JP5217881B2 - マイクロ波処理装置 - Google Patents
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Description
り替える構成としている。また、合成部は、90度および180度ハイブリッドを用いることで、合成部の出力電力を2つにすることができ、位相器を制御することで2出力の電力比を変化させたり、2出力間の位相を同相あるいは逆相にしたりできるとしている。
。
から放射したマイクロ波の相互干渉により、発生する強い指向性のマイクロ波電力の分布を重ね合わせたり、複数ヶ所に分散させたり、加熱室に放射したマイクロ波を被加熱物に効率的に吸収させることができ、様々な形状・種類・量の異なる被加熱物を高効率に加熱することができる。
図1は、本発明の第1の実施形態におけるマイクロ波処理装置の構成図である。
の位相差を発生させる位相可変部3a〜3d、増幅部4a〜4dと給電部5a〜5dを接続するマイクロ波伝播路に挿入され、給電部5a〜5dから増幅部4a〜4d方向に反射するマイクロ波反射電力を検出する電力検出部6a〜6d、電力検出部6a〜6dによって検出される反射電力に応じて発振部1a、1cの発振周波数と位相可変部3a〜3dの位相量を制御する制御部7とで構成している。
部6a〜6dを経て、給電部5a〜5dにそれぞれ出力され、加熱室8内に放射される。加熱室8内に供給されるマイクロ波電力が、被加熱物9に100%吸収されると、加熱室8からの反射電力は0Wになるが、被加熱物9の種類・形状・量により、加熱室8のインピーダンスが変わり、マイクロ波電力供給側との整合ずれなどにより、給電部5a〜5dから増幅部4a〜4d方向に伝播するマイクロ波反射電力が生じる。
効率的に被加熱物9に吸収させることができ、様々な形状・種類・量の異なる被加熱物9を高効率で最適に加熱することができる。
2a、2c 電力分配部
3a〜3d 位相可変部
4a〜4d 増幅部
5a〜5d 給電部
6a〜6d 電力検出部
7 制御部
8 加熱室
9 被加熱物
10 中心点
11a、11c 励振方向
12 載置台
13 加熱室中心軸
14 正四角形配置
Claims (10)
- 被加熱物を収容する加熱室と、発振部と、前記発振部の出力を複数に分配して出力する電力分配部と、前記電力分配部の少なくともひとつの出力位相を可変する位相可変部と、前記電力分配部および/または前記位相可変部の出力をそれぞれ電力増幅する増幅部と、前記増幅部の出力を前記加熱室に供給する給電部と、それぞれの前記給電部から前記増幅部方向に反射するマイクロ波電力を検出する電力検出部と、前記発振部の発振周波数と前記位相可変部の位相量を制御する制御部とを備え、
前記給電部は、前記加熱室の底壁面に4ヶ所以上の偶数ヶ所に配置され、1つの軸上の点に対し略対称に2つの前記給電部の組合せを複数設け、前記給電部の組合せを構成する2つの前記給電部間を結ぶ線が前記複数の給電部の組合せにおいて交差するように配置され、前記給電部の組合せは前記加熱室へ放射するマイクロ波電界の励振方向が一致するように配置され、
前記制御部は、前記給電部から供給するマイクロ波の位相を、前記複数の給電部の組合せ間で、相対的に制御する構成としたマイクロ波処理装置。 - 略対称配置された給電部組合せの対称の中心点は、加熱室の被加熱物設置水平面の略中心を通る垂直軸上に設けた請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 略対称配置された給電部組合せの対称の中心点が存在する1つの軸上に中心を持つ1つの正多角形の頂点位置全てに前記給電部を配置した構成とした請求項1または2に記載のマイクロ波処理装置。
- 複数の給電部は、略対称配置中心点から2分の1波長以下の位置に配置した請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 略対称配置された給電部組合せの対称の中心点が存在する1つの軸上に中心を持つ複数の正多角形の頂点位置全てに前記給電部を配置した構成とした請求項1から3のいずれか1項に記載のマイクロ波処理装置。
- 略対称配置された給電部組合せの対称の中心点が存在する1つの軸上に中心を持つ正多角
形の頂点位置全てに配置した給電部と、前記略対称配置と異なる位置に配置した前記給電部を混在させる構成とした請求項1から3のいずれか1項に記載のマイクロ波処理装置。 - 略対称に配置された組合せの給電部から記加熱室へ放射するマイクロ波の放射方向は、前記給電部組合せ間を結ぶ直線に垂直な面に対し、略対称とする構成とした請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 略対称に配置した前記給電部組合せ毎に、前記給電部組合せの略対称配置中心点が存在する1つの軸方向にずらして配置させる構成とした請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 制御部は、略対称に配置した前記給電部の複数の組合せに対し、同時に同じ位相差で制御する構成とした請求項1から8のいずれか1項に記載のマイクロ波処理装置。
- 制御部は、略対称に配置した給電部の複数の組合せに対し、それぞれ異なる位相差で制御をする構成とした請求項1から8のいずれか1項に記載のマイクロ波処理装置。
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