JP5530275B2 - 真空吸着装置及びその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 11
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 title description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 58
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 47
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 22
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 14
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 33
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 6
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000003826 uniaxial pressing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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Description
(7)前記凹部が、0.1〜4.0μmの表面粗さRaを有し、前記凹部の周方向の表面粗さRa1と径方向の表面粗さRa2との比Ra1/Ra2が0.2〜0.9である上記(5)又は(6)記載の真空吸着装置。凹部の接合面の表面粗さRa及び、前記Ra1/Ra2を上記範囲としたのは、吸気溝の側壁面に載置部が形成された構造に加えて、このような接合面とすることで凹部と載置部との密着を高めることができるからである。凹部の接合面と多孔質体とに熱膨張のズレが生じると、載置部に引張り応力が作用することから、径方向の表面粗さRa2を大きく形成し、径方向の応力に耐え得る接合構造とすることにより凹部から載置部が剥離することを防止することができる。
(8)前記凹部の接合面が、焼放し面である上記(7)記載の真空吸着装置。凹部の接合面は焼放し面によって上記の凹部の吸気溝や表面構造を形成することができるので、コスト高の要因である焼結体の加工工程を減らすことができる。
図1は真空吸着装置10の概略構成を示す模式断面図である。真空吸着装置10は、断面凹形の容器状に作られたセラミックス緻密質焼結体からなる支持部11と、多孔質体の載置部12とからなる。支持部11には、吸気溝13や吸気孔14が設けられている。そして、断面凹形の容器状の支持部11の内側の部分、すなわち支持部11の凹部に載置部12が接合されている。実際に使用する際には、載置部の表面にシリコンウエハ等の基板を載置して、吸気溝13及び吸気孔14を介して図示しない真空ポンプにより吸引することにより、基板が真空吸着される。
11、21、31、41 51 支持部
21a、31a、41a、51a 凹部
21c、41d 載置部と接合された吸気溝の側壁面の一部
31c、41c 吸気溝のC面
12 載置部
13 吸気溝
14 吸気孔
Claims (8)
- 凹部に吸気溝が設けられたセラミックス緻密質焼結体からなる支持部と、セラミックス粉末と結合材から構成された多孔質体の載置部とからなり、前記セラミックス粉末が結合材により結合されて多孔質体が得られるとともに、前記多孔質体の結合材により該多孔質体と前記支持部とが接合されて、前記凹部に多孔質体の載置部が形成されてなる真空吸着装置であって、
前記載置部と、前記凹部及び前記吸気溝の少なくとも側壁面の一部とが、隙間無く接合されていることを特徴とする真空吸着装置。 - 凹部に吸気溝が設けられたセラミックス緻密質焼結体からなる支持部と、セラミックス粉末と結合材から構成された多孔質体の載置部とからなり、前記セラミックス粉末が結合材により結合されて多孔質体が得られるとともに、前記多孔質体の結合材により該多孔質体と前記支持部とが接合されて、前記凹部に多孔質体の載置部が形成されてなる真空吸着装置であって、
前記載置部と、前記凹部及び前記吸気溝のC面とが、隙間無く接合されていることを特徴とする真空吸着装置。 - 前記載置部と、吸気溝の側壁面の少なくとも一部とが、隙間無く接合されている請求項2記載の真空吸着装置。
- 前記吸気溝の溝幅は、前記載置部の厚みの2倍以下である請求項1〜3のいずれか一項に記載の真空吸着装置。
- 凹部に吸気溝が設けられたセラミックス緻密質焼結体からなる支持部を作製する工程と、
前記吸気溝に少なくとも側壁面の一部が露出するように焼失材を充填する工程と、
セラミックス粉末と結合材を含む混合物を前記凹部及び前記吸気溝の一部に充填し、焼成することにより多孔質体の載置部と前記凹部及び前記吸気溝の少なくとも側壁面の一部とが、隙間無く接合されるとともに、焼失材の焼失により吸気溝に空間が形成される工程と、を備える真空吸着装置の製造方法。 - 凹部に吸気溝が設けられたセラミックス緻密質焼結体からなる支持部を作製する工程と、
前記吸気溝に少なくとも側壁面の一部が露出するように焼失材を充填する工程と、
セラミックス粉末と結合材を含む混合物を前記凹部及び前記吸気溝の一部に充填し、焼成することにより多孔質体の載置部と前記凹部及び前記吸気溝C面とが、隙間無く接合されるとともに、焼失材の焼失により吸気溝に空間が形成される工程と、を備える真空吸着装置の製造方法。 - 前記凹部の接合面が、0.1〜4.0μmの表面粗さRaを有し、前記凹部の周方向の表面粗さRa1と径方向の表面粗さRa2との比Ra1/Ra2が0.2〜0.9である請求項5又は6記載の真空吸着装置の製造方法。
- 前記凹部の接合面が、焼放し面である請求項7記載の真空吸着装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010150019A JP5530275B2 (ja) | 2010-06-30 | 2010-06-30 | 真空吸着装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010150019A JP5530275B2 (ja) | 2010-06-30 | 2010-06-30 | 真空吸着装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012015300A JP2012015300A (ja) | 2012-01-19 |
JP5530275B2 true JP5530275B2 (ja) | 2014-06-25 |
Family
ID=45601381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010150019A Active JP5530275B2 (ja) | 2010-06-30 | 2010-06-30 | 真空吸着装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5530275B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6154274B2 (ja) * | 2013-09-26 | 2017-06-28 | 京セラ株式会社 | 吸着盤 |
JP6934335B2 (ja) * | 2017-07-03 | 2021-09-15 | 日本特殊陶業株式会社 | 真空吸着部材 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5893450U (ja) * | 1981-12-18 | 1983-06-24 | 株式会社東芝 | 保持具 |
JP4336532B2 (ja) * | 2003-07-02 | 2009-09-30 | 太平洋セメント株式会社 | 真空吸着装置およびその製造方法 |
JP4704971B2 (ja) * | 2006-07-21 | 2011-06-22 | 太平洋セメント株式会社 | 真空吸着装置 |
JP2008028170A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Taiheiyo Cement Corp | 真空吸着装置及びその製造方法 |
JP4718397B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2011-07-06 | 太平洋セメント株式会社 | 真空吸着装置の製造方法 |
JP5261057B2 (ja) * | 2008-07-29 | 2013-08-14 | 京セラ株式会社 | 吸着盤および真空吸着装置 |
-
2010
- 2010-06-30 JP JP2010150019A patent/JP5530275B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012015300A (ja) | 2012-01-19 |
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JP6590675B2 (ja) | 真空吸着装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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