを特徴とする、請求項1に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、接触させるアンモニアの供給速度が0.5モル当量/水添テレフタル酸またはその誘導体/hrより大きいことを特徴とする、請求項1に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、アンモニアとの接触により得られた1,4−ジシアノシクロヘキサン中のシス体とトランス体とを分離して、
分離したトランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンをアミノメチル化工程に供することを特徴とする、請求項2に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。 - 前記シアノ化工程では、水性溶媒を用いる晶析により、1,4−ジシアノシクロヘキサンから、トランス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを分離し、
前記シアノ化工程の晶析工程および前記アミノメチル化工程において、同一の水性溶媒を用いることを特徴とする、請求項2に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。 - 前記シアノ化工程では、分離されたシス−1,4−ジシアノシクロヘキサンを、水添テレフタル酸またはその誘導体の存在下または非存在下において、再度アンモニアと接触させることを特徴とする、請求項2に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、200〜350℃に加熱下、アンモニアと接触させることを特徴とする、請求項2に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、沸点が180℃〜350℃の溶媒存在下にアンモニアと接触させることを特徴とする、請求項2に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、水添テレフタル酸またはその誘導体100重量部に対して3〜20重量部の溶媒存在下にアンモニアと接触させることを特徴とする、請求項2に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、使用する溶媒がo−ジクロロベンゼン、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、N−メチル−2−ピロリジノン、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、N,N’−ジエチルイミダゾリジノン、N,N’−ジプロピルイミダゾリジノン、N,N’,4−トリメチルイミダゾリジノンおよびN,N’−ジメチルプロピレン尿素から選択されることを特徴とする、請求項2に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
- 前記シアノ化工程では、接触させるアンモニアの供給速度が0.5モル当量/水添テレフタル酸またはその誘導体/hrより大きいことを特徴とする、請求項2に記載のトランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012537744A JP5562429B2 (ja) | 2010-10-07 | 2011-10-05 | トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010227744 | 2010-10-07 | ||
JP2010227744 | 2010-10-07 | ||
PCT/JP2011/073005 WO2012046782A1 (ja) | 2010-10-07 | 2011-10-05 | トランス-1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 |
JP2012537744A JP5562429B2 (ja) | 2010-10-07 | 2011-10-05 | トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012046782A1 JPWO2012046782A1 (ja) | 2014-02-24 |
JP5562429B2 true JP5562429B2 (ja) | 2014-07-30 |
Family
ID=45927777
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012537744A Active JP5562429B2 (ja) | 2010-10-07 | 2011-10-05 | トランス−1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8865939B2 (ja) |
EP (1) | EP2626344B1 (ja) |
JP (1) | JP5562429B2 (ja) |
KR (1) | KR101486682B1 (ja) |
CN (1) | CN103153940B (ja) |
WO (1) | WO2012046782A1 (ja) |
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WO2019035381A1 (ja) | 2017-08-18 | 2019-02-21 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ジシアノシクロヘキサンの製造方法 |
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JPS5853652A (ja) | 1981-09-25 | 1983-03-30 | Mazda Motor Corp | 内燃機関のスロツトル開度制御装置 |
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- 2011-10-05 EP EP11830714.9A patent/EP2626344B1/en active Active
- 2011-10-05 JP JP2012537744A patent/JP5562429B2/ja active Active
- 2011-10-05 WO PCT/JP2011/073005 patent/WO2012046782A1/ja active Application Filing
- 2011-10-05 KR KR1020137008562A patent/KR101486682B1/ko active IP Right Grant
- 2011-10-05 US US13/878,090 patent/US8865939B2/en active Active
- 2011-10-05 CN CN201180048400.4A patent/CN103153940B/zh active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2626344A1 (en) | 2013-08-14 |
US20130197270A1 (en) | 2013-08-01 |
CN103153940A (zh) | 2013-06-12 |
KR101486682B1 (ko) | 2015-01-26 |
EP2626344B1 (en) | 2019-05-15 |
EP2626344A4 (en) | 2014-12-24 |
KR20130069788A (ko) | 2013-06-26 |
CN103153940B (zh) | 2014-12-10 |
WO2012046782A1 (ja) | 2012-04-12 |
US8865939B2 (en) | 2014-10-21 |
JPWO2012046782A1 (ja) | 2014-02-24 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140527 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5562429 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |