JP5444734B2 - マイクロ波処理装置 - Google Patents
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Description
給電部から増幅部方向に反射するマイクロ波電力の合計値が最小となる周波数で、予め設定した閾値を超える給電部は、被加熱物の加熱処理に使用しない構成としたものであり、効率の良い給電部のみで加熱処理ができ、さまざまな形状・種類・量の異なる被加熱物を効率よく加熱することができる。
図1は、本発明の第1の実施形態におけるマイクロ波処理装置の構成図である。
力量を抽出する。この電力信号はそれぞれ、検波ダイオード(図示していない)で整流化しコンデンサ(図示していない)で平滑処理し、その出力信号を制御部7に入力させている。
る角度に設置しなおして、最適な周波数条件、位相制御条件を再度見極める。これにより、マイクロ波電力の負荷である被加熱物9の最適加熱条件を見出し易い。
御することができる。また、給電部5a〜5dの1ヶ所の回転動作部12a〜12dの回転範囲に制限を設け、その回転限度位置での励振方向を基準方向として他の給電部を制御することもができる。
2a、2c 電力分配部
3a〜3d 位相可変部
4a〜4d 増幅部
5a〜5d 給電部
6a〜6d 電力検出部
7 制御部
8 加熱室
9 被加熱物
10 載置台
11a、11c 励振方向
12a〜12d 回転動作部
Claims (10)
- 被加熱物を収容する加熱室と、発振部と、前記発振部の出力を複数に分配して出力する電力分配部と、前記電力分配部の少なくともひとつの出力位相を可変する位相可変部と、前記電力分配部および/または前記位相可変部の出力をそれぞれ電力増幅する増幅部と、前記増幅部の出力を前記加熱室に供給する給電部と、それぞれの前記給電部から前記増幅部方向に反射するマイクロ波電力を検出する電力検出部と、前記発振部の発振周波数と前記位相可変部の位相量を制御する制御部とを備え、
前記加熱室を構成する1壁面に前記給電部を複数設け、前記給電部を回転動作可能とし、前記制御部は、前記給電部の回転動作により前記給電部から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きを変え、前記給電部から前記増幅部方向に反射するマイクロ波電力を前記電力検出部により検出する構成と共に、
前記制御部は、前記加熱室に収容された被加熱物を加熱処理する前段階で、複数設けた前記給電部を回転動作して、前記給電部から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きを一致させ、前記給電部から前記増幅部方向に反射するマイクロ波電力を前記電力検出部で検出して、検出したマイクロ波電力の合計値が最小となる周波数を得る予備検出動作を行う構成としたマイクロ波処理装置。 - 制御部は、予備検出動作を行い検出した、給電部から増幅部方向に反射するマイクロ波電力の合計値の最小値が、予め設定した閾値を超える場合、加熱室を構成する1壁面に複数設けた前記給電部を回転動作して、前記給電部から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きを異なる位置で一致させ、再度前記予備検出動作を行う構成とした請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 制御部は、予備検出動作を行い検出した、給電部から増幅部方向に反射するマイクロ波電力の合計値が最小となる周波数で、予め設定した閾値を超える前記給電部は、被加熱物の加熱処理に使用しない構成とした請求項1または2に記載のマイクロ波処理装置。
- 制御部は、被加熱物の加熱処理に使用しない給電部から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きが、前記被加熱物の加熱処理に使用する前記給電部から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きと、略直角となる位置に前記被加熱物の加熱処理に使用しない前記
給電部を回転動作する構成とした請求項1から3のいずれか1項に記載のマイクロ波処理装置。 - 加熱室に収容された被加熱物の配置位置を検出する位置検出手段を有し、制御部は、前記位置検出手段により検出した前記被加熱物の配置位置に応じて、加熱処理に使用する前記給電部を決定し、加熱処理に使用する給電部を使用して、前記予備検出動作を行う構成とした請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 加熱室に収容された被加熱物の加熱処理の進捗を検出する処理状態検出手段を有し、制御部は、前記処理状態検出手段により検出した前記被加熱物の加熱処理の進捗検出結果および/または加熱処理の経過時間に基づき、前記被加熱物の加熱処理に使用する給電部を再度決定しなおし、再度決定しなおした加熱処理に使用する前記給電部を使用して、前記予備検出動作を再度行う構成とした請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 制御部は、処理状態検出手段により検出した被加熱物の加熱処理の進捗検出結果および/または加熱処理の経過時間に基づき、位置検出手段による前記被加熱物の配置位置の検出を再度行い、検出結果に応じて前記被加熱物の加熱処理に使用する給電部を再度決定しなおし、再度決定しなおした加熱処理に使用する前記給電部を使用して、前記予備検出動作を再度行う構成とした請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 加熱室を構成する1壁面に設けた複数の給電部の少なくとも1ヶ所を回転動作しない構成とし、制御部は、回転動作しない前記給電部と回転動作する前記給電部間の透過電力により、回転動作しない前記給電部から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きを基準として、回転動作する前記給電部間から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きを検出する構成とした請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 加熱室を構成する1壁面に設けた複数の給電部の少なくとも1ヶ所に回転位置検出手段を設けた構成とし、制御部は、回転位置検出手段を設けた前記給電部と他の前記給電部間の透過電力により、前記回転位置検出手段を設けた前記給電部から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きを基準として、他の前記給電部から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きを検出する構成とした請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 加熱室を構成する1壁面に設けた複数の給電部の少なくとも1ヶ所に回転位置を制限する手段を設けた構成とし、制御部は、回転位置を制限する手段を設けた前記給電部と他の前記給電部間の透過電力により、前記回転位置を制限する手段を設けた前記給電部から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きを基準として、他の前記給電部から放射するマイクロ波の電界または磁界の向きを検出する構成とした請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
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