JP5471886B2 - 高温、高圧処理方法及び高温、高圧処理装置並びに記憶媒体 - Google Patents
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Description
有機溶媒の供給源から供給された有機溶媒に含まれる水分を除去する工程と、
次いでこの水分が除去された有機溶媒の水分濃度を測定する工程と、
前記水分濃度の測定値が設定濃度以下になった有機溶媒を高温、高圧化し、高温、高圧状態とされた有機溶媒を含む流体により処理チャンバ内にて被処理体を処理する工程と、を含み、
前記設定濃度は、0.01重量%以下であることを特徴とする。
有機溶媒を高温、高圧化するための機構と、
前記高温、高圧化された有機溶媒により被処理体を処理するための処理チャンバと、
前記有機溶媒の供給源と
この供給源から供給された有機溶媒に含まれる水分を除去するための水分除去部と、
この水分除去部で水分が除去された有機溶媒の水分濃度を測定する濃度測定部と、
前記濃度測定部における水分濃度の測定値が設定濃度以下になった有機溶媒を高温、高圧化するように制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記設定濃度は、0.01重量%以下であることを特徴とする。
前記コンピュータプログラムは、前記高温、高圧処理方法を実施するためのステップ群が組み込まれていることを特徴とする。
ウエハホルダ2は蓋部材25に接続されており、この蓋部材25は、ウエハホルダ12を処理チャンバ11の処理空間内に搬入したとき、前記開口部110を塞ぐことができるように構成されている。ここで蓋部材25と処理チャンバ11側の側壁面には、開口部110を囲むように不図示のOリングが設けられており、処理空間内の気密が維持されるようになっている。
1 超臨界処理装置
11 処理チャンバ
17 供給ライン
2 ウエハホルダ
27 IPA供給ノズル
3 貯留タンク
32 循環路
4 水分除去部
5 濃度測定部
61、62 供給路
6 中間タンク
72 回収路
V4 開閉バルブ
8 制御部
Claims (15)
- 有機溶媒の供給源から供給された有機溶媒に含まれる水分を除去する工程と、
次いでこの水分が除去された有機溶媒の水分濃度を測定する工程と、
前記水分濃度の測定値が設定濃度以下になった有機溶媒を高温、高圧化し、高温、高圧状態とされた有機溶媒を含む流体により処理チャンバ内にて被処理体を処理する工程と、を含み、
前記設定濃度は、0.01重量%以下であることを特徴とする高温、高圧処理方法。 - 前記水分濃度の測定値が設定濃度以下になった有機溶媒は、処理チャンバの外にて被処理体に供給され、被処理体に付着して前記処理チャンバ内に取り込まれて高温、高圧化されることを特徴とする請求項1記載の高温、高圧処理方法。
- 前記有機溶媒に含まれる水分を除去する工程は、
前記供給源から供給される有機溶媒を貯留する第1の貯留部の有機溶媒を、水分除去フィルタを備えた循環路により当該貯留部内と外部との間で循環させることにより行われることを特徴とする請求項1または2記載の高温、高圧処理方法。 - 前記処理チャンバにて使用した後の有機溶媒を前記第1の貯留部に回収する工程を含むことを特徴とする請求項3記載の高温、高圧処理方法。
- 前記被処理体の処理は、前記有機溶媒を高温、高圧化して生成された超臨界流体を被処理体に接触させる処理であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の高温、高圧処理方法。
- 前記有機溶媒はイソプロピルアルコールであることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一つに記載の高温、高圧処理方法。
- 予め測定された水分濃度が0.01重量%以下の有機溶媒を含む流体を高温、高圧状態にして被処理体に対して処理を行うことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一つに記載の高温、高圧処理方法。
- 有機溶媒を高温、高圧化するための機構と、
前記高温、高圧化された有機溶媒を含む流体により被処理体を処理するための処理チャンバと、
前記有機溶媒の供給源と
この供給源から供給された有機溶媒に含まれる水分を除去するための水分除去部と、
この水分除去部で水分が除去された有機溶媒の水分濃度を測定する濃度測定部と、
前記濃度測定部における水分濃度の測定値が設定濃度以下になった有機溶媒を高温、高圧化するように制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記設定濃度は、0.01重量%以下であることを特徴とする高温、高圧処理装置。 - 前記濃度測定部における水分濃度の測定値が設定濃度以下になった有機溶媒を、処理チャンバの外にて被処理体に供給するための供給機構と、
前記供給機構により有機溶媒が供給された被処理体を前記処理チャンバ内に搬入するための機構と、を備え、
前記制御部は、被処理体に付着して前記処理チャンバ内に取り込まれた有機溶媒を高温、高圧化するように制御信号を出力することを特徴とする請求項8記載の高温、高圧処理装置。 - 前記水分除去部は、
前記有機溶媒の供給源から供給される有機溶媒を貯留する第1の貯留部と、この第1の貯留部内の有機溶媒を当該貯留部内と外部との間で循環させるための循環路と、この循環路に設けられた水分除去フィルタと、を備えたことを特徴とする請求項8または9記載の高温、高圧処理装置。 - 前記処理チャンバにて使用した後の有機溶媒を前記第1の貯留部に回収するための回収路を設けたことを特徴とする請求項10記載の高温、高圧処理装置。
- 有機溶媒を貯留する第2の貯留部と、この第2の貯留部から高温、高圧化される有機溶媒として送り出すための供給路と、この供給路に介在するポンプ及び開閉バルブと、を備えたことを特徴とする請求項8記載の高温、高圧処理装置。
- 前記被処理体の処理は、前記有機溶媒を高温、高圧化して生成された超臨界流体を被処理体に接触させる処理であることを特徴とする請求項8ないし12のいずれか一つに記載の高温、高圧処理装置。
- 前記有機溶媒はイソプロピルアルコールであることを特徴とする請求項8ないし13のいずれか一つに記載の高温、高圧処理装置。
- 水分濃度が0.01重量%以下の有機溶媒を含む流体を高温、高圧状態にして被処理体に対して処理を行うことを特徴とする高温、高圧処理装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶する記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項1ないし7のいずれか一つに記載の高温、高圧処理方法を実施するためのステップ群が組み込まれていることを特徴とする記憶媒体。
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